JPH08157461A - スルホン誘導体 - Google Patents
スルホン誘導体Info
- Publication number
- JPH08157461A JPH08157461A JP6303810A JP30381094A JPH08157461A JP H08157461 A JPH08157461 A JP H08157461A JP 6303810 A JP6303810 A JP 6303810A JP 30381094 A JP30381094 A JP 30381094A JP H08157461 A JPH08157461 A JP H08157461A
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- JP
- Japan
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- carbon atoms
- atom
- phenyl
- pyridyl
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- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式
【化1】
〔式中、R1 はアルキレン基を示し、R2 は水素原子な
どを示し、Xは4−トルエンスルホニル基などを示し、
Yは酸素原子などを示し、Zは2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル基などを示す。〕を有するスル
ホン誘導体。 【効果】 高脂血症、高血糖症、肥満症および耐糖能不
全等に起因する疾病、高血圧症、骨粗鬆症、悪液質、糖
尿病合併症等の予防薬および/または治療薬として有用
な化合物である。
どを示し、Xは4−トルエンスルホニル基などを示し、
Yは酸素原子などを示し、Zは2,4−ジオキソチアゾ
リジン−5−イルメチル基などを示す。〕を有するスル
ホン誘導体。 【効果】 高脂血症、高血糖症、肥満症および耐糖能不
全等に起因する疾病、高血圧症、骨粗鬆症、悪液質、糖
尿病合併症等の予防薬および/または治療薬として有用
な化合物である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高脂血症、高血糖症、肥
満症、耐糖能不全状態、インスリン抵抗性および糖尿病
合併症等を改善し、更にアルドース還元酵素阻害作用を
有するスルホン誘導体またはその塩に関し、高脂血症、
高血糖症、肥満症および耐糖能不全等に起因する疾病、
高血圧症、骨粗鬆症、悪液質、糖尿病合併症たとえば網
膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患、動脈硬化
症、等の予防薬および/または治療薬として有用な化合
物を提供する。
満症、耐糖能不全状態、インスリン抵抗性および糖尿病
合併症等を改善し、更にアルドース還元酵素阻害作用を
有するスルホン誘導体またはその塩に関し、高脂血症、
高血糖症、肥満症および耐糖能不全等に起因する疾病、
高血圧症、骨粗鬆症、悪液質、糖尿病合併症たとえば網
膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患、動脈硬化
症、等の予防薬および/または治療薬として有用な化合
物を提供する。
【0002】
【従来の技術】従来、糖尿病、高血糖症治療薬として、
インシュリンおよびトリブタミド、グリピジド等のスル
ホニル尿素化合物が使用されているが、最近、インシュ
リン非依存性糖尿病治療薬として、チアゾリジンジオン
誘導体[例えば、Y.KAWAMATSU等、Che
m.Pharm.Bull.,30巻,3580−36
00頁(1982年);特開昭55−22636号(特
公昭62−42903号);特開昭60−51189号
(特公平2−31079号);特開昭61−85372
号;特開昭61−286376号;特開平1−1311
69号、特開平2−83384:特開平5−21391
3号;ヨーロッパ特許公開第0441605号;WO9
2/07839A号(=特表平6−502146
号)]、オキサゾリジン−2,4−ジオン誘導体(例え
ば特開平3−170478号;WO92/02520A
号)、N−ヒドロキシウレイド基または3,5−ジオキ
ソオキサジアゾリジン−2−イル基を有する化合物[例
えば、WO92/03425A号(=特表平5−508
054号)]が知られている。
インシュリンおよびトリブタミド、グリピジド等のスル
ホニル尿素化合物が使用されているが、最近、インシュ
リン非依存性糖尿病治療薬として、チアゾリジンジオン
誘導体[例えば、Y.KAWAMATSU等、Che
m.Pharm.Bull.,30巻,3580−36
00頁(1982年);特開昭55−22636号(特
公昭62−42903号);特開昭60−51189号
(特公平2−31079号);特開昭61−85372
号;特開昭61−286376号;特開平1−1311
69号、特開平2−83384:特開平5−21391
3号;ヨーロッパ特許公開第0441605号;WO9
2/07839A号(=特表平6−502146
号)]、オキサゾリジン−2,4−ジオン誘導体(例え
ば特開平3−170478号;WO92/02520A
号)、N−ヒドロキシウレイド基または3,5−ジオキ
ソオキサジアゾリジン−2−イル基を有する化合物[例
えば、WO92/03425A号(=特表平5−508
054号)]が知られている。
【0003】しかし、これらの化合物は、活性が十分で
