JP2000212174A - ２，４−オキサゾリジンジオン誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物 - Google Patents
２，４−オキサゾリジンジオン誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物Info
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- JP2000212174A JP2000212174A JP2000060387A JP2000060387A JP2000212174A JP 2000212174 A JP2000212174 A JP 2000212174A JP 2000060387 A JP2000060387 A JP 2000060387A JP 2000060387 A JP2000060387 A JP 2000060387A JP 2000212174 A JP2000212174 A JP 2000212174A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】すぐれた血糖低下作用および血中脂質低下作用
を有する新規２，４−オキサゾリジンジオン誘導体を提
供する。 【解決手段】下記一般式 〔式中、Ｒは置換されていてもよい炭化水素残基または
複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−または−
ＮＲ3−（Ｒ3は置換されていてもよいアルキル基を示
す。）で示される基を、ｍは０または１を、ｎは０，１
または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは炭素数１〜７の
２価の脂肪族炭化水素残基を示す。Ｒ1およびＲ2は水素
原子またはアルキル基を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに
結合して窒素原子を含んでいてもよい５または６員の複
素環を形成していることを示す。ＬおよびＭは水素原子
を示すかまたはＬとＭが互いに結合して両者で１個の結
合手を形成する。〕で表される２，４−オキサゾリジン
ジオン誘導体またはその塩。
を有する新規２，４−オキサゾリジンジオン誘導体を提
供する。 【解決手段】下記一般式 〔式中、Ｒは置換されていてもよい炭化水素残基または
複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−または−
ＮＲ3−（Ｒ3は置換されていてもよいアルキル基を示
す。）で示される基を、ｍは０または１を、ｎは０，１
または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは炭素数１〜７の
２価の脂肪族炭化水素残基を示す。Ｒ1およびＲ2は水素
原子またはアルキル基を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに
結合して窒素原子を含んでいてもよい５または６員の複
素環を形成していることを示す。ＬおよびＭは水素原子
を示すかまたはＬとＭが互いに結合して両者で１個の結
合手を形成する。〕で表される２，４−オキサゾリジン
ジオン誘導体またはその塩。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は血糖および血中脂質低下
作用を有する新規オキサゾリジンジオン誘導体、その製
造法およびそれを含んでなる糖尿病治療剤に関するもの
であり、医薬の分野において用いられるものである。
作用を有する新規オキサゾリジンジオン誘導体、その製
造法およびそれを含んでなる糖尿病治療剤に関するもの
であり、医薬の分野において用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】糖尿病の治療剤としては、従来から種々
のビグアナイド系化合物およびスルホニルウレア系化合
物が用いられてきた。しかし、ビグアナイド系化合物は
乳酸アシド−シスを引き起こすため現在ほとんど用いら
れておらず、またスルホニルウレア系化合物は強力な血
糖低下作用を有するが、しばしば重篤な低血糖を引き起
こし、使用上の注意が必要である。またこのような欠点
のない血糖および血中脂質低下作用を有するチアゾリジ
ンジオン誘導体およびオキサゾリジンジオン誘導体が知
られている。たとえば、５位に置換基を有する２，４−
オキサゾリジンジオン誘導体として、公開特許公報平３
−１７０４７８、ＷＯ９２０２５２０−Ａ１に一連の５
−（置換ベンジル）−２，４−オキサゾリジンジオン誘
導体が、特許公報昭６２−３０９９３に５位が脂環式炭
化水素で置換された２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体が、また特許公報昭６３−３５６３２に５位が置換芳
香環等で置換された２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体が記載されている。
のビグアナイド系化合物およびスルホニルウレア系化合
物が用いられてきた。しかし、ビグアナイド系化合物は
乳酸アシド−シスを引き起こすため現在ほとんど用いら
れておらず、またスルホニルウレア系化合物は強力な血
糖低下作用を有するが、しばしば重篤な低血糖を引き起
こし、使用上の注意が必要である。またこのような欠点
のない血糖および血中脂質低下作用を有するチアゾリジ
ンジオン誘導体およびオキサゾリジンジオン誘導体が知
られている。たとえば、５位に置換基を有する２，４−
オキサゾリジンジオン誘導体として、公開特許公報平３
−１７０４７８、ＷＯ９２０２５２０−Ａ１に一連の５
−（置換ベンジル）−２，４−オキサゾリジンジオン誘
導体が、特許公報昭６２−３０９９３に５位が脂環式炭
化水素で置換された２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体が、また特許公報昭６３−３５６３２に５位が置換芳
香環等で置換された２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、２，４
−オキサゾリジンジオン誘導体について種々検討を加え
た結果、２，４−オキサゾリジンジオン環の５位置換基
として、たとえば２−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）エチル基、３−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）プロピル基、４−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）ブチル基、５−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）ペンチル基など、末端に置換フェニルまたは置換ピ
リジルを有する２価の直鎖状または分枝状の炭素鎖を有
する新規誘導体が血糖及び血中脂質低下作用を有するこ
とを見いだし、本発明を完成した。
−オキサゾリジンジオン誘導体について種々検討を加え
た結果、２，４−オキサゾリジンジオン環の５位置換基
として、たとえば２−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）エチル基、３−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）プロピル基、４−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）ブチル基、５−（置換フェニルまたは置換ピリジ
ル）ペンチル基など、末端に置換フェニルまたは置換ピ
リジルを有する２価の直鎖状または分枝状の炭素鎖を有
する新規誘導体が血糖及び血中脂質低下作用を有するこ
とを見いだし、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は １．一般式
【化１０】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。ＬおよびＭはそれぞれ水素原子を示すかまた
はＬとＭが互いに結合して両者で１個の結合手を形成す
るものとする。〕で表される２，４−オキサゾリジンジ
オン誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩、 ２．一般式（Ｉ）で表される２，４−オキサゾリジンジ
オン誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩を有効成
分として含有してなる医薬組成物、および ３．一般式（Ｉ）で表わされる化合物の製造法、であ
る。
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。ＬおよびＭはそれぞれ水素原子を示すかまた
はＬとＭが互いに結合して両者で１個の結合手を形成す
るものとする。〕で表される２，４−オキサゾリジンジ
オン誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩、 ２．一般式（Ｉ）で表される２，４−オキサゾリジンジ
オン誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩を有効成
分として含有してなる医薬組成物、および ３．一般式（Ｉ）で表わされる化合物の製造法、であ
る。
【０００５】上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物はつ
ぎの式で表わされる化合物を含む。
ぎの式で表わされる化合物を含む。
【化１１】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕 化合物の薬効の強さおよび毒性などを考慮すると一般式
（Ｉ−Ａ１），（Ｉ−Ａ２）および（Ｉ−Ａ３）で表わ
される化合物の中でも（Ｉ−Ａ１）および（Ｉ−Ａ２）
で表わされる化合物が好ましく、（Ｉ−Ａ１）で表わさ
れる化合物が最も好ましい。上記一般式（Ｉ）中、Ｌと
Ｍが互いに結合して両者で１個の結合手を形成する場
合、一般式（Ｉ）は一般式
（Ｉ−Ａ１），（Ｉ−Ａ２）および（Ｉ−Ａ３）で表わ
される化合物の中でも（Ｉ−Ａ１）および（Ｉ−Ａ２）
で表わされる化合物が好ましく、（Ｉ−Ａ１）で表わさ
れる化合物が最も好ましい。上記一般式（Ｉ）中、Ｌと
Ｍが互いに結合して両者で１個の結合手を形成する場
合、一般式（Ｉ）は一般式
【化１２】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕を意味し、ま
たＬおよびＭがそれぞれ水素原子を示すとき、一般式
（Ｉ）は一般式
たＬおよびＭがそれぞれ水素原子を示すとき、一般式
（Ｉ）は一般式
【化１３】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕を意味する。
前記一般式（Ｉ−Ｂ１）で表わされる化合物にはオキサ
ゾリジンジオン環の５位の二重結合に関し、（Ｅ）体お
よび（Ｚ）体が存在する。一般式（Ｉ−Ｂ１）および
（Ｉ−Ｂ２）で表わされる化合物の中でも一般式（Ｉ−
Ｂ１）で表わされる化合物が好ましい。上記一般式
（Ｉ）において、Ｒ1，Ｒ2で示されるアルキル基として
は、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−プロ
ピル，ｎ−ブチル，ｔ−ブチルなど炭素数１〜４のもの
があげられる。Ｒ1，Ｒ2としてはそれぞれ水素原子であ
るかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含んで
いてもよい５または６員の複素環を形成する場合が好ま
しいが、Ｒ1，Ｒ2がそれぞれ水素原子であるのが最も好
ましい。
前記一般式（Ｉ−Ｂ１）で表わされる化合物にはオキサ
ゾリジンジオン環の５位の二重結合に関し、（Ｅ）体お
よび（Ｚ）体が存在する。一般式（Ｉ−Ｂ１）および
（Ｉ−Ｂ２）で表わされる化合物の中でも一般式（Ｉ−
Ｂ１）で表わされる化合物が好ましい。上記一般式
（Ｉ）において、Ｒ1，Ｒ2で示されるアルキル基として
は、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−プロ
ピル，ｎ−ブチル，ｔ−ブチルなど炭素数１〜４のもの
があげられる。Ｒ1，Ｒ2としてはそれぞれ水素原子であ
るかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含んで
いてもよい５または６員の複素環を形成する場合が好ま
しいが、Ｒ1，Ｒ2がそれぞれ水素原子であるのが最も好
ましい。
【０００６】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1とＲ2が互
いに結合して窒素原子を含んでいてもよい５または６員
の複素環を形成する場合、具体的には、たとえばつぎの
一般式で表わされる化合物が含まれる。 (１)Ｒ1とＲ2が互いに結合して５員の複素環を形成して
いる。
いに結合して窒素原子を含んでいてもよい５または６員
の複素環を形成する場合、具体的には、たとえばつぎの
一般式で表わされる化合物が含まれる。 (１)Ｒ1とＲ2が互いに結合して５員の複素環を形成して
いる。
【化１４】 (２)Ｒ1とＲ2が互いに結合して６員の複素環を形成して
いる。
いる。
【化１５】 (３)Ｒ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含んで５員の
複素環を形成している。
複素環を形成している。
【化１６】 (４)Ｒ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含んで６員の
複素環を形成している。
複素環を形成している。
【化１７】
【化１８】 〔式中、Ｄは水素原子または低級アルキル基を示し、そ
の他の記号は前記と同意義である。〕 上記化合物（Ｉ−Ｃ１）〜（Ｉ−Ｃ８）の中でも（Ｉ−
Ｃ１），（Ｉ−Ｃ２），（Ｉ−Ｃ３）および（Ｉ−Ｃ
６）で表わされる化合物が好ましい。
の他の記号は前記と同意義である。〕 上記化合物（Ｉ−Ｃ１）〜（Ｉ−Ｃ８）の中でも（Ｉ−
Ｃ１），（Ｉ−Ｃ２），（Ｉ−Ｃ３）および（Ｉ−Ｃ
６）で表わされる化合物が好ましい。
【０００７】前記一般式（Ｉ）中、Ｒとしては置換され
ていてもよい複素環基が好ましい。Ｒで表される置換さ
れていてもよい炭化水素残基における炭化水素残基とし
ては、脂肪族炭化水素残基、脂環族炭化水素残基、脂環
族−脂肪族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化水素残基、芳
香族炭化水素残基が挙げられ、該脂肪族炭化水素残基と
しては炭素数１〜８のもの、たとえばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−
ブチル、t.−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペ
ンチル、t.−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプ
チル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂肪族炭化水素
残基、たとえばエテニル、１−プロペニル、２−プロペ
ニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２
−メチル−１−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペン
テニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル
−２−ブテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、
２,４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニル、１−ヘプテ
ニル、１−オクテニル、エチニル、１−プロピニル、２
−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチ
ニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、３−ヘキシニ
ル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘキシニル、１−ヘ
プチニル、１−オクチニルなど炭素数２〜８の不飽和脂
肪族炭化水素残基が、該脂環族炭化水素残基としては炭
素数３〜７のもの、たとえばシクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素残基および１
−シクロペンテニル、２−シクロペンテニル、３−シク
ロペンテニル、１−シクロヘキセニル、２−シクロヘキ
セニル、３−シクロヘキセニル、１−シクロヘプテニ
ル、２−シクロヘプテニル、３−シクロヘプテニル、
２,４−シクロヘプタジエニルなど炭素数５〜７の不飽
和脂環族炭化水素残基が、該脂環族−脂肪族炭化水素残
基としては上記脂環族炭化水素残基と脂肪族炭化水素残
基とが結合したもののうち、炭素数４〜９のもの、たと
えばシクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シ
クロブチルメチル、シクロペンチルメチル、２−シクロ
ペンテニルメチル、３−シクロペンテニルメチル、シク
ロヘキシルメチル、２−シクロヘキセニルメチル、３−
シクロヘキセニルメチル、シクロヘキシルエチル、シク
ロヘキシルプロピル、シクロヘプチルメチル、シクロヘ
プチルエチルなどが、該芳香脂肪族炭化水素残基として
は、たとえばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチ
ル、３−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、１
−フェニルプロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキ
ル、α−ナフチルメチル、α−ナフチルエチル、β−ナ
フチルメチル、β−ナフチルエチルなど炭素数１１〜１
３のナフチルアルキルが、該芳香族炭化水素残基として
は、たとえばフェニル、ナフチル（α−ナフチル，β−
ナフチル）などが挙げられる。
ていてもよい複素環基が好ましい。Ｒで表される置換さ
れていてもよい炭化水素残基における炭化水素残基とし
ては、脂肪族炭化水素残基、脂環族炭化水素残基、脂環
族−脂肪族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化水素残基、芳
香族炭化水素残基が挙げられ、該脂肪族炭化水素残基と
しては炭素数１〜８のもの、たとえばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−
ブチル、t.−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペ
ンチル、t.−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプ
チル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂肪族炭化水素
残基、たとえばエテニル、１−プロペニル、２−プロペ
ニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２
−メチル−１−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペン
テニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル
−２−ブテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、
２,４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニル、１−ヘプテ
ニル、１−オクテニル、エチニル、１−プロピニル、２
−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチ
ニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、３−ヘキシニ
ル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘキシニル、１−ヘ
プチニル、１−オクチニルなど炭素数２〜８の不飽和脂
肪族炭化水素残基が、該脂環族炭化水素残基としては炭
素数３〜７のもの、たとえばシクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素残基および１
−シクロペンテニル、２−シクロペンテニル、３−シク
ロペンテニル、１−シクロヘキセニル、２−シクロヘキ
セニル、３−シクロヘキセニル、１−シクロヘプテニ
ル、２−シクロヘプテニル、３−シクロヘプテニル、
２,４−シクロヘプタジエニルなど炭素数５〜７の不飽
和脂環族炭化水素残基が、該脂環族−脂肪族炭化水素残
基としては上記脂環族炭化水素残基と脂肪族炭化水素残
基とが結合したもののうち、炭素数４〜９のもの、たと
えばシクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シ
クロブチルメチル、シクロペンチルメチル、２−シクロ
ペンテニルメチル、３−シクロペンテニルメチル、シク
ロヘキシルメチル、２−シクロヘキセニルメチル、３−
シクロヘキセニルメチル、シクロヘキシルエチル、シク
ロヘキシルプロピル、シクロヘプチルメチル、シクロヘ
プチルエチルなどが、該芳香脂肪族炭化水素残基として
は、たとえばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチ
ル、３−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、１
−フェニルプロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキ
ル、α−ナフチルメチル、α−ナフチルエチル、β−ナ
フチルメチル、β−ナフチルエチルなど炭素数１１〜１
３のナフチルアルキルが、該芳香族炭化水素残基として
は、たとえばフェニル、ナフチル（α−ナフチル，β−
ナフチル）などが挙げられる。
【０００８】前記一般式（Ｉ）中、Ｒで表される置換さ
れていてもよい複素環基における複素環基としては、た
とえば１個の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を含む
５〜７員複素環基、２〜４個の窒素原子を含む５〜６員
複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子ま
たは酸素原子を含む５〜６員複素環基が挙げられ、これ
らの複素環基は２個以下の窒素原子をふくむ６員環、ベ
ンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合して
いてもよい。このような複素環基の具体例としては、例
えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２
−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニ
ル、６−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダ
ジニル、２−ピラジニル、２−ピロリル、３−ピロリ
ル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダ
ゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、イソチアゾ
リル、イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾ
リル、５−チアゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサ
ゾリル、５−オキサゾリル、１，２，４−トリアゾ−ル
−３−イル、１，３，４−トリアゾ−ル−２−イル、
１，２，３−トリアゾ−ル−４−イル、テトラゾ−ル−
５−イル、ベンズイミダゾ−ル−２−イル、インド−ル
−３−イル、ベンズピラゾ−ル−３−イル、１Ｈ−ピロ
ロ〔２，３−ｂ〕ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピロロ
〔２，３−ｂ〕ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｃ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピラジン−２−イル等が挙げられる。こ
れらの中でもオキサゾリルが好ましい。
れていてもよい複素環基における複素環基としては、た
とえば１個の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を含む
５〜７員複素環基、２〜４個の窒素原子を含む５〜６員
複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子ま
たは酸素原子を含む５〜６員複素環基が挙げられ、これ
らの複素環基は２個以下の窒素原子をふくむ６員環、ベ
ンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合して
いてもよい。このような複素環基の具体例としては、例
えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２
−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニ
ル、６−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダ
ジニル、２−ピラジニル、２−ピロリル、３−ピロリ
ル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダ
ゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、イソチアゾ
リル、イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾ
リル、５−チアゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサ
ゾリル、５−オキサゾリル、１，２，４−トリアゾ−ル
−３−イル、１，３，４−トリアゾ−ル−２−イル、
１，２，３−トリアゾ−ル−４−イル、テトラゾ−ル−
５−イル、ベンズイミダゾ−ル−２−イル、インド−ル
−３−イル、ベンズピラゾ−ル−３−イル、１Ｈ−ピロ
ロ〔２，３−ｂ〕ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピロロ
〔２，３−ｂ〕ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｃ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピラジン−２−イル等が挙げられる。こ
れらの中でもオキサゾリルが好ましい。
【０００９】前記一般式（Ｉ）中、Ｒで表される炭化水
素残基および複素環基は、それぞれ置換可能な位置に置
換基を１〜３個有していてもよい。かかる置換基として
は、脂肪族鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基、アリー
ル基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基、ハロゲン原
子、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換さ
れていてもよいアシル基、置換されていてもよいヒドロ
キシル基、置換されていてもよいチオール基、エステル
化されていてもよいカルボキシル基が挙げられる。かか
る脂肪族鎖式炭化水素基としては、炭素数１〜１５の直
鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基、例えばアルキ
ル基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケ
ニル基、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基、ア
ルキニル基、好ましくは炭素数２〜１０のアルキニル基
などが挙げられる。アルキル基の好適な例としては、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、１
−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１,１−
ジメチルブチル、２,２−ジメチルブチル、３,３−ジメ
チルブチル、２−エチルブチル、ヘキシル、ペンチル、
オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。アルケニ
ル基の好適な例としては、例えばビニル、アリル、イソ
プロペニル、１−プロペニル、２−メチル−１−プロペ
ニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２
−エチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、
１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４
−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキ
セニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセ
ニル、５−ヘキセニルなどが挙げられる。アルキニル基
の好適な例としては、例えばエチニル、１−プロピニ
ル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３
−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペ
ンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキ
シニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシ
ニルなどが挙げられる。該脂環式炭化水素基としては、
炭素数３〜１２の飽和または不飽和の脂環式炭化水素
基、例えばシクロアルキル基、シクロアルケニル基、シ
クロアルカジエニル基などが挙げられる。シクロアルキ
ル基の好適な例としては、例えばシクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル、ビシクロ〔２.２.１〕ヘプチ
ル、ビシクロ〔２.２.２〕オクチル、ビシクロ〔３.２.
１〕オクチル、ビシクロ〔３.２.２〕ノニル、ビシクロ
〔３.３.１〕ノニル、ビシクロ〔４.２.１〕ノニル、ビ
シクロ〔４.３.１〕デシルなどが挙げられる。シクロア
ルケニル基の好適な例としては、例えば２−シクロペン
テン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−
シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−
イルなどが挙げられる。シクロアルカジエニル基の好適
な例としては、例えば２,４−シクロペンタジエン−１
−イル、２,４−シクロヘキサジエン−１−イル、２,５
−シクロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。該
アリール基とは、単環式または縮合多環式芳香族炭化水
素基を意味し、好適な例としては炭素数６〜１４のも
の、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナン
トリル、アセナフチレニルなどが挙げられ、なかでもフ
ェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどが好ましい。
素残基および複素環基は、それぞれ置換可能な位置に置
換基を１〜３個有していてもよい。かかる置換基として
は、脂肪族鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基、アリー
ル基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基、ハロゲン原
子、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換さ
れていてもよいアシル基、置換されていてもよいヒドロ
キシル基、置換されていてもよいチオール基、エステル
化されていてもよいカルボキシル基が挙げられる。かか
る脂肪族鎖式炭化水素基としては、炭素数１〜１５の直
鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基、例えばアルキ
ル基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケ
ニル基、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基、ア
ルキニル基、好ましくは炭素数２〜１０のアルキニル基
などが挙げられる。アルキル基の好適な例としては、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、１
−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１,１−
ジメチルブチル、２,２−ジメチルブチル、３,３−ジメ
チルブチル、２−エチルブチル、ヘキシル、ペンチル、
オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。アルケニ
ル基の好適な例としては、例えばビニル、アリル、イソ
プロペニル、１−プロペニル、２−メチル−１−プロペ
ニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２
−エチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、
１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４
−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキ
セニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセ
ニル、５−ヘキセニルなどが挙げられる。アルキニル基
の好適な例としては、例えばエチニル、１−プロピニ
ル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３
−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペ
ンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキ
シニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシ
ニルなどが挙げられる。該脂環式炭化水素基としては、
炭素数３〜１２の飽和または不飽和の脂環式炭化水素
基、例えばシクロアルキル基、シクロアルケニル基、シ
クロアルカジエニル基などが挙げられる。シクロアルキ
ル基の好適な例としては、例えばシクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル、ビシクロ〔２.２.１〕ヘプチ
ル、ビシクロ〔２.２.２〕オクチル、ビシクロ〔３.２.
