KR100250175B1 - 옥심 유도체, 그의 제조방법 및 그의 치료학적 용도 - Google Patents

옥심 유도체, 그의 제조방법 및 그의 치료학적 용도 Download PDF

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미노루 오구찌
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히로요시 호리꼬시
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Abstract

본 발명의 하기식(Ⅰ)의 화합물 :
[ 식중, R1이 수소원자 또는 알킬기를 나타내고 ; R2는 알킬렌기를 나타내고; R3은 수소원자, 알킬, 알콕시, 알킬티오, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 모노알킬아미노, 디알킬아미노, 아릴, 또는 아랄킬기를 나타내고; X가 아릴, 또는 방향족 복소환기를 나타내고; Y는 산소, 황 또는 식 ＞ N-R4의 기[식중, R4은 수소원자, 알킬 또는 아실기를 나타낸다.]를 나타내며; 및 Z는 하기식(Za), (Zb), (Zc) 또는 (Zd)의 기를 나타낸다.]
및 그의 염은 과지 지혈증, 과혈당증, 비만증, 장애내당성(IGT), 항인슐린 비-장애 내당성(NGT), 비-진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간, 다낭포성난소증(PCOS) 및 임신성 당뇨병(GDM)으로부터 유발되는 질병의 치료 또는 예방에 사용될수 있으며; 또한 본 발명의 화합물은 알도스 환원효소의 억제 활성을 갖는다.

Description

옥심 유도체, 그의 제조방법 및 그의 치료학적 용도
본 발명은 특히, 메틸렌 또는 메틸리덴기를 통해, 벤젠환에 부착된 티아졸리딘디온 또는 옥사졸리딘디온기를 포함하고, 다양한 치료학적 용도를 갖는 일련의 신규 옥심 유도체에 관한 것으로, 그들의 제조방법 뿐아니라 그를 사용하는 방법 및 조성물을 제공한다. 치료 또는 예방을 위해서 상기 화합물이 사용되는 질병으로는, 과지질혈증, 과혈당증, 비만증, 장애내당성(IGT), 항인슐린 비-장애 내당성(NGT), 비-진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간, 다낭포성난소증(PCOS)및 임신성 당뇨병(GDM)으로 부터 유발되는 질병이 포함되고; 또한 본 발명의 화합물은 알도스 환원효소 억제 활성을 갖는다.
본 발명의 화합물과 같이, 메틸렌 또는 메틸리덴기를 통한, 벤젠환에 부착된 티아졸리딘디온 또는 옥사졸리딘디온기를 함유하는 화합물은 상기 형태의 활성을 갖는 것으로 공지되어 있다. 상기 일반적인 형태의 화합물은, 예를 들면 문헌[Chem Pharm. Bull., 30, 3590(1982)], 유럽 특허 공보 제008 203호, 제 139 421호, 제 177 353호, 제 208 420호, 제 306 228호, 제 356 214호, 제 441 605호 및 제 528 734호; WO 제 92/07839호, 제 91/07107호, 제 92/02520호 및 제 92/03425호 ; 미합중국 특허 제 4 728 739호 에 공지되어 있다. 그러나, 상기 선행 기술을 포함하여, 우리가 알고 있는 선행 기술중에 벤젠환에 부착된 견측쇄에 옥심(-C=N-O-)기를 갖는 화합물이 공개되지 않았고, 이는 본 발명 화합물의 특징이다. 미합중국 특허 제 4 728 739호에는 옥심기가 시클로헥실기에 대한 치환제로서 존재하지만, 옥심기의 위치 및 화합물의 잔존구조가 본 발명의 화합물과는 실제적으로 다르다는 것이 개시되어 있다. 놀랍게도 본 발명의 화합물은 상기 선행 기술의 화합물과 비교하여, 매우 증진된 활성 및 대단히 감소된 독성을 갖는다.
그러므로, 본 발명의 목적은 티아졸리딘 및 옥살졸리딘 유도체인 일련의 신규한 화학적 화합물을 제공하는 것이다.
또한, 보다 구체적인 본 발명의 목적은, 상기 화합물중 적어도 일부가, 과지질혈증, 과혈당증, 비만증, 장애내당성(IGT), 항 인슐린 비-장애 내당성(NGT), 비 진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간, 다낭포성 난소증(PCOS) 및 임신성 당뇨병(GDM)중 하나 이상을 포함하는 각종 질병의 치료 및/또는 예방에 이용될수 있는 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적 및 장점은 상세한 설명이 진행되어감에 따라 명백해 질 것이다.
그러므로 본 발명은 하기 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염을 제공한다.;
[식 중,
Rl은 수소원자 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
R2는 2 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
R3은 수소원자, 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1 ∼ 4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 모노알킬아미노기, 알킬기가 동일하거나 상이하며, 각각이 1 ∼ 4 개의 탄소원자릍 갗는 디알킬아미노기, 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기치환체 α 로 치환되는 탄소고리환내에 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 갖는 아릴기, 또는 1 ∼ 4 개의 탄소원자릍 갖는 알킬기가 하기 정의된 아릴기에 의해 치환되는 아랄킬기를 나타내고;
X 는 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 α 로 치환되는 탄소고리환내에 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 갖는 아릴기, 또는 최소한 하나가 복소환인, 하나또는 두개의 환을 가지며, 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치한체 α 로 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
상기 치환체 α를: 1)1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기; 2) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화알킬기; 3) 히드록시기; 4) 1-4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기; 5) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기; 6) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기; 7) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기가 아래 16번에 정의된 아릴기에 의해 치환된 아랄킬옥시기; 8) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기; 9) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기; 10) 할로겐원자; 11) 니트로기; 12) 아미노기; 13) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 모노알킬아미노기; 14) 알킬기가 동일하거나 상이하며, 각각이 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬기인 디알킬아미노기; 15) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를갖는 알킬기가 아래16번에서 정의된 아릴기에 의해 치환된 아랄킬기; 16) 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 B 에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 갖는 아릴기; 17) 아릴부가 상기16번예서 정의된바와같은 아릴옥시기; 18) 아릴부가 상기 16 번에서 정의된 바와 같은 아릴티오기; 19) 아릴부가 상기 16 번에서 정의된 바와 같은 아릴술포닐기; 20) 아릴부가 상기 16 번예서 정의된 바와같고 질소원자가 비치환되거나 또는 1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기에 의해 치환되는 아릴술포닐아미노기; 21) 식 -Rx의 기; 22) 식 -ORx의 기; 23) 식 -SRx의 기; 24) 식 -SO2Rx의 기; 및 25)식 -N(RZ)SO2Rx의 기 [식중, Rx는, 그중 1 ∼ 3 개는 질소, 산소 및 황원자로 구성된 군으로부터 선택되는 5∼6개의 환원소를 갖는 방향족복소환, 또는 상기 방향족복소환이 탄소고리환내에 6∼10 개의 탄소원자를 갖는 아릴기 또는 상기 방향족복소환에 융합되는 융합환계를 나타내고; 및 Rz는 1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타낸다]로 구성된 군으로부터 선택하는것이 바람직하며;
상기 치환체 β 는: 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1 ∼ 4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자, 및 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로부터 선택되고;
Y 는 산소원자, 황원자 또는 식 ＞N-R4의 기 [식중, R4은 수소원자,1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 1∼8개의 탄소원자를 갗는 아실기를 나타낸다를 나타내며; 및
Z 는 하기식 (Za),(Zb),(Zc) 뜨는 (Zd) 의 기를 나타낸다. ]
본 발명은 또한 당뇨병, 과지질혈증, 과혈당증, 비만증, 동맥경화, 특발성 고혈압, 악액질, 건선, 골다공증, 장애내당성(IGT), 항 인슐린 비장애 내당성( NGT), 비진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간, 다낭포성난소증(PCOS) 및 임신성 당뇨병(GDM) 및 그의 합병증의 치료 또는 예방을 위한 약학 조성물을 제공하고, 조성물은 약학적 허용가능한 담체 또는 희석제와의 부가혼합물중 유효량의 활성 화합물은 포함하고, 상기 활성 화합물은 상기 정의된, 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염으로 구성된 군으로 부터 선택된다.
본 발명은 더구나 사람일 수 있는 포유류중에서 당뇨병, 과지질혈증, 과혈당증, 비만증, 동맥경화, 특발성 고혈압, 악액질, 건선, 골다공증, 장애 내당성(IGT), 항인슐린 비장애 내당성(NGT) 비-진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간 다낭포성 난소증(PCOS) 및 임신성 당뇨병(GDM) 및 그의 합병증의 치료 또는 예방 방법을 제공하는데 이 방법은 상기 포유류에게 활성 화합물의 유효량을 투여하는 것을 포함하는데 상기 활성 화합물은 상기 정의된, 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염으로 구성된 군으로 부터 선택된다.
본 발명은 또한 본 발명의 화합물의 제조 방법을 제공하는데, 이 방법은 이후 더욱 상세하게 기재된다.
본 발명의 화합물중에서, Rl, R3또는 R4이 알킬기를 나타내는 경우, 알킬기는 1 ∼ 6 개, 바람직하게는 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄기일 수 있고, 그 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec - 부틸, t - 부틸, 펜틸, 1 - 메틸부틸, 2 - 메틸부틸,3 - 메틸부틸,1,1 - 디메틸프로필,1,2 - 디메틸프로필, 2,2 -디메틸프로필,1 - 에틸프로필, 헥실,1 - 메틸펜틸, 2 - 메틸펜틸, 3 -메틸펜틸,4 - 메틸펜틸,1,1 - 디메틸부틸,1,2 - 디메틸부틸,1,3 - 디메틸부틸,2,2 - 디메틸부틸,2,3 - 디메틸부틸,3,3 - 디메틸부틸,1 -에틸부틸,2-예틸부틸,1,1,2-트리메틸프로필 및 1,2,2-트리메틸프로필기가 포합된다. 상기 중, 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬기가 바람직한데, 바람직하게는 메틸,에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸 및 이소부틸기이고, 가장바람직하게는 메틸 및 에틸기이다.
바람직하게는, Rl은 수소원자 또는 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.
R2는 알킬렌기를 나타내는 경우, 알킬렌기는 2 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄기일 수 있고, 상기 알킬렌기의 예로는에틸렌, 메틸에틸렌, 에틸에틸렌,1,1 - 디메틸에틸렌,1,2 - 디메틸에틸렌, 트리메틸렌,1 - 메틸트리메틸렌, 1 - 에틸트리메틸렌, 2 - 메틸트리메틸렌,1,1 - 디메틸트리메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌 및 헥사메틸렌기가 포함되고, 이중 2 ∼ 5 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기가 바람직하며, 2 ∼ 3 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는측쇄 알킬렌기가 가장 바람직하다. 특히 바랍직한 상기 기로는 에틸렌, 메틸에틸렌, 에틸에틸렌, 트리메틸렌,1 - 메틸트리메틸렌,1 - 에틸트리메틸렌 및 2-메틸트리메틸렌기가 포함된다. R3는 알콕시기를 나타내는데, 알콕시기는 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄기일수있고, 상기 알콕시기의 예로는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, sec - 부톡시, t - 부톡시 및 이소부톡시기가 포함되고, 이중 메톡시기가 바람직하다.
R3은 알킬티오기를 나타내는데, 알킬티오기는 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄기일 수 있고, 상기 알킬티오기의 예로는 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 이소프로필티오, 부틸티오, sec -부틸티오, t-부틸티오 및 이소부틸티오기가 포함되고, 이중 메틸티오기가 바람직하다.
R3은 할로겐원자를 나타내는데, 할로겐원자는, 예를 들면, 불소,염소, 브롬 또는 요오드원자일 수 있고, 바람직하게는 불소, 염소 또는 브롬원자이며, 불소 또는 염소원자가 가장 바람직하다.
R3은 모노알킬아미노기를 나타내는데, 알킬부는 1 ∼ 4 개의탄소원자를 가지며 직쇄 또는 측쇄기일수있다. 상기 모노알킬아미노기의 예로는 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, sec-부틸아미노, t-부틸아미노 및 이소부틸아미노기가 포함되고, 이중 메틸아미노 및 에틸아미노기가 바람직하다.
R3은 디알킬아미노기를 나타내는데, 두개의 알킬기는 동일하거나 또는 서로 상이하고, 각각은 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬기일 수 있다. 상기 디알킬아미노기의 예로는 디메틸아미노, 디에틸아미노, 디 프로필아미노, 디 이소프로필아미노, 디부틸아미노, N - 메틸 - N - 에틸아미노, 및 N - 에틸 - N - 이소프로필아미노기가 포함되고, 그중 디메틸아미노 및 디에틸아미노기가 바람직하다.
R3은 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 갖는 아릴기를 나타내는데, 이는 하나 이상의 방향족 환내에 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 갗는 탄소고리기이다. 상기 아릴기의 예로는 페닐 및 나프틸기가포함되고, 바람직하게는 페닐기이다. 상기 기는 비치환될 수 있거나 또는 상기 정의되고 하기예 예시화된 바와 같이, 하나 이상의 치환체 α 에 의해 치환될 수 있다.
R3은 아랄킬기를 나타내는데, 아랄킬기는 1 ∼ 4 개의 탄소원자릍 갖는 알킬기가 상기 정의된 아릴기로 치환된 기이다. 기는 총 7 ∼ 12 개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직하고, 상기 아랄킬기의 예로는 벤질, 페네틸, 3 - 페닐프로필, 4 - 페닐부틸, 1 - 나프틸메틸 및 2-나프틸메틸기가 포함되고, 이중 벤질 및 페네틸기가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 벤질기이다. 상기 기의 아릴부는 비치환될수 있거나, 또는 상기 정의되고 하기예 예시화된 바와 같이, 하나 이상의 치환체 α에 의해 치환될 수 있다.
바람직하게는, R3은 수소원자, 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬기,1또는2개의 탄소원자릍 갖는 알콕시기, 1또는2개의 탄소 원자를 갖는 알킬티오기 또는 할로겐원자를 나타낸다.
R4는 아실기를 나타내는데, 아실기는 1 ∼ 8 개의 탄소원자를 갖는 카르복실화 아실기가 바람직하고, 예를 들면, 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 펜타노일, 헥사노일, 헵타노일 또는 옥타노일기와 같은, 알카노일기를 포함하는, 지방족 카르복실화 아실기; 또는 벤조일또는 R - 톨루오일기와 같은, 예를 들어, 아릴카르보닐기 (아릴부는 R4와 관련하여 하기 정의되고 예시화된 것과 같다) 인 방향족 카르복실화 아실기일 수 있다. 상기 중, 특히, 2 ∼ 5 개의 탄소원자를 포함하는, 알카노일기가 바람직하고, 가장 바람직하게는 아세틸기이다.
X는 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기를 나타내는데, 이는 하나 이상의 방향족 환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 탄소고리기이다. 상기 아릴기의 예로는 페닐 및 나프틸기가 포함되고, 바람직하게는 페닐기이다. 아릴기는 비치환될수 있거나 또는 상기 정의되고 하기에 예시화된 바와 같이, 하나 이상의 치환제 α에 의해 치환 될수 있다.
X는 방향족 복소환기를 나타내는데, 이는 하나 또는 두개의 환이 나열된 5~10개의 환원자를 가지는 것이 바람직하며, 이중 최소한 하나는 복소환이다. 두개의 융합된 환으로 구성된 비시클로계의 경우에 있어서, 상기중 하나는 복소환일 수 있고 다른 하나는 탄소고리일 수 있고, 또는 둘다 복소환일 수 있다. 복소환 또는 그 각각은 5~6개의 탄소원자를 갖는 것이 바람직하며, 이중 1~4개는, 산소, 황 및 질소 원자로 구성된 군으로부터 선택된 헤테로 원자이다.
4개의 환 헤테로 원자를 갖는 상기 군의 경우에 있어서는, 4개 모두 질소 원자인 것이 바람직하고, 이에 상용하여서 산소 및/또는 황원자는 없다. 3개의 환 헤테로 원자를 갖는 상기 군의 경우에 있어서는 세개 모두 두개 또는 하나가 질소인 것이 바람직하고, 이에 상용하여서 하나 또는 두개는 산소 및/ 또는 황원자이거나 또는 없다.
2개의 환 헤테로 원자를 갖는 상기군의 경우에 있어서는, 두개 또는 하나가 질소이거나 또는 없는 것이 바람직하고, 이에 상응하여서 하나 또는 두개는 산소 및/ 또는 황원자이거나 또는 없다. 상기 기들은 치환되거나 또는 비치환될수 있고, 치환된다면, 치환체는 상기 정의되고 하기 예시화된, 치환체α로 구성된 군으로 부터 선택된다. 치환가능한 위치의 번호를 부여하고 및 가능하게는 입체장해가 생기는것을 제외하고는 치환체의 수에는 제한이 없다해도, 일반적으로는 1~3개의 치환체가 바람직하고, 보다 바람직하게 1또는 2개의 치환체이며, 1개의 치환체가 가장 바람직하다.
X로 나타낼수 있는 상기 단일환 방향족 헤테로기의 예로는: 2-피롤릴 또는 3-피롤릴기와 같은, 피롤릴기; 2-푸릴 또는 3-푸릴기와 같은, 푸릴기; 2-티에닐 또는 3-티에닐기와 같은, 티에닐기; 2- 피리딜, 3-피리딜 또는 4- 피리딜기와 같은, 피리딜기;2-이미다졸릴 또는 4- 이미다졸릴기와 같은, 이미다졸릴기; 3- 피라졸릴 또는 4- 피라졸릴기와 같은, 피라졸릴기; 2- 옥사졸릴, 4-옥사졸릴 또는 5-옥사졸릴기와 같은, 옥사졸릴기; 3-이속사졸릴,4- 이속사졸릴 또는 5- 이속사졸릴기와 같은, 이속사졸릴기;2- 티아졸릴, 4-티아졸릴 또는 5-티아졸릴기와 같은 티아졸릴기; 3-이소티아졸릴, 4- 이소티아졸릴 또는 5-이소티아졸릴기와 같은, 이소티아졸릴기; 1,2,3 - 트리아졸 - 4 - 일 또는 1,2,4 - 트리아졸 - 3 - 일기와 같은, 트리아졸릴기;1,3,4-티아디아졸-2-일기와같은, 티아디아졸릴기; 1,3,4-옥사디아졸 - 2 - 일기와 같은, 옥사디아졸릴기; 5 - 테트라졸릴기와 같은, 테트라졸릴기; 3 - 피리다지닐 또는 4 - 피리다지닐기와 같은, 피리다지닐기; 2 - 피리미디닐, 4 - 피리미디닐 또는 5 - 피리미디닐기와 같은, 피리미디닐기;피라지닐기;1,4-옥사진-2-일 또는 1,4-옥사진-3 일기와같은, 옥사지닐기;및 1,4-티아진-2-일 또는 1,4-티아진 - 3 - 일기와 같은, 티아지닐기가 포함된다.
X로 나타낼수있는 상기 축합환방향족복소환기의 예로는: 인돌 - 2 - 일, 인돌 - 3 - 일, 인돌 - 4 - 일, 인돌 - 5 - 일, 인돌 - 6 -일 또는 인돌-7-일기와같은, 인돌릴기; 인다졸-2-일, 인다졸-3 - 일, 인다졸 - 4 - 일, 인다졸 - 5 - 일, 인다졸 - 6 - 일 또는 인다졸-7-일기와같은, 인다졸릴기; 벤조푸란-2-일,벤조푸란-3-일, 벤조푸란 - 4 - 일, 벤조푸란 - 5 - 일, 벤조푸란 - 6 - 일 또는
벤조푸란-7-일과같은,벤조푸라닐기; 벤조티오펜-2-일, 벤조티아펜 - 3 - 일, 벤조티오펜 - 4 - 일, 벤조티오펜 - 5 - 일, 벤조티오펜 - 6-일 또는 벤조티오펜 - 7 - 일기와 같은, 벤조티오페닐기; 벤조이미다졸 - 2 - 일, 벤조이미다졸 - 4 - 일, 벤즈이미다졸 - 5 - 일, 벤조이미다졸 - 6 - 일, 또는 벤즈이미다졸 - 7 - 일기와 같은, 벤즈이미다졸릴기;벤즈옥사졸 - 2 - 일, 벤즈옥사졸 - 4 - 일, 벤즈윽사졸 - 5 - 일, 벤즈옥사졸 - 6 - 일, 또는 벤즈옥사졸 - 7 - 일기와 같은, 벤즈옥사졸릴기; 벤조티아졸 - 2 - 일, 벤조티아졸 - 4 - 일, 벤조티아졸 - 5 - 일, 벤조티아졸 - 6 - 일 또는 벤조티아졸 - 7 - 일기와 같은, 벤조티아졸릴기; 2 -퀴놀릴, 3 - 퀴놀릴, 4 - 퀴놀릴, 5 - 퀴놀릴, 6 - 퀴놀릴, 7 - 퀴놀릴 또는 8 - 퀴놀릴기와 같은, 퀴놀릴기; 1 - 이소퀴놀릴, 3 - 이소퀴놀릴,4 - 이소퀴놀릴 또는 8 - 이소퀴놀릴기와 같은, 이소퀴놀릴기; 1,4 - 벤즈옥사진 - 2 - 일 또는 1,4 - 벤즈옥사진 - 3 - 일기와 같은, 벤즈옥사지닐기; 1,4 - 벤조티아진 - 2 - 일 또는 1,4 - 벤조티아진 - 3 - 일기와 같은, 벤조티아지닐기; 피롤로[2,3 - b] 피리드 - 2 - 일 또는 피롤로[2,3-b]피리드-3-일기와같은, 피롤로[2,3-b]피리딜기; 푸로 [2,3 - b ]피리드 - 2 - 일 또는 푸로 [2,3 - b ]피리드 - 3 - 일기와같은 푸로 [2,3 - b] 피리딜기; 티에노 [2,3 - b] 피리드 - 2 - 일 또는티에노 [2,3 -b] 피리드 - 3 - 일기와 같은, 티에노 [2,3 -b] 피리딜기;1,8 - 나프티리딘 - 2 - 일,1,8 - 나프티리딘 - 3 - 일,1,5 - 나프티리딘 - 2 - 일 또는 1,5 - 나프티리딘 - 3 - 일기와 같은, 나프티리디닐기;이미다조 [4,5 - b] 피리드 - 2 - 일 또는 이미다조 [4,5 -b] 피리드 -5-일기와같은, 이미다조피리딜기; 옥사졸로 [4,5-b] 피리드-2- 일또는 옥사졸로 [5,4 -b] 피리드 - 2 - 일기와 같은, 옥사졸로피리딜기;티아졸로 [4,5 - b] 피리드 - 2 - 일 또는 티아졸로 [4,5 - c] 피리드 - 2-일기와 같은, 티아졸로피리딜기가 포함된다.