ない、安全性に問題を有する、等の欠点を有する。そし
て臨床上、さらに強力で安全なこれら疾病の予防薬およ
び/または治療薬が望まれている。
ない、安全性に問題を有する、等の欠点を有する。そし
て臨床上、さらに強力で安全なこれら疾病の予防薬およ
び/または治療薬が望まれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは強い活性
と安全性の極めて高い抗高脂血症薬、抗糖尿病薬、抗肥
満薬、耐糖能不全改善薬、インスリン抵抗性改善薬、糖
尿病合併症治療薬等の開発を目的として、スルホン誘導
体について鋭意研究を行ない、本発明を完成した。
と安全性の極めて高い抗高脂血症薬、抗糖尿病薬、抗肥
満薬、耐糖能不全改善薬、インスリン抵抗性改善薬、糖
尿病合併症治療薬等の開発を目的として、スルホン誘導
体について鋭意研究を行ない、本発明を完成した。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I)
【0006】
【化3】
【0007】を有するスルホン誘導体またはその薬理上
許容される塩に関する。
許容される塩に関する。
【0008】上記式中、R1 は炭素数1乃至6個を有す
るアルキレン基を示す。R2 は水素原子、炭素数1乃至
6個を有するアルキル基、炭素数1乃至4個を有するア
ルコキシ基、炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、炭素数1乃至
4個を有するモノアルキルアミノ基、同一もしくは異な
って各アルキルが炭素数1乃至4個を有するジアルキル
アミノ基、1乃至3個の置換分を有していてもよい炭素
数6乃至10個を有するアリール基、1乃至3個の置換
分を有していてもよい複素環基、または1乃至3個の置
換分を有していてもよい炭素数7乃至11個を有するア
ラルキル基を示す。Xは1乃至3個の置換分を有してい
てもよい炭素数6乃至10個を有するアリール基、また
は1乃至3個の置換分を有していてもよい複素環基を示
す。Yは酸素原子、硫黄原子または基 >N−R3(式
中、R3 は水素原子、炭素数1乃至6個を有するアルキ
ル基または炭素数1乃至8個を有するアシル基を示
す。)を示す。Zは基
るアルキレン基を示す。R2 は水素原子、炭素数1乃至
6個を有するアルキル基、炭素数1乃至4個を有するア
ルコキシ基、炭素数1乃至4個を有するアルキルチオ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、炭素数1乃至
4個を有するモノアルキルアミノ基、同一もしくは異な
って各アルキルが炭素数1乃至4個を有するジアルキル
アミノ基、1乃至3個の置換分を有していてもよい炭素
数6乃至10個を有するアリール基、1乃至3個の置換
分を有していてもよい複素環基、または1乃至3個の置
換分を有していてもよい炭素数7乃至11個を有するア
ラルキル基を示す。Xは1乃至3個の置換分を有してい
てもよい炭素数6乃至10個を有するアリール基、また
は1乃至3個の置換分を有していてもよい複素環基を示
す。Yは酸素原子、硫黄原子または基 >N−R3(式
中、R3 は水素原子、炭素数1乃至6個を有するアルキ
ル基または炭素数1乃至8個を有するアシル基を示
す。)を示す。Zは基
【0009】
【化4】
【0010】を示す。
【0011】ここに、R1 が炭素数1乃至6個を有する
アルキレン基を示す場合、該アルキレン基としては、例
えばメチレン、エチリデン、エチレン、メチルエチレ
ン、エチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,
2−ジメチルエチレン、トリメチレン、1−メチルトリ
メチレン、1−エチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、1,1−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどをあげること
ができる。好適には炭素数1乃至4個を有するアルキレ
ン基であり、最適にはメチレン基、エチレン基、メチル
エチレン基、エチルエチレン基である。
アルキレン基を示す場合、該アルキレン基としては、例
えばメチレン、エチリデン、エチレン、メチルエチレ
ン、エチルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,
2−ジメチルエチレン、トリメチレン、1−メチルトリ
メチレン、1−エチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、1,1−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどをあげること
ができる。好適には炭素数1乃至4個を有するアルキレ
ン基であり、最適にはメチレン基、エチレン基、メチル
エチレン基、エチルエチレン基である。
【0012】R2 およびR3 が炭素数1乃至6個を有す
るアルキル基を示す場合、該アルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、2−ペンチ
ル、3−ペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチ
ル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロ
ピル、2,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、2−ヘキ