１〕オクチル、ビシクロ〔３.２.２〕ノニル、ビシクロ
〔３.３.１〕ノニル、ビシクロ〔４.２.１〕ノニル、ビ
シクロ〔４.３.１〕デシルなどが挙げられる。シクロア
ルケニル基の好適な例としては、例えば２−シクロペン
テン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−
シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−
イルなどが挙げられる。シクロアルカジエニル基の好適
な例としては、例えば２,４−シクロペンタジエン−１
−イル、２,４−シクロヘキサジエン−１−イル、２,５
−シクロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。該
アリール基とは、単環式または縮合多環式芳香族炭化水
素基を意味し、好適な例としては炭素数６〜１４のも
の、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナン
トリル、アセナフチレニルなどが挙げられ、なかでもフ
ェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどが好ましい。
【００１０】該芳香族複素環基の好適な例としては、例
えばフリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジアゾリル、１,
２,４−オキサジアゾリル、１,３,４−オキサジアゾリ
ル、フラザニル、１,２,３−チアジアゾリル、１,２,４
-チアジアゾリル、１,３,４−チアジアゾリル、１,２,
３−トリアゾリル、１,２,４−トリアゾリル、テトラゾ
リル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジ
ニル、トリアジニルなどの芳香族単環式複素環基；例え
ばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ〔b〕
チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−インダ
ゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、
１,２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、
１,２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾ
リル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾ
リニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリジニ
ル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−カル
ボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、アク
リジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、フェ
ナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、フェ
ナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニル、ピ
ロロ〔１,２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ〔１,５−
ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリジル、イミ
ダゾ〔１,５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ｂ〕ピ
リダジニル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリミジニル、１,
２,４−トリアゾロ〔４,３−ａ〕ピリジル、１,２,４−
トリアゾロ〔４,３−ｂ〕ピリダジニルなどの芳香族縮
合複素環基などが挙げられる。
えばフリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジアゾリル、１,
２,４−オキサジアゾリル、１,３,４−オキサジアゾリ
ル、フラザニル、１,２,３−チアジアゾリル、１,２,４
-チアジアゾリル、１,３,４−チアジアゾリル、１,２,
３−トリアゾリル、１,２,４−トリアゾリル、テトラゾ
リル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジ
ニル、トリアジニルなどの芳香族単環式複素環基；例え
ばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ〔b〕
チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−インダ
ゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、
１,２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、
１,２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾ
リル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾ
リニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリジニ
ル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−カル
ボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、アク
リジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、フェ
ナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、フェ
ナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニル、ピ
ロロ〔１,２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ〔１,５−
ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリジル、イミ
ダゾ〔１,５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ｂ〕ピ
リダジニル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリミジニル、１,
２,４−トリアゾロ〔４,３−ａ〕ピリジル、１,２,４−
トリアゾロ〔４,３−ｂ〕ピリダジニルなどの芳香族縮
合複素環基などが挙げられる。
【００１１】該非芳香族複素環基の好適な例としては、
例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チ
エタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラ
ニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、モルホリニ
ル、チオモルホリニル、ピペラジニル、ピロリジノ、ピ
ペリジノ、モルホリノなどが挙げられる。該ハロゲンの
例としてはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげら
れ、とりわけフッ素および塩素が好ましい。該置換され
ていてもよいアミノ基としては、無置換のアミノの他、
炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルケニ
ル、炭素数１〜１０のアシルまたは芳香族基が１または
２個アミノ基（−ＮＨ2基）に置換したもの（例、メチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘキシ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルアミノ等）があげられる。該置換されていてもよい
アシルには無置換のアシルおよび置換されたアシルがあ
り、無置換のアシルとしては、ホルミルの他たとえば炭
素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルケニル
または炭素数６〜１２の芳香族基とカルボニル基の結合
したもの（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘ
キサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、シクロブタ
ノイル、シクロペンタノイル、シクロヘキサノイル、シ
クロヘプタノイル、クロトニル、２−シクロヘキセンカ
ルボニル、ベンゾイル、ニコチノイル等）があげられ
る。置換されたアシルとしては、前記無置換のアシルに
たとえば炭素数１〜３のアルキル、たとえば炭素数１〜
３のアルコキシ、ハロゲン（例、塩素，臭素など）、ニ
トロ、ヒドロキシ、アミノなど置換したものが挙げられ
る。
例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チ
エタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラ
ニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、モルホリニ
ル、チオモルホリニル、ピペラジニル、ピロリジノ、ピ
ペリジノ、モルホリノなどが挙げられる。該ハロゲンの
例としてはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげら
れ、とりわけフッ素および塩素が好ましい。該置換され
ていてもよいアミノ基としては、無置換のアミノの他、
炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルケニ
ル、炭素数１〜１０のアシルまたは芳香族基が１または
２個アミノ基（−ＮＨ2基）に置換したもの（例、メチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘキシ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルアミノ等）があげられる。該置換されていてもよい
アシルには無置換のアシルおよび置換されたアシルがあ
り、無置換のアシルとしては、ホルミルの他たとえば炭
素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルケニル
または炭素数６〜１２の芳香族基とカルボニル基の結合
したもの（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘ
キサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、シクロブタ
ノイル、シクロペンタノイル、シクロヘキサノイル、シ
クロヘプタノイル、クロトニル、２−シクロヘキセンカ
ルボニル、ベンゾイル、ニコチノイル等）があげられ
る。置換されたアシルとしては、前記無置換のアシルに
たとえば炭素数１〜３のアルキル、たとえば炭素数１〜
３のアルコキシ、ハロゲン（例、塩素，臭素など）、ニ
トロ、ヒドロキシ、アミノなど置換したものが挙げられ
る。
【００１２】該置換されていてもよいヒドロキシル基と
しては、無置換のヒドロキシル基の他に置換されたヒド
ロキシル基すなわちヒドロキシル基に適宜の置換基を有
するものがあり、置換されたヒドロキシル基としては、
例えばアルコキシ、アルケニルオキシ、アラルキルオキ
シ、アシルオキシなどに加えてアリールオキシなど水酸
基の保護基で保護されたものがあげられる。該アルコキ
シとしては、炭素数１〜１０のアルコキシ（例、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペントキシ、イソペントキシ、ネオペントキシ、ヘキシ
ルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブト
キシ、シクロペントキシ、シクロヘキシルオキシなど）
が好ましい。アルケニルオキシとしては、アリル（ally
l）オキシ、クロチルオキシ、２−ペンテニルオキシ、
３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニルメトキ
シ、２−シクロヘキセニルメトキシなど炭素数１〜１０
のものが、アラルキルオキシとしては、例えばフェニル
−Ｃ1-4アルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、フェネ
チルオキシなど）があげられる。アシルオキシとして
は、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ（例、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、ｎ−ブチリルオキシ、is
o−ブチリルオキシなど）が好ましい。アリールオキシ
としてはフェノキシ、４−クロロフェノキシなどがあげ
られる。
しては、無置換のヒドロキシル基の他に置換されたヒド
ロキシル基すなわちヒドロキシル基に適宜の置換基を有
するものがあり、置換されたヒドロキシル基としては、
例えばアルコキシ、アルケニルオキシ、アラルキルオキ
シ、アシルオキシなどに加えてアリールオキシなど水酸
基の保護基で保護されたものがあげられる。該アルコキ
シとしては、炭素数１〜１０のアルコキシ（例、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペントキシ、イソペントキシ、ネオペントキシ、ヘキシ
ルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブト
キシ、シクロペントキシ、シクロヘキシルオキシなど）
が好ましい。アルケニルオキシとしては、アリル（ally
l）オキシ、クロチルオキシ、２−ペンテニルオキシ、
３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニルメトキ
シ、２−シクロヘキセニルメトキシなど炭素数１〜１０
のものが、アラルキルオキシとしては、例えばフェニル
−Ｃ1-4アルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、フェネ
チルオキシなど）があげられる。アシルオキシとして
は、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ（例、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、ｎ−ブチリルオキシ、is
o−ブチリルオキシなど）が好ましい。アリールオキシ
としてはフェノキシ、４−クロロフェノキシなどがあげ
られる。
【００１３】該置換されていてもよいチオール基として
は、チオール基の他にこのチオール基に適宜の置換基を
有したもの、特にチオール基の保護基で保護されたもの
が挙げられる。その具体例としては、例えばアルキルチ
オ、アラルキルチオ、アシルチオなどがあげられる。ア
ルキルチオとしては、炭素数１〜１０のアルキルチオ
（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチ
ルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチ
ルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチ
オ、ノニルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチ
オ、シクロヘキシルチオなど）が好ましい。アラルキル
チオとしては、例えばフェニル−Ｃ1-4アルキルチオ
（例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど）があげられ
る。アシルチオとしては、炭素数２〜４のアルカノイル
チオ（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、ｎ−ブチ
リルチオ、iso−ブチリルチオなど）が好ましい。該エ
ステル化されていてもよいカルボキシル基としては、た
とえばアルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボ
ニル，エトキシカルボニル，プロポキシカルボニル，ブ
トキシカルボニルなどの炭素数２〜５のもの），アラル
キルオキシカルボニル（たとえばベンジルオキシカルボ
ニルなど），アリールオキシカルボニル（たとえばフェ
ノキシカルボニル，ｐ−トリールオキシカルボニルな
ど）などがあげられる。Ｒで示される炭化水素残基上お
よび複素環基上の置換基の中でもフェニル、ナフチル、
フリール、チエニル、Ｃ1-3アルキルが特に好ましい。
は、チオール基の他にこのチオール基に適宜の置換基を
有したもの、特にチオール基の保護基で保護されたもの
が挙げられる。その具体例としては、例えばアルキルチ
オ、アラルキルチオ、アシルチオなどがあげられる。ア
ルキルチオとしては、炭素数１〜１０のアルキルチオ
（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチ
ルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチ
ルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチ
オ、ノニルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチ
オ、シクロヘキシルチオなど）が好ましい。アラルキル
チオとしては、例えばフェニル−Ｃ1-4アルキルチオ
（例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど）があげられ
る。アシルチオとしては、炭素数２〜４のアルカノイル
チオ（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、ｎ−ブチ
リルチオ、iso−ブチリルチオなど）が好ましい。該エ
ステル化されていてもよいカルボキシル基としては、た
とえばアルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボ
ニル，エトキシカルボニル，プロポキシカルボニル，ブ
トキシカルボニルなどの炭素数２〜５のもの），アラル
キルオキシカルボニル（たとえばベンジルオキシカルボ
ニルなど），アリールオキシカルボニル（たとえばフェ
ノキシカルボニル，ｐ−トリールオキシカルボニルな
ど）などがあげられる。Ｒで示される炭化水素残基上お
よび複素環基上の置換基の中でもフェニル、ナフチル、
フリール、チエニル、Ｃ1-3アルキルが特に好ましい。
【００１４】前記一般式（Ｉ）中、Ｒで表される炭化水
素残基および複素環基上の置換基は、それらが脂環式炭
化水素基，アリール基，芳香族複素環基，非芳香族複素
環基であるときはさらにそれぞれ適当な置換基を１個以
上、好ましくは１〜３個有していてもよく、該置換基と
しては、例えば低級アルキル基（炭素数１〜４のも
の）、低級アルケニル基（炭素数２〜５のもの）、低級
アルキニル基（炭素数２〜５のもの）、シクロアルキル
基（炭素数３〜７のもの）、アリール基（フェニル，ナ
フチルなど）、芳香族複素環基（チエニル，フリル，ピ
リジル，オキサゾリル，チアゾリルなど）、非芳香族複
素環基（テトラヒドロフリル，モルホリノ，ピペリジ
ノ，ピロリジノ，ピペラジノなど）、アラルキル基（炭
素数７〜９のもの）、アミノ基、Ｎ−モノ（Ｃ1−Ｃ4）
アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルア
ミノ基、アミジノ基、炭素数２〜５のアシル基、カルバ
モイル基、Ｎ−モノ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルカルバモイル基、
スルファモイル基、Ｎ−モノ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルスル
ファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルスルフ
ァモイル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニ
ル基（炭素数２〜５のもの）、ヒドロキシル基、低級ア
ルコキシ基（炭素数１〜４のもの）、低級アルケニルオ
キシ基（炭素数２〜５のもの）、シクロアルキルオキシ
基（炭素数３〜７のもの）、アラルキルオキシ基（炭素
数７〜９のもの）、アリールオキシ基（フェニルオキ
シ，ナフチルオキシなど）、メルカプト基、低級アルキ
ルチオ基（炭素数１〜４のもの）、アラルキルチオ基
（炭素数７〜９のもの）、アリールチオ基（フェニルチ
オ，ナフチルチオなど）、スルホ基、シアノ基、アジド
基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン（フッ素，塩素，
臭素，ヨウ素）などが挙げられる。
素残基および複素環基上の置換基は、それらが脂環式炭
化水素基，アリール基，芳香族複素環基，非芳香族複素
環基であるときはさらにそれぞれ適当な置換基を１個以
上、好ましくは１〜３個有していてもよく、該置換基と
しては、例えば低級アルキル基（炭素数１〜４のも
の）、低級アルケニル基（炭素数２〜５のもの）、低級
アルキニル基（炭素数２〜５のもの）、シクロアルキル
基（炭素数３〜７のもの）、アリール基（フェニル，ナ
フチルなど）、芳香族複素環基（チエニル，フリル，ピ
リジル，オキサゾリル，チアゾリルなど）、非芳香族複
素環基（テトラヒドロフリル，モルホリノ，ピペリジ
ノ，ピロリジノ，ピペラジノなど）、アラルキル基（炭
素数７〜９のもの）、アミノ基、Ｎ−モノ（Ｃ1−Ｃ4）
アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルア
ミノ基、アミジノ基、炭素数２〜５のアシル基、カルバ
モイル基、Ｎ−モノ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルカルバモイル基、
スルファモイル基、Ｎ−モノ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルスル
ファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1−Ｃ4）アルキルスルフ
ァモイル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニ
ル基（炭素数２〜５のもの）、ヒドロキシル基、低級ア
ルコキシ基（炭素数１〜４のもの）、低級アルケニルオ
キシ基（炭素数２〜５のもの）、シクロアルキルオキシ
基（炭素数３〜７のもの）、アラルキルオキシ基（炭素
数７〜９のもの）、アリールオキシ基（フェニルオキ
シ，ナフチルオキシなど）、メルカプト基、低級アルキ
ルチオ基（炭素数１〜４のもの）、アラルキルチオ基
（炭素数７〜９のもの）、アリールチオ基（フェニルチ
オ，ナフチルチオなど）、スルホ基、シアノ基、アジド
基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン（フッ素，塩素，
臭素，ヨウ素）などが挙げられる。
【００１５】ｍは０または１を示すが０が好ましい。ｎ
は０，１または２を示すが１が好ましく０が最も好まし
い。ｍが０、かつｎが０のときはＲ1が置換している炭
素とＲとが直接結合していることを示す。ｍが０でｎが
１または２のときはＲと−（ＣＨ2）n−が直接結合して
いることを、またｍが１でｎが０のときはＲ1が置換し
ている炭素とＹが直接結合していることを示す。Ｙは−
ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−または−ＮＲ3−を示すが、
−ＣＨ（ＯＨ）−，−Ｎ（Ｒ3）−が好ましい。Ｒ3で示
される置換されていてもよいアルキル基のアルキル基と
しては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−
プロピル，ｎ−ブチル，ｔ−ブチルなど炭素数１〜４の
ものがあげられ、置換基としては、たとえばハロゲン
（フッ素，塩素，臭素，ヨウ素），炭素数１〜４のアル
コキシ基（たとえばメトキシ，エトキシ，プロポキシ，
ｎ−ブトキシ，ｔ−ブトキシなど），ヒドロキシ基，ニ
トロ基，炭素数１〜４のアシル基（たとえばホルミル，
アセチル，プロピオニルなど）などがあげられる。Ａで
示される炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基は直
鎖状、分枝状のいずれでもよく、また飽和不飽和のいず
れでもよい。その具体例としては、たとえば−ＣＨ
2−，−ＣＨ（ＣＨ3）−，−（ＣＨ2）2−，−ＣＨ（Ｃ
2Ｈ5）−，−（ＣＨ2）3−，−（ＣＨ2）4−，−（ＣＨ
2）5−，−（ＣＨ2）6−，−（ＣＨ2）7−の飽和のも
の、たとえば−ＣＨ＝ＣＨ−，−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ
−，−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−，−Ｃ（Ｃ2Ｈ5）＝ＣＨ
−，−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−，−ＣＨ2−ＣＨ2−
ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−，−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ2−，−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2
−などの不飽和のものでもよい。中でも炭素数１〜４の
飽和のものが好ましく、−ＣＨ2ＣＨ2−が最も好まし
い。一般式（Ｉ−８）中、Ｄで示される低級アルキル基
としては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ
−プロピル，ｎ−ブチルなど炭素数１〜４のものがあげ
られる。
は０，１または２を示すが１が好ましく０が最も好まし
い。ｍが０、かつｎが０のときはＲ1が置換している炭
素とＲとが直接結合していることを示す。ｍが０でｎが
１または２のときはＲと−（ＣＨ2）n−が直接結合して
いることを、またｍが１でｎが０のときはＲ1が置換し
ている炭素とＹが直接結合していることを示す。Ｙは−
ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−または−ＮＲ3−を示すが、
−ＣＨ（ＯＨ）−，−Ｎ（Ｒ3）−が好ましい。Ｒ3で示
される置換されていてもよいアルキル基のアルキル基と
しては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ−
プロピル，ｎ−ブチル，ｔ−ブチルなど炭素数１〜４の
ものがあげられ、置換基としては、たとえばハロゲン
（フッ素，塩素，臭素，ヨウ素），炭素数１〜４のアル
コキシ基（たとえばメトキシ，エトキシ，プロポキシ，
ｎ−ブトキシ，ｔ−ブトキシなど），ヒドロキシ基，ニ
トロ基，炭素数１〜４のアシル基（たとえばホルミル，
アセチル，プロピオニルなど）などがあげられる。Ａで
示される炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基は直
鎖状、分枝状のいずれでもよく、また飽和不飽和のいず
れでもよい。その具体例としては、たとえば−ＣＨ
2−，−ＣＨ（ＣＨ3）−，−（ＣＨ2）2−，−ＣＨ（Ｃ
2Ｈ5）−，−（ＣＨ2）3−，−（ＣＨ2）4−，−（ＣＨ
2）5−，−（ＣＨ2）6−，−（ＣＨ2）7−の飽和のも
の、たとえば−ＣＨ＝ＣＨ−，−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ
−，−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−，−Ｃ（Ｃ2Ｈ5）＝ＣＨ
−，−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−，−ＣＨ2−ＣＨ2−
ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2−，−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ2−，−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2
−などの不飽和のものでもよい。中でも炭素数１〜４の
飽和のものが好ましく、−ＣＨ2ＣＨ2−が最も好まし
い。一般式（Ｉ−８）中、Ｄで示される低級アルキル基
としては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，ｉ
−プロピル，ｎ−ブチルなど炭素数１〜４のものがあげ
られる。
【００１６】本発明の化合物（Ｉ）の塩としては薬学的
に許容される塩が好ましく、例えば無機塩基との塩、有
機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性ま
たは酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基と
の塩の好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム
塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩
の好適な例としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジアミン
などとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール
酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩
基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアルギ
ニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性
アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパラギ
ン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。これらの
塩の中でもナトリウム塩、カリウム塩が最も好ましい。
に許容される塩が好ましく、例えば無機塩基との塩、有
機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性ま
たは酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基と
の塩の好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム
塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩
の好適な例としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジアミン
などとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール
酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩
基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアルギ
ニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性
アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパラギ
ン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。これらの
塩の中でもナトリウム塩、カリウム塩が最も好ましい。
【００１７】本発明の化合物（Ｉ）またはその薬理学的
に許容しうる塩は毒性が低く血糖および血中脂質低下作
用およびインスリン感受性増強作用を有し、そのままも
しくは自体公知の薬理学的に許容しうる担体、賦形剤、
増量剤などと混合して人を含む哺乳動物に対して糖尿病
治療剤、血圧降下剤として用いることができる。本発明
化合物（Ｉ）は低毒性で、例えば、実施例１８の化合物
を１日当たり１５ｍｇ／ｋｇの割合で４日間マウスに経
口投与した場合、体重および肝臓重量には、コントロー
ルに対し何等変化は認められなかった。また 実施例１
８で製造した化合物を、１００ｍｇ／ｋｇの割合で経口
投与または５０ｍｇ／ｋｇの割合で腹腔内投与しても死
亡例は認められなかった。投与方法は通常例えば錠剤、
カプセル剤（ソフトカプセル、マイクロカプセルを含
む）、散剤、顆粒剤などとして経口的に用いられるが、
場合によっては注射剤、坐剤、ペレットなどとして非経
口的に投与できる。投与量は成人に経口投与する場合１
日０.０５〜１０mg/kgであり、この量を１日１回〜３回
投与するのが望ましい。本発明の化合物（Ｉ）は、薬学
的に許容される担体と配合し、錠剤、カプセル剤、顆粒
剤、散剤などの固形製剤；またはシロップ剤、注射剤な
どの液状製剤として経口または非経口的に投与すること
ができる。
に許容しうる塩は毒性が低く血糖および血中脂質低下作
用およびインスリン感受性増強作用を有し、そのままも
しくは自体公知の薬理学的に許容しうる担体、賦形剤、
増量剤などと混合して人を含む哺乳動物に対して糖尿病
治療剤、血圧降下剤として用いることができる。本発明
化合物（Ｉ）は低毒性で、例えば、実施例１８の化合物
を１日当たり１５ｍｇ／ｋｇの割合で４日間マウスに経
口投与した場合、体重および肝臓重量には、コントロー
ルに対し何等変化は認められなかった。また 実施例１
８で製造した化合物を、１００ｍｇ／ｋｇの割合で経口
投与または５０ｍｇ／ｋｇの割合で腹腔内投与しても死
亡例は認められなかった。投与方法は通常例えば錠剤、
カプセル剤（ソフトカプセル、マイクロカプセルを含
む）、散剤、顆粒剤などとして経口的に用いられるが、
場合によっては注射剤、坐剤、ペレットなどとして非経
口的に投与できる。投与量は成人に経口投与する場合１
日０.０５〜１０mg/kgであり、この量を１日１回〜３回
投与するのが望ましい。本発明の化合物（Ｉ）は、薬学
的に許容される担体と配合し、錠剤、カプセル剤、顆粒
剤、散剤などの固形製剤；またはシロップ剤、注射剤な
どの液状製剤として経口または非経口的に投与すること
ができる。
【００１８】薬学的に許容される担体としては、製剤素
材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いら
れ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊
剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等
張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。また
必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤など
の製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適な例
としては、例えば乳糖、白糖、Ｄ-マンニトール、デン
プン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが挙げられ
る。滑沢剤の好適な例としては、例えばステアリン酸マ
グネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、コロイ
ドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な例として
は、例えば結晶セルロース、白糖、Ｄ-マンニトール、
デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン
などが挙げられる。崩壊剤の好適な例としては、例えば
デンプン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリ
ウム、カルボキシメチルスターチナトリウムなどが挙げ
られる。溶剤の好適な例としては、例えば注射用水、ア
ルコール、プロピレングリコール、マクロゴール、ゴマ
油、トウモロコシ油などが挙げられる。溶解補助剤の好
適な例としては、例えばポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、Ｄ-マンニトール、安息香酸ベンジ
ル、エタノール、トリスアミノメタン、コレステロー
ル、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、クエン酸
ナトリウムなどが挙げられる。懸濁化剤の好適な例とし
ては、例えばステアリルトリエタノールアミン、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸、レシ
チン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、モ
ノステアリン酸グリセリン、などの界面活性剤；例えば
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性高分
子などが挙げられる。等張化剤の好適な例としては、例
えば塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ-マンニトールな
どが挙げられる。緩衝剤の好適な例としては、例えばリ
ン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液など
が挙げられる。無痛化剤の好適な例としては、例えばベ
ンジルアルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例
としては、例えばパラオキシ安息香酸エステル類、クロ
ロブタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコ
ール、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗
酸化剤の好適な例としては、例えば亜硫酸塩、アスコル
ビン酸などが挙げられる。