X로 나타낼수 있는 바람직한 단일환 방향족 복소환기는 5또는 6개의 환원자를 함유하는 기이고, 그중 1~3개는 질소, 산소 및 황원자로 구성된 군으로 부터 선택된 헤테로-원자이며, 특별하게는, 상기 설명한 바와 같이 피롤릴, 푸릴, 티에닐, 피리딜, 이미다졸릴, 피라졸릴, 옥사졸릴, 이속사 졸리, 티아졸릴, 트리아졸릴, 티아디아졸릴, 옥사디아졸릴, 피리다지닐, 피리미디닐 및 피라지닐기이다. 바람직한 축합환 방향족 복소환기는 상기 정의된 단일환 방향족 복소환기중의 하나에 융합된 벤젠환으로 구성되고, 상기 기중 상기 설명된 바와 같이 인돌릴, 벤조 푸라닐, 벤조티오페닐, 벤즈 이미다졸릴, 벤즈옥사졸릴, 벤조티아졸릴, 퀴놀릴 및 이소퀴놀릴기가 바람직하다.
X로 나타낼수 있는 가장 바람직한 단일환 방향족 복소환기는 이미다졸릴, 옥사졸릴 및 피리딜기이고, 가장 바람직한 축합환 방향족 복소환기는 인돌릴, 퀴놀릴 및 이소퀴놀릴기이다.
X는 아릴기 또는 방향족 복소환기를 나타내는데, 상기 기들은 비치환될 수 있거나 또는 상기 정의된 바와 같이 치환될 수 있으며, 바람직하게는 1~3개의 치환체를, 하기의 실시예를 위한, 상기 정의된 바와 같이, 치환체 α로 구성된 군으로 부터 선택한다.
치환체α가 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기, 할로겐원자, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기, 할로겐원자, 1~4개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 모노알칼아미노기, 디알킬아미노기 [이중, 알킬기는 동일하거나 또는 상이하고, 각각은 1~4개의 탄소원자를 갖는다.] 또는 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기인 경우, 예를들어 상기 R3에 관련하여 예시한 바와 같을수 있다.
치환체α 가 1∼4개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는측쇄할로겐화알킬기인 경우, 알킬부는 R3로 나타낸 기예 포함되는 1∼4개의 탄소원자를 갖는 상기 알킬기중 어느 것일 수 있고, 상기 할로겐화알킬기의 예로는 클로로메틸, 브로모메틸, 플루오로메틸, 요오드메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 펜타플루오로에틸,2,2,2 - 트리플루오로에틸,2,2,2-트리클로로에틸 및 트리클로로메틸기가 포함되고,그중, 플루오로메틸, 디플루오로메틸 및 트리플루오로메틸기가 바람직하다.
치환체 α 가 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기인 경우,이는 카르복실릭 아실옥시기이고, 바람직하게는 알카노일 또는 알케노일기이고, 보다 바람직하게는 알카노일기이며, 상기 아실옥시기의 예로는 포르밀옥시, 아세톡시, 프로피오닐옥시 및 부티릴옥시기가 포함되고, 그중, 아세톡시기가 바람직하다.
치환체 α 가 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌디옥시기인경우, 상기 알킬렌디옥시기의 예로는 메틸렌디옥시, 에틸렌디옥시, 트리메틸렌디옥시, 테트라메틸렌디옥시 및 프로필렌디옥시기가 포함되고, 그중 메틸렌디옥시 및 에틸렌디윽시기가 바람직하다.
치환체 α 가 7 ∼ 12 개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기를 나타내는 경우, 아랄킬부는 R3과 관련하여 상기 정의되고 예시된 바와 같을수있고, 상기 아랄킬옥시기의 예로는 벤질옥시, 페네틸옥시,3-페닐프로폭시, 4 - 페닐부톡시,1 - 나프틸메톡시 및 2 - 나프틸메톡시기가 포함되고, 그중 벤질옥시, 페네틸윽시,1-나프틸메톡시 및 2-나프틸메톡시기기 바람직하다.
치환체 α 가 알킬술포닐기인 경우, 알킬부는 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 가지며, R3로나타낸 기중에 포함되는 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬기중 어느 것일 수 있다. 상기 알킬술포닐기의 예로는 메틸술포닐,에틸술포닐,프로필술포닐,이소프로필술포닐,부틸술포닐,이소부틸술포닐, sec - 부틸술포닐 및 t - 부틸술포닐기가 포함되고, 그중 메틸술포닐, 에틸술포닐 및 이소프로필술포닐기가 바람직하다.
치환체 α 가 아릴기인 겅우, 이는 탄소고리기중 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 가지며, 비치환되거나 또는 치환체 B 로 구성된 군으로 부터 선택된 하나 이상의 치환체릍 갖는다. 치환체 β 는:
R3과 관련하여 정의되고 예시된바와같이, 1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기;
치환체 α 와 관련하여 정의되고 예시된 바와 같이, 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 할로겐화알킬기;
R3과 관련하여 정의되고 예시된바와같이, 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기;
R3과 관련하여 정의되고 예시된 바와 같이, 할로겐원자;
R3과 관련하여 정의되고 예시된바와같이, 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기이다.
상기 치환 및 비치환된 아릴기의 예로는 페닐,1-나프틸,2-나프틸, 4 - 메틸페닐, 4 - 트리플루오로메틸페닐, 4 - 메톡시페닐, 3 -19 에톡시페닐, 4 - 플루오로페닐, 4 - 클로로페닐,3 - 브로모페닐 및 3,4-메틸렌디옥시페닐기가 포함되고, 그 중 페닐,4 - 메톡시페닐 및 3,4-메틸렌디옥시페닐기가 바람직하다.
치환체 α 가 아릴옥시기인 경우, 이는 탄소고리환내에 6 ∼ 10개의 탄소원자를 가는데, 이는 비치환되거나, 또는 상기 정의되고 예시화된 치환체β로 구성된 군으로부터 선택된 하나이상의 치환체를 갖는다. 상기 아릴옥시기의 예로는 페녹시,1-나프톡시,2-나프톡시, 4 - 메틸페녹시, 4 - 트리플루오로메틸페녹시, 4 - 메톡시페녹시, 3-에톡시페녹시,4-클로로페녹시,3-브로모페녹시 및 3,4-메틸렌디옥시페녹시기가 포함되고, 그 중 페녹시기가 바람직하다.
치환체 α 가 아릴티오기인 경우, 이는 탄소고리환내에 6 ∼ 10개의 탄소원자를 갖는데, 이는 비치환되거나, 또는 상기 정의되고 예시화된 치환체β로 구성된 군으로부터 선택된 하나이상의 치환체를갖는다. 상기 아릴티오기의 예로는 페닐티오,4-메틸페닐티오,4-트리플루우로메틸페닐티오, 4 - 메톡시페닐티오, 3 - 에톡시페닐티오, 4 -클로로페닐티오, 3 - 브로모페닐티오, 3,4 - 메틸렌디옥시페닐티오, 1 -나프틸티오 및 2 - 나프틸티오기가 포함되고, 그 증 페닐티오기가 바람직하다.
치환체 α 가 아릴술포닐기인 경우, 이는 탄소고리환내에 6 ∼ 10개의 탄소원자를 갖는데, 이는 비치환되거나, 또는 상기 정의되고 예시화된 치환체 β로 구성된 군으로 부터 선택된 하나 이상의 치환체를 갖는다. 상기 아릴술포닐기의 예로는 페닐술포닐,4-메틸페닐술포닐, 4 - 트리플루오로메틸페닐술포닐,4 - 메톡시페닐술포닐,3 - 에톡시페닐술포닐, 4 - 클로로페닐술포닐, 3 - 브로모페닐술포닐, 3,4 - 메틸렌디옥시페닐술포닐, 1 - 나프틸술포닐 및 2 - 나프틸술포닐기가 포함되고,그 중 페닐술포닐기가 바람직하다.
치환제 α 가 아릴술포닐아미노기인 경우, 이는 탄소고리환내에 6∼10개의 탄소원자를 갗는테, 이는 비치환되거나, 또는 상기 정의되고 예시화된 치환체β로 구성된 군으로부터 선택된 하나이상의 치환체를 갖는다. 또한, 질소원자는 치환체로서 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 갖는다 (이는 R3로 나타낼 수 있는 해당하는 기와 관련하여 상기 정의되고 예시될 수 있다). 상기 아릴술포닐아미노기의 예로는 페닐술포닐아미노,4 - 메틸페닐술포닐아미노, 4 - 트리플루오로메틸페닐술포닐아미노, 4 - 메톡시페닐술포닐아미노, 3 - 예톡시페닐술포닐아미노,4 - 클로로페닐술포닐아미노, 3 - 브로모페닐술포닐아미노, 3,4 - 메틸렌디옥시페닐술포닐아미노, N - 메틸페닐술포닐아미노,1 - 나프틸술포닐아미노, 2 - 나프틸술포닐아미노 및 N - 메틸나프틸술포닐아미노기가 포함되고, 그 중 페닐술포닐아미노 및 N - 메틸페닐술포닐아미노기가 바람직하다.
치환체 α 가 식 -Rx의 기인 경우, Rx는, 그 중 1 ∼ 3 개의 고리원자가 질소, 산소 및 황원자로 구성된 군으로 부터 선택되는 5∼6개의 고리원자를 갖는 방향족복소환, 또는 상기 방향족복소환고리가 탄소고리내에 6 ∼ 10 개의 원자를 갖는 아릴기, 또는 상기방향족 복소환 고리에 융합되는 융합된 고리계를 나타내는데, 아릴기는 치환제 α 와 관련하여 상기 정의되고 예시된 상기 아릴기중 어떤 것일수 있고, 두개의 복소환기가 함께 융합된 경우, 이는 서로 동일하거나 또는 서로 상이할 수 있다. 상기 복소환기의 예로는 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티 아졸릴, 이 미 다촐릴, 퀴 놀릴, 이 소퀴 놀릴,인돌릴 및 피리딜기가 포함되고, 그중 이미다졸릴, 퀴놀릴 및 피리딜기가 바람직하다.
치환체 α 가 식 -ORx의 기인 경우, Rx는 상기 정의된 바와 같고, 상기 기의 예로는 푸릴옥시, 티에닐옥시, 옥사졸릴옥시, 이속사졸릴옥시, 티아졸릴옥시, 이미다졸릴옥시, 퀴놀닐옥시, 이 소퀴 놀릴옥시, 인돌릴옥시 및 피리딜옥시기가 포함되고, 그중 이속사졸릴옥시 및 피리딜옥시기가 바람직하다.
치환체 α 가 식 -SRx의 기인 경우, Rx는 상기 정의된 바와같고, 상기 기의 예로는 푸릴티오, 티에닐티오, 옥사졸릴티오, 이속사졸릴티오, 티 아졸릴티오, 이 미다졸릴티오, 퀴놀릴티오, 이소퀴놀릴티오,인돌릴티오 및 피리딜티오가 포함되고, 그 중 이속사졸릴티오 및 피리딜티오가 바람직하다.
치환체 α 가 식 -SO2Rx의 기인 경우, Rx는 상기 정의된 바와 같고, 상기 기의 예로는 푸릴술포닐, 티에닐술포닐, 옥사졸릴술포닐, 이속사졸릴술포닐, 티아졸릴술포닐, 이 미다졸릴술포닐, 퀴졸릴술포닐,이소퀴놀릴술포닐, 인돌릴술포닐 및 피리딜술포닐기가 포함되고, 그 중 이미다졸릴술포닐, 이속사졸릴술포닐 및 피리딜술포닐기가 바람직하다.
치환체 α 가 식 -N(Rz)SO2Rx의 기인 경우, Rx및 Rz는 상기 정의된 바와 같고, 상기 기의 예로는 푸릴술포닐아미노, 티에닐술포닐아미노,옥사졸릴술포닐아미노,이속사졸릴술포닐아미노,티아졸릴술포닐아미노, 이미다졸릴술포닐아미노, N - 메틸이미다졸렬술포닐아미노, 퀴놀릴술포닐아미노,이소퀴놀릴술포닐아미노,인돌릴술포닐아미노,피리닐술포닐아미노 및 N - 메틸피리딜술포닐아미노기가 포함되고, 그 증 이미다졸릴술포닐아미노, N - 메틸이미다졸릴술포닐아미노, 피리딜술포닐아미노 N - 메틸피리딜술포닐아미노기가 바람직하다.
그러므로, X 가 탄소고리환내에 6∼10개의 탄소원자를 갖는 치환된 또는 비치환된 아릴기, 또는 치환또는비치환된 방향족복소환기를 나타내는경우, 상기 바람직한 기의 구체적인 예로는: 페닐,1 - 나프틸,2 - 나프틸, m - 톨린, P - 톨릴,3 - 에틸페닐,4 - 에틸페닐, 3 - 이소프로필페닐, 4 - 이소프로필페닐, 3 - t - 부틸페닐, 4 - t -부틸페닐, 4 - 클로로메틸페닐, 4 - 브로모메틸페닐, 4 - 플루오로메틸페닐,4 - 요오드메틸페닐,3 - 디플루오로메틸페닐,4 - 트리플루오로메틸페닐, 4 - 펜타플루오로에틸페닐, 4 - 트리클로로메틸페닐, 3 - 히드록시페닐,4 - 히드록시페닐,4 - 히드록시 - 3,5 - 디메틸페닐,3 - 아세톡시페닐, 4 - 아세톡시페닐, 5 - 아세톡시 - 2 - 히드록시 - 3,4,6 - 트리메틸페닐, 3 - 메톡시페닐, 4 - 메톡시페닐, 3 - 예톡시페닐, 4 - 에톡시페닐,3 - 이소프로폭시페닐, 4 - 이소프로폭시페닐, 3,4 - 메틸렌디옥시페닐, 벤질옥시페닐, 페네틸옥시페닐, 1 - 나프틸메톡시페닐, 3 - 메틸티오페닐, 4 - 메틸티오페닐,3 - 에틸티오페닐,4 - 에틸티오페닐,3 - 이소프로필티오페닐, 4 - 이소프로필티오페닐, 3 - 메틸술포닐페닐, 4 - 메틸술포닐페닐, 3 - 에틸술포닐페닐, 4 - 에틸술포닐페닐, 3 - 이소프로필술포닐페닐,4 - 이소프로필술포닐페닐,3 - 클로로페닐, 4 - 클로로페닐,3 - 브로모페닐, 4 - 브로모페닐, 4 - 니트로페닐, 4 - 아미노페닐, 3 - 메틸아미노페닐,4 - 에틸아미노페닐,3 - 프로필아미노페닐,4 - 부틸아미노페닐,3 -디메틸아미노페닐,4 - 디에틸아미노페닐,3 - 디프로필아미노페닐, 4 - 디부틸아미노페닐, 3 - 벤질페닐, 4 - 벤질페닐, 3 - 폐네틸페닐, 4 - (1 -나프틸메틸) 페닐,3 - 비페닐릴,4 - 비페닐릴, 3 - (4 - 에틸페닐) 페닐,4 - (4 - 메틸페닐) 페닐,3 - (4 - 예틸페닐) 페닐,3 - (4 - 트리플루오로메틸페닐) 페닐, 4 - (4 - 트리플루오로메틸페닐) 페닐, 3 - (4 - 메톡시페닐) 페닐, 4 - (4 - 몌톡시페닐) 페닐, 3 - (2,4 - 디메톡시페닐) 페닐, 4-(2,4 - 디메톡시페닐) 페닐, 3 - (2,5 - 디메톡시페닐) 페닐,4 - (2,5 -디메톡시페닐) 페닐, 4 - (3 - 클로로페닐) 페닐, 4 - (4 - 클로로페닐) 페닐, 4 - (3 - 브로모페닐) 페닐, 4 - (4 - 브로모페닐) 페닐, 3 - (3,4 -메틸렌디옥시페닐) 페닐, 4 - (3,4 - 메틸렌디옥시페닐) 페닐, 3 - 벤질페닐,4 - 벤질페닐,3 - 페녹시페닐,4 - 폐녹시페닐,3 - 페닐티오페닐,4-페닐티오페닐, 3 - 페닐술포널페닐, 4 - 페닐술포닐페닐, 3 - (페닐술포닐아미노) 페닐,4 - (페닐술포닐아미노) 페닐, N - 메틸 - 3 - (페닐술포닐아미노) 페닐, N - 메틸 - 4 - (페닐술포녈아미노) 페닐, 3 - (이미다졸 -1 - 일) 페닐,4 - (이미다졸 - 1 - 일) 페닐,3 - (1 - 메틸이미다졸 - 4 -일) 페닐,4 - (1 - 메틸이미다졸 - 4 - 일) 페닐,3 - (2 - 푸릴)·페닐,4-(2 - 푸릴) 페닐,3 - (2 - 티에닐) 페닐,4 - (2 - 티예닐) 폐녈, 3 - (3티에닐) 페닐, 4 - (3 - 티에닐) 페닐,3 - (2 - 피리딜) 페닐, 4 - (2 -피리딜) 페닐,3 - (3 - 피리딜) 페닐,4 - (3 - 피리딜) 페닐,3 - (4 - 피리딜) 페닐,4 - (4 - 피리딜) 페닐,4 - (이미다졸 - 1 - 일티오) 페닐,4-(2 - 푸릴티오) 폐녈, 4 - (2 - 티에닐티오) 페닐, 4 - (2 - 피리딜티오)페닐, 4 - (4 - 피리딜티오) 페닐, 3 - (2 - 피리딜술포닐) 페닐, 4 - (2 -피리딜술포닐) 페닐,3 - (3 - 피리딜술포닐) 페닐,4 - (3 - 피리딜술포닐)페닐, 3 - (2 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 3 - (N - 메틸 - 2 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 4 - (2 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 4 - (N - 메틸 - 2-피리딜술포닐아미노) 페닐, 3 - (3 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 3 - (N메틸 - 3 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 4 - (3 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 4 - (N - 메틸 - 3 - 피리딜술포닐아미노) 페닐, 3 - (옥사졸 - 2 -일) 페닐, 4 - (옥사졸 - 2 - 일) 페닐, 3 - (옥사졸 - 4 - 일) 페닐, 4 -(옥사졸 - 4 - 일) 페닐, 3 - (옥사졸 - 5 - 일) 페닐, 4 - (옥사졸 - 5 -일) 페닐, 3 - (티아졸 - 2 - 일) 페닐, 4 - (티아졸 - 2 - 일) 페닐, 3 -(티아졸 - 4 - 일) 페닐, 4 - (티아졸 - 4 - 일) 페닐, 3 - (티아졸 - 5 -일) 페닐 및 4 - (티아졸 - 5 - 일) 페닐기와 같은, 6 ∼ 10 개의 탄소원자를 갖는 치환된 또는 비치환된 아릴기;
1-메틸-2-피롤릴,1-페닐 - 2 - 피롤릴,1 - 벤질 - 2 - 피롤릴,5 - 메틸 - 푸릴,5 - 페닐-2 - 푸릴, 5 - 메틸 - 2 - 티에닐, 5 - 페닐 - 2 - 티에닐, 5 - 메틸 -3 - 티에닐, 5 - 페닐 - 3 - 티에닐, 1 - 메틸 - 3 - 피라졸릴, 1 - 페닐-3 - 피라졸릴,1 - 메틸 - 2 - 이미다졸릴,1 - 페닐 - 2 - 이미다졸릴,1 - 메틸 - 4 - 이미다졸릴,1 - 페닐 - 4 - 이미다졸릴,1 - 메틸 - 2 -페닐 - 4 - 이미다졸릴,1,5 - 디메틸 - 2 - 페닐 - 4 - 이미다졸릴,1,4-디메틸 - 2 - 페닐 - 5 - 이미다졸릴,4 - 옥사졸릴,5릴, 2 -메틸 - 4 - 옥사졸릴, 2 - 페닐 - 4 - 윽사졸릴, 2 - 메틸 - 5 - 윽사졸릴, 2 - 페닐 - 5 - 옥사졸릴,4 - 메틸 - 2 - 페닐 - 5 - 옥사졸릴, 5 -메틸 - 2 - 페닐 - 4 - 옥사졸릴, 4 - 티아졸릴, 5 - 티아졸릴, 2 - 메틸-4 - 티아졸릴, 2 - 페닐 - 4 - 티아졸릴, 2 - 메틸 - 5 - 티아졸릴, 2 -페닐 - 5 - 티아즐릴,4 - 메틸 - 2 - 페닐 - 5 - 티아졸릴, 5 - 메틸 - 2-페닐 - 4 - 티아졸릴,1 - 메틸 - 3 - 피라졸릴,1 - 페닐 - 3 - 피라졸릴, 3 - 메틸 - 5 - 이속사졸릴,3 - 페닐 - 5 - 이속사졸릴, 2 - 피리딜,3 - 피리딜,4 - 피리딜,3 - 메틸 - 5 - 피리딜,3 - 에틸 - 5 - 피리딜,3 - 페닐 - 5 - 피리딜, 2 - 메틸 - 5 - 피리딜, 2 - 에틸 - 5 - 피리딜,2 - 페닐 - 5 - 피리딜,2 - 히드록시 - 5 - 피리딜, 2 - 메톡시 - 5 - 피리딜, 2 - 에톡시 - 5 - 피리딜, 2 - 이소프로폭시 - 5 - 피리딜, 2 - 벤질옥시 - 5 - 피리딜, 2 - 메틸티오 - 5 - 피리딜, 2 - 에틸티오 - 5 - 피리딜, 2 - 이소프로필티오 - 5 - 피리딜, 2 - 메틸술포닐 - 5 - 피리딜, 2-에틸술포닐 - 5 - 피리딜,2 - 이소프로필술포닐 - 5 - 피리딜,2 - 벤질-5 - 피리딜,2 - 페녹시 - 5 - 피리딜,2 - 페닐티오 - 5 - 피리딜, 2 -페닐술포닐 - 5 - 피리딜, 2 - 페닐술포닐아미노 - 5 - 피리딜, 2 - (N -메틸페닐술포닐아미노) - 5 - 피리딜, 3 - 메틸 - 6 - 피리딜, 3 - 페닐 -6 - 피리딜, 2 - 메틸 - 6 - 피리딜, 2 - 페닐 - 6 - 피리딜, 2 - 메틸 -4 - 피리미디닐, 2 - 페닐 - 4 - 피리미디닐, 2 - 메톡시 - 4 - 피리미디닐, 2 - 에톡시 - 4 - 피리미디닐,2 - 이소프로폭시 - 4 - 피리미디닐, 2-메틸티오 - 4 - 피리미디닐,2 - 에틸티오 - 4 - 피리미디닐,2 - 이소프로필티오 - 4 - 피리미디닐,2 - 페닐티오 - 4 - 피리미디녈,2 - 메틸술포닐 - 4 - 피리미디닐,2 - 예틸술포닐 - 4 - 피리미디닐,2 - 이소프로필술포닐 - 4 - 피리미디닐,2 - 페닐술포닐 - 4 - 피리미디닐,2 - 메틸 - 5 -피리미디닐, 2 - 페닐 - 5 - 피리미디닐, 2 - 메톡시 - 5 - 피리미디닐, 2-에톡시 - 5 - 피리미디닐,2 - 이소프로폭시 - 5 - 피리미디닐,2 - 메틸티오 - 5 - 피리미디녈,2 - 에틸티오 - 5 - 피리미디닐,2 - 이소프로필티오 - 5 - 피리미디닐,2 - 페닐티오 - 5 - 피리미디닐,2 - 메틸술포닐 - 5-피리미디닐, 2 - 예틸술포닐 - 5 - 피리미디닐, 2 - 이소프로필술포닐 -5 - 피리미디닐, 2 - 페닐술포닐 - 5 - 피리미디닐,2 - 인돌릴, 3 - 인돌릴,1 - 메틸 - 2 - 인돌릴,1 - 메틸 - 3 - 인돌릴, 2 - 벤즈이미다졸릴,1 - 메틸 - 2 - 벤즈이미다졸릴, 2 - 벤즈옥사졸릴, 2 - 벤조티아졸릴, 2-퀴놀릴, 3- 퀴놀릴, 4 - 퀴놀릴,1 - 이소퀴놀릴, 3 - 이소퀴놀릴, 4 -이소퀴놀릴 및 8 - 이소퀴놀릴기와 같은, 치환된 또는 비치환된 방향족 복소환기가 포합된다.