シル、3−ヘキシル、2−メチルペンチル、3−メチル
ペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチ
ル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチ
ル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチ
ル、3,3−ジメチルブチル、1,1,2−トリメチル
プロピル、1,2,2−トリメチルプロピルなどをあげ
ることができる。好適には炭素数1乃至4個を有するア
ルキル基であり、最適にはメチル基、エチル基である。
るアルキル基を示す場合、該アルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、2−ペンチ
ル、3−ペンチル、2−メチルブチル、3−メチルブチ
ル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロ
ピル、2,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、2−ヘキ
シル、3−ヘキシル、2−メチルペンチル、3−メチル
ペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチ
ル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチ
ル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチ
ル、3,3−ジメチルブチル、1,1,2−トリメチル
プロピル、1,2,2−トリメチルプロピルなどをあげ
ることができる。好適には炭素数1乃至4個を有するア
ルキル基であり、最適にはメチル基、エチル基である。
【0013】R2 が炭素数1乃至4個を有するアルコキ
シ基を示す場合、該アルコキシ基としては、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、イソプトキシなどを
あげることかできる。好適にはメトキシ基である。
シ基を示す場合、該アルコキシ基としては、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、イソプトキシなどを
あげることかできる。好適にはメトキシ基である。
【0014】R2 が炭素数1乃至4個を有するアルキル
チオ基を示す場合、該アルキルチオ基としては、例えば
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、
イソブチルチオなどをあげることができる。好適にはメ
チルチオ基である。
チオ基を示す場合、該アルキルチオ基としては、例えば
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、
イソブチルチオなどをあげることができる。好適にはメ
チルチオ基である。
【0015】R2 がハロゲン原子を示す場合、該ハロゲ
ン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃
素原子をあげることができる。好適にはフッ素原子、塩
素原子、臭素原子である。最適にはフッ素原子、塩素原
子である。
ン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃
素原子をあげることができる。好適にはフッ素原子、塩
素原子、臭素原子である。最適にはフッ素原子、塩素原
子である。
【0016】R2 が炭素数1乃至4個を有するモノアル
キルアミノ基を示す場合、該モノアルキルアミノ基とし
ては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピル
アミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、s−ブチ
ルアミノ、t−ブチルアミノ、イソブチルアミノなどを
あげることができる。好適にはメチルアミノ基、エチル
アミノ基である。
キルアミノ基を示す場合、該モノアルキルアミノ基とし
ては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピル
アミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、s−ブチ
ルアミノ、t−ブチルアミノ、イソブチルアミノなどを
あげることができる。好適にはメチルアミノ基、エチル
アミノ基である。
【0017】R2 が同一もしくは異なって各アルキルが
炭素数1乃至4個を有するジアルキルアミノ基を示す場
合、該ジアルキルアミノ基としては、例えばジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジ(イソプ
ロピル)アミノ、ジブチルアミノ、エチルイソプロピル
アミノなどをあげることができる。好適にはジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノキ基である。
炭素数1乃至4個を有するジアルキルアミノ基を示す場
合、該ジアルキルアミノ基としては、例えばジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジ(イソプ
ロピル)アミノ、ジブチルアミノ、エチルイソプロピル
アミノなどをあげることができる。好適にはジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノキ基である。