材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いら
れ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊
剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等
張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。また
必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤など
の製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適な例
としては、例えば乳糖、白糖、Ｄ-マンニトール、デン
プン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが挙げられ
る。滑沢剤の好適な例としては、例えばステアリン酸マ
グネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、コロイ
ドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な例として
は、例えば結晶セルロース、白糖、Ｄ-マンニトール、
デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン
などが挙げられる。崩壊剤の好適な例としては、例えば
デンプン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリ
ウム、カルボキシメチルスターチナトリウムなどが挙げ
られる。溶剤の好適な例としては、例えば注射用水、ア
ルコール、プロピレングリコール、マクロゴール、ゴマ
油、トウモロコシ油などが挙げられる。溶解補助剤の好
適な例としては、例えばポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、Ｄ-マンニトール、安息香酸ベンジ
ル、エタノール、トリスアミノメタン、コレステロー
ル、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、クエン酸
ナトリウムなどが挙げられる。懸濁化剤の好適な例とし
ては、例えばステアリルトリエタノールアミン、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸、レシ
チン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、モ
ノステアリン酸グリセリン、などの界面活性剤；例えば
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性高分
子などが挙げられる。等張化剤の好適な例としては、例
えば塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ-マンニトールな
どが挙げられる。緩衝剤の好適な例としては、例えばリ
ン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液など
が挙げられる。無痛化剤の好適な例としては、例えばベ
ンジルアルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例
としては、例えばパラオキシ安息香酸エステル類、クロ
ロブタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコ
ール、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗
酸化剤の好適な例としては、例えば亜硫酸塩、アスコル
ビン酸などが挙げられる。
【００１９】以下に本発明の化合物（Ｉ）の製造法につ
いて述べる。Ａ法
いて述べる。Ａ法
【化１９】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕 化合物（Ｉ−Ｂ１）は、化合物（II）と２，４−オキサ
ゾリジンジオンの縮合により製造される。この反応は塩
基の存在下溶媒中で行われる。該溶媒としては、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
２−メトキシエタノール等のアルコール類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエー
テル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、酢酸が挙げられる。該塩基
としては、ナトリウムアルコキシド（例、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド等）、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、水素化ナトリウム、酢酸ナトリウムや
ピペリジン、ピペラジン、ピロリジン、モルホリン、ジ
エチルアミン、ジイソプロピルアミン等の２級アミン類
が用いられる。２，４−オキサゾリジンジオンの使用量
は、化合物（II）に対して１〜１０モル当量、好ましく
は１〜５モル等量である。塩基の使用量は、化合物（I
I）に対して０．０１〜５モル当量、好ましくは０．０
５〜２モル等量である。本反応は０〜１５０℃、好まし
くは２０〜１００℃で０．５〜３０時間かけて行われ
る。本法により製造される化合物（Ｉ−Ｂ１）は、２，
４−オキサゾリジンジオン環５位の二重結合に関し、
（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物として得られることも
ある。
ゾリジンジオンの縮合により製造される。この反応は塩
基の存在下溶媒中で行われる。該溶媒としては、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
２−メトキシエタノール等のアルコール類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエー
テル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、酢酸が挙げられる。該塩基
としては、ナトリウムアルコキシド（例、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド等）、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、水素化ナトリウム、酢酸ナトリウムや
ピペリジン、ピペラジン、ピロリジン、モルホリン、ジ
エチルアミン、ジイソプロピルアミン等の２級アミン類
が用いられる。２，４−オキサゾリジンジオンの使用量
は、化合物（II）に対して１〜１０モル当量、好ましく
は１〜５モル等量である。塩基の使用量は、化合物（I
I）に対して０．０１〜５モル当量、好ましくは０．０
５〜２モル等量である。本反応は０〜１５０℃、好まし
くは２０〜１００℃で０．５〜３０時間かけて行われ
る。本法により製造される化合物（Ｉ−Ｂ１）は、２，
４−オキサゾリジンジオン環５位の二重結合に関し、
（Ｅ）体および（Ｚ）体の混合物として得られることも
ある。
【００２０】Ｂ法
【化２０】 〔式中、Ｚは水素原子、低級アルキル基またはアラルキ
ル基を示し、その他の記号は前記と同意義を有する。〕 前記一般式（III）中、Ｚで表わされる低級アルキル基
としては、炭素数１〜４のアルキル（例、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチルが挙げられる。Ｚで表わされ
るアラルキル基としては、アリール基を置換基として有
するアルキル基（アリールアルキル基）を意味する。該
アリール基としては、例えば、フェニル、ナフチルなど
が挙げられ、これらは前記低級アルキル基（炭素数１〜
４のもの）、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素）、水酸基、ニトロ基等の置換基を有していてもよ
い。該アルキル基としてはメチル、エチル、プロピルな
ど炭素数１〜４のものがあげられる。該アラルキル基の
好適な例としては、例えば、ベンジル、フェネチル、３
−フェニルプロピル、（１−ナフチル）メチル、（２−
ナフチル）メチルなどが挙げられ、なかでもベンジル、
フェネチルなどが好ましい。化合物（III）をシアン酸
アルカリ金属、例えばシアン酸カリウムまたはシアン酸
ナトリウムと反応させることにより化合物（Ｉ−Ｂ２）
のアルカリ金属塩が得られ、これを酸で処理することに
より化合物（Ｉ−Ｂ２）を製造することができる。化合
物 (III) とシアン酸アルカリ金属の反応は適宜の溶媒
中で行われる。該溶媒としては、通常メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキ
シエタノール、ブタノール等のアルコール類、N,N-ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニト
リルまたはこれらの混合溶媒が用いられる。シアン酸ア
ルカリ金属の使用量は、化合物（III）に対し、１〜１
０モル等量、好ましくは１〜５モル等量である。反応温
度は、０〜１５０℃、好ましくは１０〜１２０℃、反応
時間は０．５〜５０時間である。このようにして得た化
合物（Ｉ−Ｂ２）のアルカリ金属塩は、常法により酸で
処理して化合物（Ｉ−Ｂ２）を製造する。本酸処理は、
適宜の溶媒あるいは溶媒なしで行われる。該溶媒として
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、２−メトキシエタノール、ブタノール等のア
ルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１，１，２，２−テトラク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、ア
セトニトリルまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。酸
としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸等の無機酸を
過剰に用いることが好ましいが、酢酸、クエン酸、酒石
酸等の有機酸も用いることができる。このようにして得
られる２，４−オキサゾリジンジオン誘導体（Ｉ−Ｂ
２）は公知の分離精製手段例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒
抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどに
より単離精製することができる。
ル基を示し、その他の記号は前記と同意義を有する。〕 前記一般式（III）中、Ｚで表わされる低級アルキル基
としては、炭素数１〜４のアルキル（例、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、se
c−ブチル、tert−ブチルが挙げられる。Ｚで表わされ
るアラルキル基としては、アリール基を置換基として有
するアルキル基（アリールアルキル基）を意味する。該
アリール基としては、例えば、フェニル、ナフチルなど
が挙げられ、これらは前記低級アルキル基（炭素数１〜
４のもの）、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素）、水酸基、ニトロ基等の置換基を有していてもよ
い。該アルキル基としてはメチル、エチル、プロピルな
ど炭素数１〜４のものがあげられる。該アラルキル基の
好適な例としては、例えば、ベンジル、フェネチル、３
−フェニルプロピル、（１−ナフチル）メチル、（２−
ナフチル）メチルなどが挙げられ、なかでもベンジル、
フェネチルなどが好ましい。化合物（III）をシアン酸
アルカリ金属、例えばシアン酸カリウムまたはシアン酸
ナトリウムと反応させることにより化合物（Ｉ−Ｂ２）
のアルカリ金属塩が得られ、これを酸で処理することに
より化合物（Ｉ−Ｂ２）を製造することができる。化合
物 (III) とシアン酸アルカリ金属の反応は適宜の溶媒
中で行われる。該溶媒としては、通常メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキ
シエタノール、ブタノール等のアルコール類、N,N-ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニト
リルまたはこれらの混合溶媒が用いられる。シアン酸ア
ルカリ金属の使用量は、化合物（III）に対し、１〜１
０モル等量、好ましくは１〜５モル等量である。反応温
度は、０〜１５０℃、好ましくは１０〜１２０℃、反応
時間は０．５〜５０時間である。このようにして得た化
合物（Ｉ−Ｂ２）のアルカリ金属塩は、常法により酸で
処理して化合物（Ｉ−Ｂ２）を製造する。本酸処理は、
適宜の溶媒あるいは溶媒なしで行われる。該溶媒として
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、２−メトキシエタノール、ブタノール等のア
ルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１，１，２，２−テトラク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、ア
セトニトリルまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。酸
としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸等の無機酸を
過剰に用いることが好ましいが、酢酸、クエン酸、酒石
酸等の有機酸も用いることができる。このようにして得
られる２，４−オキサゾリジンジオン誘導体（Ｉ−Ｂ
２）は公知の分離精製手段例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒
抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどに
より単離精製することができる。
【００２１】Ｃ法
【化２１】 〔式中、Ａ1は炭素数１〜７の直鎖状または分枝状の２
価の飽和脂肪族炭化水素残基を、他の記号は前記と同意
義を示す。〕 Ａ1で示される炭素数１〜７の直鎖状または分枝状の２
価の飽和脂肪族炭化水素残基としてはＡで示される２価
の脂肪族炭化水素残基のうち飽和のものをいう。化合物
（Ｉ−Ｂ１）を還元反応に付すことにより化合物（Ｉ−
Ｂ２ａ）を製造することができる。本還元反応は、常法
に従い溶媒中、触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰
囲気中で行われる。該溶媒としては、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキ
シエタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテル、イソ
プロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、１，
１，２，２−テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素類、酢酸エチル、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。触媒として
は、ニッケル化合物、などの金属、パラジウム、白金、
ロジウムなどの遷移金属触媒等を用いることにより有利
に行われる。反応温度は、０〜１００℃、好ましくは１
０〜８０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。この
ようにして得られる２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体（Ｉ−Ｂ２ａ）は公知の分離精製手段例えば濃縮、減
圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。
価の飽和脂肪族炭化水素残基を、他の記号は前記と同意
義を示す。〕 Ａ1で示される炭素数１〜７の直鎖状または分枝状の２
価の飽和脂肪族炭化水素残基としてはＡで示される２価
の脂肪族炭化水素残基のうち飽和のものをいう。化合物
（Ｉ−Ｂ１）を還元反応に付すことにより化合物（Ｉ−
Ｂ２ａ）を製造することができる。本還元反応は、常法
に従い溶媒中、触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰
囲気中で行われる。該溶媒としては、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキ
シエタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテル、イソ
プロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、１，
１，２，２−テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素類、酢酸エチル、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。触媒として
は、ニッケル化合物、などの金属、パラジウム、白金、
ロジウムなどの遷移金属触媒等を用いることにより有利
に行われる。反応温度は、０〜１００℃、好ましくは１
０〜８０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。この
ようにして得られる２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体（Ｉ−Ｂ２ａ）は公知の分離精製手段例えば濃縮、減
圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。
【００２２】Ｄ法
【化２２】 〔式中、Ｂは低級アルコキシ、低級アルキルチオまたは
低級アシルオキシを、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕 Ｂで表わされる低級アルコキシとしてはたとえばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
など炭素数１〜４のものが、低級アルキルチオ基として
はたとえばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ｉ
−プロピルチオ、ブチルチオなど炭素数１〜４のもの
が、低級アシルオキシとしてはたとえばアセチルオキ
シ、プロピオニルオキシなど炭素数１〜４のものが挙げ
られる。２つのＢが互いに結合してエチレンジオキシ、
プロピレンジオキシ、ジチオトリメチレン等を形成して
いてもよい。すなわち、式（IV）の−ＣＨ(Ｂ)2 は保護
されたアルデヒド基を意味する。化合物（IV）と２，４
−オキサゾリジンジオンとを縮合して化合物（Ｉ−Ｂ
１）を製造する。本縮合反応は、Ａ法における化合物
（II）と２，４−オキサゾリジンジオンの反応と同様に
して行なわれる。
低級アシルオキシを、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕 Ｂで表わされる低級アルコキシとしてはたとえばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
など炭素数１〜４のものが、低級アルキルチオ基として
はたとえばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ｉ
−プロピルチオ、ブチルチオなど炭素数１〜４のもの
が、低級アシルオキシとしてはたとえばアセチルオキ
シ、プロピオニルオキシなど炭素数１〜４のものが挙げ
られる。２つのＢが互いに結合してエチレンジオキシ、
プロピレンジオキシ、ジチオトリメチレン等を形成して
いてもよい。すなわち、式（IV）の−ＣＨ(Ｂ)2 は保護
されたアルデヒド基を意味する。化合物（IV）と２，４
−オキサゾリジンジオンとを縮合して化合物（Ｉ−Ｂ
１）を製造する。本縮合反応は、Ａ法における化合物
（II）と２，４−オキサゾリジンジオンの反応と同様に
して行なわれる。
【００２３】Ｅ法
【化２３】 〔式中、Ｑは脱離基を、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕 Ｑで表わされる脱離基としては、ハロゲン原子（塩素、
臭素、ヨウ素）、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンス
ルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ等が挙
げられる。化合物（Ｖ）と化合物（VI）とを縮合して化
合物（Ｉ−Ｄ１）を製造する。この反応は、常法に従い
塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタンなどのエーテル類、アセトン、２−ブタノンなど
のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ンおよびこれらの混合溶媒があげられる。該塩基として
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピリジン、
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのア
ミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属
水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、カリウムｔ−ブトキシドなどがあげられる。これら
塩基の使用量は化合物（Ｖ）に対し１〜５モル程度が好
ましい。本反応は通常−５０℃〜１５０℃好ましくは約
−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、０．５〜
３０時間である。
る。〕 Ｑで表わされる脱離基としては、ハロゲン原子（塩素、
臭素、ヨウ素）、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンス
ルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ等が挙
げられる。化合物（Ｖ）と化合物（VI）とを縮合して化
合物（Ｉ−Ｄ１）を製造する。この反応は、常法に従い
塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタンなどのエーテル類、アセトン、２−ブタノンなど
のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ンおよびこれらの混合溶媒があげられる。該塩基として
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピリジン、
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのア
ミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属
水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、カリウムｔ−ブトキシドなどがあげられる。これら
塩基の使用量は化合物（Ｖ）に対し１〜５モル程度が好
ましい。本反応は通常−５０℃〜１５０℃好ましくは約
−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、０．５〜
３０時間である。
【００２４】Ａ法の原料化合物（II）は、例えばＦ法に
よって製造される。Ｆ法
よって製造される。Ｆ法
【化２４】 〔式中、Ｒ4およびＲ5は同一または異なって低級アルキ
ル基を、Ｒ6は水素原子または低級アルキル基を、ｑは
０、１または２を表し、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕 Ｒ4、Ｒ5およびＲ6で表わされる低級アルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチルなど炭素数１〜４のものが挙げられる。この方法
では、まずカルボニル誘導体（VII）をホスホノ酢酸誘
導体またはω−ホスホノカルボン酸誘導体（VIII）と反
応させて不飽和エステル誘導体（IX）を製造する。（VI
I）と（VIII）の反応は、常法に従い塩基の存在下適宜
の溶媒中で行われる。該溶媒としては例えばベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエー
テル類、メタノール、エタノール、プロパノールなどの
アルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，
２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエ
タン及びこれらの混合溶媒があげられる。該塩基として
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金
属塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アニリン等のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムなどの金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナト
リウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これら塩基の使用量は化合物（VIII）に対し１〜５
モル程度が好ましい。化合物（VIII）の使用量は、化合
物（VII）に対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程
度である。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、好ましく
は約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、０．
５〜３０時間である。
ル基を、Ｒ6は水素原子または低級アルキル基を、ｑは
０、１または２を表し、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕 Ｒ4、Ｒ5およびＲ6で表わされる低級アルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチルなど炭素数１〜４のものが挙げられる。この方法
では、まずカルボニル誘導体（VII）をホスホノ酢酸誘
導体またはω−ホスホノカルボン酸誘導体（VIII）と反
応させて不飽和エステル誘導体（IX）を製造する。（VI
I）と（VIII）の反応は、常法に従い塩基の存在下適宜
の溶媒中で行われる。該溶媒としては例えばベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエー
テル類、メタノール、エタノール、プロパノールなどの
アルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，
２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエ
タン及びこれらの混合溶媒があげられる。該塩基として
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金
属塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アニリン等のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムなどの金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナト
リウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これら塩基の使用量は化合物（VIII）に対し１〜５
モル程度が好ましい。化合物（VIII）の使用量は、化合
物（VII）に対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程
度である。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、好ましく
は約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、０．
５〜３０時間である。
【００２５】ついで化合物（IX）を還元反応に付し、ア
ルコール誘導体（Ｘ）を製造する。本還元反応は、自体
公知の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物
による還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランお
よび置換ボランによる還元等が用いられる。すなわち、
この反応は化合物（IX）を還元剤で処理することにより
行われる。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属
（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
等）、水素化アルミニウムリチウムなどの金属水素錯化
合物およびジボランなどが挙げられるが、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムを用いることにより有利に行われ
る。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で
行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタ
ン、１,１,２,２−テトラクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシ
エタノールなどのアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドなどのアミド類、あるいはこれらの混合溶媒な
どが還元剤の種類により適宜選択して用いられる。反応
温度は−２０℃〜１５０〜、とくに０℃〜１００℃が好
適であり、反応時間は、約１〜２４時間程度である。つ
いで化合物（Ｘ）を酸化反応に付し、不飽和カルボニル
誘導体（II−１）を製造する。本酸化反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、二酸化マンガンに
よる酸化、クロム酸による酸化、ジメチルスルホキシド
による酸化等が用いられる。すなわち、この反応は化合
物(Ｘ）を酸化剤で処理することにより行われる。酸化
剤としては、二酸化マンガン、無水クロム酸等が用いら
れるが、二酸化マンガンを用いることにより有利に行わ
れる。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中
で行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエ
タン、１,１,２,２−テトラクロロエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類、ジメチルスルホキシ
ドあるいはこれらの混合溶媒などが酸化剤の種類により
適宜選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜１５０
〜、とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時間は、
約１〜２４時間程度である。ついで化合物（II−１）を
還元反応に付し、化合物（II−２）を製造する。本還元
反応はＣ法と同様に行なわれる。
ルコール誘導体（Ｘ）を製造する。本還元反応は、自体
公知の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物
による還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランお
よび置換ボランによる還元等が用いられる。すなわち、
この反応は化合物（IX）を還元剤で処理することにより
行われる。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属
（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
等）、水素化アルミニウムリチウムなどの金属水素錯化
合物およびジボランなどが挙げられるが、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムを用いることにより有利に行われ
る。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で
行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタ
ン、１,１,２,２−テトラクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシ
エタノールなどのアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドなどのアミド類、あるいはこれらの混合溶媒な
どが還元剤の種類により適宜選択して用いられる。反応
温度は−２０℃〜１５０〜、とくに０℃〜１００℃が好
適であり、反応時間は、約１〜２４時間程度である。つ
いで化合物（Ｘ）を酸化反応に付し、不飽和カルボニル
誘導体（II−１）を製造する。本酸化反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、二酸化マンガンに
よる酸化、クロム酸による酸化、ジメチルスルホキシド
による酸化等が用いられる。すなわち、この反応は化合
物(Ｘ）を酸化剤で処理することにより行われる。酸化
剤としては、二酸化マンガン、無水クロム酸等が用いら
れるが、二酸化マンガンを用いることにより有利に行わ
れる。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中
で行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエ
タン、１,１,２,２−テトラクロロエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類、ジメチルスルホキシ
ドあるいはこれらの混合溶媒などが酸化剤の種類により
適宜選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜１５０
〜、とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時間は、
約１〜２４時間程度である。ついで化合物（II−１）を
還元反応に付し、化合物（II−２）を製造する。本還元
反応はＣ法と同様に行なわれる。
【００２６】このようにして得られるアルデヒド誘導体
（II−１），（II−２）は公知の分離精製手段例えば濃
縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマ
トグラフィーなどにより単離精製することができる。Ｆ
法の原料化合物（VII）は、例えばケミカル ファーマ
シューチカル ビューレチン(Chemical ＆ Pharmaceuti
cal Bulletin)、３９巻、１４４０頁（１９９０年）、
公開特許公報 平４−２２５９７８号、公開特許公報
昭６１−８５３７２号、公開特許公報 昭６１−２７１
２８７号、公開特許公報 昭６３−１３９１８２号、公
開特許公報 平３−１７０４７８号、ＷＯ９１１９４９
６−Ａ１、ＥＰ−４２８３１２−Ａ、公開特許公報 平
１−２９９２８９号、公開特許公報昭６３−２３０６８
９号等に記載の方法に従って合成できる。ピリジンアル
デヒド誘導体（VII−１）は、例えばＧ法に従って製造
することができる。
（II−１），（II−２）は公知の分離精製手段例えば濃
縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマ
トグラフィーなどにより単離精製することができる。Ｆ
法の原料化合物（VII）は、例えばケミカル ファーマ
シューチカル ビューレチン(Chemical ＆ Pharmaceuti
cal Bulletin)、３９巻、１４４０頁（１９９０年）、
公開特許公報 平４−２２５９７８号、公開特許公報
昭６１−８５３７２号、公開特許公報 昭６１−２７１
２８７号、公開特許公報 昭６３−１３９１８２号、公
開特許公報 平３−１７０４７８号、ＷＯ９１１９４９
６−Ａ１、ＥＰ−４２８３１２−Ａ、公開特許公報 平
１−２９９２８９号、公開特許公報昭６３−２３０６８
９号等に記載の方法に従って合成できる。ピリジンアル
デヒド誘導体（VII−１）は、例えばＧ法に従って製造
することができる。
【００２７】Ｇ法
【化２５】 〔式中、Ｑ′はハロゲン原子を示し、他の記号は前記と
同意義を有する。〕 Ｑ′で表わされるハロゲン原子としては、例えば塩素、
臭素、ヨウ素が挙げられる。本法では、まず２−クロロ
−５−ニトロピリジンをアルコール誘導体（XI）と反応
させて化合物（XII）を製造する。２−クロロ−５−ニ
トロピリジンと化合物（XI）は、常法に従い塩基の存在
下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては例えばベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどの
エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン及びこれらの混合溶媒があげられる。該塩基としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属
塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン等のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これら塩基の使用量は化合物（XI）に対し１〜５モ
ル程度が好ましい。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、
好ましくは約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間
は、０．５〜３０時間である。
同意義を有する。〕 Ｑ′で表わされるハロゲン原子としては、例えば塩素、
臭素、ヨウ素が挙げられる。本法では、まず２−クロロ
−５−ニトロピリジンをアルコール誘導体（XI）と反応
させて化合物（XII）を製造する。２−クロロ−５−ニ