Y가 식 ＞N-R4가의 기를 나타내는경우, R4가는 수소원자,1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 1∼8개의 탄소원자를 갖는 아실기를 나타낸다. R4로 나타낼수있는 알킬기의 예로는 R3과 관련하여 상기 정의되고 예시된 것을 포함한다. R4로 나타낼수있는 알킬기의 예로는 1∼8개의 탄소원자를 갖는 지방족아실기 (1∼8개의 탄소원자를 갖는 알카노일기 및 3∼8개의 탄소원자를 갖는 알케노일기를 포함) 및 방향족 아실기, 예를 들어, 아릴부가 비치환될 수 있거나, 또는 상기 정의되고 예시된, 치환체 α 로 구성된 군으로 부터 선택된 하나 이상 (바람직하게는 1 ∼ 3 개) 치환제로 치환될 수 있는 페닐기인 아릴카르보닐기가 포합된다. 식 ＞N-R4가 의 기의 구체적인 예로는 이미노, 메틸이미노, 에틸이미노, 프로필이미노, 이소프로필이미노, 부틸이미노, 이소부틸이미노, sec - 부틸이미노, t - 부틸이미노, 펜틸이미노,1 - 메틸부틸이미노, 2 - 메틸부틸이미노, 3 - 메틸부틸이미노,1,1 - 디메틸프로필이미노,1,2 - 디메틸프로필이미노, 2,2 - 디메틸프로필이미노, 1 - 에틸프로필이미노, 헥실이미노, 1 - 메틸펜틸이미노,2 - 메틸펜틸이미노,3 - 메틸펜틸이미노,4 - 메틸펜틸이미노,1,1 -디메틸부틸이미노,1,2 - 디메틸부틸이미노,1,3 - 디메틸부틸이미노,2,2-디메틸부틸이미노,2,3 - 디메틸부틸이미노,3,3 - 디메틸부틸이미노,1 에틸부틸이미노,1,1,2 - 트리메틸프로필이미노,1,2,2 - 트리메틸프로필 이미노, 아세틸이미노, 프로피오닐이미노, 부티릴이미노, 펜타노일이미노, 헥사노일이미노, 헵타노일이미노, 옥타노일이미노, 벤조일이미노 및 P-톨루오일이미노기가 포함되고, 그중 1∼4개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬이미노기 및 아세틸이미노기가 바람직하다. 가장 바람직한 기는 이미노, 메틸이미노, 에틸이미노 및 아세틸이미노기이다.
본 발명의 화합물 각각은 그의 분자내에 염기성기를 함유하므로, 산과의 통상적인 방법에 의해서 염으로 전환될수 있다. 상기 염의 성질에 대해 특정한 제한은 없고 단 혼합물은 의약적으로 사용되는 경우, 화합물을 모화합물보다 활성이 적지 않거나 허용되지 않은 만큼 활성이 적지 않으며, 또한 더 독성이 있지 않거나 또는 허용되지 않은 만큼 독성이 더 있지는 않으므로 약학적으로 허용 가능하다. 그러나 화합물을 비-의약적 용도, 예를 들어, 다른 화합물의 제조에 있어서 중간체로서 사용되는 경우, 상기의 제한이 적용되지는 않으며, 형성될수 있는 염의 성질에 있어서도 제한은 없다. 상기 염의 예로는: 무기산, 특히 할로겐화수소산(플루오르화수소산, 염화수소산, 브롬화수소산, 또는 요오드화수소산과 같은), 질산, 과염소산, 황산, 또는 인산과의 염; 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산 도는 에탄 술폰산과 같은 저급 알킬술폰산과의 염; 벤젠 술폰산 또는 ρ- 톨루엔술폰산과 같은, 아릴술폰산과의 염; 아세트산, 푸마르산, 타르타르산, 옥살산, 말레산, 말산, 숙신산, 벤조산, 만델산, 아스코르브산, 락산, 글루콘산 또는 시트르산과 같은, 아미노산과의 염이 포함된다. 약학적으로 허용 가능한 염이 바람직하다.
또한 본 발명의 화합물은 염기와의 통상적인 방법에 의해서 염으로 전환될 수 있다. 상기염의 예로는: 나트륨, 칼륨, 또는 리튬 과 같은 알칼리 금속염; 바륨 또는 칼슘 또는 마그네슘과 같은 알칼리토금속 염; 및 알루미늄과 같은, 또다른 금속염이 포함된다. 다시 약학적으로 허용가능한 염이 바람직하다.
본 발명의 식(Ⅰ)의 화합물은 비대칭 탄소원자의 존재로 인하여 다양한 이성질체의 형태로 존재할수 있다. 그러므로, Z가 2,4- 디옥소티아졸리딘 - 5 -일 메틸기 (Zb) 또는 2,4 -디옥소옥사졸리딘 -5-일 메틸기 (Zc) 를 나타내는 경우, 5- 위치에 있는 탄소원자는 비대칭이다. 상기 이성질체을 여기에서 모두 단일 분자식(Ⅰ)로 나타낸다해도, 본 발명은 단리된 이성질체 및 라세미체를 포함하여 그의 혼합체인 각각의 두가지 모두를 포함하고, 이성질체는 임의의 비율로 상기 혼합체에 존재할수 있다. 입체 특이적 합성방법을 사용하거나, 또는 광학 활성 화합물이 출발 물질로서 사용되는 경우, 각각의 이성질체는 직접 제조될 수 있고; 한편 이성질체의 혼합물이 제조된다면, 각각의 이성질체는 통상적인 분리 방법에 의해 수득될수 있다. 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸기(Zb), 2,4-디옥소티아졸리딘-5일리데닐메틸기(Zc)또는 3,5 -디옥소옥사졸리딘-2-일메틸기(Zd)를 나타내는, 식(I)의 화합물은 각각 , ,r 및 δ로 나타내는 , 하기 반응도에서 다양한 토우토머이선질체의 형태로 존재할 수 있다.
상기식 (Ⅰ)에서 그를 기재로 하는 모든 토오토머 및 상기 토오토머의 동량 또는 비동량의 혼합물을 하나의 식으로 나타낸다. 그러므로 상기 이성질체 모두 및 상기 이성질체의 혼합물은 본 발명에서 포함된다.
더불어, 식(Ⅰ)의 화합물은 옥심 이중 결합의 기하 이성질에 의해서 시스- 및 트랜스- 이성질체의 형태로 존재할수 있다. 앞서 말한 식(Ⅰ)에서 기하 이성질체 및 상기 이성질체의 동량 및 비동량 혼합물로 인한 이성질체 모두는 단일 식으로서 나타낸다. 그러므로 상기 이성질체 및 그의 혼합물 모두는 본 발명에 포함된다.
더구나, 본 발명은 또는 모든 용매화물, 예를 들어 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염의 수화물을 포함하는데, 이에 관련된 화합물은 용매 화물을 형성할수 있다.
발명은 또한 예를 들어 사람과 같은 포유류의 생체에서 대사 작용에 의해 식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로 전환될수 있는 모든 화합물 다시 말하자면 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염의 "전구-약제"를 포함함다.
본 발명의 화합물중 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염이 바람직하고, 식중:
(A1) R1은 수소원자 또는 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
(A2) R2는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
(A3) R3은 수소원자1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬기,1 또는2개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,1또는2개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기 또는 할로겐원자를 나타내고;
(A4) X 는: 6∼10개의 고리원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기 정의된 치환체α1로 구성된군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되는 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5∼10 개의 고리원자를 가지며, 그중1∼3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 구성된 군으로 부터 선택된 헤테로-원자인 기로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 αl로 구성된 군으로 부터 선택된1∼3개의 치환체에의해 치환되는 방향족복소환기를 나타내고;
상기 치환체 αl는 하기:
1) 1∼6개의 탄소윈자를 갖는알킬기,
2) 1∼4개의 탄소원자릍 갖는 할로겐화알킬기,
3) 히드록시기,
4) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기,
5) 1∼4개의 탄소원자릍 갖는 알콕시기,
6) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
7) 7∼12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
8) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
9) 1 ∼ 4 개의 탄소원자릍 갖는 알킬술포닐기,
10) 할로겐원자,
11) 7 ∼ 12 개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
12) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체βl으로 치환된 페닐기,
13) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체βl으로 치환된 페녹시기,
14) 비치환되거나 또는 1∼3개의,하기정의된,치환체βl으로 치환된 페닐티오기,
15) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체βl으로 치환된 페닐술포닐기,
16) 페닐기는비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체 βl으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
17) 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
18) 질소원자가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
19) 아미노기가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되고, 치환체βl는 1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1∼4개의 탄소원자릍 갖는 할로겐화 알킬기,1 ∼ 4 게의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로부터 선택되며;
(A5) Y 는 산소원자, 황원자 또는 식 ＞ N-R4의 기 [식중, R4는 수소원자,1∼3개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 2∼5개의 탄소원자를 갖는 알카노일기를 나타낸다]를 나타내고; 및
(A6) Z 는 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸,2,4-디옥소옥사졸리딘 - 5 - 일메틸 또는 3,5 - 디옥소옥사디아졸리딘 - 2 - 일메틸기를 나타내고;
특히, R1이 (A1)에 정의된바와같고, R2 이 (A2)예 정의된 바와 같고, R3이 (A3)에 정의된바와같고, X 이 (A4)예 정의된바와 같고, Y 이 (A5)에 정의된 바와 같으며, Z 이 (A6)예 정의된바와 같은, 화합물이 바람직하다.
본 발명의 보다 바람직한 화합물은 식 (I) 의 화합물 및 그의염이고, 식중:
(B3) R3이 수소원자를 나타내고;
(B4) X 가: 6∼10개의 환 탄소원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기정의된, 치환체α2로구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되는, 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5 ∼10개의 환원자를 가지며, 그중1∼3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 구성된 군으로 부터 선택된 헤테로-원자인 기로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α2로 구성된 군으로 부터 선택 1∼3개의 치환체예의해 치환되는 방향족복소환기를 나타대고; 상기 치환체 α2 는 하기:
1) 1∼6개의 탄소원자를 갖는알킬기,
2) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화알킬기,
3) 히드록시기,
4) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
5) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
6) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
7) 총7∼12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬윽시기,
8) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
9) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
10) 불소원자, 염소원자 및 브롬원자,
11) 7 ∼ 12 개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
12) 비치환되거나또는1∼3개의,상기정의된,치환제β2으로 치환된 페닐기,
13) 비치환되거나또는1∼3개의,상기정의된,치환체βl으로 치환된 페녹시기,
14) 비치환되거나또는1∼3개의,상기정의된,치환제βl으로 치환된 페닐티오기,
15) 비치환되거나또는1∼3개의,상기정의된,치환체βl으로 치환된 페닐술포닐기,
16) 페닐기는 비치환되거나 또는 1 ∼ 3 개의, 상기 정의된, 치환제 βl으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
17) 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
18) 질소원자가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
19) 아미노기가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되고,
(B5) Y 는 산소원자를 나타내고; 및
(B6) Z 는 2,4-디윽소티아졸리딘-5-일메틸 또는 2,4-디옥소옥사졸리딘 - 5 - 일메틸기를 나타내고;
특히, R1이 (Al)에 정의된바와같고, R2이 (A2)에 정의된바와 같고, R3이 (B3)예 정의된바와같고, X 이 (B4)에 정의된바와같고, Y 이 (B5)에 정의된바와같으며, Z 이 (B6)에 정의된바와 같은, 화합물이 바람직하다.
본 발명의 보다 더욱 바람직한 화합믈은 식 (I) 의 화합물 및 그의 염이고, 식중:
(C1) Rl은 수소윈자 또는 1 ∼ 3 개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
(C2) R2는 2 ∼ 3 개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
(C4) X 는 페닐, 나프틸, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 피리딜, 인돌릴,퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환게α3로 구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되며;
상기 치환체 α3는 하기:
1) 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
2) 1∼4개의 탄소원자릍 갖는 할로겐화알킬기,
3) 히드록시기,
4) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
5) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
6) 메틸렌디옥시기,
7) 총7∼12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
8) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
9) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
10) 불소, 염소 및 브롬원자,
11) 총7∼12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
12) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체β2으로 치환된 페닐기,
13) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체β2으로 치환된 페녹시기,
14) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체β2으로 치환된 페닐티오기,
15) 비치환되거나또는1∼3개의,하기정의된,치환체β2으로 치환된 페닐술포닐기,
16) 페닐기는 비치환되거나 또는1∼3개의,하기 정의된, 치환제β2으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1∼6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
17) 푸릴, 티예닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
18) 질소원자가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자릍 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
19) 아미노기가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되고,
치환체 β2는 메틸기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 불소윈자 및메틸렌디옥시기로구성된 군으로부터 선택되며;
(C6) Z 는 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸릍 나타내고;
특히, R1이 (C1)예 정의된 바와 같고, R2이 (CA2)에 정의된바와 같고, R3이 BA3)에 정의된바와같고, X 이 (C4)에 정의된바와 같고, Y 이 (B5)에 정의된바와같으며, Z 이 (C6)예 정의된바와 같고, 화합물이 바람직하다.
본 발명의 보다 더욱 바람직한 화합물은 식 (I) 의 화합물 및 그의 염이고, 식중:
(D1) R1은 수소원자, 메틸 또는 예틸기를 나타내고;
(D2) R2는 에틸렌, 트리메틸렌 또는 메틸에틸렌기를 나타내고;
(D4) X 는 페닐, 나프틸, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 피리딜, 인돌릴,퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기정의된, 치환체α4로 구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되며;
상기 치환체 α4는 하기:
1) 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
2) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화알킬기,
3) 히드록시기,
4) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
5) 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
6) 메틸렌디옥시, 벤질옥시, 페네틸옥시 및 나프틸메틸옥시기,
7) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
8) 1 ∼ 4 개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
9) 불소, 염소 및 브롬원자,
10) 벤질기,
11) 비치환되거나 또는1∼3개의, 하기 정의된, 치환체β2으로 치환된 페닐기,
12) 비치환되거나또는1∼3개의,상기정의된,치환체β2으로 치환된 페녹시기,
13) 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N-메틸페닐술포닐 아미노, 푸릴, 티 에 닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티 아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐기, 피리딜술포닐아미노 및 N-메틸피리딜술포닐아미노기,
14) 질소원자가 비치환되거나 또는 1 ∼ 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기로 구성된 군으로 부터 선택되고,특히, R1이 (D1)에 정의된바와같고, R2이 (D2)에 정의된바와 같고, R3이 (B3)에 정의된바와같고, X 이 (D4)예 겅의된바와 같고, Y 이 (B5)에 정의된바와같으며, Z 이 (C6)에 정의된바와 같은, 화합물이 바람직하다.
본 발명의 보다 더욱 바랍직한 화합물은 식 (I) 의 화합물 및 그의 염이고, 식중:
(E4) X 는 페닐, 나프틸, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α5로 구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되며;
상기 치환체 α5는 하기:
1) 1 ∼ 3 개의 탄소원자를 갗는 알킬기,
2) 트리 플루오로메틸, 디 플루오로메틸, 플루오로메틸, 히드록시,
포르밀옥시 및 아세톡시기,
3) 1∼3개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
4) 메틸렌디옥시, 벤질옥시, 메틸티오, 예틸티오, 메틸술포닐 및 에틸술포닐기,
5) 불소, 염소 및 브롬원자, 및
6) 벤질,페닐,4-메틸페닐,4-트리플루오로메틸페닐,4-메톡시페닐, 4 - 플루오로페닐, 3,4 - 메틸렌디옥시페닐, 폐녹시, 페닐티오,페닐술포닐, 페닐술포녈아미노, N - 메틸페닐술포닐아미노, 푸릴, 티에닐,옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이미다졸릴, N - 메틸이미다졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐기, 피리딜술포닐아미노 및/또는 N - 메틸피리딜술포닐아미노기,
특히, R1이 (D1)예 정의된바와같고, R2이 (D2)에 정의된바와 같고, R3이 (B3)예 정의된바와같고, X 이 (E4)에 정의된바와 같고, Y 이 (B5)예 정의된바와같으며, Z 이 (C6)예 정의된바와 같은, 화합물이 바람직하다.