【0018】R2 が置換分を有しない炭素数7乃至11
個を有するアラルキル基を示す場合、該アラルキル基と
しては、例えばベンジル、フェネチル、3−フェニルプ
ロピル、4−フェニルブチル、1−ナフチルメチル、2
−ナフチルメチルなどをあげることができる。好適には
ベンジル基、フェネチル基である。最適にはベンジル基
である。
個を有するアラルキル基を示す場合、該アラルキル基と
しては、例えばベンジル、フェネチル、3−フェニルプ
ロピル、4−フェニルブチル、1−ナフチルメチル、2
−ナフチルメチルなどをあげることができる。好適には
ベンジル基、フェネチル基である。最適にはベンジル基
である。
【0019】R2 およびXが置換分を有しない炭素数6
乃至10個を有するアリール基を示す場合、該アリール
基としては、例えばフェニル、1−ナフチル、2−ナフ
チルをあげることができる。好適にはフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基である。
乃至10個を有するアリール基を示す場合、該アリール
基としては、例えばフェニル、1−ナフチル、2−ナフ
チルをあげることができる。好適にはフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基である。
【0020】R2 およびXが置換分を有しない複素環基
を示す場合、該複素環基としては窒素原子、酸素原子お
よび/または硫黄原子を1乃至4個含有する単環性複素
環基または二環性複素環基であり、該複素環基としては
例えば2−ピロリル、3−ピロリルなどのピロリル基、
2−フリル、3−フリルなどのフリル基、2−チエニ
ル、3−チエニルなどのチエニル基、2−ピリジル、3
−ピリジル、4−ピリジルなどのピリジル基、2−イミ
ダゾリル、4−イミダゾリルなどのイミダゾリル基、3
−ピラゾリル、4−ピラゾリルなどのピラゾリル基、2
−オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル
などのオキサゾリル基、3−イソオキサゾリル、4−イ
ソオキサゾリル、5−イソオキサゾリルなどのイソオキ
サゾリル基、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チ
アゾリルなどのチアゾリル基、3−イソチアゾリル、4
−イソチアゾリル、5−イソチアゾリルなどのイソチア
ゾリル基、1,2,3−トリアゾル−4−イル、1,
2,4−トリアゾル−3−イルなどのトリアゾリル基、
1,3,4−チアジアゾール−2−イルなどのチアジア
ゾール基、1,3,4−オキサジアゾール−2−イルな
どのオキサジアゾール基、5−テトラゾリルなどのテト
ラゾリル基、3−ピリダジニル、4−ピリダジニルなど
のピリダジニル基、2−ピリミジル、4−ピリミジル、
5−ピリミジルなどのピリミジル基、ピラジニルなどの
ピラジニル基、1,4−オキサジン−2−イル、1,4
−オキサジン−3−イルなどのオキサジニル基、1,4
−チアジン−2−イル、1,4−チアジン−3−イルな
どのチアジニル基、インドール−2−イル、インドール
−3−イル、インドール−4−イル、インドール−5−
イル、インドール−6−イル、インドール−7−イルな
どのインドリル基、インダゾール−2−イル、インダゾ
ール−3−イル、インダゾール−4−イル、インダゾー
ル−5−イル、インダゾール−6−イル、インダゾール
−7−イルなどのインダゾリル基、ベンゾフラン−2−
イル、ベンゾフラン−3−イル、ベンゾフラン−4−イ
ル、ベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラン−6−イ
ル、ベンゾフラン−7−イルなどのベンゾフラニル基、
ベンゾチオフェン−2−イル、ベンゾチオフェン−3−
イル、ベンゾチオフェン−4−イル、ベンゾチオフェン
−5−イル、ベンゾチオフェン−6−イル、ベンゾチオ
フェン−7−イルなどのベンゾチオフェニル基、ベンゾ
イミダゾール−2−イル、ベンゾイミダゾール−4−イ
ル、ベンゾイミダゾール−5−イル、ベンゾイミダゾー
ル−6−イル、ベンゾイミダゾール−7−イルなどのベ
ンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾール−2−イル、
ベンゾオキサゾール−4−イル、ベンゾオキサゾール−
5−イル、ベンゾオキサゾール−6−イル、ベンゾオキ
サゾール−7−イルなどのベンゾオキサゾリル基、ベン
ゾチアゾール−2−イル、ベンゾチアゾール−4−イ
ル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチアゾール−
6−イル、ベンゾチアゾール−7−イルなどのベンゾチ
アゾリル基、2−キノリル、3−キノリル、4−キノリ
ル、5−キノリル、6−キノリル、7−キノリル、8−
キノリルなどのキノリル基、1−イソキノリル、3−イ
ソキノリル、4−イソキノリル、8−イソキノリルなど
のイソキノリル基、1,4−ベンゾオキサジン−2−イ
ル、1,4−ベンゾオキサジン−3−イルなどのベンゾ
オキサジニル基、1,4−ベンゾチアジン−2−イル、
1,4−ベンゾチアジン−3−イルなどのベンゾチアジ
ニル基、ピロロ[2,3−b]ピリジン−2−イル、ピ
ロロ[2,3−b]ピリジン−3−イルなどのピロロ
[2,3−b]ピリジニル基、フロ[2,3−b]ピリ
ジン−2−イル、フロ[2,3−b]ピリジン−3−イ
ルなどのフロ[2,3−b]ピリジニル基、チエノ