トロピリジンと化合物（XI）は、常法に従い塩基の存在
下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては例えばベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどの
エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン及びこれらの混合溶媒があげられる。該塩基としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属
塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン等のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げら
れ、これら塩基の使用量は化合物（XI）に対し１〜５モ
ル程度が好ましい。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、
好ましくは約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間
は、０．５〜３０時間である。
【００２８】ついで化合物（XII）を還元反応に付し、
アミン誘導体（XIII）を製造する。本還元反応は、自体
公知の方法で行うことができるが、金属触媒を用いる接
触還元により有利に行われる。本接触還元は、常法に従
い溶媒中、触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰囲気
中で行われる。該溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシエ
タノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテル、イソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、１，１，
２，２−テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
またはこれらの混合溶媒が挙げられる。触媒としては、
ニッケル化合物、などの金属、パラジウム、白金、ロジ
ウムなどの遷移金属触媒等を用いることにより有利に行
われる。反応温度は、０〜１００℃、好ましくは１０〜
８０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。ついで化
合物（XIII）を自体公知のサンドマイヤー反応に付し、
ハロゲン誘導体（XIV）を製造する。本反応では、まず
化合物（XIII）を溶媒中塩酸、臭化水素酸またはヨウ化
水素酸の存在下、亜硝酸ナトリウム（NaNO2）水溶液を
滴下することによりジアゾ化し、ついでハロゲン化ナト
リウムまたはハロゲン化カリウム水溶液と反応させ、化
合物（XIV）を製造する。該溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２
−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、２
−ブタノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエー
テル類あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温
度は、−５０℃〜１００℃、好ましくは−２０〜６０
℃、反応時間は０．５〜５０時間である。ついで化合物
（XIV）をブチルリチウム、sec.−ブチルリチウム、ter
t.−ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウ
ム、フェニルマグネシウムブロミド等で処理した後、
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）と反応させて
化合物（VII−１）を製造する。
アミン誘導体（XIII）を製造する。本還元反応は、自体
公知の方法で行うことができるが、金属触媒を用いる接
触還元により有利に行われる。本接触還元は、常法に従
い溶媒中、触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰囲気
中で行われる。該溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシエ
タノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテル、イソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、１，１，
２，２−テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
またはこれらの混合溶媒が挙げられる。触媒としては、
ニッケル化合物、などの金属、パラジウム、白金、ロジ
ウムなどの遷移金属触媒等を用いることにより有利に行
われる。反応温度は、０〜１００℃、好ましくは１０〜
８０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。ついで化
合物（XIII）を自体公知のサンドマイヤー反応に付し、
ハロゲン誘導体（XIV）を製造する。本反応では、まず
化合物（XIII）を溶媒中塩酸、臭化水素酸またはヨウ化
水素酸の存在下、亜硝酸ナトリウム（NaNO2）水溶液を
滴下することによりジアゾ化し、ついでハロゲン化ナト
リウムまたはハロゲン化カリウム水溶液と反応させ、化
合物（XIV）を製造する。該溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２
−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、２
−ブタノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエー
テル類あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温
度は、−５０℃〜１００℃、好ましくは−２０〜６０
℃、反応時間は０．５〜５０時間である。ついで化合物
（XIV）をブチルリチウム、sec.−ブチルリチウム、ter
t.−ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウ
ム、フェニルマグネシウムブロミド等で処理した後、
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）と反応させて
化合物（VII−１）を製造する。
【００２９】Ｆ法における中間化合物（IX）の一部は、
例えばＨ法によっても製造される。Ｈ法
例えばＨ法によっても製造される。Ｈ法
【化２６】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕 本反応は、適宜の溶媒中、塩基の存在下に行われる。該
溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンなどのエーテル類、メタノール、エタ
ノール、プロパノールなどのアルコール類、酢酸エチ
ル、アセトニトリル、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジク
ロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２
−テトラクロロエタン、アセトン、２−ブタノン及びこ
れらの混合溶媒があげられる。該塩基としては、たとえ
ばアルカリ金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（た
とえば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなど）、
アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえば炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ金属重
炭酸塩（重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなど）、ア
ルカリ金属酢酸塩（たとえば酢酸ナトリウム、酢酸カリ
ウム等）などの無機塩基、トリアルキルアミン（たとえ
ばトリメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピコリ
ン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、
１，５−ジアザビシクロ〔４,３,０〕ノン−５−エン、
１，４-ジアザビシクロ〔２，２，２〕ノン−５−エ
ン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウン
デセンなどの有機塩基が挙げられる。これら塩基の使用
量は化合物（XV）に対し１〜５モル程度が好ましい。本
反応は通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは約−１０℃
〜１００℃で行われる。
溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンなどのエーテル類、メタノール、エタ
ノール、プロパノールなどのアルコール類、酢酸エチ
ル、アセトニトリル、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジク
ロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２
−テトラクロロエタン、アセトン、２−ブタノン及びこ
れらの混合溶媒があげられる。該塩基としては、たとえ
ばアルカリ金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（た
とえば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなど）、
アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえば炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ金属重
炭酸塩（重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなど）、ア
ルカリ金属酢酸塩（たとえば酢酸ナトリウム、酢酸カリ
ウム等）などの無機塩基、トリアルキルアミン（たとえ
ばトリメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピコリ
ン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、
１，５−ジアザビシクロ〔４,３,０〕ノン−５−エン、
１，４-ジアザビシクロ〔２，２，２〕ノン−５−エ
ン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウン
デセンなどの有機塩基が挙げられる。これら塩基の使用
量は化合物（XV）に対し１〜５モル程度が好ましい。本
反応は通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは約−１０℃
〜１００℃で行われる。
【００３０】Ｈ法の原料化合物（XV）の合成法は、例え
ばケミカル アンド ファーマシューチカル ビュレチ
ン（Chemical ＆ Pharmaceutical Bulletin）、３０
巻、３５６３頁（１９８２年）；ケミカル アンド フ
ァーマシューチカル ビュレチン（Chemical ＆ Pharma
ceutical Bulletin）、３０巻、３５８０頁（１９８２
年）；ケミカル アンド ファーマシューチカル ビュ
レチン（Chemical ＆ Pharmaceutical Bulletin）、３
２巻、２２６７頁（１９８４年）；アルツナイミッテル
−フォルシュング／ドラッグ リサーチ（Arzneimittel
−Forschung／Drug Research）、４０巻、３７頁（１９
９０年）；ジャーナル オブ メディシナル ケミスト
リー（Journal of Medicinal Chemistry）、３５巻、２
６１７頁（１９９２年）、公開特許公報昭６１−２６７
５８０号、公開特許公報昭６１−２８６３７６号、公開
特許公報昭６１−８５３７２号、特許公報平２−３１０
７９号、公開特許公報昭６２−５９８１号等に記載され
ている。Ｂ法に用いられる化合物（III）は、例えばＩ
法に従って製造される。Ｉ法
ばケミカル アンド ファーマシューチカル ビュレチ
ン（Chemical ＆ Pharmaceutical Bulletin）、３０
巻、３５６３頁（１９８２年）；ケミカル アンド フ
ァーマシューチカル ビュレチン（Chemical ＆ Pharma
ceutical Bulletin）、３０巻、３５８０頁（１９８２
年）；ケミカル アンド ファーマシューチカル ビュ
レチン（Chemical ＆ Pharmaceutical Bulletin）、３
２巻、２２６７頁（１９８４年）；アルツナイミッテル
−フォルシュング／ドラッグ リサーチ（Arzneimittel
−Forschung／Drug Research）、４０巻、３７頁（１９
９０年）；ジャーナル オブ メディシナル ケミスト
リー（Journal of Medicinal Chemistry）、３５巻、２
６１７頁（１９９２年）、公開特許公報昭６１−２６７
５８０号、公開特許公報昭６１−２８６３７６号、公開
特許公報昭６１−８５３７２号、特許公報平２−３１０
７９号、公開特許公報昭６２−５９８１号等に記載され
ている。Ｂ法に用いられる化合物（III）は、例えばＩ
法に従って製造される。Ｉ法
【化２７】 〔式中、Ａ2は結合手または炭素数１〜５の２価の脂肪
族炭化水素残基を、Ａ3は結合手または炭素数１〜５の
２価の飽和脂肪族炭化水素残基を示し、その他の記号は
前記と同意義を有する。〕 Ａ2で示される炭素数１〜５の２価の脂肪族炭化水素残
基はＡで示される２価の脂肪族炭化水素残基のうち炭素
数１〜５のものをいう。Ａ3で示される２価の飽和脂肪
族炭化水素残基はＡ2で示されるもののうち飽和のもの
をいう。
族炭化水素残基を、Ａ3は結合手または炭素数１〜５の
２価の飽和脂肪族炭化水素残基を示し、その他の記号は
前記と同意義を有する。〕 Ａ2で示される炭素数１〜５の２価の脂肪族炭化水素残
基はＡで示される２価の脂肪族炭化水素残基のうち炭素
数１〜５のものをいう。Ａ3で示される２価の飽和脂肪
族炭化水素残基はＡ2で示されるもののうち飽和のもの
をいう。
【００３１】本法では、まず化合物（II−３）とピルビ
ン酸を縮合して化合物（XVI）を製造する。化合物（II
−３）とピルビン酸を縮合反応は、Ａ法における化合物
（II）と２，４−オキサゾリジンジオンの反応と同様の
塩基の存在下、含水アルコール中で行われる。ついで化
合物（XVI）をエステル化反応に付し、化合物（XVII）
を製造する。本エステル化反応はそれ自体公知の方法で
行うことができ、例えば化合物（XVII）とアルコール
（Ｒ4ＯＨ）を酸の存在下に直接反応させてエステル化
する方法あるいは化合物（XVI）の反応性誘導体、例え
ば酸無水物、酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド）、
イミダゾリドあるいは混合酸無水物（例、炭酸ジメチル
との無水物、炭酸ジエチルとの無水物、炭酸ジイソブチ
ルとの無水物など）などをアルコール（Ｒ4ＯＨ）と適
宜反応させる方法などが用いられる。ついで化合物（XV
II）を接触還元反応に付し、化合物（XVIII）を製造す
る。本接触還元反応はＣ法と同様に行われる。ついで化
合物（XVIII）を還元反応に付し、化合物（III−１）を
製造する。本還元反応はそれ自体公知の方法で行うこと
ができる。例えば、金属水素化物による還元、金属水素
錯化合物による還元、ジボランおよび置換ボランによる
還元、接触水素添加等が用いられる。すなわち、この反
応は化合物（XVIII）を還元剤で処理することにより行
われる。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属
（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
等）、水素化リチウムアルミニウムなどの金属水素錯化
合物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、有機スズ
化合物（水素化トリフェニルスズ等）、ニッケル化合
物、亜鉛化合物などの金属および金属塩、パラジウム、
白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素とを用いる接
触還元剤およびジボランなどが挙げられるが、なかでも
水素化ホウ素アルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム等）を用いることにより有利
に行われる。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機
溶媒中で行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、などのエーテル類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２
−メトキシエタノールなどのアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド類、あるいはこれらの
混合溶媒などが還元剤の種類により適宜選択して用いら
れる。反応温度は−２０℃〜１５０℃，とくに０℃〜１
００℃が好適であり、反応時間は、約１〜２４時間程度
である。
ン酸を縮合して化合物（XVI）を製造する。化合物（II
−３）とピルビン酸を縮合反応は、Ａ法における化合物
（II）と２，４−オキサゾリジンジオンの反応と同様の
塩基の存在下、含水アルコール中で行われる。ついで化
合物（XVI）をエステル化反応に付し、化合物（XVII）
を製造する。本エステル化反応はそれ自体公知の方法で
行うことができ、例えば化合物（XVII）とアルコール
（Ｒ4ＯＨ）を酸の存在下に直接反応させてエステル化
する方法あるいは化合物（XVI）の反応性誘導体、例え
ば酸無水物、酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド）、
イミダゾリドあるいは混合酸無水物（例、炭酸ジメチル
との無水物、炭酸ジエチルとの無水物、炭酸ジイソブチ
ルとの無水物など）などをアルコール（Ｒ4ＯＨ）と適
宜反応させる方法などが用いられる。ついで化合物（XV
II）を接触還元反応に付し、化合物（XVIII）を製造す
る。本接触還元反応はＣ法と同様に行われる。ついで化
合物（XVIII）を還元反応に付し、化合物（III−１）を
製造する。本還元反応はそれ自体公知の方法で行うこと
ができる。例えば、金属水素化物による還元、金属水素
錯化合物による還元、ジボランおよび置換ボランによる
還元、接触水素添加等が用いられる。すなわち、この反
応は化合物（XVIII）を還元剤で処理することにより行
われる。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属
（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
等）、水素化リチウムアルミニウムなどの金属水素錯化
合物、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、有機スズ
化合物（水素化トリフェニルスズ等）、ニッケル化合
物、亜鉛化合物などの金属および金属塩、パラジウム、
白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素とを用いる接
触還元剤およびジボランなどが挙げられるが、なかでも
水素化ホウ素アルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム等）を用いることにより有利
に行われる。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機
溶媒中で行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、などのエーテル類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２
−メトキシエタノールなどのアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド類、あるいはこれらの
混合溶媒などが還元剤の種類により適宜選択して用いら
れる。反応温度は−２０℃〜１５０℃，とくに０℃〜１
００℃が好適であり、反応時間は、約１〜２４時間程度
である。
【００３２】Ｄ法の原料化合物（IV）およびＡ法の原料
化合物（II）は、例えばＪ法によっても製造される。Ｊ法
化合物（II）は、例えばＪ法によっても製造される。Ｊ法
【化２８】 本法では、まず化合物（VII）と化合物（XIX）とを縮合
して化合物（IV−１）を製造する。本縮合反応は、Ｆ法
における化合物（VII）と化合物（VIII）の反応と同様
にして行われる。ついで化合物（IV−１）を還元反応に
付し、（IV−２）とする。本還元反応は、Ｃ法における
化合物（Ｉ−Ｂ１）の接触還元反応と同様にして行われ
る。化合物（IV−２）は、さらに含水溶媒中、酸で処理
することにより脱保護基を行い、アルデヒド誘導体（II
−４）に導くことができる。該溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール等のアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニ
トリル、アセトン、２−ブタノン、酢酸等と水との混合
溶媒が挙げられる。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭
化水素酸等の無機酸の他、ｐ−トルエンスルホン酸等が
挙げられる。化合物（II）および（IV）の一部は、例え
ばＫ法によっても製造される。
して化合物（IV−１）を製造する。本縮合反応は、Ｆ法
における化合物（VII）と化合物（VIII）の反応と同様
にして行われる。ついで化合物（IV−１）を還元反応に
付し、（IV−２）とする。本還元反応は、Ｃ法における
化合物（Ｉ−Ｂ１）の接触還元反応と同様にして行われ
る。化合物（IV−２）は、さらに含水溶媒中、酸で処理
することにより脱保護基を行い、アルデヒド誘導体（II
−４）に導くことができる。該溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール等のアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニ
トリル、アセトン、２−ブタノン、酢酸等と水との混合
溶媒が挙げられる。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭
化水素酸等の無機酸の他、ｐ−トルエンスルホン酸等が
挙げられる。化合物（II）および（IV）の一部は、例え
ばＫ法によっても製造される。
【００３３】Ｋ法
【化２９】 本反応は、Ｅ法と同様にして行なわれる。Ｅ法で製造し
た化合物のうち一部は、さらに還元することにより、化
合物（Ｉ−Ｂ２ａ２）を製造することができる。Ｌ法
た化合物のうち一部は、さらに還元することにより、化
合物（Ｉ−Ｂ２ａ２）を製造することができる。Ｌ法
【化３０】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕 本法では、Ｅ法で製造した化合物（Ｉ−Ｂ２ａ１）を還
元して化合物（Ｉ−Ｂ２ａ２）を製造する。本反応は、
Ｉ法の（XVIII）から（III−１）への還元反応と同様に
して行なわれる。化合物（II−２），（II−４）は、Ｍ
法を用いることによっても製造される。Ｍ法
元して化合物（Ｉ−Ｂ２ａ２）を製造する。本反応は、
Ｉ法の（XVIII）から（III−１）への還元反応と同様に
して行なわれる。化合物（II−２），（II−４）は、Ｍ
法を用いることによっても製造される。Ｍ法
【化３１】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕 たとえば、化合物（IX）の接触還元反応によって製造さ
れる化合物（XXII）は、Ｆ法の（IX）から（Ｘ）への反
応と同様にして化合物（XXIII）を製造する。ついで化
合物（XXIII）を酸化反応に付すことにより、化合物（I
I−２），（II−４）を製造する。
れる化合物（XXII）は、Ｆ法の（IX）から（Ｘ）への反
応と同様にして化合物（XXIII）を製造する。ついで化
合物（XXIII）を酸化反応に付すことにより、化合物（I
I−２），（II−４）を製造する。
【００３４】（XXIII）から（II−２），（II−４）へ
の酸化反応は、自体公知の酸化反応に従って行われる。
例えば、酸化クロム−硫酸−ピリジンからなるジョーン
ズ（Jones）酸化、酸化クロム−ピリジン錯体を用いる
コリンズ（Collins）酸化、クロロクロム酸ピリジニウ
ム（ＰＣＣ）による酸化、二クロム酸ピリジニウム（Ｐ
ＤＣ）による酸化等のクロム酸酸化、活性化ＤＭＳＯに
よる酸化、オキソアンモニウム塩による酸化等が用いら
れる。光学活性体の場合は活性化ジメチルスルホキシド
（ＤＭＳＯ）酸化により有利に行われる。活性化ＤＭＳ
Ｏ酸化は、ＤＭＳＯと親電子試薬の共存下溶媒中で行わ
れる。該溶媒としては、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、クロ
ロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、
ピリジン、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、親電子
試薬の種類により適宜選択されて使用される。活性化Ｄ
ＭＳＯ酸化には、用いられる親電子試薬により、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）法、無水酢酸法、
五酸化リン法、塩素法、三酸化硫黄−ピリジン法、ケテ
ンイミン−エナミン法、酢酸水銀（II）法等と呼ばれる
ものが存在する。本酸化反応は、三酸化硫黄−ピリジン
法により有利に行われる。すなわちトリエチルアミンの
存在下、三酸化硫黄−ピリジン錯体をＤＭＳＯの活性化
試薬として用いる酸化反応である。本反応は、ジメチル
スルホキシドを溶媒として用いても行われる。トリエチ
ルアミンおよび三酸化硫黄−ピリジン錯体の使用量は、
化合物（XXIII）に対し１〜１０モル等量、好ましくは
２〜５モル等量であり、−７０℃〜８０℃、好ましくは
−２０℃〜４０℃で行われる。反応時間は、０．５〜１
０時間である。
の酸化反応は、自体公知の酸化反応に従って行われる。
例えば、酸化クロム−硫酸−ピリジンからなるジョーン
ズ（Jones）酸化、酸化クロム−ピリジン錯体を用いる
コリンズ（Collins）酸化、クロロクロム酸ピリジニウ
ム（ＰＣＣ）による酸化、二クロム酸ピリジニウム（Ｐ
ＤＣ）による酸化等のクロム酸酸化、活性化ＤＭＳＯに
よる酸化、オキソアンモニウム塩による酸化等が用いら
れる。光学活性体の場合は活性化ジメチルスルホキシド
（ＤＭＳＯ）酸化により有利に行われる。活性化ＤＭＳ
Ｏ酸化は、ＤＭＳＯと親電子試薬の共存下溶媒中で行わ
れる。該溶媒としては、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、クロ
ロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、
ピリジン、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、親電子
試薬の種類により適宜選択されて使用される。活性化Ｄ
ＭＳＯ酸化には、用いられる親電子試薬により、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）法、無水酢酸法、
五酸化リン法、塩素法、三酸化硫黄−ピリジン法、ケテ
ンイミン−エナミン法、酢酸水銀（II）法等と呼ばれる
ものが存在する。本酸化反応は、三酸化硫黄−ピリジン
法により有利に行われる。すなわちトリエチルアミンの
存在下、三酸化硫黄−ピリジン錯体をＤＭＳＯの活性化
試薬として用いる酸化反応である。本反応は、ジメチル
スルホキシドを溶媒として用いても行われる。トリエチ
ルアミンおよび三酸化硫黄−ピリジン錯体の使用量は、
化合物（XXIII）に対し１〜１０モル等量、好ましくは
２〜５モル等量であり、−７０℃〜８０℃、好ましくは
−２０℃〜４０℃で行われる。反応時間は、０．５〜１
０時間である。
【００３５】このようにして得られるアルデヒド誘導体
（II−２），（II−４）は公知の分離精製手段例えば濃
縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。なお、化
合物（II−２），（II−４）は、常法によりアルデヒド
基を、アセタール化、ジチオアセタール化等を行って、
化合物（IV−２）を製造し、化合物（Ｉ）の製造に用い
ることもできる。化合物（XXII）のうち、ベンゾオキサ
ゾール誘導体（XXII−１）は、例えばＮ法にしたがって
製造することができる。Ｎ法
（II−２），（II−４）は公知の分離精製手段例えば濃
縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。なお、化
合物（II−２），（II−４）は、常法によりアルデヒド
基を、アセタール化、ジチオアセタール化等を行って、
化合物（IV−２）を製造し、化合物（Ｉ）の製造に用い
ることもできる。化合物（XXII）のうち、ベンゾオキサ
ゾール誘導体（XXII−１）は、例えばＮ法にしたがって
製造することができる。Ｎ法
【化３２】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕 本反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われ
る。該溶媒としては、例えばキシレン、トルエン，ベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン，ジオ
キサン等のエーテル類、ジクロロベンゼン，クロロベン
ゼン，メチレンクロリド等のハロゲン化炭化水素類など
が挙げられる。これらの溶媒は１種または２種以上適当
な割合で混合して用いてもよい。本反応は、通常化合物
（XXIV）および（XXV）と上記溶媒との混合液を加熱す
ることにより行われる。加熱温度は通常約３０〜２００
℃、好ましくは約５０〜約１８０℃である。
る。該溶媒としては、例えばキシレン、トルエン，ベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン，ジオ
キサン等のエーテル類、ジクロロベンゼン，クロロベン
ゼン，メチレンクロリド等のハロゲン化炭化水素類など
が挙げられる。これらの溶媒は１種または２種以上適当
な割合で混合して用いてもよい。本反応は、通常化合物
（XXIV）および（XXV）と上記溶媒との混合液を加熱す
ることにより行われる。加熱温度は通常約３０〜２００
℃、好ましくは約５０〜約１８０℃である。
【００３６】本反応は、脱水剤の存在下におこなっても
よい。脱水剤としては、例えば五酸化リン，オキシ塩化
リンなどの脱水作用を有するリン化合物が用いられる。
脱水剤の使用量は、化合物（XXIV）に対し約１〜約１０
モル当量、好ましくは約１〜約４モル当量である。オキ
シ塩化リンを用いる場合、大過剰量のオキシ塩化リンを
溶媒として用いることもできる。五酸化リンを用いる場
合、ヘキサメチルジシロキサン｛〔(ＣＨ3)3Ｓｉ〕
2Ｏ｝などを添加することにより、本反応はさらに有利
に行われる。この際、ヘキサメチルジシロキサンは、五
酸化リンに対し約２〜約４モル当量用いるのが好まし
い。反応時間は、約１〜約３０時間、好ましくは約１〜
約１０時間である。
よい。脱水剤としては、例えば五酸化リン，オキシ塩化
リンなどの脱水作用を有するリン化合物が用いられる。
脱水剤の使用量は、化合物（XXIV）に対し約１〜約１０
モル当量、好ましくは約１〜約４モル当量である。オキ
シ塩化リンを用いる場合、大過剰量のオキシ塩化リンを
溶媒として用いることもできる。五酸化リンを用いる場
合、ヘキサメチルジシロキサン｛〔(ＣＨ3)3Ｓｉ〕
2Ｏ｝などを添加することにより、本反応はさらに有利
に行われる。この際、ヘキサメチルジシロキサンは、五
酸化リンに対し約２〜約４モル当量用いるのが好まし
い。反応時間は、約１〜約３０時間、好ましくは約１〜
約１０時間である。
【００３７】
【発明の効果】本発明にかかる化合物（Ｉ）はすぐれた
血糖および血中脂質低下作用を有する。 実験例 マウスにおける血糖および脂質低下作用 被検化合物を粉末飼料（ＣＥ−２，日本クレア）に０．
００５％混合し、ＫＫＡy−マウス(９〜１４週令）に自
由に４日間与えた。この間、水は自由に与えた。血液を
眼窩静脈そうから採取し、血漿を用いてグルコースとト
リグリセライドを酵素法によりそれぞれイアトロケム−
ＧＬＵ（Ａ）およびイアトロ−ＭＡ７０１ ＴＧ キット
（ヤトロン社）を用いて定量した。それぞれの薬物投与
群の値は、薬物非投与群に対する低下率（％）で表し、
〔表１〕に示した。
血糖および血中脂質低下作用を有する。 実験例 マウスにおける血糖および脂質低下作用 被検化合物を粉末飼料（ＣＥ−２，日本クレア）に０．
００５％混合し、ＫＫＡy−マウス(９〜１４週令）に自
由に４日間与えた。この間、水は自由に与えた。血液を
眼窩静脈そうから採取し、血漿を用いてグルコースとト
リグリセライドを酵素法によりそれぞれイアトロケム−
ＧＬＵ（Ａ）およびイアトロ−ＭＡ７０１ ＴＧ キット
（ヤトロン社）を用いて定量した。それぞれの薬物投与
群の値は、薬物非投与群に対する低下率（％）で表し、
〔表１〕に示した。
【表１】 化合物 血糖低下作用 脂質低下作用 （実施例番号） （％） （％） １８ ４９ ４１ １９ ５０ ３６ ２３ ３９ ３３ ２４ ５６ ５３ ２６ ４２ ３２ ２７ ５３ １５ ２９ ６１ ８３ ３０ ５７ ７０ ３２ ６３ ６０ ３３ ４５ ５９ ３４ ４３ ５１ ３５ ４２ ３２ ３６ ５６ ４８ ４３ ５８ ７５ ５２ ５４ ８２ ５６ ３２ ２４ ６０ ５４ ７７ このように本発明に係る２，４−オキサゾリジンジオン
誘導体（Ｉ）は優れた血糖および血中脂質低下作用を有
し、糖尿病治療剤、高脂血症治療剤、高血圧治療剤など
医薬品として有用である。
誘導体（Ｉ）は優れた血糖および血中脂質低下作用を有
し、糖尿病治療剤、高脂血症治療剤、高血圧治療剤など
医薬品として有用である。
【００３８】
【実施例】実施例１ （Ｅ）−４−〔２−〔５−メチル−２−（３−メチルフ
ェニル）−４−オキサゾリル〕エトキシ〕シンナムアル
デヒド（１．２０ｇ）、２，４−オキサゾリジンジオン
（０．５２５ｇ）、ピペリジン（０．０９ｇ）およびエ
タノール（２０ｍｌ）の混合物を還流下に５時間加熱し
た。反応混合物は、水に注ぎ２Ｎ塩酸で酸性化後、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後、濃縮した。残留物をシリカゲル カラムクロ
マトグラフィ−で精製した。クロロホルム−メタノール
（５０：１）で溶出する部分より、５−〔４−〔２−
〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オキ
サゾリル〕エトキシ〕シンナミリデン〕−２，４−オキ
サゾリジンジオン（０．５１，３４％）を得た。ジクロ
ロメタン−メタノールから再結晶した。淡黄色プリズム
晶。融点 ２１３〜２１４℃。
ェニル）−４−オキサゾリル〕エトキシ〕シンナムアル
デヒド（１．２０ｇ）、２，４−オキサゾリジンジオン
（０．５２５ｇ）、ピペリジン（０．０９ｇ）およびエ
タノール（２０ｍｌ）の混合物を還流下に５時間加熱し
た。反応混合物は、水に注ぎ２Ｎ塩酸で酸性化後、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後、濃縮した。残留物をシリカゲル カラムクロ
マトグラフィ−で精製した。クロロホルム−メタノール
（５０：１）で溶出する部分より、５−〔４−〔２−
〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オキ
サゾリル〕エトキシ〕シンナミリデン〕−２，４−オキ
サゾリジンジオン（０．５１，３４％）を得た。ジクロ
ロメタン−メタノールから再結晶した。淡黄色プリズム
晶。融点 ２１３〜２１４℃。
【００３９】実施例２〜実施例７ 実施例１と同様にして、〔表２〕の化合物を得た。
【表２】
【００４０】実施例８ 実施例１と同様にして、５−〔３−〔２−〔２−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕
−５−ピリジル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オ
キサゾリジンジオンを得た。エタノール−クロロホルム
−イソプロピルエーテルから再結晶した。淡黄色結晶。
融点 ２０４〜２０５℃。 実施例９ ２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−
１，３−ジオキサン（２．０ｇ）、２，４−オキサゾリ
ジンジオン（０．９９ｇ）、ピペリジン（０．２１ｇ）
および酢酸（５０ml）の混合物を還流下に２４時間加熱
した。反応混合物は、減圧下に濃縮し残留物に酢酸エチ
ルを加えた。酢酸エチル層は、炭酸水素ナトリウム水溶
液、２Ｎ塩酸、水の順に洗浄し、乾燥（ＭgＳＯ4）し
た。濃縮後残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフ
ィーで精製した。クロロホルム−酢酸エチル（５：１）
で溶出する部分より、５−〔４−〔４−〔２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フ
ェニル〕ブチリデン〕−２，４−オキサゾリジンジオン
（０．５５ｇ，２６％）を得た。エチルエーテル−メタ
ノールから再結晶した。無色針状晶。融点 １５２〜１
５３℃。
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕
−５−ピリジル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オ
キサゾリジンジオンを得た。エタノール−クロロホルム
−イソプロピルエーテルから再結晶した。淡黄色結晶。
融点 ２０４〜２０５℃。 実施例９ ２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−