본 발명의 보다 더욱 바람직한 화합물은 식 (I) 의 화합물 및 그의 염이고, 식중:
(F2) R2은 에틸렌기를 나타내고;
(F4) X 는 페닐, 나프틸, 피리딜, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α6르 구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되며;
상기치환체α6는: 메틸,에틸, 이소프로필,트리플루오로메틸, 히드록시, 아세 톡시, 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시, 메틸렌디옥시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메 틸술포닐, 에틸술포닐, 벤질, 페닐, 페녹시,페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N - 메틸페닐술포닐아미노, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐, 피리딜술포닐아미노 및 N-메틸피리덜술포닐아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되고, 염소원자이며;
특히, R1이 (D1)에 정의된바와같고, R2이 (F2)에 정의된바와같고, R3이 (B3)에 정의된바와같고, X 이 (F4)에 정의된바와같고, Y 이 (B5)에 정의된바와같으며, Z 이 (C6)예 정의된바와 같은, 화합물이 바람직하다.
본 발명의 가장 바람직한 화합물은 식 (I) 의 화합물 및 그의 염이고, 식중:
(G1) R1은 메틸 또는 에틸기를 나타내고;
(G4a) X 는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α7로 구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되는 페닐기를 나타내고; 상기치환체α7는: 메틸,히드록시,아세톡시,벤질,페닐,페녹시,페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N - 메틸페닐술포닐아미노, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기로 구성된 군으로 부터 선택되고, 염소원자이며; 또는 (G4b) X 는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α8로 구성된 군으로부터 선택된 1∼3개의 치환체로 치환되는 피리덜기릍 나타내고;
상기치환체α8는: 메톡시,에톡시, 이소프로폭시,벤질옥시,메틸티오, 에 틸티오, 메 틸술포닐, 에 틸술포닐, 벤질, 페 닐, 페녹시, 페 닐티오,페닐술포닐, 페닐술포닐아미노 및 N - 메틸페닐술포닐아미노로 구성된 군으로부터 선택되며
특히, Rl이 (Gl)에 정의된바와같고, R2이 (F2)에 정의된바와 같고, R3이 (B3)에 정의된바와같고, X 이 (G4a) 또는 (Gb)에 정의된바와같고, Y 이 (B5)에 정의된바와같으며, Z 이 (C6)에 정의된 바와 같은, 화합물이 바람직하다.
본발명의 구체적인 화합물의 예는 하기식(I)의 화합물이다
[식중, R1, R2, R3,X, Y 및 Z 는 하기의 표 1 ∼ 26 에서 정의한 바와같다. 상기의 표에서, 편리하도록 약호를 사용하였고, 약호의 의미는 하기와같다:
Ac: 아세틸,
tBu: t - 부틸,
Bimid: 벤즈이미다졸, 예를 들어, Bimid - 2 는 2 - 벤즈이미다졸
Boxa: 볜즈옥사졸릴, 예를 들어, Boxa - 2 는 2 - 벤즈옥사졸릴
Bthiz: 티아졸릴, 예를 들어, Bthiz - 2 는 2 - 벤조티아졸릴
Bz: 벤질,
Et: 에틸,
Fur: 푸릴,
himid:릴, 예를들어, lmid-2는 2-이미다졸릴
ind: 인돌릴, 예를 들어, ind - 2 는 2 - 인돌릴
Isox: 이속사졸릴, 예를 들어,Isox - 4 는 4 - 이속사졸릴
Md0: 메틸렌디옥시
Me: 메틸,
Np: 나프틸, 예를 들어, Np - 2 는 2 - 나프틸
Oxa: 옥사졸릴, 예를 들어,Oxa - 2 는 2 - 옥사졸릴
Ph: 페닐,
ip: 이소프로필,
Pym:피리미디닐, 예를들어, Pym-4 는 4-피리미디닐
Pry: 피리딜, 예를들어 ,Pry -2 는 2-피리딜
Pyrr : 피롤릴, 예를들어 Pyrr-2는 2-피롤릴
Pyza :피라 졸릴, 예를들어 Pyza -4는 4- 피라졸릴
Quin : 퀴놀릴 ,예를들어 Quin -2 는 2- 퀴놀릴
iQuin : 이소퀴놀릴, 예를들어 iQuin -4는 4- 이소퀴놀릴
Thi : 티에닐, 예를들어 Thi -2 는 2- 티에닐
Thiz : 티아졸릴, 예를들어 Thiz -4 는 4- 티아졸릴
Za : 2,4 - 디옥소티아졸리딘 - 5- 일리데닐메틸, 예를들어 식 (Za):
Zb : 2,4 -디옥소티아졸리딘 - 5- 일메틸, 예를들어 식(Zb)
Zc: 2,4 -디옥소 옥사졸리딘 -5- 일메틸, 예를들어 식(Zc)
Zd: 3,5 - 디옥소옥사 디아졸리딘 -2- 일메틸, 예를들어 식(Zd)
(6) 보다 더욱 바람직한 화합물의 화합물 번호 2-15, 2-23, 2-35, 2-37, 2-39, 2-95, 2-96, 2-97, 2-98, 2-105, 3-15, 3-23, 3-35, 3-37, 3-39, 3-95, 3-96, 3-97, 3-98 및 3-105
(7) 가장 바람직한 화합물의 화합물 번호
2-15. 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-23. 5-(4-{2-[1-(4-페닐술포닐페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-35. 5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-37. 5-(4-{2-[1-(4-3'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-39. 5-(4-{2-[1-(4-4'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-95. 5-(4-{2-[1-(2-페닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-96. 5-(4-{2-[1-(2-메톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-97. 5-(4-{2-[1-(2-에톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
2-98. 5-(4-{2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온; 및
2-105. 5-(4-{2-[1-(2-벤질-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘 -2, 4-디온;
본 발명의 화합물은 상기 일반적인 형태의 화합물을 제조하기 위해 당분야에서 공지된 각종 방법에 의해서 제조될 수 있다. 예를 들면, 하기의 반응도 A, B 및 C에 의해서 제조될 수 있다 :
반응도 A :
[식중, R1, R2, R3, X, Y 및 Z는 상기 정의된 바와 같고;
U는 히드록시기, 할로겐원자 (바람직하게는, 염소, 브롬, 또는 요오드 원자) 또는 식 -O-SO2-R5(식중, R5는 : 메틸 또는 에틸기와 같은, 1 ∼ 6개의 탄소원자를 갖는 알킬기; 치환체 α와 관련하여 상기 예시된 바, 특히 트리플루오로메틸기와 같은, 1 ∼ 4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기 ; 또는 비치환되거나 또는 1 ∼ 4개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 니트로기 또는 할로겐원자로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환되는, 페닐, ｐ-톨릴, ｐ-니트로페닐 및 ｐ-브로모페닐기와 같은, 6∼10개의 탄소원자를 갖는 탄소고리 아릴기를 나타낸다)의 기를 나타내고; 및
Z'는 Z [예를 들어, 식(Za), (Zb), (Zc) 또는 (Zd)의 기]로 나타낸 상기 기중 임의 것을 나타내고, 그 중 예를 들어, 식 ＞ N-CPh3[예를 들어, 트리페닐메틸기 (이후, 트리틸기로 언급)에 의해 보호]의 기로 전환되므로서, 식 ＞ NH의 기는 보호된다.
공정 A1
공정 A1에서, 식(Ⅳ)의 화합물은 식(Ⅱ)의 화합물과 식(Ⅲ)의 화합물이 반응하여 제조된다.
U가 히드록시기를 나타내는 경우, 상기 공정의 반응은 미쓰노부 반응[Mitsunobu reaction; O. Mitsunobu, Synthesis, 1 (1981)]으로 공지된 통상적인 방법에 의해서 수행될 수 있다.
반응은 대개 하나 이상의 아조 화합물 및 하나 이상의 포스핀의 존재하에 용매중에서 수행된다.
사용되는 아조 화합물의 성질에 있어서 특별한 제한은 없고, 상기 형태의 반응에서 통상적으로 사용되는 임의의 아조 화합물을 동등하게 여기에서 사용할 수 있다. 상기 아조 화합물의 예로는 디에틸아조디카르복실레이트 및 1,1'-(아조디카르보닐)-디피페리딘이 포함된다. 사용된 포스핀의 성질에 있어서 특별한 제한은 없고, 그 예로는 트리페닐포스핀 및 트리부틸포스핀이 포함된다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적이며 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 헥산 또는 헵탄과 같은, 탄화수소; 클로로포름, 메틸렌 클로라이드, 사염화탄소 또는 1,2 - 디클로로에탄과 같은, 할로겐화 탄화수소; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드와 같은, 아미드; 및 상기 용매중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다.
반응은 넓은 범위의 온돌에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에서 중요하지 않다. 일반적으로, 10℃∼100℃, 보다 바람직하게는 20℃∼80℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 1시간 ∼ 3일, 더욱 바람직하게는 5시간 ∼ 3일의 기간이 대개 충분할 것이다.
U가 할로겐원자 또는 식 -O-SO2-R5의 기를 나타내는 경우, 반응은 염기의 존재하에서 및 비활성 용매중에서 수행될 수 있다.
상기 반응에서 사용된 염기의 성질에 있어서 특별한 제한은 없고, 상기 형태의 통상적인 반응에서 대체적으로 사용되는 임의 염기가 여기에서도 똑같이 사용될 수 있다. 그러나, 바람직한 염기의 예로는 : 탄산나트륨 또는 탄산칼륨과 같은, 탄산 알칼리금속; 수소화나트륨, 수소화칼륨 또는 수소화리튬과 같은, 수소화알칼리금속; 메톡시화나트륨, 에톡시화나트륨, t-부톡시화칼륨 또는 메톡시화리튬과 같은, 알칼리금속 알콕시드; 부틸리튬 또는 메틸리튬과 같은 알킬리튬 화합물; 리튬 디에틸아미드, 리튬 디이소프로필아미드 또는 리튬 비스(트리메틸실릴)아미드와 같은, 리튬 아미드; 탄산수소나트륨 또는 탄산수소칼륨과 같은, 탄산수소 알칼리금속; 및 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔, 1.8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔 또는 N,N-디이소프로필에틸아민과 같은, 사차 유기 아민이 포함된다. 상기 중, 알칼리금속 카르보네이트, 알칼리금속 히드라이드 및 알칼리금속 알콕시드가 바람직하다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 벤젠 또는 톨루엔과 같은, 탄화수소; 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 메탄올, 에탄올 또는 t-부탄올과 같은, 알콜; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 또는 N-메틸피롤리디논과 같은, 아미드; 아세톤 또는 2-부타논과 같은, 케톤; 아세토니트릴과 같은, 니트릴; 디메틸 술폭시드와 같은, 술폭시드; 및 상기 용매중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다. 상기 중, 에테르, 아미드, 케톤 또는 술폭시드가 바람직하다.
반응이 요오드화 벤질트리에틸암모늄 또는 요오드화 테트라부틸암모늄과 같은 상 전이 촉매의 존재하에서 수행되는 경우, 물 및, 염화메틸렌 또는 클로로포름과 같은, 할로겐화 탄화수소로 구성된 2-층 용매 시스템중에서, 염기로서, 수산화나트륨 또는 수산화칼륨과 같은, 수산화 알칼리금속을 염기로서 사용하여 수행될 수 있다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 -10℃∼120℃, 보다 바람직하게는 10℃∼100℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분 ∼48시간, 더욱 바람직하게는 1∼6시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
공정 A2
공정 A2에서, 식(Ⅰ)의 화합물은 식(Ⅴ)의 화합물로부터 보호된 트리틸기를 제거하므로서 제조된다.
상기 공정에서 반응은 식(Ⅳ)의 화합물과 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, ｐ-톨루엔술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 염산 또는 황산과 같은 산을 용매의 존재 또는 부재하에서 반응시키므로서 수행될 수 있다.
상기 반응은 용매의 존재하에서 수행하는 경우, 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다.
적합한 용매의 예로는: 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 헥산 또는 헵탄과 같은, 탄화수소; 클로로포름, 메틸렌 클로라이드 또는 사염화탄소와 같은, 할로겐화 탄화수소; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 메탄올 또는 에탄올 과 같은, 알콜; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드와 같은, 아미드; 메틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트와 같은, 에스테르; 물; 및 상기 용매중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에서 중요하지 않다. 일반적으로 -10℃∼120℃, 보다 바람직하게는 0℃∼100℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 10분∼24시간, 더욱 바람직하게는 30분∼16시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
또한, 상기 공정에서 반응은 식(Ⅳ)의 화합물을 촉매성 수소화 시키므로서 수행될 수 있다. 적합한 촉매의 예로는: 예를 들면, 목탄상-팔라튬, 팔라튬 블랙, 산화 플라티늄 또는 플라티늄 블랙이 포함되고 목탄상-팔라튬이 바람직하다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 헥산 또는 헵탄과 같은, 탄화수소; 클로로포름, 메틸렌 클로라이드 또는 사염화탄소와 같은, 할로겐화 탄화수소; 디에틸 에테르, 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올과 같은, 알콜; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드와 같은, 아미드; 및 상기 용매중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 10℃∼140℃, 보다 바람직하게는 20℃∼120℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분 ∼ 3일, 더욱 바람직하게는 1시간 ∼ 1일의 기간이 대개 충분할 것이다.
어떤 경우에서는 포름산, 아세트산 또는 트리플루오로아세트산과 같은 카르복실산, 또는 염산 또는 황산과 같은 무기물산을 반응 혼합물에 첨가하므로서 반응이 가속화될 수 있다.
반응도 B
반응도 A에서 사용된 중간체, 식(Ⅳ)의 화합물은 하기의 반응도B에 의해 또한 제조될 수 있다:
반응도 B
[식중, R1, R2, R3, U, X, Y 및 Z'는 상기 정의된 바와 같다].
공정 B1
공정 B1에서, 식(Ⅳ)의 화합물은 식(Ⅴ)의 화합물과 식(Ⅵ)의 화합물을 반응시키므로서 제조된다.
상기 반응은 반응도 A에서의 공정 A1에 기재된 것과 본질적으로 동일하고, 동일한 시약 및 반응 조건을 사용하여 수행한다.
반응도 C
본 발명의 화합물인, 식(Ⅰ)의 화합물 및 식(Ⅳ)의 중간체는 하기의 반응도C에 의해 또한 제조될 수 있다.
[상기 식중, R1, R2, R3, U, X, Y 및 Z'는 상기 정의된 바와 같고; R6및 R7은 동일하거나 상이하고, 각각은 수소원자 또는 아미노 - 보호기를 나타내고; 및 Z"는 Z 또는 Z'를 나타낸다].
R6및/또는 R7로 나타낼 수 있는 아미노-보호기는 유기 합성 화학에서 잘 공지되어 있고, 그의 성질은 본 발명에서 중요하지 않다. 상기 보호기의 예로는: 벤질, 디페닐메틸 및 트리틸기와 같은, 아랄킬기; 포르밀 및 트리플루오로아세틸기와 같은, 지방족 아실기; t-부톡시카르보닐기와 같은, 알콕시카르보닐기; 벤질옥시카르보닐 및 ｐ-니트로벤질옥시카르보닐기와 같은, 아랄킬옥시카르보닐기; 및 프탈로일기가 포함된다. 상기 중, 벤질, 트리틸, 트리플루오로아세틸, t-부톡시카르보닐, 벤질옥시카르보닐 및 프탈로일기가 바람직하다.
공정 C1
공정 C1에서, 식(Ⅷ)의 화합물은 식(Ⅶ)의 화합물과 식(Ⅲ)의 화합물을 반응시켜 제조된다.
상기 반응은 반응도A에서의 공정 A1에 기재된 것과 본질적으로 동일하고, 동일한 시약 및 반응 조건을 사용하여 수행된다.
공정 C2
공정 C2에서, 식(Ⅸ)의 화합물은 식(Ⅷ)의 화합물에서 R6및/또는 R7로 나타낸 아미노 - 보호기를 제거, 및 필요에 따라, Z를 생성하기 위해 Z'의 보호기를 제거하므로서 제조된다.
사용된 제거 반응은, 물론, 당 분야에서 공지된 바에 따라, 사용된 보호기의 성질에 의존할 것이며, 본 발명에서 중요하지는 않다.
예를 들어, R6로 나타낸 보호기가 아랄킬 또는 아랄킬옥시카르보닐기인 경우, 촉매성 환원에 의해 제거될 수 있다. 이와는 달리, 트리틸 또는 t-부톡시카르보닐기인 경우에는, 산 처리하므로서 제거 될 수 있다. 상기 반응은 반응도 A에서의 공정A2에 기재된 것과 본질적으로 동일하고, 동일한 시약 및 반응 조건을 사용하여 수행될 수 있다. 식(Ⅳ)의 중간체를 제조하는 경우에 있어서, 사용된 반응 조건은 Z'의 트리틸기가 제거되어서는 안되는 것이 필수이다.
R6으로 나타낸 보호기가 포르밀 또는 트리플루오로아세틸기과 같은, 지방족 아실기인 경우, 염기성 조건하에서 처리하므로서 제거될 수 있다.
사용된 염기의 성질은 본 발명에서 중요하지 않고, 상기 형태의 반응에서 통상적으로 사용되는 임의 염기를 여기에서 똑같이 사용할 수 있다. 적합한 염기의 예로는 : 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 수산화리튬과 같은, 수산화알칼리금속;및 탄산나트륨 또는 탄산칼륨과 같은, 탄산 알칼리금속이 포함된다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 메탄올 또는 에탄올과 같은 알콜; 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 및 상기 용매 중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 0℃∼100℃, 보다 바람직하게는 10℃∼80℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분 ∼24시간, 더욱 바람직하게는 1∼16시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
R6및/또는 R7로 나타낸 보호기가 프탈로일기인 경우, 히드라진 또는 일차 아민으로 처리하므로서 제거될 수 있다.
적합한 히드라진의 예로는, 예를 들어, 히드라진, 메틸히드라진 및 페닐히드라진이 포함된다. 적합한 일차 아민의 예로는, 예를 들어, 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 이소부틸아민, 펜틸아민 및 헥실아민이 포함된다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 메탄올 또는 에탄올과 같은 알콜; 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 메틸렌 클로라이드 또는 클로로포름과 같은, 할로겐화 탄화수소; 및 상기 용매 중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 0℃∼100℃, 보다 바람직하게는 10℃∼80℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분 ∼24시간, 더욱 바람직하게는 1∼16시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
더구나, 필요에 따라, Z'의 보호기가 제거되어 Z기를 생성할 수 있다. 상기 반응은 반응도 A에서의 공정 A2에 기재된 것과 본질적으로 동일하고, 동일한 시약 및 반응 조건을 사용하여 수행된다.
공정 C3
공정 C3에서, 식(Ⅳ)의 화합물은 식(Ⅸ)의 아미노 화합물과 식(Ⅹ)의 카르보닐 화합물을 탈수-축합 반응시켜 제조된다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 헥산, 벤젠, 또는 크실렌과 같은, 탄화수소; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 또는 1,2-디클로로 에탄과 같은할로겐화 탄화수소; 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 메탄올 또는 에탄올과 같은, 알콜; 에틸 아세테이트 또는 부틸 아세테이트와 같은, 에스테르; 및 상기 용매 중 두가지 이상의 혼합물이 포함된다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 0℃∼120℃, 보다 바람직하게는 10℃∼100℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분 ∼ 24시간, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 16 시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
반응도 D
반응도 A에서의 출발물질중 하나인, 식(Ⅱ)의 화합물은, 예를 들어, 하기의 반응도 D에 의해 제조될 수 있다.
[식중, R1, R2및 X 는 상기 정의된 바와 같고; 및 U'는 할로겐원자 또는 U기의 정의에 포함된 식 -O-SO2-R5(식중, R5는 : 상기 정의된 바과 같다)의 기를 나타낸다.
상기 반응도에 의해서 제조될 수 있는 식(Ⅱa)의 화합물은 U가 히드록시기를 나타내는 식(Ⅱ)의 화합물이다. 식(Ⅱb)의 화합물을 U가 할로겐원자 또는 식-O-SO2-R5의 기를 나타내는 식(Ⅱ)의 화합물이다.
공정 D1
공정 D1에서, 식(ⅩⅡ)의 화합물은 식(Ⅴ)의 화합물과 식(ⅩⅠ)의 화합물을 반응시키므로서 제조된다.
U가 할로겐원자 또는 식 -O-SO2-R5의 기를 나타내는 경우, 상기 반응은 반응도 A에서의 공정 A1에 기재된 것과 본질적으로 동일하고, 동일한 시약 및 반응 조건을 사용하여 수행될 수 있다.
공정 D2
공정 D2에서, 식(Ⅱa)의 화합물은 식(ⅩⅡ)의 화합물로 부터 테트라히드로피라닐기를 제거하므로서 제조된다.
상기 반응은 반응도 A 에서의 공정 A2에 기재된 것과 본질적으로 동일하고, 산(상기 공정에서 예시된 바와 같은) 및 동일한 반응 조건을 사용하여 수행될 수 있다.
공정 D3
공정 D3에서, 식(Ⅱb)의 화합물은 식(Ⅱa)의 화합물에서 히드록시기를 할로겐원자 또는 식 -O-SO2-R5의 기로 전환시키므로서 제조된다.