[2,3−b]ピリジン−2−イル、チエノ[2,3−
b]ピリジン−3−イルなどのチエノ[2,3−b]ピ
リジニル基、1,8−ナフチリジン−2−イル、1,8
−ナフチリジン−3−イル、1,5−ナフチリジン−2
−イル、1,5−ナフチリジン−3−イルなどのナフチ
リジニル基、イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イ
ル、イミダゾ[4,5−b]ピリジン−5−イルなどの
イミダゾピリジニル基、オキサゾロ[4,5−b]ピリ
ジン−2−イル、オキサゾロ[5,4−b]ピリジン−
2−イルなどのオキサゾロピリジニル基、チアゾロ
[4,5−b]ピリジン−2−イル、チアゾロ[4,5
−c]ピリジン−2−イルなどのチアゾロピリジル基等
をあげることができる。
を示す場合、該複素環基としては窒素原子、酸素原子お
よび/または硫黄原子を1乃至4個含有する単環性複素
環基または二環性複素環基であり、該複素環基としては
例えば2−ピロリル、3−ピロリルなどのピロリル基、
2−フリル、3−フリルなどのフリル基、2−チエニ
ル、3−チエニルなどのチエニル基、2−ピリジル、3
−ピリジル、4−ピリジルなどのピリジル基、2−イミ
ダゾリル、4−イミダゾリルなどのイミダゾリル基、3
−ピラゾリル、4−ピラゾリルなどのピラゾリル基、2
−オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル
などのオキサゾリル基、3−イソオキサゾリル、4−イ
ソオキサゾリル、5−イソオキサゾリルなどのイソオキ
サゾリル基、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チ
アゾリルなどのチアゾリル基、3−イソチアゾリル、4
−イソチアゾリル、5−イソチアゾリルなどのイソチア
ゾリル基、1,2,3−トリアゾル−4−イル、1,
2,4−トリアゾル−3−イルなどのトリアゾリル基、
1,3,4−チアジアゾール−2−イルなどのチアジア
ゾール基、1,3,4−オキサジアゾール−2−イルな
どのオキサジアゾール基、5−テトラゾリルなどのテト
ラゾリル基、3−ピリダジニル、4−ピリダジニルなど
のピリダジニル基、2−ピリミジル、4−ピリミジル、
5−ピリミジルなどのピリミジル基、ピラジニルなどの
ピラジニル基、1,4−オキサジン−2−イル、1,4
−オキサジン−3−イルなどのオキサジニル基、1,4
−チアジン−2−イル、1,4−チアジン−3−イルな
どのチアジニル基、インドール−2−イル、インドール
−3−イル、インドール−4−イル、インドール−5−
イル、インドール−6−イル、インドール−7−イルな
どのインドリル基、インダゾール−2−イル、インダゾ
ール−3−イル、インダゾール−4−イル、インダゾー
ル−5−イル、インダゾール−6−イル、インダゾール
−7−イルなどのインダゾリル基、ベンゾフラン−2−
イル、ベンゾフラン−3−イル、ベンゾフラン−4−イ
ル、ベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラン−6−イ
ル、ベンゾフラン−7−イルなどのベンゾフラニル基、
ベンゾチオフェン−2−イル、ベンゾチオフェン−3−
イル、ベンゾチオフェン−4−イル、ベンゾチオフェン
−5−イル、ベンゾチオフェン−6−イル、ベンゾチオ
フェン−7−イルなどのベンゾチオフェニル基、ベンゾ
イミダゾール−2−イル、ベンゾイミダゾール−4−イ
ル、ベンゾイミダゾール−5−イル、ベンゾイミダゾー
ル−6−イル、ベンゾイミダゾール−7−イルなどのベ
ンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾール−2−イル、
ベンゾオキサゾール−4−イル、ベンゾオキサゾール−
5−イル、ベンゾオキサゾール−6−イル、ベンゾオキ
サゾール−7−イルなどのベンゾオキサゾリル基、ベン
ゾチアゾール−2−イル、ベンゾチアゾール−4−イ
ル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチアゾール−
6−イル、ベンゾチアゾール−7−イルなどのベンゾチ
アゾリル基、2−キノリル、3−キノリル、4−キノリ
ル、5−キノリル、6−キノリル、7−キノリル、8−
キノリルなどのキノリル基、1−イソキノリル、3−イ
ソキノリル、4−イソキノリル、8−イソキノリルなど
のイソキノリル基、1,4−ベンゾオキサジン−2−イ
ル、1,4−ベンゾオキサジン−3−イルなどのベンゾ
オキサジニル基、1,4−ベンゾチアジン−2−イル、
1,4−ベンゾチアジン−3−イルなどのベンゾチアジ
ニル基、ピロロ[2,3−b]ピリジン−2−イル、ピ
ロロ[2,3−b]ピリジン−3−イルなどのピロロ
[2,3−b]ピリジニル基、フロ[2,3−b]ピリ
ジン−2−イル、フロ[2,3−b]ピリジン−3−イ
ルなどのフロ[2,3−b]ピリジニル基、チエノ
[2,3−b]ピリジン−2−イル、チエノ[2,3−
b]ピリジン−3−イルなどのチエノ[2,3−b]ピ
リジニル基、1,8−ナフチリジン−2−イル、1,8
−ナフチリジン−3−イル、1,5−ナフチリジン−2
−イル、1,5−ナフチリジン−3−イルなどのナフチ
リジニル基、イミダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イ
ル、イミダゾ[4,5−b]ピリジン−5−イルなどの
イミダゾピリジニル基、オキサゾロ[4,5−b]ピリ
ジン−2−イル、オキサゾロ[5,4−b]ピリジン−