１，３−ジオキサン（２．０ｇ）、２，４−オキサゾリ
ジンジオン（０．９９ｇ）、ピペリジン（０．２１ｇ）
および酢酸（５０ml）の混合物を還流下に２４時間加熱
した。反応混合物は、減圧下に濃縮し残留物に酢酸エチ
ルを加えた。酢酸エチル層は、炭酸水素ナトリウム水溶
液、２Ｎ塩酸、水の順に洗浄し、乾燥（ＭgＳＯ4）し
た。濃縮後残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフ
ィーで精製した。クロロホルム−酢酸エチル（５：１）
で溶出する部分より、５−〔４−〔４−〔２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フ
ェニル〕ブチリデン〕−２，４−オキサゾリジンジオン
（０．５５ｇ，２６％）を得た。エチルエーテル−メタ
ノールから再結晶した。無色針状晶。融点 １５２〜１
５３℃。
【００４１】実施例１０〜実施例１３ 実施例１と同様にして〔表３〕の化合物を得た。
【表３】
【００４２】実施例１４ 実施例１と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン
−５−イル〕アクロレインと２，４−オキサゾリジンジ
オンとの反応により５−〔３−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン−
５−イル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オキサゾ
リジンジオンを得た。収率４４％。ジクロロメタン−メ
タノールから再結晶した。淡黄色針状晶。融点 ２３７
−２３９℃。 実施例１５ 実施例１と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキ
シ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエン−１−アールと
２，４−オキサゾリジンジオンとの反応により５−〔５
−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエ
ニリデン〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。収
率３１％。ジクロロメタン−メタノールから再結晶し
た。黄色針状晶。 融点 ２０９−２１１℃。
２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン
−５−イル〕アクロレインと２，４−オキサゾリジンジ
オンとの反応により５−〔３−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン−
５−イル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オキサゾ
リジンジオンを得た。収率４４％。ジクロロメタン−メ
タノールから再結晶した。淡黄色針状晶。融点 ２３７
−２３９℃。 実施例１５ 実施例１と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキ
シ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエン−１−アールと
２，４−オキサゾリジンジオンとの反応により５−〔５
−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエ
ニリデン〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。収
率３１％。ジクロロメタン−メタノールから再結晶し
た。黄色針状晶。 融点 ２０９−２１１℃。
【００４３】実施例１６ ５−〔４−〔２−〔５−メチル−２−（３−メチルフェ
ニル）−４−オキサゾリル〕エトキシ〕シンナミリデ
ン〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．２９ｇ）、
パラジウム−炭素（１０％，０．１ｇ）およびジオキサ
ン（５０ｍｌ）の混合物を、１気圧、室温で接触還元に
付した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留
物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−で精製し
た。クロロホルム−メタノ−ル（１００：３）で溶出す
る部分より５−〔３−〔４−〔２−〔５−メチル−２−
（３−メチルフェニル）−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジ
オン（０．２８ｇ，９６％）を得た。ジクロロメタン−
メタノ−ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
４９〜１５０℃。 元素分析値 C25H26N2Ｏ5 として 計算値：Ｃ，６９．１１； Ｈ，６．０３； Ｎ，６．４５ 実験値：Ｃ，６９．１８； Ｈ，６．０１； Ｎ，６．４６
ニル）−４−オキサゾリル〕エトキシ〕シンナミリデ
ン〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．２９ｇ）、
パラジウム−炭素（１０％，０．１ｇ）およびジオキサ
ン（５０ｍｌ）の混合物を、１気圧、室温で接触還元に
付した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留
物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−で精製し
た。クロロホルム−メタノ−ル（１００：３）で溶出す
る部分より５−〔３−〔４−〔２−〔５−メチル−２−
（３−メチルフェニル）−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジ
オン（０．２８ｇ，９６％）を得た。ジクロロメタン−
メタノ−ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
４９〜１５０℃。 元素分析値 C25H26N2Ｏ5 として 計算値：Ｃ，６９．１１； Ｈ，６．０３； Ｎ，６．４５ 実験値：Ｃ，６９．１８； Ｈ，６．０１； Ｎ，６．４６
【００４４】実施例１７〜実施例２２ 実施例１６と同様にして、〔表４〕の化合物を得た。
【表４】
【００４５】実施例２３ 実施例１６と同様に、５−〔３−〔２−〔２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−
５−ピリジル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オキ
サゾリジンジオンを接触還元反応に付し、５−〔３−
〔２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕プロピル〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを得た。クロロホルム−メタ
ノ−ル−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色結
晶。融点 １６９〜１７１℃。 元素分析値 C23H23N3Ｏ5・１／２Ｈ2Ｏ として 計算値：Ｃ，６４．１８； Ｈ，５．６２； Ｎ，９．７６ 実験値：Ｃ，６４．３１； Ｈ，５．７０； Ｎ，９．４８ 実施例２４ ２−ヒドロキシ−４−〔４−〔２−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕酪
酸 エチルエステル（０．４５ｇ）、粉末シアン酸カリ
ウム（０．２４ｇ）およびブタノ−ル（２０ｍｌ）の混
合物を４日間還流下に加熱した。減圧下に溶媒を留去
し、残留物を２Ｎ塩酸で酸性化して酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層は水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、濃縮
した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−
で精製した。クロロホルム−メタノ−ル（１００：３）
で溶出する部分より５−〔２−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕エチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．
２８ｇ，６３％）を得た。ジクロロメタン−エタノ−ル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １９３〜１９
４℃。 元素分析値 C23H22N2Ｏ5 として 計算値：Ｃ，６７．９７； Ｈ，５．４６； Ｎ，６．８９ 実験値：Ｃ，６７．９２； Ｈ，５．６１； Ｎ，６．６４ 実施例２５ ５−〔４−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕ブチリデン〕
−２，４−オキサゾリジンジオン（０．３８ｇ）、パラ
ジウム−炭素（１０％，０．２ｇ）およびテトラヒドロ
フラン（４０ml）の混合物を、３気圧、室温で接触還元
に付した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残
留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製し
た。クロロホルム−メタノール（１００：３）で溶出す
る部分より、５−〔４−〔４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕
ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．２５
ｇ，６５％）を得た。ジクロロメタン−メタノールから
再結晶した。無色プリズム晶。融点１３６−１３７℃。
チル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−
５−ピリジル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オキ
サゾリジンジオンを接触還元反応に付し、５−〔３−
〔２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕プロピル〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを得た。クロロホルム−メタ
ノ−ル−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色結
晶。融点 １６９〜１７１℃。 元素分析値 C23H23N3Ｏ5・１／２Ｈ2Ｏ として 計算値：Ｃ，６４．１８； Ｈ，５．６２； Ｎ，９．７６ 実験値：Ｃ，６４．３１； Ｈ，５．７０； Ｎ，９．４８ 実施例２４ ２−ヒドロキシ−４−〔４−〔２−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕酪
酸 エチルエステル（０．４５ｇ）、粉末シアン酸カリ
ウム（０．２４ｇ）およびブタノ−ル（２０ｍｌ）の混
合物を４日間還流下に加熱した。減圧下に溶媒を留去
し、残留物を２Ｎ塩酸で酸性化して酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層は水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、濃縮
した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−
で精製した。クロロホルム−メタノ−ル（１００：３）
で溶出する部分より５−〔２−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕エチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．
２８ｇ，６３％）を得た。ジクロロメタン−エタノ−ル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １９３〜１９
４℃。 元素分析値 C23H22N2Ｏ5 として 計算値：Ｃ，６７．９７； Ｈ，５．４６； Ｎ，６．８９ 実験値：Ｃ，６７．９２； Ｈ，５．６１； Ｎ，６．６４ 実施例２５ ５−〔４−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕ブチリデン〕
−２，４−オキサゾリジンジオン（０．３８ｇ）、パラ
ジウム−炭素（１０％，０．２ｇ）およびテトラヒドロ
フラン（４０ml）の混合物を、３気圧、室温で接触還元
に付した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残
留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製し
た。クロロホルム−メタノール（１００：３）で溶出す
る部分より、５−〔４−〔４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕
ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．２５
ｇ，６５％）を得た。ジクロロメタン−メタノールから
再結晶した。無色プリズム晶。融点１３６−１３７℃。
【００４６】実施例２６〜実施例２９ 実施例１６と同様にして〔表５〕の化合物を得た。
【表５】
【００４７】実施例３０ 実施例１６と同様にして、５−〔３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフ
ラン−５−イル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジン
ジオンを得た。収率８０％ ジクロロメタン−メタノー
ルから再結晶した。無色針状晶。融点 １８４−１８５
℃。 実施例３１ 実施例１６と同様にして、５−〔５−〔４−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキ
シ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエニリデン〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを接触還元反応に付し、５−
〔５−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕ペンチル〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを得た。収率７７％。ジクロ
ロメタン−メタノールから再結晶した。無色針状晶。融
点 １５７−１５８℃。 実施例３２ 実施例２４と同様にして５−〔２−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕エチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。
収率３５％。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １５８−１５９℃。 実施例３３ ５−〔５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチル〕−
２，４−オキサゾリジンジオン（０．９ｇ）のＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（４０ｍｌ）溶液に油
性水素化ナトリウム（６０％，０．２８ｇ）を加え室温
で１５分間かきまぜた。ついで４−クロロメチル−５−
メチル−２−フェニルオキサゾール(０.８５ｇ）を加
え、７０℃で２時間かきまぜた。反応混合物を水に注い
で２ＮＨＣｌで酸性化後、酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶媒を留去し
た。残留油状物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−クロロホルム（１：５，ｖ／ｖ）
で溶出する部分より５−〔５−〔４−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ペ
ンチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．８６
ｇ，５８％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色プリズム晶。 融点 １２０−１２１℃。
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフ
ラン−５−イル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジン
ジオンを得た。収率８０％ ジクロロメタン−メタノー
ルから再結晶した。無色針状晶。融点 １８４−１８５
℃。 実施例３１ 実施例１６と同様にして、５−〔５−〔４−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキ
シ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエニリデン〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを接触還元反応に付し、５−
〔５−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕ペンチル〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを得た。収率７７％。ジクロ
ロメタン−メタノールから再結晶した。無色針状晶。融
点 １５７−１５８℃。 実施例３２ 実施例２４と同様にして５−〔２−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕エチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。
収率３５％。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １５８−１５９℃。 実施例３３ ５−〔５−（４−ヒドロキシフェニル）ペンチル〕−
２，４−オキサゾリジンジオン（０．９ｇ）のＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（４０ｍｌ）溶液に油
性水素化ナトリウム（６０％，０．２８ｇ）を加え室温
で１５分間かきまぜた。ついで４−クロロメチル−５−
メチル−２−フェニルオキサゾール(０.８５ｇ）を加
え、７０℃で２時間かきまぜた。反応混合物を水に注い
で２ＮＨＣｌで酸性化後、酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶媒を留去し
た。残留油状物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−クロロホルム（１：５，ｖ／ｖ）
で溶出する部分より５−〔５−〔４−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ペ
ンチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．８６
ｇ，５８％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色プリズム晶。 融点 １２０−１２１℃。
【００４８】実施例３４ 実施例３３と同様にして５−〔４−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。
収率３２％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １８６−１８７
℃。 実施例３５ ４−〔４−〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イル）
エチル〕フエノキシアセチル〕−５−メチル−２−フェ
ニルオキサゾール（１．８ｇ）、２，４−オキサゾリジ
ンジオン（０．９２５ｇ）、ピペリジン（０．１２ｇ）
および酢酸（３０ｍｌ）の混合物を還流下に１５時間加
熱した。反応混合物は減圧下に濃縮し、残留物に飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し
た。クロロホルム層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶
媒を留去した。残留油状物はシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、メタノール−クロロホルム（１：３
０，ｖ／ｖ）で溶出する部分より５−〔３−〔４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）−
２−オキソエトキシ〕フェニル〕プロピリデン〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを得た。この５−〔３−〔４
−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ル）−２−オキソエトキシ〕フェニル〕プロピリデン〕
−２，４−オキサゾリジンジオンをテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）（３０ｍｌ）に溶かし、パラジウム−炭素
（５％，０．３ｇ）を加え、接触還元反応に付した。触
媒を濾別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留油状物はシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル
−ヘキサン（１：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分より５−
〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリル）−２−オキソエトキシ〕フェニル〕プロ
ピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．３２ｇ，
１６％）を油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）:1.7-2.1(4H,m), 2.63(2H,
t,J=7Hz), 2.74(3H,s), 4.84(1H,dd,J=7&4.5Hz), 5.37
(2H,s), 6.92(2H,d,J=9Hz), 7.09(2H,d,J=9Hz), 7.45-
7.55(3H,m), 7.95-8.1(3H,m).
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。
収率３２％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １８６−１８７
℃。 実施例３５ ４−〔４−〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イル）
エチル〕フエノキシアセチル〕−５−メチル−２−フェ
ニルオキサゾール（１．８ｇ）、２，４−オキサゾリジ
ンジオン（０．９２５ｇ）、ピペリジン（０．１２ｇ）
および酢酸（３０ｍｌ）の混合物を還流下に１５時間加
熱した。反応混合物は減圧下に濃縮し、残留物に飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し
た。クロロホルム層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶
媒を留去した。残留油状物はシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、メタノール−クロロホルム（１：３
０，ｖ／ｖ）で溶出する部分より５−〔３−〔４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）−
２−オキソエトキシ〕フェニル〕プロピリデン〕−２，
４−オキサゾリジンジオンを得た。この５−〔３−〔４
−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ル）−２−オキソエトキシ〕フェニル〕プロピリデン〕
−２，４−オキサゾリジンジオンをテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）（３０ｍｌ）に溶かし、パラジウム−炭素
（５％，０．３ｇ）を加え、接触還元反応に付した。触
媒を濾別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留油状物はシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル
−ヘキサン（１：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分より５−
〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリル）−２−オキソエトキシ〕フェニル〕プロ
ピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．３２ｇ，
１６％）を油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）:1.7-2.1(4H,m), 2.63(2H,
t,J=7Hz), 2.74(3H,s), 4.84(1H,dd,J=7&4.5Hz), 5.37
(2H,s), 6.92(2H,d,J=9Hz), 7.09(2H,d,J=9Hz), 7.45-
7.55(3H,m), 7.95-8.1(3H,m).
【００４９】実施例３６ ５−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）−２−オキソエトキシ〕フェニル〕
プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．２
ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（５ｍｌ）−エタ
ノール（５ｍｌ）溶液に水素化ホウ素ナトリウム（０．
０３ｇ）を加え室温で１時間かきまぜた。反応混合物に
２ＮＨＣｌおよび水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶媒を留去
した。残留油状物はシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルム−メタノール（５０：１，ｖ／
ｖ）で溶出する部分より５−〔３−〔４−〔２−ヒドロ
キシ−２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキ
サゾリジンジオン（０．１６ｇ，８０％）を得た。ジク
ロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無
色針状晶。融点 １４６−１４７℃。
４−オキサゾリル）−２−オキソエトキシ〕フェニル〕
プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．２
ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（５ｍｌ）−エタ
ノール（５ｍｌ）溶液に水素化ホウ素ナトリウム（０．
０３ｇ）を加え室温で１時間かきまぜた。反応混合物に
２ＮＨＣｌおよび水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶媒を留去
した。残留油状物はシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルム−メタノール（５０：１，ｖ／
ｖ）で溶出する部分より５−〔３−〔４−〔２−ヒドロ
キシ−２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキ
サゾリジンジオン（０．１６ｇ，８０％）を得た。ジク
ロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無
色針状晶。融点 １４６−１４７℃。
【００５０】実施例３７〜実施例５０ 実施例３３と同様にして〔表６〕，〔表７〕の化合物を
得た。
得た。
【表６】
【００５１】
【表７】
【００５２】実施例５１ ４−〔２−〔Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ピリジル）アミ
ノ〕エトキシ〕シンナムアルデヒド（４．００ｇ）、
２，４−オキサゾリジンジオン（２．８６ｇ）、ピペリ
ジン（０．６０ｇ）およびエタノール（５０ｍｌ）の混
合物を還流下に２時間加熱した。反応混合物を濃縮し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
た。酢酸エチル−クロロホルム（１：４）で溶出する部
分より得られる結晶をテトラヒドロフラン（１００ｍ
ｌ）に溶解し、パラジウム−炭素（５％，１．４０ｇ）
を加えて１気圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別
し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製した。クロロホルム−メタ
ノール（１００：２）で溶出する部分より５−〔３−
〔４−〔２−〔Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ピリジル）アミ
ノ〕エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサ
ゾリジンジオン（１．１０ｇ，２１％）を得た。ジクロ
ロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １２６−１２７℃。 実施例５２ 実施例５１と同様にして、５−〔３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−
ピリジル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン
を油状物として得た。収率２２％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.7-2.15(4H,m), 2.48(3
H,s), 2.61(2H,t,J=7Hz),4.84(1H,dd,J=6.5&4.5Hz), 5.
27(2H,s), 6.76(1H,d,J=8.5Hz), 7.3-7.5(4H,m),7.95-
8.1(3H,m), 8.84(1H,br s). 実施例５３ 実施例３５と同様にして、５−〔４−〔４−〔５−メチ
ル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキ
シ〕フェニル〕ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオ
ンを得た。収率２２％。ジクロロメタン−メタノールか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １６３−１６４
℃。
ノ〕エトキシ〕シンナムアルデヒド（４．００ｇ）、
２，４−オキサゾリジンジオン（２．８６ｇ）、ピペリ
ジン（０．６０ｇ）およびエタノール（５０ｍｌ）の混
合物を還流下に２時間加熱した。反応混合物を濃縮し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
た。酢酸エチル−クロロホルム（１：４）で溶出する部
分より得られる結晶をテトラヒドロフラン（１００ｍ
ｌ）に溶解し、パラジウム−炭素（５％，１．４０ｇ）
を加えて１気圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別
し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製した。クロロホルム−メタ
ノール（１００：２）で溶出する部分より５−〔３−
〔４−〔２−〔Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ピリジル）アミ
ノ〕エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサ
ゾリジンジオン（１．１０ｇ，２１％）を得た。ジクロ
ロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １２６−１２７℃。 実施例５２ 実施例５１と同様にして、５−〔３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−
ピリジル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン
を油状物として得た。収率２２％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.7-2.15(4H,m), 2.48(3
H,s), 2.61(2H,t,J=7Hz),4.84(1H,dd,J=6.5&4.5Hz), 5.
27(2H,s), 6.76(1H,d,J=8.5Hz), 7.3-7.5(4H,m),7.95-
8.1(3H,m), 8.84(1H,br s). 実施例５３ 実施例３５と同様にして、５−〔４−〔４−〔５−メチ
ル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキ
シ〕フェニル〕ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオ
ンを得た。収率２２％。ジクロロメタン−メタノールか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １６３−１６４
℃。
【００５３】実施例５４ 実施例３５と同様にして、５−〔３−〔２−（２−ナフ
チルメチル）ベンゾオキサゾール−５−イル〕プロピ
ル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。収率１３
％。ジクロロメタン−メタノールから再結晶した。無色
プリズム晶。 融点 １５１−１５２℃。 実施例５５ 実施例１と同様にして、５−〔３−〔３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オキサゾリジン
ジオンを得た。クロロホルム−メタノールから再結晶し
た。無色針状晶。 融点 ２２９−２３０℃。 実施例５６ 実施例１６と同様にして、５−〔３−〔３−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状
晶。融点 １３４−１３５℃。 実施例５７ 実施例５１と同様にして、５−〔３−（４−イソプロポ
キシフェニル）プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジ
オンを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.32(6H,d,J=6Hz), 1.65-
2.15(4H,m), 2.62(2H,t,J=7Hz), 4.4-4.6(1H,m), 4.84
(1H,dd,J=7&4.5Hz), 6.81(2H,d,J=8.5Hz), 7.06(2H,d,J
=8.5Hz), 8.00(1H,broad s).
チルメチル）ベンゾオキサゾール−５−イル〕プロピ
ル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。収率１３
％。ジクロロメタン−メタノールから再結晶した。無色
プリズム晶。 融点 １５１−１５２℃。 実施例５５ 実施例１と同様にして、５−〔３−〔３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペニリデン〕−２，４−オキサゾリジン
ジオンを得た。クロロホルム−メタノールから再結晶し
た。無色針状晶。 融点 ２２９−２３０℃。 実施例５６ 実施例１６と同様にして、５−〔３−〔３−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状
晶。融点 １３４−１３５℃。 実施例５７ 実施例５１と同様にして、５−〔３−（４−イソプロポ
キシフェニル）プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジ
オンを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.32(6H,d,J=6Hz), 1.65-
2.15(4H,m), 2.62(2H,t,J=7Hz), 4.4-4.6(1H,m), 4.84
(1H,dd,J=7&4.5Hz), 6.81(2H,d,J=8.5Hz), 7.06(2H,d,J
=8.5Hz), 8.00(1H,broad s).
【００５４】実施例５８ 実施例５１と同様にして、５−〔５−（４−イソプロポ
キシフェニル）ペンチル〕−２，４−オキサゾリジンジ
オンを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.32(6H,d,J=6Hz), 1.3-
2.1(8H,m), 2.54(2H,t,J=7.5Hz), 4.4-4.6(1H,m), 4.84
(1H,dd,J=7.5&4.5Hz), 6.80(2H,d,J=8.5Hz), 7.05(2H,
d,J=8.5Hz), 7.98(1H,broad s). 実施例５９ 実施例３５と同様にして、２−〔３−（４−イソプロポ
キシフェニル）プロピル〕−１，３−ジオキソランと
２，４−オキサゾリジンジオンとの反応につづく接触還
元反応により、５−〔４−（４−イソプロポキシフェニ
ル）ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。
ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ８１−８２℃。 実施例６０ 実施例５１と同様にして、５−〔３−〔４−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを淡黄色
非晶質粉末として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.25(3H,d,J=6.8Hz), 1.3
0-2.00(4H,m), 2.43(3H,s), 2.55-2.80(1H,m), 4.67-4.
83(1H,m), 4.97(2H,s), 6.95(2H,d,J=8.8Hz), 7.09(2H,
d,J=8.8Hz), 7.35-7.53(3H,m), 7.92-8.10(2H,m).