U'가 할로겐원자를 나타내는 경우, 용매의 존재하에서 식(Ⅱa)의 화합물을 할로겐화제와 반응시키므로서 반응을 수행할 수 있다.
상기 반응에서 사용된 할로겐화제의 성질은 본 발명에서 중요하지 않으며, 상기 할로겐화제의 예로는 : 티오닐 클로라이드 또는 티오닐 브로마이드와 같은, 티오닐 할라이드; 펜타염화인 또는 펜타브롬화인과 같은, 펜타할로겐화인; 산염화인 또는 산브롬화인과 같은, 산할로겐화인; 및 옥살릴 클로라이드가 포함된다. 상기 중, 티오닐 할라이드 또는 옥살릴 클로라이드가 바람직하다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 헥산, 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌과 같은, 탄화수소; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 또는 1,2 -디클로로에탄과 같은, 할로겐화 탄화수소; 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 에틸 아세테이트 또는 부틸 아세테이트와 같은, 에스테르가 포함된다. 상기 중, 할로겐화 탄화수소 또는 에테르가 바람직하다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 -10℃∼100℃, 보다 바람직하게는 10℃∼80℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분∼24시간, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 16 시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
이와는 달리, 상기 공정에서 반응은, 트리페닐포스핀 또는 트리부틸포스핀과 같은, 포스핀의 존재하에서, 식(Ⅱa)의 화합물을 사염화탄소, 사브롬화탄소, N-브로모숙신이미드 또는 N-클로로숙신이미드와 같은, 할로겐화제와의 반응에 의해서 수행될 수 있다. 상기 반응에서 사용된 반응 조건은 반응도 A의 공정 A1에 기재된 미쓰노부 반응과 유사하다.
U'가 식(Ⅱa)의 화합물에서 식 -O-SO2-R5의 기를 나타내는 경우, 염기의 존재하 비활성 용매중에서 식 (Ⅱa)의 화합물을 식 -R5SO2-Cl (식중, R5은 상기 정의된 바와 같다)의 화합물 또는 식 (R5-SO2)2O (식중, R5은 상기 정의된 바와 같다)의 화합물과 반응시키므로서 반응을 수행할 수 있다.
상기 반응에서 사용된 염기의 성질은 본 발명에서 중요하지 않으며, 상기 염기의 예로는 트리에틸아민, N-메틸모르폴린 및 N, N-디이소프로필에틸아민과 같은, 사차 아민이 포함된다.
반응은 용매의 존재하에서 정상적으로 바람직하게 수행된다. 사용된 용매의 성질에 있어서 특별한 제한은 없으며, 단, 반응 또는 포함된 시약에 대해서 역효과가 없고, 최소한 어느 정도로 시약을 용해시킬 수 있다. 적합한 용매의 예로는: 헥산, 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌과 같은, 탄화수소; 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 또는 1,2 -디클로로에탄과 같은, 할로겐화 탄화수소; 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은, 에테르; 에틸 아세테이트 또는 부틸 아세테이트와 같은, 에스테르가 포함된다. 상기 중, 할로겐화 탄화수소 또는 에테르가 바람직하다.
반응은 넓은 범위의 온도에서 일어날 수 있고, 정확한 반응 온도는 본 발명에 있어서 중요하지 않다. 일반적으로 -10℃∼100℃, 보다 바람직하게는 0℃∼60℃의 온도에서 반응을 수행하는 것이 편리하다는 것을 발견하였다. 반응 필수 시간 또한, 많은 인자, 현저한 반응 온도 및 사용된 시약 및 용매의 성질에 따라서, 폭넓게 다양할 수 있다. 그러나, 단, 반응이 상기 제시된 바람직한 조건하에서 수행된다면, 30분∼24시간, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 16 시간의 기간이 대개 충분할 것이다.
상기 언급된 공정의 각각에서, 반응의 완료 후, 목적 화합물을 반응 혼합물로부터 회수할 수 있고, 필요에 따라, 통상적인 방법, 예를 들어, 컬럼 크로마토그래피, 재결정법, 재침전법 및 유사한 방법에 의해서 정제시킬 수 있다. 상기 방법의 예로는 : 반응 혼합물에 유기 용매의 첨가에 의한 화합물의 추출; 추출물로 부터 용매의 증류 제저; 및 최종적으로 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의한 화합물을 정제 등이 포함되며, 이로 인해 목적 화합물의 정제 시료를 수득한다.
생물학적 활성
식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염은 혈당 수위를 저하시키고, 비만을 감소시키며, 장애내당성을 경감시키고, 간 당신생을 억제하고, 혈지질 수치를 저하시키며 알도스 환원효소를 억제시키는 활성을 함유한다. 그들은 또한 과혈당증, 비만증, 장애내당성(IGT), 항인슐린 비-장애내당성(NGT), 비-진단성 당내성, 인슐릴 저항성, 과지질혈증, 당뇨성 합병증(망막장애, 신장병증, 신경장애, 백내장 및 관상 동맥 질병을 포함) 및 동맥경화의 예방 및/또는 치료에 유용하며, 또한, 고혈압, 악액질, 건선 및 골다공증에는 필수적이다. 또한, 그들은 다낭포성난소증, 지방간 및 임신성 당뇨병(GDM)의 치료 및 예방에 유용하다.
당 분야에서 잘 공지된 바와 같이, 치료될 질병 및 환자의 연령, 상태 및 체중에 따라서, 본 발명의 화합물은 각종 형태로 투여될 수 있다. 예를 들면, 화합물이 경구로 투여되는 경우, 그들을 정제, 캡슐, 과립, 분말 또는 시럽으로 제형할 수 있고; 또는, 비경구적으로 투여되는 경우, 주사액(정맥내, 근육내 또는 피하), 점적 주입 제제 또는 좌약으로 제형될 수 있다. 눈 점막의 경로를 이용하는 경우, 점안액 또는 안연고로서 제형될수 있다. 상기 제제들은 통상적인 방법에 의해서 제조되고, 필요에 따라서, 활성 성분을 부형제, 결합제, 분해제, 윤활제, 교미제, 용해제, 현탁 보조제, 유화제 또는 피복제와 같은, 임의 통상적인 첨가제와 혼합시킬 수 있다. 투여량은 증상, 환자의 연령 및 체중, 치료 및 예방되어야 할 질병의 성질 및 심각성, 투여 경고 및 약제의 형태에 따라서 다양할 수 있지만, 일반적으로, 1일 투여량은 성인 환자에 대해서 0.01∼2000㎎의 화합물이 추천되고, 이는 1회 투여 또는 분량 투여될 수 있다.
본 발명의 화합물의 다양한 제조는 또한 하기의 실시예에 국한 되지 않고 설명된다. 본 실시예에서 사용된 어떠한 중간체의 제조는 차기의 제조예에서 설명하고, 본 발명의 화합물을 함유하는 약학적 조성물은 차기의 제형예에 의해서 설명된다.
[실시예 1]
5-[4-(2-벤질리덴아미녹시에톡시)벤질]티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-1)
1(a) 5-[4-(2-벤질리덴아미녹시에톡시)벤질]-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
4ml의 테트라히드로푸란중 450㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트 용액을 10ml의 테트라히드로푸란 중 383㎎의 2-(벤질리덴아미노옥시) 에탄올(제조예 1에 기재된 바와 같이 제조), 1.00g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온 및 629㎎의 트리페닐포스핀의 용액에 실온에서 적가하고, 생성된 혼합물을 실온에서 16시간동안 교반시킨다. 상기 시간의 말부에, 반응 생성물을, 용출액으로써 부피비가 3:1인 헥산 및 에틸 아세테이트 혼합물을 사용하는, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제시켜, 고무로서 표제 화합물 0.53g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
10ml의 디옥산, 7ml의 아세트산 및 물 3ml 의 혼합액 중 0.53g의 5-[4-(2-벤질리덴아미노옥시에톡시)벤질]-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온[상기 (a)의 단계에 기재된 바와 같이 제조]의 용액을 80℃에서 2시간 동안 교반시킨다. 상기 시간의 말부에서, 반응 혼합물을 감압하에서 증발 농축시킨 다음, 잔류 아세트산 및 물을 톨루엔 공비혼합물로서 증류시켜 제거한다. 상기 수득된 잔류물을, 용출액으로서 부피비가 2 : 1 ∼ 1 : 1의 범위인 헥산 및 에틸 아세테이트의 혼합액으로, 농도 구배 용출법을 사용하여, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제시켜 결정형 분말인 생성물을 수득한다. 상기 분말을 디이소프로필 에테르 중에 현탁시킨 다음 여과시켜 수합하므로서, 융점이 126∼129℃인, 표제 화합물 215㎎을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 2]
5-{4-[2-(2-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-149)
2(a) 5-{4-[2-(2-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
478㎎의 2-(2-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에탄올[제조예 2에 기재된 바와 같이 제조], 1.00g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온, 638㎎의 트리페닐포스핀 및 423㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.12g의 표제 화합물을 융점이 127∼130℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란사용), δppm :
1.00g 이 5-{4-[2-(2-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 방법과 유사한 방법을 수행하여, 522㎎의 표제 화합물을 융점이 164∼166℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 3]
5-{4-[2-(3-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-150)
3(a) 5-{4-[2-(3-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
10ml의 톨루엔 중 0.73g의 1, 1'-(아조디카르보닐) 디피페라진의 용액을 30ml의 테트라히드로푸란 중 0.60g의 2-(3-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 3에 기재된 바와 같이 제조), 1.10g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온 및 0.72ml의 트리부틸포스핀의 현탁액에 실온에서 적가하고, 생성된 혼합액 을 16시간 동안 교반시킨다. 상기 시간의 말부에, 반응 생성물을 용출액으로서 부피비가 1 : 1인 헥산 및 에틸 아세테이트의 혼합액을 사용하여, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제시켜 융점이 127∼130℃인, 결정형 분말인 표제 화합물 1.45g을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
0.89g의 5-{4-[2-(3-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 0.47g의 표제 화합물을 융점이 182∼184℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 4]
5-{4-[2-(2-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-87)
4(a) 5-{4-[2-(2-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
498㎎의 2-(2-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 4에 기재된 바와 같이 제조), 1.13g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온, 0.75ml의 트리부틸포스핀 및 693㎎의 1, 1'-(아조디카르보닐)디피페라진을 사용하는 것을 제외하고, 실시예 3(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 0.82g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
0.82g의 5-{4-[2-(2-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 0.42g의 표제 화합물을 융점이 161∼163℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 5]
5-{4-[2-(3-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-88)
5(a) 5-{4-[2-(3-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
0.90g의 2-(3-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올 (제조예5에 기재된 바와 같이 제조), 200g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온, 1.32ml의 트리부틸포스핀 및 1.23g의 1, 1'-(아조디카르보닐)디피페라진을 사용하는 것을 제외하고, 실시예 3(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.37g의 표제 화합물을 융점이 155℃∼157℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.27g의 5-{4-[2-(3-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 0.75g의 표제 화합물을 융점이 157∼159℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 6]
5-{4-[2-(4-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-89)
6(a) 5-{4-[2-(4-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
0.88g의 2-(4-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올 (제조예6에 기재된 바와 같이 제조), 200g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 1.32ml의 트리부틸포스핀 및 1.23g의 1, 1'-(아조디카르보닐)디피페라진을 사용하는 것을 제외하고, 실시예 3(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.10g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.10g의 5-{4-[2-(4-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 0.42g의 표제 화합물을 융점이 221℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 7]
5-{4-[2-(2-나프틸메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-3)
7(a) 5-{4-[2-(2-나프틸메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
430㎎의 2-(2-나프틸메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 7에 기재된 바와 같이 제조), 716㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 525㎎의 트리페닐포스핀 및 348㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여,712㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
712㎎의 5-{4-[2-(2-나프틸메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 374㎎의 표제 화합물을 융점이 108∼111℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 8]
5-{4-[2-(3-페닐벤질리덴아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-14)
8(a) 5-{4-[2-(3-페닐벤질리덴아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
483㎎의 2-(3-페닐벤질리덴아미노옥시)에탄올(제조예 8에 기재된 바와 같이 제조), 716㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 525㎎의 트리페닐포스핀 및 348㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 807㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
800㎎의 5-{4-[2-(3-페닐벤질리덴아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 344㎎의 표제 화합물을 융점이 128℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 9]
5-{4-[2-(4-페닐벤질리덴아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-15)
9(a) 5-{4-[2-(4-페닐벤질리덴아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
483㎎의 2-(4-페닐벤질리덴아미노옥시)에탄올(제조예 9에 기재된 바와 같이 제조), 716㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 525㎎의 트리페닐포스핀 및 348㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 914㎎의 표제 화합물을 융점이 157-159℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
907㎎의 5-{4-[2-(4-페닐벤질리덴아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 442㎎의 표제 화합물을 융점이 124∼127℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 10]
5-{4-[2-(2-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘
-2, 4-디온 (화합물 번호 1-95)
10(a) 5-{4-[2-(2-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3
-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
390㎎의 2-(2-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 10에 기재된 바와 같이 제조), 576㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 422㎎의 트리페닐포스핀 및 280㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 671㎎의 표제 화합물을 융점이 146∼148℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
600㎎의 5-{4-[2-(2-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 312㎎의 표제 화합물을 융점이 102∼104℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 11]
5-{4-[2-(3-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-티아졸리딘
-2, 4-디온 (화합물 번호 1-92)
11(a) 5-{4-[2-(3-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}
-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
354㎎의 2-(3-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 11에 기재된 바와 같이 제조), 510㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 383㎎의 트리페닐포스핀 및 255㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 550㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
550㎎의 5-{4-[2-(3-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 287㎎의 표제 화합물을 융점이 160∼161℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(소량의 헥사중수소화된 디메틸 술폭시드와 CDCl3의 혼합물, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 12]
5-{4-[2-(2-에톡시-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질} -티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-97)
12(a) 5-{4-[2-(2-에톡시-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
570㎎의 2-(2-에톡시-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 12에 기재된 바와 같이 제조), 1.20g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 695㎎의 트리페닐포스핀 및 462㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.27g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.27g의 5-{4-[2-(2-에톡시-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에톡시]-벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 572㎎의 표제 화합물을 융점이 127∼129℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 13]
5-(4-{2-[1-(2-나프틸)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-티아졸리딘
-2, 4-디온 (화합물 번호 2-3)
13(a) 5-(4-{2-[1-(2-나프틸) 에틸리덴아미노옥시]에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
459㎎의 2-[1-(2-나프틸)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 13에 기재된 바와 같이 제조), 716㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 525㎎의 트리페닐포스핀 및 348㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 858㎎ 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
854㎎의 5-(4-{2-[1-(2-나프틸)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 442㎎의 표제 화합물을 융점이 138∼139℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 14]
5-(4-{2-[1-(2-퀴놀릴) 에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-티아졸리딘
-2, 4-디온 (화합물 번호 2-149)
14(a) 5-(4-{2-[1-(2-퀴놀릴) 에틸리덴아미노옥시]에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
461㎎의 2-[1-(2-퀴놀릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 14에 기재된 바와 같이 제조), 716㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 525㎎의 트리페닐포스핀 및 348㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 911㎎ 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
904㎎의 5-(4-{2-[1-(2-퀴놀릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-
3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 402㎎의 표제 화합물을 융점이 162∼163℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 15]
5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴) 에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-15)
15(a) 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온
170㎎의 2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 15에 기재된 바와 같이 제조), 238㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 175㎎의 트리페닐포스핀 및 116㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 257㎎ 표제 화합물을 융점이 145℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
254㎎의 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-
3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 139㎎의 표제 화합물을 융점이 164∼166℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 16]
5-(4-{2-[1-(3-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-14)
16(a) 5-(4-{2-[1-(3-비페닐릴) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
511㎎의 2-[1-(3-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 16에 기재된 바와 같이 제조), 716㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 525㎎의 트리페닐포스핀 및 348㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 916㎎ 표제 화합물을 무정형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
912㎎의 5-(4-{2-[1-(3-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하고, 이어서 부피비가 2:1인 헥산 및 에틸 아세테이트를 용출액으로서 사용하는, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 고무인 540㎎의 표제 화합물을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 17]
5-(4-{2-[1-(2-페닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-95)
17(a) 5-(4-{2-[1-(2-페닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
384㎎의 2-[1-(2-페닐-5-피리딜))에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 17에 기재된 바와 같이 제조), 537㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘- 2, 4-디온, 393㎎의 트리페닐포스핀 및 261㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 698㎎ 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
695㎎의 5-(4-{2-[1-(2-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-
3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 380㎎ 의 표제 화합물을 융점이 186∼187℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 18]
5-(4-{2-[1-(3-페닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-92)
18(a) 5-(4-{2-[1-(3-페닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
419㎎의 2-[1-(3-페닐-5-피리딜))에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 18에 기재된 바와 같이 제조), 585㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘- 2, 4-디온, 429㎎의 트리페닐포스핀 및 285㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 522㎎ 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
516㎎의 5-(4-{2-[1-(3-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}
벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 303㎎ 의 표제 화합물을 융점이 150∼153℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(소량의 헥사중수소화된 디메틸 술폭시드와 CDCl3의 혼합물, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 19]
5-(4-{2-[1-(2-에톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-97)
19(a) 5-(4-{2-[1-(2-에톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
410㎎의 2-[1-(2-에톡시-5-피리딜))에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 19에 기재된 바와 같이 제조), 655㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘
- 2, 4-디온, 480㎎의 트리페닐포스핀 및 319㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 763㎎ 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
508㎎의 5-(4-{2-[1-(2-에톡시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}
벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 219㎎ 의 표제 화합물을 융점이 135∼138℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 20]
5-(4-{2-[1-(4-1'-이미다졸릴페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-25)
20(a) 5-(4-{2-[1-(4-1'-이미다졸릴페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
490㎎의 2-[1-(4-1'-이미다졸릴페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 20에 기재된 바와 같이 제조), 907㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘
- 2, 4-디온, 550㎎의 트리페닐포스핀 및 365㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 830㎎ 표제 화합물을 무정형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
830㎎의 5-(4-{2-[1-(4-1'-이미다졸릴페닐)에틸리덴아미노옥시]
에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 465㎎ 의 표제 화합물을 융점이 192∼200℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 21]
5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-35)
21(a) 5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
7.00g의 2-[1-(4-2'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 21에 기재된 바와 같이 제조), 12.39g 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘- 2, 4-디온, 7.51g의 트리페닐포스핀 및 4.99g의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 16.15g의 표제 화합물을 융점이 117∼119℃인, 결정형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
16.00g의 5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}
벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 9.17g의 표제 화합물을 융점이 176∼179℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
디옥산 중 4N 염화수소 용액 1ml을 20ml의 에틸 아세테이트 및 20ml의 디옥산의 혼합액중 500mg의 5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}-벤질)티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(b)에 기재된 바와 같이 제조]의 용액에 첨가하고, 생성된 혼합액을 감압하에 증발 농축시킨다. 상기 수득한 결정형 분말을 에틸 아세테이트 및 디에틸 에테르의 혼합액중에 현탁시킨 다음 여과시켜 수합하여, 융점이 187.5℃인, 결정형 분말로서 표제 화합물의 염화 수소물 540mg을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 22]
5-(4-{2-[1-(4-3'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-37)
22(a) 5-(4-{2-[1-(4-3'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
512㎎의 2-[1-(4-3'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 22에 기재된 바와 같이 제조), 907㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 550㎎의 트리페닐포스핀 및 365㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.16g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.16g의 5-(4-{2-[1-(4-3'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}
벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 696㎎의 표제 화합물을 융점이 182℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 23]
5-(4-{2-[1-(4-4'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-39)
23(a) 5-(4-{2-[1-(4-4'-피리딜페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
769㎎의 2-[1-(4-4'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올(제조예 23에 기재된 바와 같이 제조), 1.53g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 866㎎의 트리페닐포스핀 및 575㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 2.00g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.34g의 5-(4-{2-[1-(4-4'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}
벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 630㎎의 표제 화합물을 융점이 234∼235℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 24]
5-{4-[2-[1,4-디메틸-2-페닐이미다졸-5-일메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 1-176)
24(a) 5-{4-[2-[1, 4-디메틸-2-페닐이미다졸-5-일메틸렌아미노옥시)에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
420㎎의 2-(1, 4-디메틸-2-페닐이미다졸-5-일메틸렌아미노옥시)에탄올(제조예 24에 기재된 바와 같이 제조), 580㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 425㎎의 트리페닐포스핀 및 282㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 646㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
640㎎의 5-{4-[2-[1,4-디메틸-2-페닐이미다졸-5-일메틸렌아미노옥시) 에톡시]벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 354㎎의 표제 화합물을 무정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 25]
5-(4-{2-[1-(1-메틸-2-페닐이미다졸-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-175)
25(a) 5-(4-{2-[1-(1-메틸-2-페닐이미다졸-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}-벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
396㎎의 2-[1-(1-메틸-2-페닐이미다졸-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 25에 기재된 바와 같이 제조), 694㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 440㎎의 트리페닐포스핀 및 292㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 866㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
866㎎의 5-(4-{2-[1-(1-메틸-2-페닐이미다졸-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 440㎎의 표제 화합물을 무정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 26]