2−イルなどのオキサゾロピリジニル基、チアゾロ
[4,5−b]ピリジン−2−イル、チアゾロ[4,5
−c]ピリジン−2−イルなどのチアゾロピリジル基等
をあげることができる。
【0021】好適には、窒素原子、酸素原子および/ま
たは硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環基また
は二環性複素環基であり、該複素環基としては例えば2
−ピロリル、3−ピロリルなどのピロリル基、2−フリ
ル、3−フリルなどのフリル基、2−チエニル、3−チ
エニルなどのチエニル基、2−ピリジル、3−ピリジ
ル、4−ピリジルなどのピリジル基、2−イミダゾリ
ル、4−イミダゾリルなどのイミダゾリル基、3−ピラ
ゾリル、4−ピラゾリルなどのピラゾリル基、インドー
ル−2−イル、インドール−3−イル、インドール−4
−イル、インドール−5−イル、インドール−6−イ
ル、インドール−7−イルなどのインドリル基、ベンゾ
フラン−2−イル、ベンゾフラン−3−イル、ベンゾフ
ラン−4−イル、ベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラ
ン−6−イル、ベンゾフラン−7−イルなどのベンゾフ
ラニル基、ベンゾチオフェン−2−イル、ベンゾチオフ
ェン−3−イル、ベンゾチオフェン−4−イル、ベンゾ
チオフェン−5−イル、ベンゾチオフェン−6−イル、
ベンゾチオフェン−7−イルなどのベンゾチオフェニル
基、ベンゾイミダゾール−2−イル、ベンゾイミダゾー
ル−4−イル、ベンゾイミダゾール−5−イル、ベンゾ
イミダゾール−6−イル、ベンゾイミダゾール−7−イ
ルなどのベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾール−
2−イル、ベンゾオキサゾール−4−イル、ベンゾオキ
サゾール−5−イル、ベンゾオキサゾール−6−イル、
ベンゾオキサゾール−7−イルなどのベンゾオキサゾリ
ル基、ベンゾチアゾール−2−イル、ベンゾチアゾール
−4−イル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチア
ゾール−6−イル、ベンゾチアゾール−7−イルなどの
ベンゾチアゾリル基、2−キノリル、3−キノリル、4
−キノリル、5−キノリル、6−キノリル、7−キノリ
ル、8−キノリルなどのキノリル基、1−イソキノリ
ル、3−イソキノリル、4−イソキノリル、8−イソキ
ノリルなどのイソキノリル基、ピロロ[2,3−b]ピ
リジン−2−イル、ピロロ[2,3−b]ピリジン−3
−イルなどのピロロ[2,3−b]ピリジニル基、1,
8−ナフチリジン−2−イル、1,8−ナフチリジン−
3−イル、1,5−ナフチリジン−2−イル、1,5−
ナフチリジン−3−イルなどのナフチリジニル基、イミ
ダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イル、イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−5−イルなどのイミダゾピリ
ジニル基等をあげることができる。更に好適には、窒素
原子、酸素原子および/または硫黄原子を1乃至2個含
有する単環性複素環基あるいは窒素原子、酸素原子およ
び/または硫黄原子を1乃至3個含有する二環性複素環
基であり、該複素環基としては例えば2−ピロリル、3
−ピロリル、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、
3−チエニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリ
ジル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、3−ピラ
ゾリル、4−ピラゾリル、インドール−2−イル、イン
ドール−3−イル、ベンゾフラン−2−イル、ベンゾチ
オフェン−2−イル、ベンゾイミダゾール−2−イル、
ベンゾオキサゾール−2−イル、ベンゾチアゾール−2
−イル、2−キノリル、3−キノリル、4−キノリル、
5−キノリル、8−キノリル、1−イソキノリル、3−
イソキノリル、4−イソキノリル、8−イソキノリル、
ピロロ[2,3−b]ピリジン−2−イル、1,8−ナ
フチリジン−2−イル、イミダゾ[4,5−b]ピリジ
ン−2−イル等をあげることができる。
たは硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環基また
は二環性複素環基であり、該複素環基としては例えば2
−ピロリル、3−ピロリルなどのピロリル基、2−フリ
ル、3−フリルなどのフリル基、2−チエニル、3−チ
エニルなどのチエニル基、2−ピリジル、3−ピリジ
ル、4−ピリジルなどのピリジル基、2−イミダゾリ
ル、4−イミダゾリルなどのイミダゾリル基、3−ピラ
ゾリル、4−ピラゾリルなどのピラゾリル基、インドー
ル−2−イル、インドール−3−イル、インドール−4
−イル、インドール−5−イル、インドール−6−イ
ル、インドール−7−イルなどのインドリル基、ベンゾ
フラン−2−イル、ベンゾフラン−3−イル、ベンゾフ
ラン−4−イル、ベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラ
ン−6−イル、ベンゾフラン−7−イルなどのベンゾフ
ラニル基、ベンゾチオフェン−2−イル、ベンゾチオフ
ェン−3−イル、ベンゾチオフェン−4−イル、ベンゾ
チオフェン−5−イル、ベンゾチオフェン−6−イル、