キシフェニル）ペンチル〕−２，４−オキサゾリジンジ
オンを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.32(6H,d,J=6Hz), 1.3-
2.1(8H,m), 2.54(2H,t,J=7.5Hz), 4.4-4.6(1H,m), 4.84
(1H,dd,J=7.5&4.5Hz), 6.80(2H,d,J=8.5Hz), 7.05(2H,
d,J=8.5Hz), 7.98(1H,broad s). 実施例５９ 実施例３５と同様にして、２−〔３−（４−イソプロポ
キシフェニル）プロピル〕−１，３−ジオキソランと
２，４−オキサゾリジンジオンとの反応につづく接触還
元反応により、５−〔４−（４−イソプロポキシフェニ
ル）ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを得た。
ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ８１−８２℃。 実施例６０ 実施例５１と同様にして、５−〔３−〔４−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを淡黄色
非晶質粉末として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.25(3H,d,J=6.8Hz), 1.3
0-2.00(4H,m), 2.43(3H,s), 2.55-2.80(1H,m), 4.67-4.
83(1H,m), 4.97(2H,s), 6.95(2H,d,J=8.8Hz), 7.09(2H,
d,J=8.8Hz), 7.35-7.53(3H,m), 7.92-8.10(2H,m).
【００５５】実施例６１ 実施例３３と同様にして、５−〔３−〔４−（２−ベン
ゾ〔ｂ〕チエニル）−５−メチル−４−オキサゾリルメ
トキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジ
ンジオンを得た。収率７６％。ジクロロメタン−イソプ
ロピルエーテルから再結晶。無色プリズム晶。融点 １
５４−１５５℃。 実施例６２ 実施例３３と同様にして、５−〔３−〔４−（２−ベン
ゾ〔ｂ〕フラニル）−５−メチル−４−オキサゾリルメ
トキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジ
ンジオンを得た。収率７０％。ジクロロメタン−イソプ
ロピルエーテルから再結晶。無色針状晶。融点 １６５
−１６６℃。
ゾ〔ｂ〕チエニル）−５−メチル−４−オキサゾリルメ
トキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジ
ンジオンを得た。収率７６％。ジクロロメタン−イソプ
ロピルエーテルから再結晶。無色プリズム晶。融点 １
５４−１５５℃。 実施例６２ 実施例３３と同様にして、５−〔３−〔４−（２−ベン
ゾ〔ｂ〕フラニル）−５−メチル−４−オキサゾリルメ
トキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジ
ンジオンを得た。収率７０％。ジクロロメタン−イソプ
ロピルエーテルから再結晶。無色針状晶。融点 １６５
−１６６℃。
【００５６】 製剤例１（錠剤の製造例） （１）５−〔３−〔２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４− オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕プロピル〕− ２，４−オキサゾリジンジオン １０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロ−スカルシウム ４４ｇ（５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １２０ｇ （１），（２），（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）１０ｍｇを含有する
錠剤１０００錠 を製造する。 製剤例２（錠剤の製造例） （１）５−〔２−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル −４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕エチル〕− ２，４−オキサゾリジンジオン ３０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロ−スカルシウム ４４ｇ（５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １４０ｇ （１），（２），（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）３０ｍｇを含有する
錠剤１０００錠を製造する。
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）１０ｍｇを含有する
錠剤１０００錠 を製造する。 製剤例２（錠剤の製造例） （１）５−〔２−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル −４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕エチル〕− ２，４−オキサゾリジンジオン ３０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロ−スカルシウム ４４ｇ（５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １４０ｇ （１），（２），（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）３０ｍｇを含有する
錠剤１０００錠を製造する。
【００５７】参考例１ 水素化ナトリウム（油性、６０％、０．３２ｇ）をホス
ホノ酢酸トリエチル（１．７９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（４０ｍｌ）の溶液に０℃で少量づつ加
え、１５分同温度でかきまぜた。ついで、４−〔２−
〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オキ
サゾリル〕エトキシ〕ベンズアルデヒド（２．４４ｇ）
を加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合物を氷−水
に注いで２Ｎ塩酸で中和し、析出結晶をろ取した。酢酸
エチル−ヘキサンから再結晶し、（Ｅ）−４−〔２−
〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オキ
サゾリル〕エトキシ〕けい皮酸エチル（２．５２ｇ，８
５％）を得た。無色針状晶。融点９０〜９１℃。 参考例２〜参考例６ 参考例１と同様にして、〔表８〕の化合物を得た。
ホノ酢酸トリエチル（１．７９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（４０ｍｌ）の溶液に０℃で少量づつ加
え、１５分同温度でかきまぜた。ついで、４−〔２−
〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オキ
サゾリル〕エトキシ〕ベンズアルデヒド（２．４４ｇ）
を加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合物を氷−水
に注いで２Ｎ塩酸で中和し、析出結晶をろ取した。酢酸
エチル−ヘキサンから再結晶し、（Ｅ）−４−〔２−
〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オキ
サゾリル〕エトキシ〕けい皮酸エチル（２．５２ｇ，８
５％）を得た。無色針状晶。融点９０〜９１℃。 参考例２〜参考例６ 参考例１と同様にして、〔表８〕の化合物を得た。
【表８】
【００５８】参考例７ 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１．
５Ｍ，９．３ｍｌ）を（Ｅ）−４−〔２−〔５−メチル
−２−（３−メチルフェニル）−４−オキサゾリル〕エ
トキシ〕けい皮酸エチル（２．４８ｇ）のジクロロメタ
ン（５０ｍｌ）縣濁液に０℃で滴下した。室温で２時間
かきまぜた後、氷冷下にメタノ−ル（３ｍｌ）ついで水
（３０ｍｌ）を加えた。混合物はセライト層を通してろ
過した。有機層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、濃縮
した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−
で精製した。酢酸エチル−ヘキサン（１：１）で溶出す
る部分より（Ｅ）−３−〔４−〔２−〔５−メチル−２
−（３−メチルフェニル）−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕フェニル〕−２−プロペン−１−オ−ル（１．４４
ｇ，６５％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６
〜１１７℃。
５Ｍ，９．３ｍｌ）を（Ｅ）−４−〔２−〔５−メチル
−２−（３−メチルフェニル）−４−オキサゾリル〕エ
トキシ〕けい皮酸エチル（２．４８ｇ）のジクロロメタ
ン（５０ｍｌ）縣濁液に０℃で滴下した。室温で２時間
かきまぜた後、氷冷下にメタノ−ル（３ｍｌ）ついで水
（３０ｍｌ）を加えた。混合物はセライト層を通してろ
過した。有機層は、水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、濃縮
した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−
で精製した。酢酸エチル−ヘキサン（１：１）で溶出す
る部分より（Ｅ）−３−〔４−〔２−〔５−メチル−２
−（３−メチルフェニル）−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕フェニル〕−２−プロペン−１−オ−ル（１．４４
ｇ，６５％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６
〜１１７℃。
【００５９】参考例８〜参考例１３ 参考例７と同様にして、〔表９〕の化合物を得た。
【表９】
【００６０】参考例１４ 活性化二酸化マンガン（２．８ｇ）を（Ｅ）−３−〔４
−〔２−〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−
４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕−２−プロペ
ン−１−オ−ル（１．４ｇ）のジクロロメタン（５０ｍ
ｌ）溶液に加え、室温で２時間かきまぜた後、セライト
層を通してろ過した。ろ液を濃縮し、（Ｅ）−４−〔２
−〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オ
キサゾリル〕エトキシ〕シンナムアルデヒド（１．２７
ｇ，９１％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色針状晶。融点 １１０〜１
１１℃。 参考例１５〜参考例２０ 参考例１４と同様にして、〔表１０〕の化合物を得た。
−〔２−〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−
４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕−２−プロペ
ン−１−オ−ル（１．４ｇ）のジクロロメタン（５０ｍ
ｌ）溶液に加え、室温で２時間かきまぜた後、セライト
層を通してろ過した。ろ液を濃縮し、（Ｅ）−４−〔２
−〔５−メチル−２−（３−メチルフェニル）−４−オ
キサゾリル〕エトキシ〕シンナムアルデヒド（１．２７
ｇ，９１％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエ
ーテルから再結晶した。無色針状晶。融点 １１０〜１
１１℃。 参考例１５〜参考例２０ 参考例１４と同様にして、〔表１０〕の化合物を得た。
【表１０】
【００６１】参考例２１ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕ベンズアルデヒド（３．０ｇ）および
ピルビン酸（３．４４ｇ）のメタノ−ル（８０ｍｌ）溶
液に炭酸ナトリウム（４．１４ｇ）の水（８０ｍｌ）溶
液を滴下した。混合物を７０−８０℃で２４時間かきま
ぜた後水に注いで、酢酸エチルで洗浄した。水層を濃塩
酸で酸性下して析出結晶をろ取した。この結晶を含塩化
水素エタノ−ル（５％，１５ｍｌ）に加え、混合物を３
０分還流下に加熱した。減圧下に溶媒を留去し、残留物
はクロロホルムに溶かして水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）
後、濃縮した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグ
ラフィ−で精製した。酢酸エチル−クロロホルム（１：
９）で溶出する部分より（Ｅ）−４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベン
ジリデンピルビン酸エチル（１．０ｇ，２５％）を得
た。ジクロロメタン−エタノ−ルから再結晶した。淡黄
色針状晶。融点 ９９〜１００℃。 参考例２２ （Ｅ）−４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリル）エトキシ〕ベンジリデンピルビン酸エチ
ル（０．８５ｇ）、パラジウム−炭素（１０％，０．１
ｇ）およびジオキサン（８０ｍｌ）の混合物を、１気
圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別し、ろ液を減
圧下に濃縮した。残留物をエタノ−ル（２０ｍｌ）に溶
かし、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム（０．０８ｇ）
を加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合物を水に注
いで１Ｎ塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層は水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、濃縮した。残留
物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−で精製し
た。クロロホルム−酢酸エチル（９：１）で溶出する部
分より、２−ヒドロキシ−４−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕酪酸エチル（０．５５ｇ，６４％）を得た。エチ
ルエーテル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融
点 ６７〜６８℃。
リル）エトキシ〕ベンズアルデヒド（３．０ｇ）および
ピルビン酸（３．４４ｇ）のメタノ−ル（８０ｍｌ）溶
液に炭酸ナトリウム（４．１４ｇ）の水（８０ｍｌ）溶
液を滴下した。混合物を７０−８０℃で２４時間かきま
ぜた後水に注いで、酢酸エチルで洗浄した。水層を濃塩
酸で酸性下して析出結晶をろ取した。この結晶を含塩化
水素エタノ−ル（５％，１５ｍｌ）に加え、混合物を３
０分還流下に加熱した。減圧下に溶媒を留去し、残留物
はクロロホルムに溶かして水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）
後、濃縮した。残留物をシリカゲル カラムクロマトグ
ラフィ−で精製した。酢酸エチル−クロロホルム（１：
９）で溶出する部分より（Ｅ）−４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベン
ジリデンピルビン酸エチル（１．０ｇ，２５％）を得
た。ジクロロメタン−エタノ−ルから再結晶した。淡黄
色針状晶。融点 ９９〜１００℃。 参考例２２ （Ｅ）−４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリル）エトキシ〕ベンジリデンピルビン酸エチ
ル（０．８５ｇ）、パラジウム−炭素（１０％，０．１
ｇ）およびジオキサン（８０ｍｌ）の混合物を、１気
圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別し、ろ液を減
圧下に濃縮した。残留物をエタノ−ル（２０ｍｌ）に溶
かし、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム（０．０８ｇ）
を加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合物を水に注
いで１Ｎ塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層は水洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、濃縮した。残留
物をシリカゲル カラムクロマトグラフィ−で精製し
た。クロロホルム−酢酸エチル（９：１）で溶出する部
分より、２−ヒドロキシ−４−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕酪酸エチル（０．５５ｇ，６４％）を得た。エチ
ルエーテル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融
点 ６７〜６８℃。
【００６２】参考例２３ ２−クロロ−５−ニトロピリジン（２５ｇ）、２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エタノ−
ル（３２．１ｇ）のＴＨＦ（２５０ｍｌ）溶液に、氷冷
下油性水素化ナトリウム（６０％，６．９２ｇ）を少量
づつ加えかきまぜた。反応混合物は、室温でさらに１５
時間かきまぜた後、水に注いで酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は、水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を
留去した。残留する結晶をろ取、エタノ−ルから再結晶
して２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（２５．４
ｇ，４９％）を得た。黄褐色結晶。融点 １１０．５〜
１１１．５℃。 元素分析値 Ｃ17Ｈ15Ｎ3Ｏ4 として 計算値：Ｃ，６２．７６； Ｈ，４．６５； Ｎ，１２．９２ 実験値：Ｃ，６２．８０； Ｈ，４．５８； Ｎ，１２．９６ 参考例２４ ２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（１３．４
ｇ）、パラジウム炭素（５％，１．５ｇ）および酢酸エ
チル（２００ｍｌ）−メタノ−ル（１５０ｍｌ）の混合
物を室温、１気圧で接触還元を行った。触媒をろ別し、
ろ液を減圧下に濃縮、残留結晶をろ取し５−アミノ−２
−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ル）エトキシ〕ピリジン（１１．４ｇ，９３％）を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。褐色結晶。
融点 １０７．０〜１０８．０℃。 元素分析値 Ｃ17Ｈ17Ｎ3Ｏ2 として 計算値：Ｃ，６９．１４； Ｈ，５．８０； Ｎ，１４．２３ 実験値：Ｃ，６９．０１； Ｈ，５．９４； Ｎ，１３．９９
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エタノ−
ル（３２．１ｇ）のＴＨＦ（２５０ｍｌ）溶液に、氷冷
下油性水素化ナトリウム（６０％，６．９２ｇ）を少量
づつ加えかきまぜた。反応混合物は、室温でさらに１５
時間かきまぜた後、水に注いで酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は、水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を
留去した。残留する結晶をろ取、エタノ−ルから再結晶
して２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（２５．４
ｇ，４９％）を得た。黄褐色結晶。融点 １１０．５〜
１１１．５℃。 元素分析値 Ｃ17Ｈ15Ｎ3Ｏ4 として 計算値：Ｃ，６２．７６； Ｈ，４．６５； Ｎ，１２．９２ 実験値：Ｃ，６２．８０； Ｈ，４．５８； Ｎ，１２．９６ 参考例２４ ２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（１３．４
ｇ）、パラジウム炭素（５％，１．５ｇ）および酢酸エ
チル（２００ｍｌ）−メタノ−ル（１５０ｍｌ）の混合
物を室温、１気圧で接触還元を行った。触媒をろ別し、
ろ液を減圧下に濃縮、残留結晶をろ取し５−アミノ−２
−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ル）エトキシ〕ピリジン（１１．４ｇ，９３％）を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。褐色結晶。
融点 １０７．０〜１０８．０℃。 元素分析値 Ｃ17Ｈ17Ｎ3Ｏ2 として 計算値：Ｃ，６９．１４； Ｈ，５．８０； Ｎ，１４．２３ 実験値：Ｃ，６９．０１； Ｈ，５．９４； Ｎ，１３．９９
【００６３】参考例２５ ５−アミノ−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（１０．０
ｇ）、ｃｏｎｃ．ＨＣｌ（８．４７ｍｌ）およびアセト
ン（１００ｍｌ）の混合物に、亜硝酸ナトリウム(NaN
O2)（２．４６ｇ）の水（１０ｍｌ）溶液を１０℃以下
の温度で滴下した。１０℃で３０分かきまぜた後、ヨウ
化カリウム(KI)（２．４６ｇ）の水（１０ｍｌ）溶液を
滴下した。反応混合物は、さらに３０〜３５℃で１時
間、３５〜４０℃で１時間かきまぜた後減圧下に濃縮し
た。残留物を水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、
残留油状物をシリカゲルクロマトグラフィ−に付した。
酢酸エチル−ヘキサン（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部
分より、５−ヨ−ド−２−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（７．
２２ｇ，５２％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。無色結晶。融点 １０５〜１０６℃。 元素分析値 Ｃ17Ｈ15Ｎ2Ｏ2Ｉ として 計算値：Ｃ，５０．２６； Ｈ，３．７２； Ｎ，６．９０ 実験値：Ｃ，５０．２２； Ｈ，３．８９； Ｎ，６．７８ 参考例２６ ５−ヨ−ド−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（２．５ｇ）の
テトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液にｎ-ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，４．６１ｍｌ）を窒素
気流下、−６５℃で滴下した。混合物を同温度で１５分
間かきまぜた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．
７１ｍｌ）を滴下した。冷却浴を除去し、さらに３０分
かきまぜた後、塩化アンモニウム飽和水溶液（６ｍｌ）
を加えた。反応混合物は、水に注いで酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶
媒を留去し、５−ホルミル−２−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン
（１．５ｇ，７９％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色結晶。融点 ９９〜１００℃。 元素分析値 Ｃ18Ｈ16Ｎ2Ｏ3 として 計算値：Ｃ，７０．１２； Ｈ，５．２３； Ｎ，９．０９ 実験値：Ｃ，６９．９４； Ｈ，５．３８； Ｎ，８．９４
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（１０．０
ｇ）、ｃｏｎｃ．ＨＣｌ（８．４７ｍｌ）およびアセト
ン（１００ｍｌ）の混合物に、亜硝酸ナトリウム(NaN
O2)（２．４６ｇ）の水（１０ｍｌ）溶液を１０℃以下
の温度で滴下した。１０℃で３０分かきまぜた後、ヨウ
化カリウム(KI)（２．４６ｇ）の水（１０ｍｌ）溶液を
滴下した。反応混合物は、さらに３０〜３５℃で１時
間、３５〜４０℃で１時間かきまぜた後減圧下に濃縮し
た。残留物を水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、
残留油状物をシリカゲルクロマトグラフィ−に付した。
酢酸エチル−ヘキサン（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部
分より、５−ヨ−ド−２−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（７．
２２ｇ，５２％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。無色結晶。融点 １０５〜１０６℃。 元素分析値 Ｃ17Ｈ15Ｎ2Ｏ2Ｉ として 計算値：Ｃ，５０．２６； Ｈ，３．７２； Ｎ，６．９０ 実験値：Ｃ，５０．２２； Ｈ，３．８９； Ｎ，６．７８ 参考例２６ ５−ヨ−ド−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（２．５ｇ）の
テトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液にｎ-ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，４．６１ｍｌ）を窒素
気流下、−６５℃で滴下した。混合物を同温度で１５分
間かきまぜた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．
７１ｍｌ）を滴下した。冷却浴を除去し、さらに３０分
かきまぜた後、塩化アンモニウム飽和水溶液（６ｍｌ）
を加えた。反応混合物は、水に注いで酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶
媒を留去し、５−ホルミル−２−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン
（１．５ｇ，７９％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色結晶。融点 ９９〜１００℃。 元素分析値 Ｃ18Ｈ16Ｎ2Ｏ3 として 計算値：Ｃ，７０．１２； Ｈ，５．２３； Ｎ，９．０９ 実験値：Ｃ，６９．９４； Ｈ，５．３８； Ｎ，８．９４
【００６４】参考例２７ 参考例１と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕−５−ピリジル〕アクリル酸メチルを得た。酢酸エ
チルから再結晶した。無色結晶。融点 １３８〜１３９
℃。 参考例２８ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕−５−ピリジル〕−２−プロペン−１−オ−ルを得
た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色結晶。融点１１５〜１１６℃。 参考例２９ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−〔２−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル〕エト
キシ〕−５−ピリジル〕アクロレインを得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。無色結晶。融点 １３８
〜１３９℃。 参考例３０ ２−ブロモ−３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピ
オン酸メチル（１５．０ｇ）、１，８−ジアザビシクロ
〔５，４，０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）（６．２
ｇ）およびトルエン（２００ｍｌ）の混合物を７０℃で
２時間かきまぜた。反応混合物は、酢酸エチル（２００
ｍｌ）に注いで、２ＮＨＣｌおよび飽和食塩水で洗浄、
乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去、４−〔２−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕
けい皮酸メチル（１０．８ｇ，８８％）を得た。酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点 １
１４〜１１５℃。
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕−５−ピリジル〕アクリル酸メチルを得た。酢酸エ
チルから再結晶した。無色結晶。融点 １３８〜１３９
℃。 参考例２８ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル〕エトキ
シ〕−５−ピリジル〕−２−プロペン−１−オ−ルを得
た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色結晶。融点１１５〜１１６℃。 参考例２９ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−〔２−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル〕エト
キシ〕−５−ピリジル〕アクロレインを得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。無色結晶。融点 １３８
〜１３９℃。 参考例３０ ２−ブロモ−３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピ
オン酸メチル（１５．０ｇ）、１，８−ジアザビシクロ
〔５，４，０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）（６．２
ｇ）およびトルエン（２００ｍｌ）の混合物を７０℃で
２時間かきまぜた。反応混合物は、酢酸エチル（２００
ｍｌ）に注いで、２ＮＨＣｌおよび飽和食塩水で洗浄、
乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去、４−〔２−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕
けい皮酸メチル（１０．８ｇ，８８％）を得た。酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点 １
１４〜１１５℃。
【００６５】参考例３１ 水素化ナトリウム（油性、６０％、０．７８ｇ）を〔２
−（１，３−ジオキサン−２−イル）エチル〕トリフェ
ニルホスホニウム ブロミド（８．９ｇ）のＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（１００ml）の溶液に室温で少量ず
つ加え、３０分同温度でかきまぜた。ついで、４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エ
トキシ〕ベンズアルデヒド（５．０ｇ）を加え、室温で
１５時間、ついで７０℃で５時間かきまぜた。反応混合
物を氷−水に注いで２Ｎ塩酸で中和し、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後残
留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製し
た。ヘキサン−酢酸エチル（３：１）で溶出する部分よ
り、（Ｚ）−２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕
−２−プロペニル〕−１，３−ジオキサン（５．１ｇ，
７７％）を油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.25-1.4(1H,m), 1.95-2.
25(1H,m), 2.37(3H,s),2.66(1H,ddd,J=7&5&2Hz), 2.98
(2H,t,J=6.5Hz), 3.7-3.85(2H,m), 4.0-4.3(4H,m), 4.6
3(1H,t,J=5Hz), 5.64(1H,dt,J=11.5&7Hz), 6.48(1H,br
d,J=11.5Hz), 6.85(2H,d,J=9Hz), 7.22(2H,d,J=9Hz),
7.35-7.5(3H,m), 7.9-8.0(2H,m).
−（１，３−ジオキサン−２−イル）エチル〕トリフェ
ニルホスホニウム ブロミド（８．９ｇ）のＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（１００ml）の溶液に室温で少量ず
つ加え、３０分同温度でかきまぜた。ついで、４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エ
トキシ〕ベンズアルデヒド（５．０ｇ）を加え、室温で
１５時間、ついで７０℃で５時間かきまぜた。反応混合
物を氷−水に注いで２Ｎ塩酸で中和し、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後残
留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製し
た。ヘキサン−酢酸エチル（３：１）で溶出する部分よ
り、（Ｚ）−２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕
−２−プロペニル〕−１，３−ジオキサン（５．１ｇ，
７７％）を油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.25-1.4(1H,m), 1.95-2.
25(1H,m), 2.37(3H,s),2.66(1H,ddd,J=7&5&2Hz), 2.98
(2H,t,J=6.5Hz), 3.7-3.85(2H,m), 4.0-4.3(4H,m), 4.6
3(1H,t,J=5Hz), 5.64(1H,dt,J=11.5&7Hz), 6.48(1H,br
d,J=11.5Hz), 6.85(2H,d,J=9Hz), 7.22(2H,d,J=9Hz),
7.35-7.5(3H,m), 7.9-8.0(2H,m).
【００６６】参考例３２ （Ｚ）−２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２
−プロペニル〕−１，３−ジオキサン（５．０ｇ）、パ
ラジウム−炭素（５％，０．１ｇ）およびエタノール
（１００ml）の混合物を、１気圧、室温で接触還元に付
した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留物
をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製した。
ヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出する部分より、
２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−
１，３−ジオキサン（４．８ｇ，９６％）を得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.25-1.4(1H,m), 1.5-1.8
(4H,m), 1.9-2.2(1H,m),2.37(3H,s), 2.54(2H,t,J=7H
z), 2.96(2H,t,J=6.5Hz), 3.65-3.85(2H,m), 4.0-4.15
(2H,m), 4.21(2H,t,J=6.5Hz), 4.50(1H,t,J=5Hz), 6.80
(2H,d,J=9Hz), 7.06(2H,d,J=9Hz), 7.35-7.5(3H,m), 7.