5-(4-{2-[1-(4'-메틸비페닐-4-일)-에틸리덴아미노옥시]에톡시} 벤질)
-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-189)
26(a) 5-(4-{2-[1-(4'-메틸비페닐-4-일)-에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
539㎎의 2-[1-(4'-메틸비페닐-4-일)-에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 26에 기재된 바와 같이 제조), 931㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 366㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.24g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.24g의 5-(4-{2-[1-(4'-메틸비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 670㎎의 표제 화합물을 융점이 184∼186℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(소량의 헥사중수소화된 디메틸 술폭시드와 CDCl3의 혼합물, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm:
[실시예 27]
5-(4-{2-[1-(4'-플루오로비페닐-4-일)-에틸리덴아미노옥시]에톡시} 벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-190)
27(a) 5-(4-{2-[1-(4'-플루오로비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
547㎎의 2-[1-(4'-플루오로비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 27에 기재된 바와 같이 제조), 931㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 366㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.29g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.29g의 5-(4-{2-[1-(4'-플루오로비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 695㎎의 표제 화합물을 융점이 155∼156℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 28]
5-(4-{2-[1-(4'-트리플루오로메틸비페닐-4-일)-에틸리덴아미노옥시]에톡시} 벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-191)
28(a) 5-(4-{2-[1-(4'-트리플루오로메틸비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
647㎎의 2-[1-(4'-트리플루오로메틸비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 28에 기재된 바와 같이 제조), 931㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 366㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.35g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.35g의 5-(4-{2-[1-(4'-트리플루오로메틸비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 781㎎의 표제 화합물을 융점이 165∼166℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(소량의 헥사중수소화된 디메틸 술폭시드와 CDCl3의 혼합물, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 29]
5-(4-{2-[1-(4-에톡시페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-158)
29(a) 5-(4-{2-[1-(4-에톡시페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
447㎎의 2-[1-(4- 에톡시페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 29에 기재된 바와 같이 제조), 931㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 366㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.34g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.34g의 5-(4-{2-[1-(4-에톡시페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 517㎎의 표제 화합물을 융점이 128∼131℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 30]
5-(4-{2-[1-(3', 4'-메틸렌디옥시비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-180)
30(a) 5-(4-{2-[1-(3', 4'-메틸렌디옥시비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
600㎎의 2-[1-(3', 4'-메틸렌디옥시비페닐-4-일) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 30에 기재된 바와 같이 제조), 907㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 550㎎의 트리페닐포스핀 및 365㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.12g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.12g의 5-(4-{2-[1-(3', 4'-메틸렌디옥시비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 646㎎의 표제 화합물을 융점이 137∼139℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 31]
5-(4-{2-[1-(2-메톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-96)
31(a) 5-(4-{2-[1-(2-메톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
346㎎의 2-[1-(2-메톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 31에 기재된 바와 같이 제조), 766㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 475㎎의 트리페닐포스핀 및 301㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 846㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
840㎎의 5-(4-{2-[1-(2-메톡시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 436㎎의 표제 화합물을 융점이 148∼149℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 32]
5-(4-{2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-98)
32(a) 5-(4-{2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
1.02g의 2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 32에 기재된 바와 같이 제조), 2.00g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 1.24g의 트리페닐포스핀 및 784㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 2.39g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
2.39g의 5-(4-{2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.32g의 표제 화합물을 융점이 143∼144℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 33]
5-(4-{2-[1-(2-페닐술포닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-108)
33(a) 5-(4-{2-[1-(2-페닐술포닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
640㎎의 2-[1-(2-페닐술포닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 33에 기재된 바와 같이 제조), 907㎎의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 550㎎의 트리페닐포스핀 및 365㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 500㎎의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
500㎎의 5-(4-{2-[1-(2-페닐술포닐-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행 하여, 260㎎의 표제 화합물을 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 34]
5-{4-[2-(1-{2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노] 피리딘-5-일} 에틸리덴아미노옥시) 에톡시] 벤질} 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-192)
34(a) 5-{4-[2-(1-{2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노] 피리딘-5-일} 에틸리덴아미노옥시) 에톡시] 벤질} 티아졸리딘-2, 4-디온
1.22g의 2-(1-{2-N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노] 피리딘-5-일} 에틸리덴아미노옥시) 에탄올 (제조예 34에 기재된 바와 같이 제조), 1.52g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2,4-디온,0.97g의 트리페닐포스핀 및 0.63g의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 2.33g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
2.33g의 5-{4-[2-(1-{2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노] 피리딘-5-일} 에틸리덴아미노옥시) 에톡시] 벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.48g의 표제 화합물을 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 35]
5-(4-{2-[1-(4-페닐술포닐페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-23)
35(a) 5-(4-{2-[1-(4-페닐술포닐페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
1.006g의 2-[1-(4-페닐술포닐페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 35에 기재된 바와 같이 제조), 1.40g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 866㎎의 트리페닐포스핀 및 549㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 2.05g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
2.04g의 5-(4-{2-[1-(4-페닐술포닐페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행 하여, 1.09g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 36]
5-(4-{2-[1-(4-페닐티오페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-21)
36(a) 5-(4-{2-[1-(4-페닐티오페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
862㎎의 2-[1-(4-페닐티오페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 36에 기재된 바와 같이 제조), 1.40g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 866㎎의 트리페닐포스핀 및 549㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.95g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.95g의 5-(4-{2-[1-(4-페닐티오페닐) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.24g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 37]
5-{4-[2-(1-{4-[N-(페닐술포닐)-N-메틸아미노]-페닐} 에틸리덴아미노옥시) 에톡시] 벤질} 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-181)
37(a) 5-{4-[2-(1-{4-[N-(페닐술포닐)-N-메틸아미노]-페닐} 에틸리덴아미노옥시) 에톡시] 벤질}-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
667㎎의 2-(1-{4-[N-(페닐술포닐)-N-메틸아미노] 페닐} 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 37에 기재된 바와 같이 제조), 1.02g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 383㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 554㎎의 표제 화합물을 융점이 143∼145℃인, 결정형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
554㎎의 5-{4-[2-(1-{4-[N-(페닐술포닐)-N-메틸아미노] 페닐} 에틸리덴아미노옥시) 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행 하여, 266㎎의 표제 화합물을 무정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 38]
5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴) 프로필리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 3-31)
38(a) 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴) 프로필리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
539㎎의 2-[1-(4-비페닐릴) 프로필리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 38에 기재된 바와 같이 제조), 1.02g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 383㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.09g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.09g의 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴) 프로필리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행 하여, 585㎎의 표제 화합물을 융점이 162∼164℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 39]
5-(4-{2-[1-(5-페닐-2-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-110)
39(a) 5-(4-{2-[1-(5-페닐-2-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온
513㎎의 2-[1-(5-페닐-2-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에탄올 (제조예 39에 기재된 바와 같이 제조), 1.02g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 577㎎의 트리페닐포스핀 및 383㎎의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 1.40g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
1.40g의 5-(4-{2-[1-(5-페닐-2-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 590㎎의 표제 화합물을 융점이 136∼138℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 40]
5-(4-{2-[1-(2-히드록시-5-피리딜) 에틸리덴아미노옥시] 에톡시} 벤질) 티아졸리딘-2, 4-디온 (화합물 번호 2-193)
40(a) N-[2-(테트라히드로피란-2-일옥시) 에톡시] 프탈이미드
100ml의 디메틸포름아미드 중 10.8g의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 7.0g의 N-히드록시프탈이미드 및 11.1g의 탄산칼륨의 현탁액을 80℃에서 2.5시간 동안 교반시킨다. 에틸 아세테이트 및 물을 반응 혼합물에 이어서 첨가하여 용액을 제조한다. 에틸 아세테이트 층을 분별시킨 다음 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨다. 용매를 감압하에서 증류 제거시킨 후 생성된 잔류물을, 용출액으로서 부피비가 2:1인 헥산 및 에틸 아세테이트의 혼합액을 사용하여, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하므로서, 8.62g의 표제 화합물을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3, 270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
0.56g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 86ml 의 메탄올 중 8.62g의 N-[2-(테트라히드로피란-2-일옥시) 에톡시] 프탈이미드 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]의 용액을 첨가하고, 생성된 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반 시킨다. 상기 시간의 말부에, 반응 혼합물을 감압하에서 증발 농축시킨 다음, 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트 및 물의 혼합액에 용해시키고 탄산수소나트륨으로 중화시킨다. 에틸 아세테이트 층을 분별하고 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨다. 용매를 감압하에서 증류 제거시켜, 결정형 분말인 표제 화합물을 생성한다. 상기를 디이소프로필 에테르로 세척시켜 융점이 82∼85℃인, 정제 화합물 4.10g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
2.0g의 N-(2-히드록시에톡시) 프탈이미드 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조], 4.4g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온, 2.53g의 트리페닐포스핀 및 1.68g의 디에틸 아조디카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 5.00g의 표제 화합물을 포말형 고체로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
5.00g의 5-[4-(2-프탈이미도옥시에톡시) 벤질]-3-트리틸티아졸리딘-2, 4-디온 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 2.74g의 표제 화합물을 융점이 146∼147℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
0.32ml의 히드라진 모노히드레이트를 30ml의 에탄올 중 2.64g의 5-[4-(2-프탈이미도옥시에톡시) 벤질] 티아졸리딘-2,4-디온 [상기 단계(d)에 기재된 바와 같이 제조]의 현탁액에 첨가하고, 생성된 혼합액을 80℃에서 2시간동안 교반시킨다. 상기 시간의 말부에, 반응 혼합액을 냉각시키고 침전된 프탈히드라지드를 여과시켜 제거한다.
여액을 감압하에서 증발 농축시키고, 농축물을, 용출액으로서 부피비가 1:20인 메탄올 및 메틸렌 클로라이드의 혼합액을 사용하여, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제시키므로서, 1.93g의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시) 벤질] 티아졸리딘-2,4-디온을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270 MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
상기 생성물 전체를 20ml의 에틸 아세테이트 중에 용해시킨 다음, 디옥산 중의 4N 염화수소 용액 3ml을 첨가하고, 이어서 20ml의 디에틸 에테르를 첨가한다. 이어서, 생성된 혼합물을 16시간 동안 교반시킨다. 상기 시간의 말부에, 침전물을 여과시켜 수합하여, 무정형 고체로서 표제 화합물 1.27g을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
10ml의 에탄올 중 100ml의 3-아세틸-6-히드록시피리딘 및 232㎎의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시) 벤질] 티아졸리딘-2, 4-디온 히드로클로라이드 [상기 단계(e)에 기재된 바와 같이 제조]의 현탁액에 124μ1의 피리딘을 실온에서 첨가하고, 생성된 혼합액을 교반시키고 1시간 동안 환류하에 가열한다. 상기 시간의 말부에, 반응 혼합액을 실온으로 냉각시키고 침전물을 여과시켜 수합하므로써 183㎎의 표제 화합물을 융점이 240∼242℃인, 결정형 분말로서 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 41]
5- (4-{2-[1-(2- 벤질옥시 - 5 -피리딜) 에틸리덴아미노옥시에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4 디온 (화합물 번호 2-194)
실시예 40( f) 에 기재된것과 유사한 방법에 따라서, 130mg의 5- 아세틸 -2 벤질 옥시 피리딘을 182mg 의 5-[4-(2- 아미노옥시에톡시) 벤질]티아졸리딘 -1 2,4 - 디온 히드로클로라이드 [실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응 혼합물을 감압하에 증발 농축시키고, 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 물로 세척하고, 용매를 감압하에 증류 제거하여, 융점이 160~161℃인 표제 화합물 219mg 을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (헥사 중소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 42]
5- [4-{2-[4-(2-피리딜술포닐)페닐] 에틸리덴 아미노옥시}에톡시)벤질] 티아졸리딘 -2,4 -디온 (화합물 번호 2-185)
실시예 40(f)에 기재된 것과 유사한 방법에 따라서, 150mg의 4'-(2-피리딜술포닐)-아세토페논을 183mg의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드 [실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응혼합물을 감압하에 증발 농축시키고 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 물로 세척하고 용매를 감압하에 증류 제거시킨다. 잔류물을 용출액으로서 부피비 2:98인 메탄올 및 메틸렌 클로라이드의 혼합액을 사용하여, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제시켜, 고무인 표제 화합물 185mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm :
[실시예 43]
5-[4-(2-{1-[4-(4-피리딜술포닐)페닐]에틸리덴아미노옥시}에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물번호 2-195)
150mg 의 4'-(4-피리딜술포닐)- 아세토페논 및 183mg의 5-[4-(2- 아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘 -2,4- 디온 히드로클로라이드 [실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]을 사용하는것을 제외하고, 실시예40(f)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 213~215℃인 표제 화합물173mg을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm :
[실시예 44]
5-[4-(2-{1-[4-(페닐술포닐아미노)페닐]에틸리덴아미노옥시}에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-183)
실시예40(f)에 기재된 것과 유사한 방법에 따라서, 170mg의 4'-(4-페닐술포닐아미노)-아세토페논을 197mg의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드[실시예40(e)에 기재된바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응 혼합물을 감압하에 증발 농축시키고, 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출한다.
추출물을 물로 세척하고 용매를 감압하에 증류 제거 시킨다. 잔류물을, 용출액으로서 부피비 2:98인 메탄올 및 메틸렌 클로라이드의 혼합액을 사용하여 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제 시켜 용점이 213~215℃인 표제 화합물170mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm :
[실시예 45]
5-[4-{2-[1-[2',4'-대메톡시비페닐4-일)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-196)
255mg 의 4'-(2,4-디메톡시페닐)아세토페논 및 382mg의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘 -2,4-디온 히드로클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]을 사용하는것을 제외하, 실시예40(f)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 186-188℃인 표제 화합물467mg을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[실시예 46]
5-(4-{2-[1-(2',5'-디메톡시비페닐-4-일)-에틸리덴아미노옥시]에톡시}-벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-197)
실시예 40(f)에 기재된것과 유사한 방법에 따라서, 256mg의 4'-(2,5-디메톡시페닐)아세토페논을 382mg 의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드 [실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응 혼합물을 감압하에 증발 농축시키고 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 물로 세척하고 용매를 감압하에 증류 제거시킨다. 잔류물을 용출액으로서 부피비 2:3인 에틸 아세테이트 및 헥산의 혼합액을 사용하여 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제시켜, 융점이 47~52℃인 무정형 고체로서 482mg의 표제 화합물을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용) δppm:
[실시예 47]
5-{4-[2-(1-페닐에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-1)
실시예 40(f)에 기재된것과 유사한 방법에 따라서, 0.61ml의 아세토페논을 400mg의 5-[4-(2- 아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드 [실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응 혼합물을 감압하에 증발 농축시키고 생성된 잔류물을 에틸 아세테티트로 추축한다. 추출물을 물로 세척하고 용매를 감압하에 증류 제거 시킨다. 잔류물을 디이소프로필 에테르와 혼합시키고 혼합물을 교반시킨다. 침전된 분말을 여과시켜 수합하여, 370mg의 표제 화합물을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드,270MHz 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[실시예 48]
5-(4-{2-[1-(3-클로로페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-10)
실시예 40(f)에 기재된 것과 유사한 방법에 따라서, 0.18ml의 3'- 클로로아세토페논을 400mg의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)-벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응 혼합물을 감압하에 증발 농축시키고, 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 물로 세척하고 용매를 감압하에 증류 제거 시킨다. 잔류물을 디에틸에테르, 디이소프로필 에테르 및 헥산의 혼합액과 혼합하여 교반시킨다. 생성된 침전물을 여과시켜 수합하여, 융점이 82~84℃인 290mg의 표제 화합물을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[실시예 49]
5-(4-{2-[1-(4-클로로페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-11)
실시예 40(f)에 기재된것과 유사한 방법에 따라서, 0.18ml의 4'- 클로로아세토페논을 400mg의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)-벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]와 반응시킨다. 반응 혼합물을 감압하에 증발 농축시키고, 생성된 잔류물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 물로 세척하고 용매를 감압하에 증류 제거 시킨다. 잔류물을 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르 및 헥산의 혼합물과 혼합하고 이어서 혼합물을 교반시킨다. 생성된 침전물을 여과시켜 수합하여, 융점이 118~119℃인 360mg 의 표제 화합물을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm:
[실시예 50]
5-(4-{2-[1-(3-히드록시페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-198)
0.33g 의 3'-히드록시아세토페논 및 0.70g의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘- 2,4-디온 히드로 클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]을 사용하는것을 제외하고, 실시예40(f)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이133~135℃인 0.74g의 표제 화합물을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[실시예 51]
5-(4-{2-[1-(4-히드록시페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-199)
0.33g 의 4'-히드록시아세토페논 및 0.70g의 5-[4-(2-아미옥시 에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이제조]을 사용하는 것을 제외하고 실시예40(f)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 157~159℃인 0.74g의 표제 화합물을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용) δppm:
[실시예 52]
5-(4-{2-[1-(5-아세톡시-2-히드록시-3,4,6-트리메틸페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-200)
0.32g의 5'-아세톡시-2'-히드록시 -3',4',6'-트리메틸아세토페논 및 0.40g의 5-[4-(2-아미노옥세에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]을 수행하여 융점이 60~75℃(연화점)인 무정형 분말인 표제 화합물 0.28g을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (헥사 중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[실시예 53]
5-(4-{2-[1-(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-201)
0.22g의 4'-히드록시-3',5'-디메틸아세토페논 및 0.40g의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온히드로 클로라이드[실시예40(e)에 기재된 바와 같이 제조]을 사용하는 것을 제외하고 실시예40(e)에 기재된바와 같이 제조]을 사용하는것을 제외하고 실시예46에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 53~65℃(연화점)인, 무정형 분말인 표제 화합물 0.30g 을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[실시예 54]
5-(4-{2-[1-(3-아세톡시페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-202)
0.30g의 5-(4-{2-[1-(3-히드록시페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온(실시예50에 기재된 바와 같이 제조), 0.092ml의 무수아세트산 및 15ml의 피리딘의 혼합물을 실온에서 1.5시간 동안 교반시킨다. 상기 시간의 말부에 용매를 감압하에 증류 제거한 다음 생성된 잔류물을 물로 희석하고 이어서 에틸 아세테이트로 추출한다. 추출물을 1N 염산 수용액 및 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세척하고 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시킨다. 용매를 이어서 감압하에 증류 제거하고 잔류물을 용출액으로서 부피비 1:2인 에틸 아세테이트 및 헥산의 혼합액을 사용하여 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 융점이 30~50℃(연화점)인 표제 화합물 0.23g을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드,270MHz내부표준 물질로서 테트라메틸실란사용), δppm:
[실시예 55]
5-(4-{2-[1-(4-아세톡시페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 2-203)
0.30g의 5-(4-{2-[1-(4-아세톡시페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질]티아졸리딘-2,4-디온(실시예51에 기재된 바와 같이 제조)0.092ml의 무수 아세트산 및 15ml의 피리딘을 사용하는 것을 제외하고 실시예54에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 133~135℃인 표제 화합물 0.3g을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼 (핵사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz, 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용)δppm:
[실시예 56]
5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)옥사졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 6-15)
56(a) 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-3-트리틸옥사졸리딘-2,4-디온
0.23g 의 2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에탄올(제조예15에 기재된 바와 같이 제조), 0.40g의 5-(4-히드록시벤질)-3-트리틸옥사졸리딘-2,4 - 디온,0.40g 트리부틸포스핀 및 0.50g의 1,1'-(아조디카리보닐)디피페진을 사용하는 것을 제외하고 실시예3(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 193~195℃인 결정형 분말로서 표제 화합물 0.31g을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm:
56(b) 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)옥사졸리딘-2,4-디온
0.31g 의 5-(4-{2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)-3-트리틸옥사졸리딘-2,4-디온[실시예56(a)에 기재된 바와 같이 제조]를 사용하는것을 제외하고 실시예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 177~179℃인 결정형 분마라로서 표제 화합물 0.16g 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (소량의 헥사중수소화된 디메틸 술폭시드와 CDCl3의 혼합액 270MHz 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용)δppm:
[실시예 57]
5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐)프로필리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온 (화합물 번호 3-35)
211mg의 4'-(2-피리딜)프로피오페논 및 319mg의 5-[4-(2-아미노옥시에톡시)벤질]티아졸리딘-2,4-디온 히드로클로라이드 [실시예40(e)에 기재된바와 같이 제조]를 사용하는것을 제외하고, 실시예 47에 기재된 바와 같이제조]를 사용하는것을 제외하고 실시예47 에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 171~172.5℃인 결정형 분말로서 표제 화합물 239mg을 수득한다.