ベンゾチオフェン−7−イルなどのベンゾチオフェニル
基、ベンゾイミダゾール−2−イル、ベンゾイミダゾー
ル−4−イル、ベンゾイミダゾール−5−イル、ベンゾ
イミダゾール−6−イル、ベンゾイミダゾール−7−イ
ルなどのベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾール−
2−イル、ベンゾオキサゾール−4−イル、ベンゾオキ
サゾール−5−イル、ベンゾオキサゾール−6−イル、
ベンゾオキサゾール−7−イルなどのベンゾオキサゾリ
ル基、ベンゾチアゾール−2−イル、ベンゾチアゾール
−4−イル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチア
ゾール−6−イル、ベンゾチアゾール−7−イルなどの
ベンゾチアゾリル基、2−キノリル、3−キノリル、4
−キノリル、5−キノリル、6−キノリル、7−キノリ
ル、8−キノリルなどのキノリル基、1−イソキノリ
ル、3−イソキノリル、4−イソキノリル、8−イソキ
ノリルなどのイソキノリル基、ピロロ[2,3−b]ピ
リジン−2−イル、ピロロ[2,3−b]ピリジン−3
−イルなどのピロロ[2,3−b]ピリジニル基、1,
8−ナフチリジン−2−イル、1,8−ナフチリジン−
3−イル、1,5−ナフチリジン−2−イル、1,5−
ナフチリジン−3−イルなどのナフチリジニル基、イミ
ダゾ[4,5−b]ピリジン−2−イル、イミダゾ
[4,5−b]ピリジン−5−イルなどのイミダゾピリ
ジニル基等をあげることができる。更に好適には、窒素
原子、酸素原子および/または硫黄原子を1乃至2個含
有する単環性複素環基あるいは窒素原子、酸素原子およ
び/または硫黄原子を1乃至3個含有する二環性複素環
基であり、該複素環基としては例えば2−ピロリル、3
−ピロリル、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、
3−チエニル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリ
ジル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、3−ピラ
ゾリル、4−ピラゾリル、インドール−2−イル、イン
ドール−3−イル、ベンゾフラン−2−イル、ベンゾチ
オフェン−2−イル、ベンゾイミダゾール−2−イル、
ベンゾオキサゾール−2−イル、ベンゾチアゾール−2
−イル、2−キノリル、3−キノリル、4−キノリル、
5−キノリル、8−キノリル、1−イソキノリル、3−
イソキノリル、4−イソキノリル、8−イソキノリル、
ピロロ[2,3−b]ピリジン−2−イル、1,8−ナ
フチリジン−2−イル、イミダゾ[4,5−b]ピリジ
ン−2−イル等をあげることができる。
【0022】Yが基 >N−R3 であり、R3 が炭素数
1乃至8個を有するアシル基を示す場合、該アシル基と
しては、脂肪族アシル基または芳香族アシル基であり、
脂肪族アシル基としては例えば、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ルなどであり、芳香族アシル基としては例えばベンゾイ
ル、トルオイルなどをあげることができる。好適にはア
セチル基、プロピオニル基である。
1乃至8個を有するアシル基を示す場合、該アシル基と
しては、脂肪族アシル基または芳香族アシル基であり、
脂肪族アシル基としては例えば、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ルなどであり、芳香族アシル基としては例えばベンゾイ
ル、トルオイルなどをあげることができる。好適にはア
セチル基、プロピオニル基である。
【0023】Zは上記に式で示したように、2,4−ジ
オキソチアゾリジン−5−イリデニルメチル(Za)、
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル(Z
b)、2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル(Zc)、3,5−ジオキソオキサジアゾリジン−2
−イルメチル(Zd)である。好適には2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル(Zb)、2,4−ジ
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル(Zc)、3,
5−ジオキソオキサジアゾリジン−2−イルメチル(Z
d)である。更に好適には2,4−ジオキソチアゾリジ
ン−5−イルメチル(Zb)、2,4−ジオキソオキサ
ゾリジン−5−イルメチル(Zc)である。最適には
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル(Z
b)である。
オキソチアゾリジン−5−イリデニルメチル(Za)、
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル(Z
b)、2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル(Zc)、3,5−ジオキソオキサジアゾリジン−2
−イルメチル(Zd)である。好適には2,4−ジオキ
ソチアゾリジン−5−イルメチル(Zb)、2,4−ジ
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル(Zc)、3,
5−ジオキソオキサジアゾリジン−2−イルメチル(Z