9-8.0(2H,m). 参考例３３〜参考例３６ 参考例１と同様にして〔表１１〕の化合物を得た。
ェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２
−プロペニル〕−１，３−ジオキサン（５．０ｇ）、パ
ラジウム−炭素（５％，０．１ｇ）およびエタノール
（１００ml）の混合物を、１気圧、室温で接触還元に付
した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮した。残留物
をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製した。
ヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出する部分より、
２−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕−
１，３−ジオキサン（４．８ｇ，９６％）を得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.25-1.4(1H,m), 1.5-1.8
(4H,m), 1.9-2.2(1H,m),2.37(3H,s), 2.54(2H,t,J=7H
z), 2.96(2H,t,J=6.5Hz), 3.65-3.85(2H,m), 4.0-4.15
(2H,m), 4.21(2H,t,J=6.5Hz), 4.50(1H,t,J=5Hz), 6.80
(2H,d,J=9Hz), 7.06(2H,d,J=9Hz), 7.35-7.5(3H,m), 7.
9-8.0(2H,m). 参考例３３〜参考例３６ 参考例１と同様にして〔表１１〕の化合物を得た。
【表１１】
【００６７】参考例３７ 参考例１と同様に、５−ホルミル−２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン
とホスホノ酢酸トリエチルとの反応により、（Ｅ）−３
−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ルメチル）ベンゾフラン−５−イル〕アクリル酸エチル
を得た。収率７４％。エーテル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １５０−１５１℃。 参考例３８ 参考例１と同様に、（Ｅ）−４−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕シンナム
アルデヒドとホスホノ酢酸トリエチルとの反応により、
５−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２，４−ペンタジ
エン酸エチルを得た。収率５６％。エーテル−ヘキサン
から再結晶した。無色針状晶。融点１０２−１０３℃。 参考例３９ ４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）ベンズアルデヒド（２．９ｇ）、ピルビン酸ナ
トリウム（３．３ｇ）、炭酸ナトリウム（３．２ｇ）、
水（８０ｍｌ）およびメタノール（８０ｍｌ）の混合物
を還流下に６時間かきまぜた。反応混合物を減圧下に約
１／３に濃縮し酢酸エチルで抽出した。水層を濃塩酸で
酸性化し、析出結晶をろ取、（Ｅ）−４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンジリ
デンピルビン酸（１．６ｇ，４４％）を得た。クロロホ
ルム−メタノールから再結晶した。無色針状晶。融点１
９７−１９８℃。
２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン
とホスホノ酢酸トリエチルとの反応により、（Ｅ）−３
−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ルメチル）ベンゾフラン−５−イル〕アクリル酸エチル
を得た。収率７４％。エーテル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １５０−１５１℃。 参考例３８ 参考例１と同様に、（Ｅ）−４−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕シンナム
アルデヒドとホスホノ酢酸トリエチルとの反応により、
５−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２，４−ペンタジ
エン酸エチルを得た。収率５６％。エーテル−ヘキサン
から再結晶した。無色針状晶。融点１０２−１０３℃。 参考例３９ ４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメ
トキシ）ベンズアルデヒド（２．９ｇ）、ピルビン酸ナ
トリウム（３．３ｇ）、炭酸ナトリウム（３．２ｇ）、
水（８０ｍｌ）およびメタノール（８０ｍｌ）の混合物
を還流下に６時間かきまぜた。反応混合物を減圧下に約
１／３に濃縮し酢酸エチルで抽出した。水層を濃塩酸で
酸性化し、析出結晶をろ取、（Ｅ）−４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンジリ
デンピルビン酸（１．６ｇ，４４％）を得た。クロロホ
ルム−メタノールから再結晶した。無色針状晶。融点１
９７−１９８℃。
【００６８】参考例４０ （Ｅ）−４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンジリデンピルビン酸（１．３ｇ）
およびエタノール（５０ｍｌ）の混合物に濃硫酸（０．
１ｍｌ）を加え還流下に８時間加熱後、反応混合物を水
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水
洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶媒を留去し、残留油状物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部分より
（Ｅ）−４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンジリデンピルビン酸エチル（１．
２ｇ，８６％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結
晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １１０−１１１℃。 参考例４１ 参考例２２と同様にして、（Ｅ）−４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンジリデ
ンピルビン酸エチルより２−ヒドロキシ−４−〔４−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕酪酸エチルを油状物として得た。収率８
９％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.28(3H,t,J=7Hz), 1.8-
2.2(2H,m), 2.43(3H,s),2.71(2H,t,J=7Hz), 2.84(1H,d,
J=5.2Hz), 4.1-4.3(1H,m), 4.21(2H,q,J=7Hz), 4.97(2
H,s), 6.94(2H,d,J=9Hz), 7.13(2H,d,J=9Hz), 7.4-7.5
(3H,m), 7.95-8.1(2H,m).
ゾリルメトキシ）ベンジリデンピルビン酸（１．３ｇ）
およびエタノール（５０ｍｌ）の混合物に濃硫酸（０．
１ｍｌ）を加え還流下に８時間加熱後、反応混合物を水
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水
洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後溶媒を留去し、残留油状物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部分より
（Ｅ）−４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）ベンジリデンピルビン酸エチル（１．
２ｇ，８６％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結
晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １１０−１１１℃。 参考例４１ 参考例２２と同様にして、（Ｅ）−４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンジリデ
ンピルビン酸エチルより２−ヒドロキシ−４−〔４−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕酪酸エチルを油状物として得た。収率８
９％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.28(3H,t,J=7Hz), 1.8-
2.2(2H,m), 2.43(3H,s),2.71(2H,t,J=7Hz), 2.84(1H,d,
J=5.2Hz), 4.1-4.3(1H,m), 4.21(2H,q,J=7Hz), 4.97(2
H,s), 6.94(2H,d,J=9Hz), 7.13(2H,d,J=9Hz), 7.4-7.5
(3H,m), 7.95-8.1(2H,m).
【００６９】参考例４２〜参考例４５ 参考例７と同様にして〔表１２〕の化合物を得た。
【表１２】 参考例４６ 参考例７と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン
−５−イル〕アクリル酸エチルを還元して（Ｅ）−３−
〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メチル）ベンゾフラン−５−イル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。収率５７％。ジクロロメタン−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点 １５６−１５７
℃。 参考例４７ 参考例７と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキ
シ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエン酸エチルを還元
して（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−
２，４−ペンタジエン−１−オールを得た。収率６３
％。ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶した。無色鱗
片状晶。融点１３２−１３３℃。
２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン
−５−イル〕アクリル酸エチルを還元して（Ｅ）−３−
〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メチル）ベンゾフラン−５−イル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。収率５７％。ジクロロメタン−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点 １５６−１５７
℃。 参考例４７ 参考例７と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキ
シ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエン酸エチルを還元
して（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−
２，４−ペンタジエン−１−オールを得た。収率６３
％。ジクロロメタン−ヘキサンから再結晶した。無色鱗
片状晶。融点１３２−１３３℃。
【００７０】参考例４８〜参考例５１ 参考例１４と同様にして〔表１３〕の化合物を得た。
【表１３】 参考例５２ 参考例１４と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラ
ン−５−イル〕−２−プロペン−１−オールより（Ｅ）
−３−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメチル）−ベンゾフラン−５−イル〕アクロレイ
ンを得た。収率９３％。ジクロロメタン−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 １３６−１３７℃。
−２−フェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラ
ン−５−イル〕−２−プロペン−１−オールより（Ｅ）
−３−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメチル）−ベンゾフラン−５−イル〕アクロレイ
ンを得た。収率９３％。ジクロロメタン−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 １３６−１３７℃。
【００７１】参考例５３ 参考例１４と同様に、（Ｅ）−５−〔４−〔２−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕
フェニル〕−２，４−ペンタジエン−１−オールより
（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２，
４−ペンタジエン−１−アールを得た。収率８２％。ジ
クロロメタン−ヘキサンから再結晶した。黄色プリズム
晶。融点１３３−１３４℃。 参考例５４ ４−ブロモアセチル−５−メチル−２−フェニルオキサ
ゾール（２．６０ｇ）、４−〔２−（１，３−ジオキソ
ラン−２−イル）エチル〕フェノール（１．８２ｇ）、
炭酸カリウム（１．２８ｇ）および２−ブタノン（６０
ｍｌ）の混合物を７０〜８０℃で２０時間かきまぜた。
反応混合物を水に注いで析出する結晶を濾取し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。クロロホル
ム−メタノール（１００：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分
より４−〔４−〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イ
ル）エチル〕フェノキシアセチル〕−５−メチル−２−
フェニルオキサゾール（２．０８，５７％）を得た。ジ
クロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。
無色プリズム晶。融点 １１９−１２０℃。
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕
フェニル〕−２，４−ペンタジエン−１−オールより
（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２，
４−ペンタジエン−１−アールを得た。収率８２％。ジ
クロロメタン−ヘキサンから再結晶した。黄色プリズム
晶。融点１３３−１３４℃。 参考例５４ ４−ブロモアセチル−５−メチル−２−フェニルオキサ
ゾール（２．６０ｇ）、４−〔２−（１，３−ジオキソ
ラン−２−イル）エチル〕フェノール（１．８２ｇ）、
炭酸カリウム（１．２８ｇ）および２−ブタノン（６０
ｍｌ）の混合物を７０〜８０℃で２０時間かきまぜた。
反応混合物を水に注いで析出する結晶を濾取し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。クロロホル
ム−メタノール（１００：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分
より４−〔４−〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イ
ル）エチル〕フェノキシアセチル〕−５−メチル−２−
フェニルオキサゾール（２．０８，５７％）を得た。ジ
クロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶した。
無色プリズム晶。融点 １１９−１２０℃。
【００７２】参考例５５ 参考例１と同様にして、４−〔２−〔Ｎ−メチル−Ｎ−
（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕けい皮酸エチルを
得た。収率９７％。ジクロロメタン−イソプロピルエー
テルから再結晶。無色プリズム晶。融点 ８０−８１
℃。 参考例５６ 参考例１と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−
ピリジル〕アクリル酸エチルを得た。収率８６％。ジク
ロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶。無色プ
リズム晶。融点１０９−１１０℃。 参考例５７ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−〔４−〔２−〔Ｎ
−メチル−Ｎ−（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕フ
ェニル〕−２−プロペン−１−オールを油状物として得
た。収率８７％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：3.14(3H,s), 3.98(2H,t,J
=5.5Hz), 4.19(2H,t,J=5.5Hz), 4.29(2H,br,d,J=5.5H
z), 6.22(1H,dt,J=16&6Hz), 6.45-6.6(3H,m), 6.85(2H,
d,J=9Hz), 7.30(2H,d,J=9Hz), 7.45(1H,ddd,J=8.5&7&2H
z), 8.1-8.2(1H,m). 参考例５８ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−
ピリジル〕−２−プロペン−１−オールを得た。収率５
７％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから再結
晶。無色プリズム晶。融点 １１６−１１７℃。
（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕けい皮酸エチルを
得た。収率９７％。ジクロロメタン−イソプロピルエー
テルから再結晶。無色プリズム晶。融点 ８０−８１
℃。 参考例５６ 参考例１と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−
ピリジル〕アクリル酸エチルを得た。収率８６％。ジク
ロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶。無色プ
リズム晶。融点１０９−１１０℃。 参考例５７ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−〔４−〔２−〔Ｎ
−メチル−Ｎ−（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕フ
ェニル〕−２−プロペン−１−オールを油状物として得
た。収率８７％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：3.14(3H,s), 3.98(2H,t,J
=5.5Hz), 4.19(2H,t,J=5.5Hz), 4.29(2H,br,d,J=5.5H
z), 6.22(1H,dt,J=16&6Hz), 6.45-6.6(3H,m), 6.85(2H,
d,J=9Hz), 7.30(2H,d,J=9Hz), 7.45(1H,ddd,J=8.5&7&2H
z), 8.1-8.2(1H,m). 参考例５８ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−
ピリジル〕−２−プロペン−１−オールを得た。収率５
７％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから再結
晶。無色プリズム晶。融点 １１６−１１７℃。
【００７３】参考例５９ 参考例１４と同様にして、４−〔２−〔Ｎ−メチル−Ｎ
−（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕シンナムアルデ
ヒドを油状物として得た。収率１００％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：3.15(3H,s), 4.01(2H,t,J
=5.5Hz), 4.25(2H,t,J=5.5Hz), 6.5-6.7(3H,m), 6.95(2
H,d,J=9Hz), 7.41(1H,d,J=16Hz), 7.4-7.55(3H,m), 8.1
6(1H,ddd,J=5&2&1Hz), 9.65(1H,d,J=8Hz). 参考例６０ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５
−ピリジル〕アクロレインを得た。収率９２％。ジクロ
ロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶。無色プリ
ズム晶。融点１４７−１４８℃。 参考例６１ ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６２Ｍ，２
５．９ｍｌ）を〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イ
ル）エチル〕トリフェニルホスホニウム ブロミド（１
８．６ｇ）のテトラヒドロフラン（１８０ｍｌ）懸濁液
に−２０℃で滴下し、２時間かきまぜた。４−〔２−
（２−ナフチル）−５−メチル−４−オキサゾリルメト
キシ〕ベンズアルデヒド（１２．０ｇ）を加え、５０−
５５℃で４時間かきまぜた。反応混合物を氷水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、０．１Ｎ塩
酸、水で洗浄し、乾燥（ＭgＳＯ4）後、減圧下に溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、クロロホルム−メタノール（１００：５）
で溶出する部分より結晶（１４．８ｇ）を得た。この結
晶をテトラヒドロフラン（２５０ｍｌ）に溶解し、パラ
ジウム−炭素（５％，３．０ｇ）を加えて１気圧、室温
で接触還元に付した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃
縮して４−〔４−〔３−（１，３−ジオキソラン−２−
イル）プロピル〕フェノキシメチル〕−５−メチル−２
−（２−ナフチル）オキサゾール（１２．１ｇ，８１
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １４１−１４２
℃。
−（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕シンナムアルデ
ヒドを油状物として得た。収率１００％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：3.15(3H,s), 4.01(2H,t,J
=5.5Hz), 4.25(2H,t,J=5.5Hz), 6.5-6.7(3H,m), 6.95(2
H,d,J=9Hz), 7.41(1H,d,J=16Hz), 7.4-7.55(3H,m), 8.1
6(1H,ddd,J=5&2&1Hz), 9.65(1H,d,J=8Hz). 参考例６０ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−〔２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５
−ピリジル〕アクロレインを得た。収率９２％。ジクロ
ロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶。無色プリ
ズム晶。融点１４７−１４８℃。 参考例６１ ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６２Ｍ，２
５．９ｍｌ）を〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イ
ル）エチル〕トリフェニルホスホニウム ブロミド（１
８．６ｇ）のテトラヒドロフラン（１８０ｍｌ）懸濁液
に−２０℃で滴下し、２時間かきまぜた。４−〔２−
（２−ナフチル）−５−メチル−４−オキサゾリルメト
キシ〕ベンズアルデヒド（１２．０ｇ）を加え、５０−
５５℃で４時間かきまぜた。反応混合物を氷水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、０．１Ｎ塩
酸、水で洗浄し、乾燥（ＭgＳＯ4）後、減圧下に溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、クロロホルム−メタノール（１００：５）
で溶出する部分より結晶（１４．８ｇ）を得た。この結
晶をテトラヒドロフラン（２５０ｍｌ）に溶解し、パラ
ジウム−炭素（５％，３．０ｇ）を加えて１気圧、室温
で接触還元に付した。触媒をろ別し、ろ液を減圧下に濃
縮して４−〔４−〔３−（１，３−ジオキソラン−２−
イル）プロピル〕フェノキシメチル〕−５−メチル−２
−（２−ナフチル）オキサゾール（１２．１ｇ，８１
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １４１−１４２
℃。
【００７４】参考例６２ 参考例１と同様にして、４−ヒドロキシ−３−ニトロベ
ンズアルデヒドとホスホノ酢酸トリエチルとの反応によ
り、（Ｅ）−４−ヒドロキシ−３−ニトロけい皮酸エチ
ルを得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから
再結晶した。淡黄色針状晶。融点 １１４−１１５℃。 参考例６３ 参考例２４と同様にして、（Ｅ）−４−ヒドロキシ−３
−ニトロけい皮酸エチルを接触還元反応に付し、３−
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸
エチルを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.24(3H,t,J=7Hz), 2.5-
2.9(4H,m), 4.12(2H,q,J=7Hz), 6.49(1H,dd,J=8&2Hz),
6.60(1H,d,J=2Hz), 6.64(1H,d,J=8Hz). 参考例６４ 五酸化リン（Ｐ2Ｏ5）（１２．９ｇ）、ヘキサメチルジ
シロキサン〔(ＣＨ3)3ＳiＯＳi(ＣＨ3)3〕（２９．５
ｇ）および１，２−ジクロロベンゼン（６０ｍｌ）の混
合物を１０分間還流下に加熱した。この混合物に３−
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸
エチル（４．７５ｇ）および２−ナフチル酢酸（４．２
３ｇ）を加え、３時間還流下に加熱した。反応混合物を
水にそそいで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、
水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去し、残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル
−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、３
−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール−
５−イル〕プロピオン酸エチル（５．９５ｇ，７３％）
を得た。エーテル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色針状晶。融点８１−８２℃。 参考例６５ ３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール
−５−イル〕プロピオン酸エチル（５．８ｇ）のエーテ
ル（１００ｍｌ）−テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）
溶液に水素化リチウムアルミニウム（０．７３ｇ）を室
温で加え１時間かきまぜた。水（４ｍｌ）を滴下した
後、不溶の固体をろ別した。ろ液を減圧下に濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−ヘキサン（１：１，ｖ／ｖ）で溶出する部
分から、３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキ
サゾール−５−イル〕プロパノール（２．１ｇ，４１
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０２−１０３
℃。
ンズアルデヒドとホスホノ酢酸トリエチルとの反応によ
り、（Ｅ）−４−ヒドロキシ−３−ニトロけい皮酸エチ
ルを得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから
再結晶した。淡黄色針状晶。融点 １１４−１１５℃。 参考例６３ 参考例２４と同様にして、（Ｅ）−４−ヒドロキシ−３
−ニトロけい皮酸エチルを接触還元反応に付し、３−
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸
エチルを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.24(3H,t,J=7Hz), 2.5-
2.9(4H,m), 4.12(2H,q,J=7Hz), 6.49(1H,dd,J=8&2Hz),
6.60(1H,d,J=2Hz), 6.64(1H,d,J=8Hz). 参考例６４ 五酸化リン（Ｐ2Ｏ5）（１２．９ｇ）、ヘキサメチルジ
シロキサン〔(ＣＨ3)3ＳiＯＳi(ＣＨ3)3〕（２９．５
ｇ）および１，２−ジクロロベンゼン（６０ｍｌ）の混
合物を１０分間還流下に加熱した。この混合物に３−
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸
エチル（４．７５ｇ）および２−ナフチル酢酸（４．２
３ｇ）を加え、３時間還流下に加熱した。反応混合物を
水にそそいで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、
水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去し、残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル
−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、３
−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール−
５−イル〕プロピオン酸エチル（５．９５ｇ，７３％）
を得た。エーテル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色針状晶。融点８１−８２℃。 参考例６５ ３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール
−５−イル〕プロピオン酸エチル（５．８ｇ）のエーテ
ル（１００ｍｌ）−テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）
溶液に水素化リチウムアルミニウム（０．７３ｇ）を室
温で加え１時間かきまぜた。水（４ｍｌ）を滴下した
後、不溶の固体をろ別した。ろ液を減圧下に濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−ヘキサン（１：１，ｖ／ｖ）で溶出する部
分から、３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキ
サゾール−５−イル〕プロパノール（２．１ｇ，４１
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０２−１０３
℃。
【００７５】参考例６６ オキサリルクロリド〔(ＣＯＣl)2〕（０．８８ｇ）をジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（１．０８ｇ）のジク
ロロメタン（３０ｍｌ）溶液に−３０℃で滴下した。つ
いで３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾ
ール−５−イル〕プロパノール（２．０ｇ）を加えて同
温度で３０分間かきまぜた。さらにトリエチルアミン
（３．１９ｇ）を加え３０分間かきまぜた後、０℃まで
加温し２ＮＨＣlに注いだ。有機層を分取し、水洗、乾
燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去した。残留物は、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキ
サン（１：２，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、３−〔２
−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール−５−イ
ル〕プロピオンアルデヒド（１．５４ｇ，７７％）を得
た。エーテル−イソプロピルエーテルから再結晶した。
無色針状晶。融点 ８１−８２℃。 参考例６７ ３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール
−５−イル〕プロピオンアルデヒド（２．９ｇ）、エチ
レングリコール（０．６８５ｇ）、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１水和物（０．１７５ｇ）およびベンゼン（５０ｍ
ｌ）の混合物を還流下に３時間かきまぜた。反応混合物
は、炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄、乾燥
（ＭgＳＯ4）した。溶媒を留去し、５−〔２−（１，３
−ジオキソラン−２−イル）エチル〕−２−（２−ナフ
チルメチル）ベンゾオキサゾール（２．９５ｇ，８９
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 ８５−８６℃。
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（１．０８ｇ）のジク
ロロメタン（３０ｍｌ）溶液に−３０℃で滴下した。つ
いで３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾ
ール−５−イル〕プロパノール（２．０ｇ）を加えて同
温度で３０分間かきまぜた。さらにトリエチルアミン
（３．１９ｇ）を加え３０分間かきまぜた後、０℃まで
加温し２ＮＨＣlに注いだ。有機層を分取し、水洗、乾
燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去した。残留物は、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキ
サン（１：２，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、３−〔２
−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール−５−イ
ル〕プロピオンアルデヒド（１．５４ｇ，７７％）を得
た。エーテル−イソプロピルエーテルから再結晶した。
無色針状晶。融点 ８１−８２℃。 参考例６７ ３−〔２−（２−ナフチルメチル）ベンゾオキサゾール
−５−イル〕プロピオンアルデヒド（２．９ｇ）、エチ
レングリコール（０．６８５ｇ）、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１水和物（０．１７５ｇ）およびベンゼン（５０ｍ
ｌ）の混合物を還流下に３時間かきまぜた。反応混合物
は、炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄、乾燥
（ＭgＳＯ4）した。溶媒を留去し、５−〔２−（１，３
−ジオキソラン−２−イル）エチル〕−２−（２−ナフ
チルメチル）ベンゾオキサゾール（２．９５ｇ，８９
％）を得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 ８５−８６℃。
【００７６】参考例６８ ２−クロロメチル−５−メチル−２−フェニルオキサゾ
ール（２０．８ｇ）、３−ヒドロキシベンズアルデヒド
（１２．２ｇ），炭酸カリウム（２７．６ｇ）および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２００ｍ
ｌ）の混合物を９０℃で２時間かきまぜた。反応混合物
を水にそそいで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去し、３−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
ベンズアルデヒド（２６．５ｇ，９０％）を得た。エタ
ノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ６７−
６８℃。 参考例６９ 参考例１と同様にして、（Ｅ）−３−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸エチ
ルを得た。メタノールから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 ９１−９２℃。 参考例７０ （Ｅ）−３−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）けい皮酸エチル（１４．０ｇ）のジク
ロロメタン（２００ｍｌ）溶液に氷冷下水素化ジイソブ
チルアルミニウムのトルエン溶液（１．５Ｍ，５１ｍ
ｌ）を滴下した。同温度で３０分間かきまぜた後、２Ｎ
ＨＣl（１５０ｍｌ）を滴下し１時間かきまぜた。有
機層を分取し、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去、
（Ｅ）−〔３−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１−オ
ール（１１．５ｇ，９２％）を得た。酢酸エチルから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １２０−１２１℃。 参考例７１ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）シンナムア
ルデヒドを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色柱状晶。融点 １０３−１０４℃。
ール（２０．８ｇ）、３−ヒドロキシベンズアルデヒド
（１２．２ｇ），炭酸カリウム（２７．６ｇ）および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２００ｍ
ｌ）の混合物を９０℃で２時間かきまぜた。反応混合物
を水にそそいで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去し、３−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
ベンズアルデヒド（２６．５ｇ，９０％）を得た。エタ
ノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ６７−
６８℃。 参考例６９ 参考例１と同様にして、（Ｅ）−３−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸エチ
ルを得た。メタノールから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 ９１−９２℃。 参考例７０ （Ｅ）−３−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）けい皮酸エチル（１４．０ｇ）のジク
ロロメタン（２００ｍｌ）溶液に氷冷下水素化ジイソブ
チルアルミニウムのトルエン溶液（１．５Ｍ，５１ｍ
ｌ）を滴下した。同温度で３０分間かきまぜた後、２Ｎ
ＨＣl（１５０ｍｌ）を滴下し１時間かきまぜた。有
機層を分取し、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去、
（Ｅ）−〔３−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１−オ
ール（１１．５ｇ，９２％）を得た。酢酸エチルから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １２０−１２１℃。 参考例７１ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）シンナムア
ルデヒドを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色柱状晶。融点 １０３−１０４℃。
【００７７】参考例７２ 参考例２３と同様にして、２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ニトロピリジ
ンを得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから
再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １４２−１４３
℃。 参考例７３ 参考例２４と同様にして、５−アミノ−２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリジ
ンを得た。メタノール−イソプロピルエーテルから再結
晶した。無色プリズム晶。融点 １０６−１０７℃。 参考例７４ 参考例２５と同様にして、５−ヨード−２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリジ
ンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １２９−１３０℃。 参考例７５ 参考例２６と同様にして、５−ホルミル−２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリ
ジンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １１６−１１７℃。
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ニトロピリジ
ンを得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから
再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １４２−１４３
℃。 参考例７３ 参考例２４と同様にして、５−アミノ−２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリジ
ンを得た。メタノール−イソプロピルエーテルから再結
晶した。無色プリズム晶。融点 １０６−１０７℃。 参考例７４ 参考例２５と同様にして、５−ヨード−２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリジ
ンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １２９−１３０℃。 参考例７５ 参考例２６と同様にして、５−ホルミル−２−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリ
ジンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １１６−１１７℃。
【００７８】参考例７６ ４−ベンジルオキシベンズアルデヒド（４．５ｇ）、
（１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）トリフェニ
ルホスホニウム ブロミド（１０．０ｇ）およびＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（５０ｍｌ）の混合
物に、油性水素化ナトリウム（６０％，０．９３５ｇ）
を加え６０℃で３時間かきまぜた。反応混合物を氷水に
注ぎ２Ｎ ＨＣl で中和後酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去、残
留物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
た。クロロホルムで溶出する部分から、２−ビニル−
１，３−ジオキソラン誘導体（５．７ｇ）を油状物とし
て得た。この油状物をエタノール（１５０ｍｌ）に溶か
し、パラジウム−炭素（５％，２．０ｇ）を加えて室
温、１気圧で接触還元反応に付した。触媒をろ別し、ろ
液を減圧下に濃縮した。残留物はシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチル（５
０：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−〔２−（４
−ヒドロキシフェニル）エチル〕−１，３−ジオキソラ
ンを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.85-2.0(2H,m), 2.6-2.7
5(2H,m), 3.8-4.15(4H,m), 4.82(1H,broad s), 4.88(1
H,t,J=4.5Hz), 6.75(2H,d,J=8.5Hz), 7.07(2H,d,J=8.5H
z).