핵자기 공명 스펙트럼(헥사중수소화된 디메틸 술폭시드, 270MHz 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 1]
2-(벤질리덴아미노옥시)에탄올
1(a) 벤즈알데히드 옥심 O-2-테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르
10ml 의 디메틸아세트아미드중 1.2g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란 및 0.36g의 벤즈알데히드 옥심의 용액에 2.5g의 탄산칼륨을 첨가하고, 생성된 혼합물을 80℃에서 4시간 동안 교반시킨다. 반응 생성물을 이어서 에틸 아세테이트 및 물의 혼합액에 용해시킨다. 에틸 아세테이트 층을 분별하여 무수 황산마그네슘 상에서 건조시킨후 용액을 감압하에 증류 제거 시킨다. 생성된 잔류물을 용출액으로서 부피비7:1의 헥산 및 에틸 아세테이트의 혼합액을 사용하여, 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 시럽인 표제 화합물 0.51g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,270MHz 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용).δppm:
1(b) 2-(벤질리덴아미노옥시)에탄올
100mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 15ml의 메탄올중 1.3g의 벤즈알데히드 옥심 O -2 -(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[제조예1(a)에 기재된 바와 같이 제조]의 용액에 첨가하고 생성된 혼합물을 실온에서 2시간동안 교반시킨 다음 감압하에 증발 농축시킨다. 농축물을 에틸 아세테이트중에 용해시킨다. 생성된 용액을 탄산수소나트륨 소용액으로 세척시킨 다은, 무수 황산 마그네슘상에서 건조시킨다. 이어서, 용매를 감압하에 증류 제거시키고, 생성된 잔류물을 용출액으로 부피비2:1의 헥산 및 에틸 아세테이트의 혼합액을 사용하여 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하고 시럽인 표제 화합물 0.90g 을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 2]
2-(2-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에탄올
2(a) 2-퀴놀릴카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.50g의 2-(2- 브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.10g의 2- 퀴놀린카르복스알데히드 옥심 및 2.8g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 2.00g을 시럽으로서 수득한다.
2(b) 2-(2-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에탄올
2.00g의 2-퀴놀린카르복스알데히드 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 1.50g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 128℃인 표제 화합물 0.98g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 3]
2-(3-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에탄올
3(a) 3-퀴놀릴카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.45g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 2.60g의 3-퀴놀린카르복스알데히드 옥심 및 7.30g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물 4.72g을 수득한다.
3(b) 2-(3-퀴놀릴메틸렌아미노옥시)에탄올
4.72g의 3- 퀴놀린카르복스 알데히드 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 2.91g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 129℃인 표제 화합물1.55g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 4]
2-(2-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
4(a) 2-피리딘카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.00g 의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 1.22g의 2-피리딘카르복스알데히드 옥심 및 6.00g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물 2.30g을 시럽으로 수득한다.
4(b) 2-(2-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
2.30g 의 2-피리딘카르복스알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[ 상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 2.10g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 45℃인 표제화합물 1.29g을 수득한다.
1H핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3, 270MHz 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm:
[제조예 5]
2-(3-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
5(a) 3-피리딘카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
8.00g 의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 2.44g의 3-피리딘카르복스알데히드 옥심 및 12.00g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a) 에기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 4.18g을 시럽으로서 수득한다.
5(b) 2-(3-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
4.18g의 3-피리딘카르복스알데히드 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르 [상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 3.00g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물2.00g을 왁스로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 6]
2-(4-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
6(a) 4-피리딘카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.00g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.22g의 4-피리딘카르복스알데히드 옥심 및 6.00g의 탄산칼륨을 사용한느 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 2.00g을 시럽으로서 수득한다.
6(b) 2-(4-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
2.10g의 4-피리딘카르복스알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 2.00g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 78~80℃인, 표제 화합물1.01g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 7]
2-(2-나프틸메틸렌아미노옥시)에탄올
7(a) 2-나프트알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.89g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 2.00g의 2-나프트알데히드 옥심 및 6.46g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 72~73℃인 표제 화합물 2.39g을 수득한다.
7(b) 2-(2-나프틸메틸렌아미노옥시)에탄올
2.39g의 2-나프트알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시) 에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 0.20g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 87℃인 표제 화합물 1.17g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm:
[제조예 8]
2-(3-페닐벤질리덴아미노옥시)에탄올
8(a) 3-비페닐카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.24g의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 2.00g의 3-비페닐카르복스알데히드 옥심 및 5.61g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 표제 화합물 2.81g을 시럽으로서 수득한다.
8(b) 2-(3-페닐벤질리덴아미노옥시)에탄올
2.14g의 3-비페닐카르복스알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테을[상기 단계(a)에 기재된 바와같이 제조]및 200mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는것을 제외하고 제죠예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제 화합물1.23g을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,Mhz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 9]
2-(4-페닐벤질리덴아미노옥시)에탄올
9(a) 4-비페닐카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.24g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란,2.00g의 4-비페닐카르복스알데히드 옥심 및 5.61g 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 2.73g을 시럽으로서 수득한다.
9(b) 2-(4-페닐벤질리덴아미노옥시)에탄올
2.73g의 4- 비페닐카르복스알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 200mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 116~118℃인 표제 화합물 1.78g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용), δppm:
[제조예 10]
2-(2-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
10(a) 2-페닐-5-피리딘카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.58g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드피란, 500mg 의 2-페닐-5-피리딘카르복스 알데히드 옥심 및 2.09g 의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제 화합물 734을 시럽으로서 수득한다.
10(b) 2-(2-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시) 에탄올
727mg의 2-페닐-5-피리딘카르복스알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 466mg의ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 100~101℃인 표제 화합물 404mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,270MH, 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 11]
2-(3-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
11(a) 3-페닐-5-피리딘카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.80g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 600mg의 3-페닐-5-피리딘카르북스알데히드 옥심 및 2.50g의 탄산칼류을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 809mg을 시럽으로서 수득한다.
11(b) 2-(3-페닐-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
809mg의 3-페닐-5-피리딘카르복스알데히드 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된바와 같이 제조]및 750mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 102~104℃인, 표제 화합물 529mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 12]
2-(2-에톡시-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
12(a) 2-에톡시-5-피리딘카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
2000g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.00g의 2-에톡시-5-피리딘카르복스알데히드 옥심 및 2.50g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1(a)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 1.76g을 시럽으로서 수득한다.
12(b) 2-(2-에톡시-5-피리딜메틸렌아미노옥시)에탄올
1.76g의 2-에톡시-5-피리딘카르복스알데히드 옥심 O -2-(테트라히드로피란- 2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 1.60g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 52~54℃인 표제화합물 0.73g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz) 내부표준 물질로서 테트라메틸실란 사용)δppm:
[제조예 13]
2-[1-(2-나프틸)에틸리덴아미노옥시)에탄올
13(a) 2-아세토나프톤 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.52g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 2.00g의 2-아세토나프톤 옥심 및 5.97g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제외하고, 제조예1(a)(반응필수 시간이 20 시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 3.32g을 시럽으로서 수득한다.
13(b) 2-[1-(2-나프틸)에틸리덴아미노옥시)에탄올
3.32g의2-아세토나프톤 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된바와 같이 제조]및 ,0.30g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 94~96℃인 표제 화합물 1.31g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼 (CDCl3,270MHz 내부표준 물질로서 테트라 메틸실란 사용), ρppm:
[제조예 14]
2-[1-(2-퀴놀릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올
14(a) 2-아세토퀴놀린 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
2.09g 의 2-(2- 브로모에톡시)테트라히드로피란, 930mg의 2-아세틸퀴놀린 옥심 및 2.76g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)(반응 필수 시간이 20분인것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 1.51g을 시럽으로서 수득한다.
14(b) 2-[1-(2-퀴놀릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올
1.51g의 2-아세틸퀴놀린 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]을 사용하는것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 89℃인 표제 화합물 0.85g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 15]
2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올
15(a) 2-아세틸비페닐 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.58g 의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 6.40g의 4-아세틸비페닐 옥심 및 20.9g의 탄산 칼륨을 사용하는것을 제외하고, 제조예1(a)(반응 필수시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 10.2g을 시럽으로 수득한다.
15(b) 2-[1-(4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올
10.2g의 4-아세틸비페닐 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 128~130℃인, 표제 화합물 6.53g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 16]
2-[1-(3-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시)에탄올
16(a) 2-아세틸비페닐 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.16g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란,1.68g의 3-아세틸비페닐옥심 및 5.50g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제외하고, 제조예1(a)(반응 필수시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물2.69g을 시럽으로서 수득한다.
16(b) 2-[1-(3-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에탄올
2.69g 의 3-아세틸비페닐 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 0.15g의 ρ- 톨루엔 술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 1.45g을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 17]
2-[1-(2-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
17(a) 5-아세틸-2-페닐피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.48g 의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 600mg의 5- 아세틸-2-페닐피리딘 옥심 및 2.30g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1(a)(반응필수 시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 886mg을 시럽으로서 수득한다.
17(b) 2-[1-(2-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
882mg의 5- 아세틸 -2-페닐피리딘 옥심O -2-(테트라히드로피란- 2-일옥시) 에틸 에테르 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 542mg의ρ-톨루엔 술폰산 모노히드레이트를 사용하는것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 76℃인 표제화합물 519mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 18]
2-[1-(3-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
18(a) 5-아세틸-3-페닐피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
985mg 의 2-(2- 브로모에톡시) 테트라 히드로피란, 500mg의 5-아세틸-3-페닐피리딘 옥심 및 1.30g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제오하고, 제조예1(a)(반응 필수 시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물641mg을 시럽으로서 수득한다.
18(b) 2-[1-(3-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
641mg의 5- 아세틸-3-페닐피리딘 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시) 에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 419mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 417mg을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 19]
2-[1-(2-에톡시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
19(a) 5-아세틸-2-에톡시피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.16g의 2-(2- 브로모에톡시) 테트라히드로피란, 500mg의 -아세틸-2-에톡시피리딘 옥심및 1.53g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1(a)(반응 필수시간이 18 시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 850mg을 시럽으로서 수득한다.
19(b) 2-[1-(2-에톡시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
903mg의 5-아세틸-2-에톡시피리딘 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 580mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b) 에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 548mg 을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 20]
2-[1-(4-1'-이미다졸릴페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
20(a) 4'-(이미다졸-1-일)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
2.01g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.00g의 4'-(이미다졸-1-일) 아세토페논 옥심 및 2.50g의 탄산칼륨을 사용한느 것을 제외하고 제조예1(a) (반응필수시간이 16시간을 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 1.14g을 시러으로서 수득한다.
20(b) 2-[1-(4-1'-이미다졸릴페닐)에틸리덴아미노옥시]에탄올
1.14g의 4'-(이미다졸-1-일)아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 1.59g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하요, 융점이 127~129℃인 표제 화합물 562mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 21]
2-[1-(4-2'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
21(a) 4'-(2-피리딜)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
3.20g의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 1.30g의 4'-(2-피리딜)아세토페논 옥심 및 6.00g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)(반응필수 시간이 16시간인것을 제외하고) 에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제 화합물 2.01g을 시럽으로서 수득한다.
21(b) 2-[1-(4-2'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에탄올
2.01g의 4'-2(2-피리딜)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 1.30g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는것을 제외하고,제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 74~76℃인 표제 화합물 1.35g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 22]
2-[1-(4-3'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
22(a) 4'-(3-피리딜)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
9.20g의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 3.76g의 4'-(3-피리딜) 아테토페논 옥심 및 17.4g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제외하고, 제조예1(a) (반응필수시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여,표제화합물 2.60g을 시럽으로서 수득한다.
22(b) 2-[1-(4-3'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에탄올
2.60g의 4'-(3-피리딜)아세토페논 옥심O -2(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르 [상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 1.70g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 69~70℃인 표제 화합물 1.69g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 23]
2-[1-(4-4'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
23(a) 4'-(4-피리딜)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
20ml의 2-부타논 중 2.30g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.00g의 4'-(4-피리딜)아세토페논 옥심 및 4.00g의 탄산칼륨의 혼합물을 환류하에서 4시간동안 가열하면서 교반시킨다.
상기 시간의 말부에 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 희석시킨후 염화나트륨 수용액으로 세척한다. 이어서, 무수 황산 마그네슘 상에서 건조시키고, 용매를 감압하세 증류 제거시킨다. 생성된 잔류물을 ,용출액으로서 부피비 98:2 ~96:5의 범위인 메틸렌 클로라이드 및 메탄올의 혼합액으로, 농도구배 용출법을 사용하여 실리카겔을 통한 컬럼 크로마토그래피로 정제하여, 시럽으로서 표제 화합물 1.58g을 수득한다.
23(b) 2-[1-(4-4'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에탄올
1.58g의 4'-(4-피리딜)아세토페논 옥심O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 1.44g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예 1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 133℃인 표제화합물 1.01g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 24]
2-[1, 4-디메틸-2-페틸이미다졸-5-일메틸렌아미노옥시)에탄올
24(a) 1,4-디메틸-2-페닐이미다졸-5-카르복스알데히드 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.46g 의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 500mg의 1-4-디메틸-2-페닐이미다졸 -5-카르복스알데히드 옥심 및 1.93g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제외하고 제조예1(a)(반응 필수 시간이 5시간인것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 716mg을 시럽으로서 수득한다.
24(b) 2-(1,4-디메틸-2-페닐이미다졸-5-일메틸렌아미노옥시)에탄올
713mg의 1,4-디메틸-2-페닐이미다졸 -5-카르복스알데히드 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르 [상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 434mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 ,제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 95~97℃인 표제 화합물 454mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 25]
2-[1-(1-메틸-2-페닐이미다졸-4-일)에틸리덴아미노옥시)에탄올
25(a) 4-아세틸-1-메틸-2-페닐이미다졸 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.40g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 673mg의 4-아세틸-1-메틸-2-페닐이미다졸 옥심 및 2.00g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)(반응필수 시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물 0.78을 시럽으로서 수득한다.
25(b) 2-[1-(1-메틸-2-페닐이미다졸-4-일)에틸리덴아미노옥시]에탄올
0.78g의 4-아세틸-1-메틸-2-페닐이미다졸 옥심O -2-(테트라히드로피란 -2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 0.50g의 ρ-톨루엔 술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 133~135℃인 표제 화합물 0.42g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 26]
2-[1-(4'-메틸비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시)에탄올
26(a) 4'-(4-메틸페닐)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
2.78g 의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.20g의 4'-(4-메틸페닐)아세토페논 옥심 및 3.68g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)(반응 필수시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물 1.84g을 시럽으로서 수득한다.
26(b) 2-[1-(4'-페닐비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시]에탄올
1.84g 의 4'-(4-메틸페닐)아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 0.10g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 142~144℃인 표제화합물 1.12g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 27]
2-[1-(4'-플루오로비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시)에탄올
27(a) 4'-(4-플루오로페닐)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
3.42g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.50g의 4'-(4-플루오로페닐)아세토페논 옥심 및 4.52g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)(반응필수시간이 20시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 2.33g을 시럽으로서 수득한다.
27(b) 2-[1-(4'-플루오로비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시]에탄올
2.33g의 4'(4-플루오로페닐)아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기단계(a)에 기재된 바와 같이제조] 및 0.12g의 ρ-톨루엔 술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 133~143℃인 표제화합물 1.42g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 28]
2-[1-(4'-트리플루오로비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시)에탄올
28(a) 4'-(4-트리플루오로페닐)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.50g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란 800mgdml 4-(4-프리플루오로페닐)아세토페논 옥심 및 1.98g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제외하고 제조예1(a)(반응필수시간이 24시간인 것을 제외하고 제조예1(a)(반응 필수시간이 24시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물 1.16g을 시럽으로서 수득한다.
28(b) 2-[1-(4'-트리플루오로메틸비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시]에탄올
1.43g의 4'-(4-트리플루오로메틸페닐)아세토페논 옥심O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기단계(a)에 기재된바와 같이 제조] 및 55mg의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 108~111℃인 표제화합물 772mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 29]
2-[1-(4-에톡시페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
29(a) 4'-에톡시아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
6.42g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, .20g의 4'-에톡시아세토페논 옥심 및 8.48g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)(반응필수 시간이 20시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제 화합물 3.77g을 시럽으로서 수득한다.
29(b) 2-[1-(4-에톡시페닐)에틸리덴아미노옥시]에탄올
3.77g의 4'-에톡시아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 0.23g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b) 에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 51~54℃인 표제 화합물 1.88g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 30]
2-[1-(3', 4'-메틸렌디옥시비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시)에탄올
30(a) 3', 4'-메틸렌디옥시아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.75g의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 0.80g의 3'-4'-메틸렌디옥시아세토페논 옥심 및 3.40g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)(반응필수시간이 6시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 1.12f을 시럽으로서 수득한다.
30(b) 2-[1-(3',4'-메틸렌디옥시비페닐-4-일)에틸리덴아미노옥시]에탄올
1.12g의 3',4'-메틸렌디옥시아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 0.03g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 1321~134℃인 표제 화합물 740mg을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 31]
2-[1-(2-메톡시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
31(a) 5-아세틸-2-메톡시피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.01g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 321mgm의 5-아세틸-2-메톡시피리딘옥심 및 1.33g의 탄산칼륨을 사용하는것을 제외하고, 제조예1(a)(반응 필수시간이 20시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 호합물 560mg을 시럽으로서 수득한다.
31(b) 2-[1-(2-메톡시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
560mg의 5-아세틸-2-메톡시피린딘 옥심O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 398mg의 ρ- 톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 346mg을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 32]
2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
32(a) 5-아세틸-2-이소프로폭시피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
3.23g의 2-(2-브로모에톡시)테트라 히드로피란, 1.20g의 5-아세틸-2-이소프로폭시피리딘 옥심 및 4.27g의 탄산칼륨을 사용하는 것을제외하고 제조예1(a)(반응필수 시간이 15시간인 것을 제외하고) 에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 1.99g을 시럽으로서 수득한다.
32(b) 2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
1.99g의 5-아세틸 2-이소프로폭시피리딘 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조]및 1.29g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 1.02g을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 33]
2-[1-(2-페닐술포닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
33(a) 5-아세틸-2-(페닐술포닐)피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
1.60g의 2-(2-브로모에톡시) 테트라히드로피란, 0.80g의 5-아세틸-2-(페닐술포닐)피리딘 옥심 및 3.20g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제화합물 0.97g을 시럽으로서 수득한다.
33(b) 2-[1-(2-페닐술포닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
0.97g의 5-아세틸-2-(페닐술포닐)피리딘옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 0.40g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 77~78℃인 표제 화합물 0.72g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 34]
2-[1-(2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노]피리딘-5-일}에틸리덴아미노옥시)에탄올
34(a) 5-아세틸-2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노]피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
2.61g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.50g의 5아세틸-2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노]피리딘 옥심 및 5.20g 의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)에 (반응필수시간이 14시간인 것을 제외하고)기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 1.93g을 시럽으로서 수득한다.
34(b) 2-(1-{2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N-메틸아미노]피리딘-5-일}에틸리덴아미노옥시)에탄올
1.22g의 5-아세틸-2-[N-(4-메틸페닐술포닐)-N- 메틸아미노]피리딘 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 1.00g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된것과 유사란 방법을 수행하요, 표제 화합물 1.22g을 시럽으로서 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 35]
2-[1-(4-페닐술포닐페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
35(a) 4'-(페닐술포닐)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.46g 의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 2.35g의 4'-(페닐술포닐)아세토페논 옥심 및 5.90g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a) (반응필수시간이 7시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 2.55g을 시럽으로서 수득한다.
35(b) 2-[1-(4-페닐술포닐페닐)에틸리덴아미노옥시]에탄올
2.55g의 4'-(페닐술포닐)아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-이옥시)에틸 에테르[상기단계(a) 에 기재된 바와 같이 제조]및 0.20g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 87~88℃인 표제 화합물 7.72g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 36]
2-[1-(4-페닐티오페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
36(a) 4'-(페닐티오)아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.51g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 2.10g의 4'-(페닐티오)아세토페논 옥심 및 5.96g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)(반응필수시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하요, 표제 화합물 3.20g을 시럽으로서 수득한다.
36(b) 2-[1-(4-페닐티오페닐)에틸리덴아미노옥시)에탄올
3.20g의 4'-(페닐티오)아세토페논 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸에테르[상기 단계(a)에 기재된 바와 같이제조] 및 0.17g의 ρ-톨루엔 술폰산모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 56℃인 표제화합물 1.69g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 37]
2-[1-{4-[N-페닐술포닐)-N-메틸아미노]페닐}에틸리덴아미노옥시)에탄올
37(a) 4'-[(N-페닐술포닐)-N-메틸아미노]아세토페논 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
2.78g 의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.62g의 4'-[(N- 페닐술포닐)-N- 메틸아미노] 아세토페논 옥심 및 2.20g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a) (반응필수시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 표제 화합물 2.15g을 시럽으로서 수득한다.
37(b) 2-(1-{4-[N-페닐술포닐)-N-메틸아미노]페닐}에틸리덴아미노옥시)에탄올
2.15g의 4'-[(N- 페닐 술포닐)-N- 메틸아미노] 아세토페논 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시) 에틸 에테르 [상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 0.30g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 융점이 76~77℃인 표제 화합물 1.5g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 38]
2-[1-(4-비페닐린)프로필리덴아미노옥시)에탄올
38(a) 4-프로피오닐비페닐 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
3.25g 의 2-(2- 브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.40g의 4-프로피오닐비페닐 옥심 및 2.57g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고 제조예1(a)(반응 필수 시간이 24시간인 것을 제외하고)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제화합물 2.20g을 시럽으로서 수득한다.
38(b) 2-[1-(4-비페닐릴)프로필리덴아미노옥시]에탄올
2.20g의 4- 프로피오닐비페닐 옥심O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)ㅇ틸 에테르[상기 단계(a) 에 기재도니 바와 같이 제조] 및 0.15g의 ρ-톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 76℃인 표제화합물 0.77g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제조예 39]
2-[1-(5-페닐-2-피리딜)에틸리덴아미노옥시)에탄올
39(a) 2-아세틸-5-페닐피리딘 옥심 O-2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르
4.29g의 2-(2-브로모에톡시)테트라히드로피란, 1.74g의 2-아세틸-5-페닐피리딘 옥심 및2.27g의 탄산칼륨을 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(a)( 반응필수 시간이 16시간인 것을 제외하고)에 기재도니 것과 유사한 방법을 수행하여, 표제 화합물 2.21g을 시럽으로서 수득한다.
39(b) 2-[1-(5-페닐-2-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에탄올
2.21g의 2-아세틸-5-페닐피리딘 옥심 O -2-(테트라히드로피란-2-일옥시)에틸 에테르 [상기단계(a)에 기재된 바와 같이 제조] 및 1.23g 의 ρ- 톨루엔술폰산 모노히드레이트를 사용하는 것을 제외하고, 제조예1(b)에 기재된 것과 유사한 방법을 수행하여 융점이 66~68℃인 표제화합물 1.41g을 수득한다.
1H 핵자기 공명 스펙트럼(CDCl3,270MHz, 내부 표준 물질로서 테트라메틸실란 사용),δppm:
[제형예 1]
이어서 혼합물을 60메쉬(Tyler standard)체를 여과시킨다. 혼합물 180mg을 측량하여 제 3번 젤라틴 캡슐에 충진시켜 캡슐을 제조한다.
[제형예 2]
이어서 혼합물을 압착시켜 각 중량이 150mg인 정제를 성형한다. 바람직하게는 상기 정제를 당 또는 적합한 막으로 피복시킬수 있다.
[제형예 3]
이어서 혼합물을 정수로 습윤시켜 바스켓 과립기로 과립화하여 건조시켜 과랍을 수득한다.
[생물학적 특성]
본 발명의 화합물의 생물학적 활성을 하기의 실험에 의해서 설명한다.
[실험예 1]
[혈당 저하 활성]
사용된 시험쥐는 고혈당인 kk주의 수컷쥐이고 각각의 체중은 40g 이상이다 . 시험하에서 화합물을 폴리에틸렌 글리콜 400 및 0.5%w/v의 생리 식염수 중 카르복시 메틸 셀룰로스 용액의 부피피 1:1인 혼합물과 혼합시킨다. 시험 화합물의 1mg/kg의 양을 각 동물에게 경구 투여 시킨다음 18시간 동안 자유롭게 먹이를 주입시킨다. 상기 시간의 말부에 마취하지 않고 꼬리 정맥으로부터 혈액을 수합한다. 혈당 수치(BGL)을 글루코스 분석기[GL -101; Mitsubishi Chemical Industries, Ltd. 사 제]를 이용하여 측정한다.
혈당 저하 효과를 하기의 방정식으로 계산한다 :
혈당 저하 효과 (%) = [ (BGLs- BGLt/ BGLs] × 100
[식중, BGLs은 활성 화합물을 포함하지 않은 용매만을 투여한 군에서의 혈당수치이고;
BGLt은 시험 화합물을 투여시킨 군에서의 혈당수치이다.]
결과는 표 27에 명시되고, 본 발명의 화합물은 그의 제조법이 기재되어 있는 하기의 실시예중 하나의 번호로서 명시한다.
[표 27]
* : 상기 수치는 시험 화합물의 투여 3시간 후 혈당 저하 효과이다
표 27로 부터 명백한 바와 같이, 본 발명의 화합물은 탁월한 활성을 나타낸다.

Claims (45)

  1. 하기식 (Ⅰ)의 화합물 및 그의 염:
    [식중
    R1은 수소원자 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
    R2은 2~6개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
    R3은 수소원자 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기 1∼4개의 탄소원자를 갖는 모노알킬아미노기, 알킬기가 동일하거나 상이하며, 각각이 1~4개의 탄소원자를 갖는 디알킬아미노기, 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 α로 치환되는 탄소고리환 내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기 또는 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기가 하기 정의된 아릴기에 의해 치환되는 아랄킬기를 나타내고;
    X는 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 α로 치환되는 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기, 또는 최소한 하나가 복소환인, 하나 또는 두개의 환을 가지며, 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 α로 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    상기 치환체 α를 하기로 부터 선택하고:
    1~6개의 탄원자를 갖는 알킬기;
    1~4개의 탄원자를 갖는 할로겐화 알킬기;
    히드록시기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기가, 비치환되거나 또는 하기의 하나 이상의치환체β에 의해 치환되는 탄소고리환애에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기에 의해 치환되는 아랄킬옥시기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기;
    할로겐원자;
    니트로기;
    아미노기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 모노알킬아미노기;
    알킬기가 동일하거나 상이하며, 각각이 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기인 디알킬아미노기;
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기가 ,비치환되거나 또는 하기의 하나 이상의 치환체 β에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기에 의해 치환되는 아랄킬기;
    비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체β에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기;
    아릴부가 비치환되거나 또는 하나이상의 하기 치환체β에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴옥시기;
    아릴부가 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체β에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴티오기;
    아릴부가 치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 β에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6∼10개의 탄소원자를 갖는 아릴술포닐기;
    아릴부가 비치환되거나 또는 하나 이상의 하기 치환체 β에 의해 치환되는 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기에 의해 치환되는 아릴술포닐 아미노기;
    식- Rx의 기;
    식-ORx의 기;
    식 -SRx의 기;
    식 -SO2Rx의 기;
    식 -N(R2)SO2Rx의 기
    [ 식중 Rx는 그중 1~3개가 질소, 산소 및 황 원자로 이루어진 군으로부터 선택된 5~6개의 환원소를 갖는 방향족 복소환 , 또는
    상기 방향족 복소환이 탄소고리환내에 6~10개의 탄소원자를 갖는 아릴기 또는 상기 방향족 복소환에 융합되는 융합환 계를 나타내고; 및 Rz는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타낸다] :
    상기 치환체 β 는 : 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자, 황원자 또는 식N-R4의 기 [식중, R4은 수소원자, 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 1~8개의 탄소원자를 갖는 아실기를 나타낸다]를 나타내며; 및
    Z는 하기식(Za), (Zb), (Zc) 또는 (Zd)의 기를 나타낸다].
  2. 제1항에 있어서, R1이 수소원자 또는 1~4개의 탄소 원자를 갖는 알킬기를 나타내는 화합물.
  3. 제2항에 있어서, R1이 수소원자 또는 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내는 화합물.
  4. 제3항에 있어서, R1이 수소원자, 메틸 또는 에틸기를 나타내는 화합물.
  5. 제4항에 있어서, R1이 메틸 또는 에틸기를 나타내는 화합물.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, R2가 2~5개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내는 화합물.
  7. 제6항에 있어서, R2가 2~3개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내는 화합물.
  8. 제7항에 있어서, R2가 에틸렌, 트리메틸렌 또는 메틸에틸렌기를 나타내는 화합물.
  9. 제8항에 있어서, R2가 에틸렌기를 나타내는 화합물.
  10. 제1항 내지 제5항 및 제7항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, R3이 수소원자, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1 또는 2개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 1 또는 2개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기 또는 할로겐원자를 나타내는 화합물.
  11. 제10항에 있어서, R3이 수소원자를 나타내는 화합물.
  12. 제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제9항 및 제11항중의 어느 한 항에 있어서, X가 : 6~10개의 고리원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기 정의된 치환체 α1로 구성된 군으로부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5~10개의 고리원자를 가지며, 그중 1~3개의 원자가 질소, 산소, 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로-원자로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체에 의해 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    상기 치환체는 α1는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    할로겐원자,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체 β1가 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콜시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  13. 제12항에 있어서, X가 : 6~10개의 환 탄소원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α2로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는, 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5~10개의 환원자를 가지며, 그중 1~3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로-원자인 기로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α2로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체에 의해 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    싱가 치환체 α2는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
    총 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    불소원자, 염소원자 및 브롬원자,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기.
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체 β1가 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  14. 제12항에 있어서, X가 페닐, 나프틸, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된 치환체 α3로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α3는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 메틸렌디옥시기,
    총 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1∼4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기, 불소, 염소 및 브롬원자,
    총 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기,
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체 β2가 메틸기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 불소원자 및 메틸렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  15. 제12항에 있어서, X가 페닐, 나프틸, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α4로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α4가 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    메틸렌디옥시, 벤질옥시, 페네틸옥시 및 나프틸메틸옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    불소, 염소 및 브롬원자,
    벤질기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페녹시기,
    페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N-메틸페닐술포닐아미노, 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐기, 피리딜술포닐아미노, 및_N-메틸피리딜술포닐아미노기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기
    로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  16. 제12항에 있어서, X가 페닐, 나프틸, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α5로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α5가 하기 :
    1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    트리플루오로메틸, 디플루오로메틸, 플루오로메틸, 히드록시, 포르밀옥시 및 아세톡시기,
    1~3개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    메틸렌디옥시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸술포닐 및 에틸술포닐기,
    불소, 염소 및 브롬원자, 및
    벤질, 페닐, 4-메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 4-메톡시페닐, 4-플루오로페닐, 3,4-메틸렌디옥시페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노,_N-메틸페닐술포닐아미노, 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이미다졸릴,_N-메틸이미다졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐기, 피리딜술포닐아미노 및/또는_N-메틸피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  17. 제12항에 있어서, X가 페닐, 나프틸, 피리딜, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α6로구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α6가 : 메틸, 에틸, 이소프로필, 트리플루오로메틸, 히드록시, 아세톡시, 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시, 메틸렌디옥시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸술포닐, 에틸술포닐, 벤질, 페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N-메틸페닐술포닐아미노, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐, 필리딜술포닐아미노 및 N-메틸피리딜술포닐아미노기 및 염소원자로 구성된 군우로 부터 선택되는 화합물.
  18. 제12항에 있어서, X가 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α7로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 페닐기를 나타내고;
    상기 치환체 α7가 : 메틸, 히드록시, 아세톡시, 벤질, 페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N-메틸페닐술포닐아미노, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  19. 제12항에 있어서, X가 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α8로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 피리딜기를 나타내고;
    상기 치환체 α8가 : 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸술포닐, 에틸술포닐, 벤질, 페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노 및 N-메틸페닐술포닐아미노로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  20. 제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제9항, 제11항, 및 제13항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, Y가 산소원자, 황원자 또는 식N-R4[식중, R4는 수소원자, 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알카노일기를 나타낸다]의 기를 나타내는 화합물.
  21. 제20항에 있어서, Y가 산소원자를 나타내는 화합물.
  22. 제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제9항, 제11항, 제13항 내지 제19항 및 제21항 중의 어느 한 항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸 또는 3,5-디옥소옥사디아졸리딘-2-일메틸기를 나타내는 화합물.
  23. 제22항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸 또는 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸기를 나타내는 화합물.
  24. 제22항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸기를 나타내는 화합물.
  25. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1이 수소원자 또는 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
    R2는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
    R3은 수소원자, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1 또는 2개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 1 또는 2개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기 또는 할로겐원자를 나타내고;
    X가 : 6~10개의 고리원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기 정의된 치환체 α 1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5~10개의 고리원자를 가지며, 그중 1~3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로-원자로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체에 의해 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    상기 치환체 α1는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    할로겐원자,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체 β1는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자, 황원자 또는 식N-R4의 기[식중, R4는 수소원자, 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알카노일기를 나타낸다]를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸 또는 3,5-디옥소옥사디아졸리딘-2-일메틸기를 나타내는 화합물.
  26. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1이 수소원자 또는 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
    R2는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
    R3이 수소원자를 나타내고;
    X가 : 6~10개의 환 탄소원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α2로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5~10개의 환원자를 가지며, 그중 1~3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로-원자인 기로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α2로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체에 의해 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    상기 치환체 α2는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
    총 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    불소원자, 염소원자 및 브롬원자,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체 β1는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸기를 나타내는 화합물.
  27. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1이 수소원자 또는 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타내고;
    R2는 2~3개의 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 나타내고;
    R3이 수소원자를 나타내고;
    X가 페닐, 나프틸, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α3로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α3는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기
    메틸렌디옥시기,
    총 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    불소 염소 및 브롬원자,
    총 7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체 β2는 메틸기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 불소원자 및 메틸렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸를 나타내는 화합물.
  28. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1은 수소원자, 메틸 또는 에틸기를 나타내고;
    R2는 에틸렌, 트리메틸렌 또는 메틸에틸렌기를 나타내고;
    R3는 수소원자를 나타내고;
    X가 페닐, 나프틸, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은, 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α4로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α4가 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    메틸렌디옥시, 벤질옥시, 페네틸옥시 및 나프틸메틸옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    불소, 염소 및 브롬원자,
    벤질기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β2으로 치환된 페녹시기,
    페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, _N-메틸페닐술포닐아미노, 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐기, 피리딜술포닐아미노 및_N-메틸피리딜술포닐아미노기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸를 나타내는 화합물.
  29. 제 1항에 있어서, 식중;
    R1은 수소원자, 메틸 또는 에틸기를 나타내고;
    R2는 에틸렌, 트리메틸렌 또는 메틸에틸렌기를 나타내고;
    R3는 수소원자를 나타내고;
    X가 페닐, 나프틸, 피리딜, 인돌릴, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α5로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α5가 하기 :
    1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    트리플루오로메틸, 디플루오로메틸, 플루오로메틸, 히드록시, 포르밀옥시 및 아세톡시기,
    1~3개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    메틸렌디옥시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸술포닐 및 에틸 술포닐기,
    불소, 염소 및 브롬원자, 및
    벤질, 페닐, 4-메틸페닐, 4-트리플루오로메틸페닐, 4-메톡시페닐, 4-플로우로페닐, 3,4-메틸렌디옥시페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노,_N-메틸페닐술포닐아미노, 푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이미다졸릴,_N-메틸이미다졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐기, 피리딜술포닐아미노 및_N-메틸피리딜술포닐아미노기로 이루어진 군으로 부터 선택된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸를 나타내는 화합물.
  30. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1은 수소원자, 메틸 또는 에틸기를 나타내고;
    R2는 에틸렌기를 나타내고;
    R3는 수소원자를 나타내고;
    X가 페닐, 나프틸, 피리딜, 퀴놀릴 또는 이소퀴놀릴기를 나타내고, 각각은 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α6로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되며;
    상기 치환체 α6가 : 메틸, 에틸, 이소프로필, 트리플루오로메틸, 히드록시, 아세톡시, 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시, 메틸렌디옥시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸술포닐, 에틸술포닐, 벤질, 페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N-메틸페닐술포닐아미노, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오, 피리딜술포닐, 피리딜술포닐아미노 및 N-메틸피리딜술포닐아미노기 및 염소원자로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸를 나타내는 화합물.
  31. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1은 메틸 또는 에틸기를 나타내고;
    R2는 에틸렌기를 나타내고;
    R3는 수소원자를 나타내고;
    X가 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α7로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 페닐기를 나타내고;
    상기 치환체 α7가 : 메틸, 히드록시, 아세톡시, 벤질, 페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노, N-메틸페닐술포닐아미노, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기 및 염소원자로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸을 나타내는 화합물.
  32. 제1항에 있어서, 식중 :
    R1은 메틸 또는 에틸기를 나타내고;
    R2는 에틸렌기를 나타내고;
    R3는 수소원자를 나타내고;
    X가 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α8로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 피리딜기를 나타내고;
    상기 치환체 α8가 : 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시, 벤질옥시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸술포닐, 에틸술포닐, 벤질, 페닐, 페녹시, 페닐티오, 페닐술포닐, 페닐술포닐아미노 및 N-메틸페닐술포닐아미노로 구성된 군으로 부터 선택되고;
    Y는 산소원자를 나타내고; 및
    Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸를 나타내는 화합물.
  33. 제1항에 있어서, 하기의 화합물 및 그의 약학적으로 허용가능한 염 :
    5-(4-{2-[1-4-비페닐릴)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(4-페닐술포닐페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(4-2'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(4-3-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(4-4'-피리딜페닐)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(2-페닐-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(2-메톡시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온;
    5-(4-{2-[1-(2-이소프로폭시-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온; 및
    5-(4-{2-[1-(2-벤질-5-피리딜)에틸리덴아미노옥시]에톡시}벤질)티아졸리딘-2,4-디온.
  34. 약학적 허용가능한 담체 또는 희석제와의 부가혼합물중 유효량의 활성 화합물을 포함하고, 상기활성 화합물이, 제1항 내지 제33항 중의 어느 한 항에서 청구된, 하나 이상의 식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 약학적으로 허용 가능한 염인, 당뇨병, 과지질혈증, 과혈당증, 비만증, 동맥경화, 특발성 고혈압, 악액질, 건선, 골다공증, 장애내당성, 항인슐린 비-장애내당성, 비-진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간, 다낭포성난소증 및 임신성 당뇨병, 및 그의 합병증의 치료 또는 예방을 위한 약학 조성물.
  35. 당뇨병, 과지질혈증, 과혈당증, 비만증, 동맥경화, 특발성 고혈압, 악액질, 건선, 골다공증, 장애내당성, 항인슐린 비-장애내당성, 비-진단성 당내성, 인슐린 저항성, 당뇨성 합병증, 지방간, 다낭포성난소증 및 임신성 당뇨병, 및 그의 합병증의 치료 또는 예방을 위한 치료제의 제조에 사용되는, 제1항 내지 제33항 중의 어느 한 항에 청구된, 하나 이상의 식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염.
  36. 제6항에 있어서, R3이 수소원자, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1 또는 2개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 1 또는 2개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기 또는 할로겐원자를 나타내는 화합물.
  37. 제6항에 있어서, X가 : 6~10개의 고리원자를 가지며, 비치환되거나 하기 정의된 치환체 α1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5~10개의 고리원자를 가지며, 그중 1~3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로-원자로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체에 의해 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    상기 치환체 α1는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    할로겐원자,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체가 β1가 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  38. 제10항에 있어서, X가 : 6~10개의 고리원자를 가지며, 비치환되거나 또는 하기 정의된 치환체 α1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체로 치환되는 아릴기; 또는 하나 또는 두개의 고리내에 5~10개의 고리원자를 가지며, 그중 1~3개의 원자가 질소, 산소 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택된 헤테로-원자로서, 상기 기는 비치환되거나 또는 하기 정의된, 치환체 α1로 구성된 군으로 부터 선택된 1~3개의 치환체에 의해 치환되는 방향족 복소환기를 나타내고;
    상기 치환체 α1는 하기 :
    1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기,
    히드록시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 아실옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬옥시기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬티오기,
    1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬술포닐기,
    할로겐원자,
    7~12개의 탄소원자를 갖는 아랄킬기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페녹시기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐티오기,
    비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환된 페닐술포닐기,
    페닐기는 비치환되거나 또는 1~3개의, 하기 정의된, 치환체 β1으로 치환되고, 질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 페닐술포닐아미노기,
    푸릴, 티에닐, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 피리딜, 피리딜옥시, 피리딜티오 및 피리딜술포닐기,
    질소원자가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 이미다졸릴기,
    아미노기가 비치환되거나 또는 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기로 치환되는 피리딜술포닐아미노기
    로 구성된 군으로 부터 선택되고,
    치환체가 β1가 1~6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 할로겐화 알킬기, 1~4개의 탄소원자를 갖는 알콕시기, 할로겐원자 및 1~4개의 탄소원자를 갖는 알킬렌디옥시기로 구성된 군으로 부터 선택되는 화합물.
  39. 제6항에 있어서, Y가 산소원자, 황원자 또는 식N-R4[식중, R4는 수소원자, 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알카노일기를 나타낸다]의 기를 나타내는 화합물.
  40. 제10항에 있어서, Y가 산소원자, 황원자 또는 식N-R4[식중, R4는 수소원자, 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알카노일기를 나타낸다]의 기를 나타내는 화합물.
  41. 제12항에 있어서, Y가 산소원자, 황원자 또는 식N-R4[식중, R4는 수소원자, 1~3개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 2~5개의 탄소원자를 갖는 알카노일기를 나타낸다]의 기를 나타내는 화합물.
  42. 제6항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸 또는 3,5-디옥소옥사디아졸리딘-2-일메틸기를 나타내는 화합물.
  43. 제10항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸 또는 3,5-디옥소옥사디아졸리딘-2-일메틸기를 나타내는 화합물.
  44. 제12항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸 또는 3,5-디옥소옥사디아졸리딘-2-일메틸기를 나타내는 화합물.
  45. 제20항에 있어서, Z가 2,4-디옥소티아졸리딘-5-일메틸, 2,4-디옥소옥사졸리딘-5-일메틸 또는 3,5-디옥소옥사디아졸리딘-2-일메틸기를 나타내는 화합물.
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