（１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）トリフェニ
ルホスホニウム ブロミド（１０．０ｇ）およびＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（５０ｍｌ）の混合
物に、油性水素化ナトリウム（６０％，０．９３５ｇ）
を加え６０℃で３時間かきまぜた。反応混合物を氷水に
注ぎ２Ｎ ＨＣl で中和後酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去、残
留物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
た。クロロホルムで溶出する部分から、２−ビニル−
１，３−ジオキソラン誘導体（５．７ｇ）を油状物とし
て得た。この油状物をエタノール（１５０ｍｌ）に溶か
し、パラジウム−炭素（５％，２．０ｇ）を加えて室
温、１気圧で接触還元反応に付した。触媒をろ別し、ろ
液を減圧下に濃縮した。残留物はシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチル（５
０：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−〔２−（４
−ヒドロキシフェニル）エチル〕−１，３−ジオキソラ
ンを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.85-2.0(2H,m), 2.6-2.7
5(2H,m), 3.8-4.15(4H,m), 4.82(1H,broad s), 4.88(1
H,t,J=4.5Hz), 6.75(2H,d,J=8.5Hz), 7.07(2H,d,J=8.5H
z).
【００７９】参考例７７ 参考例１と同様にして、（Ｅ）−４−イソプロポキシけ
い皮酸エチルの粗油状物を得、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製した〔エーテル−ヘキサン（１：
５，ｖ／ｖ）溶出〕。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.33(3H,t,J=7Hz), 1.35
(6H,d,J=6Hz), 4.25(2H,q,J=7Hz), 4.5-4.7(1H,m), 6.3
0(1H,d,J=16Hz), 6.87(2H,d,J=9Hz), 7.46(2H,d,J=9H
z), 7.63(1H,d,J=16Hz). 参考例７８ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−（４−イソプロポ
キシフェニル）−２−プロペン−１−オールの粗油状物
を得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した
〔酢酸エーテル−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）溶出〕。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.33(6H,d,J=6Hz), 1.38
(1H,t,J=6Hz), 4.30(2H,dt,J=6&1.5Hz), 4.45-4.65(1H,
m), 6.23(1H,dt,J=16&6Hz), 6.56(1H,d,J=16Hz),6.84(2
H,d,J=8.5Hz), 7.31(2H,d,J=8.5Hz). 参考例７９ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−４−イソプロポキシ
シンナムアルデヒドを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.37(6H,d,J=6Hz), 4.5-
4.7(1H,m), 6.61(1H,dd,J=16&8Hz), 6.92(2H,d,J=9Hz),
7.42(1H,d,J=16Hz), 7.51(2H,d,J=9Hz).
い皮酸エチルの粗油状物を得、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製した〔エーテル−ヘキサン（１：
５，ｖ／ｖ）溶出〕。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.33(3H,t,J=7Hz), 1.35
(6H,d,J=6Hz), 4.25(2H,q,J=7Hz), 4.5-4.7(1H,m), 6.3
0(1H,d,J=16Hz), 6.87(2H,d,J=9Hz), 7.46(2H,d,J=9H
z), 7.63(1H,d,J=16Hz). 参考例７８ 参考例７と同様にして、（Ｅ）−３−（４−イソプロポ
キシフェニル）−２−プロペン−１−オールの粗油状物
を得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した
〔酢酸エーテル−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）溶出〕。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.33(6H,d,J=6Hz), 1.38
(1H,t,J=6Hz), 4.30(2H,dt,J=6&1.5Hz), 4.45-4.65(1H,
m), 6.23(1H,dt,J=16&6Hz), 6.56(1H,d,J=16Hz),6.84(2
H,d,J=8.5Hz), 7.31(2H,d,J=8.5Hz). 参考例７９ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−４−イソプロポキシ
シンナムアルデヒドを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.37(6H,d,J=6Hz), 4.5-
4.7(1H,m), 6.61(1H,dd,J=16&8Hz), 6.92(2H,d,J=9Hz),
7.42(1H,d,J=16Hz), 7.51(2H,d,J=9Hz).
【００８０】参考例８０ ５−〔３−（４−イソプロポキシフェニル）プロピル〕
−２，４−オキサゾリジンジオン（１．５ｇ）のジクロ
ロメタン（７０ｍｌ）溶液に、四塩化チタン（ＴiＣ
l4）（４．１ｇ）を０℃で滴下し同温度で１時間かきま
ぜた。反応混合物を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留
去、残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
した。酢酸エチル−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）で溶出
する部分から、５−〔３−（４−ヒドロキシフェニル）
プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．７５
５ｇ，５９％）を得た。アセトン−ヘキサンから再結晶
した。無色プリズム晶。融点１３２−１３３℃。 参考例８１ ４−イソプロポキシベンズアルデヒド（１５．０ｇ）、
４−ホスホノクロトン酸 トリエチルエステル（２７．
３ｇ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
（１００ｍｌ）の混合物に、油性水素化ナトリウム（６
０％，４．３８ｇ）を加え、室温で１６時間かきまぜ
た。反応混合物を氷水に注ぎ２Ｎ ＨＣlで中和後酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（Ｍg
ＳＯ4）後溶媒を留去、残留物は、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付した。エーテル−ヘキサンで溶出
する部分から、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロポキシ
フェニル）−２，４−ペンタンジエン酸エチルエステル
（１３．７ｇ，５８％）を得た。エーテル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 ６４−６５℃。
−２，４−オキサゾリジンジオン（１．５ｇ）のジクロ
ロメタン（７０ｍｌ）溶液に、四塩化チタン（ＴiＣ
l4）（４．１ｇ）を０℃で滴下し同温度で１時間かきま
ぜた。反応混合物を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留
去、残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
した。酢酸エチル−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）で溶出
する部分から、５−〔３−（４−ヒドロキシフェニル）
プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオン（０．７５
５ｇ，５９％）を得た。アセトン−ヘキサンから再結晶
した。無色プリズム晶。融点１３２−１３３℃。 参考例８１ ４−イソプロポキシベンズアルデヒド（１５．０ｇ）、
４−ホスホノクロトン酸 トリエチルエステル（２７．
３ｇ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
（１００ｍｌ）の混合物に、油性水素化ナトリウム（６
０％，４．３８ｇ）を加え、室温で１６時間かきまぜ
た。反応混合物を氷水に注ぎ２Ｎ ＨＣlで中和後酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（Ｍg
ＳＯ4）後溶媒を留去、残留物は、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付した。エーテル−ヘキサンで溶出
する部分から、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロポキシ
フェニル）−２，４−ペンタンジエン酸エチルエステル
（１３．７ｇ，５８％）を得た。エーテル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 ６４−６５℃。
【００８１】参考例８２ 参考例７と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロポ
キシフェニル）−２，４−ペンタンジエン酸エチルエス
テルを水素化ジイソブチルアルミニウムで還元し、
（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロポキシフェニル）−
２，４−ペンタンジエン−１−オールを得た。イソプロ
ピルエーテルら再結晶した。無色針状晶。融点９１−９
２℃。 参考例８３ 参考例１４と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロ
ポキシフェニル）−２，４−ペンタンジエン−１−オー
ルを二酸化マンガンで酸化し、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−
イソプロポキシフェニル）−２，４−ペンタンジエン−
１−アールを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.36(6H,d,J=6Hz), 4.5-
4.7(1H,m), 6.22(1H,dd,J=15&8Hz), 6.8-7.05(4H,m),
7.26(1H,dd,J=15&10Hz), 7.44(2H,d,J=9Hz), 9.59(1H,
d,J=8Hz). 参考例８４ 参考例８０と同様にして、５−〔５−（４−ヒドロキシ
フェニル）ペンチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン
を得た。エーテル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ９６−９７℃。
キシフェニル）−２，４−ペンタンジエン酸エチルエス
テルを水素化ジイソブチルアルミニウムで還元し、
（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロポキシフェニル）−
２，４−ペンタンジエン−１−オールを得た。イソプロ
ピルエーテルら再結晶した。無色針状晶。融点９１−９
２℃。 参考例８３ 参考例１４と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−イソプロ
ポキシフェニル）−２，４−ペンタンジエン−１−オー
ルを二酸化マンガンで酸化し、（Ｅ，Ｅ）−５−（４−
イソプロポキシフェニル）−２，４−ペンタンジエン−
１−アールを油状物として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.36(6H,d,J=6Hz), 4.5-
4.7(1H,m), 6.22(1H,dd,J=15&8Hz), 6.8-7.05(4H,m),
7.26(1H,dd,J=15&10Hz), 7.44(2H,d,J=9Hz), 9.59(1H,
d,J=8Hz). 参考例８４ 参考例８０と同様にして、５−〔５−（４−ヒドロキシ
フェニル）ペンチル〕−２，４−オキサゾリジンジオン
を得た。エーテル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ９６−９７℃。
【００８２】参考例８５ 〔２−（１，３−ジオキソラン−２−イル）エチル〕ト
リフェニルホスホニウム ブロミド（５１．０ｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２００ｍ
ｌ）氷冷溶液に、油性水素化ナトリウム（６０％，４．
６ｇ）を少量づつ加え１５分間かきまぜた。ついで４−
イソプロポキシベンズアルデヒド（１８．０ｇ）を加
え、８０〜８５℃で５時間かきまぜた。反応混合物を氷
水に注ぎ２ＮＨＣl で中和後エーテルで抽出した。エー
テル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去、残留
物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）で溶出する部
分から、１，３−ジオキソラン誘導体（１４．５ｇ）を
油状物として得た。この油状物をエタノール（２５０ｍ
ｌ）に溶かし、パラジウム−炭素（５％，５．０ｇ）を
加えて室温、１気圧で接触還元反応に付した。触媒をろ
別し、ろ液を減圧下に濃縮し、残留物はシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン
（１：５，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−〔３−
（４−イソプロポキシフェニル）プロピル〕−１，３−
ジオキソラン（６．７ｇ，２４％）を油状物として得
た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.32(6H,d,J=6Hz), 1.6-
1.8(4H,m), 2.5-2.65(2H,m), 3.8-4.0(4H,m), 4.4-4.6
(1H,m), 4.8-4.9(1H,m), 6.8(2H,d,J=8.5Hz), 7.07(2H,
d,J=8.5Hz).
リフェニルホスホニウム ブロミド（５１．０ｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２００ｍ
ｌ）氷冷溶液に、油性水素化ナトリウム（６０％，４．
６ｇ）を少量づつ加え１５分間かきまぜた。ついで４−
イソプロポキシベンズアルデヒド（１８．０ｇ）を加
え、８０〜８５℃で５時間かきまぜた。反応混合物を氷
水に注ぎ２ＮＨＣl で中和後エーテルで抽出した。エー
テル層は、水洗、乾燥（ＭgＳＯ4）後溶媒を留去、残留
物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。
酢酸エチル−ヘキサン（１：４，ｖ／ｖ）で溶出する部
分から、１，３−ジオキソラン誘導体（１４．５ｇ）を
油状物として得た。この油状物をエタノール（２５０ｍ
ｌ）に溶かし、パラジウム−炭素（５％，５．０ｇ）を
加えて室温、１気圧で接触還元反応に付した。触媒をろ
別し、ろ液を減圧下に濃縮し、残留物はシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン
（１：５，ｖ／ｖ）で溶出する部分から、２−〔３−
（４−イソプロポキシフェニル）プロピル〕−１，３−
ジオキソラン（６．７ｇ，２４％）を油状物として得
た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.32(6H,d,J=6Hz), 1.6-
1.8(4H,m), 2.5-2.65(2H,m), 3.8-4.0(4H,m), 4.4-4.6
(1H,m), 4.8-4.9(1H,m), 6.8(2H,d,J=8.5Hz), 7.07(2H,
d,J=8.5Hz).
【００８３】参考例８６ 参考例８０と同様にして、５−〔４−（４−ヒドロキシ
フェニル）ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを
得た。ジクロロメタン−メタノールから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １５１−１５２℃。 参考例８７ 参考例６８と同様にして、４−クロロメチル−５−メチ
ル−２−フェニルオキサゾールとｐ−ヒドロキシアセト
フェノンを反応させることにより、４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェ
ノンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して無色
結晶を得た。融点 １２６−１２７℃。 参考例８８ 参考例１と同様にして、４−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェノンとホス
ホノ酢酸トリメチルを反応させることによりメチル
（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−ブテノエート
を得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶して無色結晶
を得た。融点 １２５−１２６℃。 参考例８９ 参考例７と同様にして、メチル（Ｅ）−３−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕−２−ブテノエートと水素化ジイソブチルア
ルミニウムを反応させることにより、メチル （Ｅ）−
３−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）フェニル〕−２−ブテン−１−オールを
得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶して無色結晶を
得た。融点 １２６−１２７℃。 参考例９０ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−〔４−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２−ブテン−１−オールを二酸化マンガンで酸
化することにより、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕
−２−ブテン−１−アールを得た。酢酸エチル−エーテ
ルから再結晶して無色結晶を得た。融点 ９４−９５
℃。
フェニル）ブチル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを
得た。ジクロロメタン−メタノールから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １５１−１５２℃。 参考例８７ 参考例６８と同様にして、４−クロロメチル−５−メチ
ル−２−フェニルオキサゾールとｐ−ヒドロキシアセト
フェノンを反応させることにより、４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェ
ノンを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して無色
結晶を得た。融点 １２６−１２７℃。 参考例８８ 参考例１と同様にして、４−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェノンとホス
ホノ酢酸トリメチルを反応させることによりメチル
（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−ブテノエート
を得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶して無色結晶
を得た。融点 １２５−１２６℃。 参考例８９ 参考例７と同様にして、メチル（Ｅ）−３−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕−２−ブテノエートと水素化ジイソブチルア
ルミニウムを反応させることにより、メチル （Ｅ）−
３−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）フェニル〕−２−ブテン−１−オールを
得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶して無色結晶を
得た。融点 １２６−１２７℃。 参考例９０ 参考例１４と同様にして、（Ｅ）−３−〔４−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２−ブテン−１−オールを二酸化マンガンで酸
化することにより、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕
−２−ブテン−１−アールを得た。酢酸エチル−エーテ
ルから再結晶して無色結晶を得た。融点 ９４−９５
℃。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/4709 Ａ６１Ｋ 31/4709 Ａ６１Ｐ 3/06 Ａ６１Ｐ 3/06 3/10 3/10 Ｃ０７Ｄ 413/12 Ｃ０７Ｄ 413/12 413/14 413/14 417/12 417/12 //(Ｃ０７Ｄ 413/12 213:00 263:00） (Ｃ０７Ｄ 413/14 263:00 333:00） (Ｃ０７Ｄ 413/14 263:00 307:00） (72)発明者 今井 佐知子 京都府京都市西京区川島東代町51番地マン ハイム桂113号
Claims (26)
- 【請求項１】一般式 【化１】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。ＬおよびＭはそれぞれ水素原子を示すかまた
はＬとＭが互いに結合して両者で１個の結合手を形成す
るものとする。〕で表される２，４−オキサゾリジンジ
オン誘導体（ただし、５−〔３−〔４−（５−メチル−
２−フェニル−４−チアゾリルメトキシ）フェニル〕プ
ロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンを除く）また
はその塩。 - 【請求項２】一般式 【化２】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。ＬおよびＭはそれぞれ水素原子を示すかまた
はＬとＭが互いに結合して両者で１個の結合手を形成す
るものとする。〕で表される請求項１記載の２，４−オ
キサゾリジンジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項３】ｎが０または１、Ａが炭素数１〜４の２価
の飽和脂肪族炭化水素残基、ＬおよびＭがそれぞれ水素
原子であり、Ｒ1，Ｒ2がそれぞれ水素原子であるかまた
はＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含む５員環を形
成している請求項２記載の２，４−オキサゾリジンジオ
ン誘導体またはその塩。 - 【請求項４】Ａが−ＣＨ2ＣＨ2−である請求項３記載の
２，４−オキサゾリジンジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項５】Ｒが置換されていてもよい複素環基である
請求項３記載の２，４−オキサゾリジンジオン誘導体ま
たはその塩。 - 【請求項６】Ｒが置換されていてもよいオキサゾリル基
である請求項３記載の２，４−オキサゾリジンジオン誘
導体またはその塩。 - 【請求項７】Ｒがフェニル基，ナフチル基，フリール
基，チエニル基または（Ｃ1−Ｃ3）アルキル基で置換さ
れていてもよいオキサゾリル基である請求項３記載の
２，４−オキサゾリジンジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項８】Ｙが−ＣＯ−、ｎが０、Ａが炭素数１〜４
の飽和炭化水素残基であり、ＬおよびＭがそれぞれ水素
原子である請求項２記載の２，４−オキサゾリジンジオ
ン誘導体またはその塩。 - 【請求項９】Ｒ1およびＲ2がいずれも水素原子である請
求項８記載の２，４−オキサゾリジンジオン誘導体また
はその塩。 - 【請求項１０】Ａが−ＣＨ2−または−ＣＨ2ＣＨ2−で
ある請求項８記載の２，４−オキサゾリジンジオン誘導
体またはその塩。 - 【請求項１１】ＸがＣＨである請求項８記載の２，４−
オキサゾリジンジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項１２】ＸがＮである請求項８記載の２，４−オ
キサゾリジンジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項１３】一般式 【化３】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。ＬおよびＭはそれぞれ水素原子を示すかまた
はＬとＭが互いに結合して両者で１個の結合手を形成す
るものとする。〕で表される請求項１記載の２，４−オ
キサゾリジンジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項１４】５−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−
２−ナフチル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニ
ル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまたは
その塩である請求項１記載の化合物。 - 【請求項１５】５−〔３−〔４−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕プロピ
ル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまたはその塩であ
る請求項１記載の化合物。 - 【請求項１６】５−〔３−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル〕
プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまたはその
塩である請求項１記載の化合物。 - 【請求項１７】５−〔３−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメチル）ベンゾフラン−５−
イル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまた
はその塩である請求項１記載の化合物。 - 【請求項１８】５−〔３−〔２−（２−ナフチルメチ
ル）ベンゾオキサゾール−５−イル〕プロピル〕−２，
４−オキサゾリジンジオンまたはその塩である請求項１
記載の化合物。 - 【請求項１９】５−〔３−〔４−（５−メチル−４−フ
ェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕プロピ
ル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまたはその塩であ
る請求項１記載の化合物。 - 【請求項２０】５−〔５−〔４−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ペンチ
ル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまたはその塩であ
る請求項１記載の化合物。 - 【請求項２１】５−〔４−〔４−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ）フェニ
ル〕ブチリデン〕−２，４−オキサゾリジンジオンまた
はその塩である請求項１記載の化合物。 - 【請求項２２】５−〔３−〔４−〔２−ヒドロキシ−２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エ
トキシ〕フェニル〕プロピル〕−２，４−オキサゾリジ
ンジオンまたはその塩である請求項１記載の化合物。 - 【請求項２３】５−〔３−〔４−〔２−〔Ｎ−メチル−
Ｎ−（２−ピリジル）アミノ〕エトキシ〕フェニル〕プ
ロピル〕−２，４−オキサゾリジンジオンまたはその塩
である請求項１記載の化合物。 - 【請求項２４】一般式 【化４】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基を、Ｚは水素
原子、低級アルキル基またはアラルキル基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。〕で表される化合物とシアン酸アルカリ金属
塩とを反応させ、ついで酸性化することを特徴とする一
般式 【化５】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕で表される
２，４−オキサゾリジンジオン誘導体の製造法。 - 【請求項２５】一般式 【化６】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−
または−ＮＲ3−（ただしＲ3は置換されていてもよいア
ルキル基を示す。）で示される基を、ｍは０または１
を、ｎは０，１または２を、ＸはＣＨまたはＮを、Ａは
炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基をそれぞれ示
す。Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基
を示すかまたはＲ1とＲ2が互いに結合して窒素原子を含
んでいてもよい５または６員の複素環を形成しているこ
とを示す。〕で表される化合物を還元することを特徴と
する一般式 【化７】 〔式中、Ａ1は炭素数１〜７の２価の飽和脂肪族炭化水
素残基を示し、その他の記号は前記と同意義である。〕
で表される２，４−オキサゾリジンジオン誘導体の製造
法。 - 【請求項２６】一般式 【化８】 〔式中、Ａは炭素数１〜７の２価の脂肪族炭化水素残基
を示し、ＬおよびＭはそれぞれ水素原子を示すかまたは
ＬとＭが互いに結合して両者で１個の結合手を形成する
ものとする。〕で表される化合物と一般式 Ｒ−(ＣＯ)m−ＣＨ2−Ｑ 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素残
基または複素環基を、ｍは０または１を、Ｑは脱離基を
示す。〕で表される化合物とを反応させることを特徴と
する一般式 【化９】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕で表される
２，４−オキサゾリジンジオン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000060387A JP3762607B2 (ja) | 1993-08-09 | 2000-03-01 | ２，４−オキサゾリジンジオン誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19730493 | 1993-08-09 | ||
| JP5-197304 | 1993-08-09 | ||
| JP2000060387A JP3762607B2 (ja) | 1993-08-09 | 2000-03-01 | ２，４−オキサゾリジンジオン誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11667894A Division JP3300869B2 (ja) | 1993-08-09 | 1994-05-30 | ２，４−オキサゾリジンジオン誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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