d)である。更に好適には2,4−ジオキソチアゾリジ
ン−5−イルメチル(Zb)、2,4−ジオキソオキサ
ゾリジン−5−イルメチル(Zc)である。最適には
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル(Z
b)である。
【0024】上記において、R2 がアリール基、複素環
基またはアラルキル基を示す場合、およびXがアリール
基または複素環基を示す場合、該基は環上に1乃至3個
の置換分を有していてもよく、そのような置換分として
は、炭素数1乃至6個を有するアルキル基、炭素数1乃
至4個を有するアルコキシ基、炭素数1または2個を有
するアルキレンジオキシ基、炭素数1乃至4個を有する
アルキルチオ基、炭素数1乃至4個を有するアルキルス
ルホニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、炭素
数1乃至4個を有するモノアルキルアミノ基、同一もし
くは異なって各アルキルが炭素数1乃至4個を有するジ
アルキルアミノ基、炭素数6乃至10個を有するアリー
ル基(該基は置換分として低級アルキル、低級アルコキ
シ、ハロゲンまたはアルキレンジオキシを有していても
よい)、複素環基、炭素数7乃至11個を有するアラル
キル基、炭素数6乃至10個を有するアリールオキシ
基、炭素数6乃至10個を有するアリールチオ基、炭素
数6乃至10個を有するアリールスルホニル基または炭
素数6乃至10個を有するアリールスルホニルアミノ基
(該基は窒素原子に置換分として低級アルキルを有して
いてもよい)をあげることができる。
基またはアラルキル基を示す場合、およびXがアリール
基または複素環基を示す場合、該基は環上に1乃至3個
の置換分を有していてもよく、そのような置換分として
は、炭素数1乃至6個を有するアルキル基、炭素数1乃
至4個を有するアルコキシ基、炭素数1または2個を有
するアルキレンジオキシ基、炭素数1乃至4個を有する
アルキルチオ基、炭素数1乃至4個を有するアルキルス
ルホニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、炭素
数1乃至4個を有するモノアルキルアミノ基、同一もし
くは異なって各アルキルが炭素数1乃至4個を有するジ
アルキルアミノ基、炭素数6乃至10個を有するアリー
ル基(該基は置換分として低級アルキル、低級アルコキ
シ、ハロゲンまたはアルキレンジオキシを有していても
よい)、複素環基、炭素数7乃至11個を有するアラル
キル基、炭素数6乃至10個を有するアリールオキシ
基、炭素数6乃至10個を有するアリールチオ基、炭素
数6乃至10個を有するアリールスルホニル基または炭
素数6乃至10個を有するアリールスルホニルアミノ基
(該基は窒素原子に置換分として低級アルキルを有して
いてもよい)をあげることができる。
【0025】該置換分が炭素数1乃至6個を有するアル
キル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素
数1乃至4個を有するアルキルチオ基、ハロゲン原子、
炭素数1乃至4個を有するモノアルキルアミノ基、同一
もしくは異なって各アルキルが炭素数1乃至4個を有す
るジアルキルアミノ基、炭素数6乃至10個を有するア
リール基(該基は置換分を有しない)、複素環基または
炭素数7乃至11個を有するアラルキル基である場合、
そのような基の例としては前述のR2 で示したと同様の
基をあげることができる。
キル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素
数1乃至4個を有するアルキルチオ基、ハロゲン原子、
炭素数1乃至4個を有するモノアルキルアミノ基、同一
もしくは異なって各アルキルが炭素数1乃至4個を有す
るジアルキルアミノ基、炭素数6乃至10個を有するア
リール基(該基は置換分を有しない)、複素環基または
炭素数7乃至11個を有するアラルキル基である場合、
そのような基の例としては前述のR2 で示したと同様の
基をあげることができる。
【0026】該置換分が炭素数1または2個を有するア
ルキレンジオキシ基である場合、例えばメチレンジオキ
シ、エチレンジオキシをあげることができる。
ルキレンジオキシ基である場合、例えばメチレンジオキ
シ、エチレンジオキシをあげることができる。
【0027】該置換分が炭素数1乃至4個を有するアル
キルスルホニル基である場合、例えばメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホ
ニル、sec−ブチルスルホニル、t−ブチルスルホニ
ルをあげることができる。好適には、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基およびイソプロピルスルホニル
基である。
キルスルホニル基である場合、例えばメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホ
ニル、sec−ブチルスルホニル、t−ブチルスルホニ
ルをあげることができる。好適には、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基およびイソプロピルスルホニル
基である。
【0028】該置換分が更に置換分として低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロゲンまたはアルキレンジオキ
シを有するアリール基である場合、例えばトリルのよう
な低級アルキルを置換分として有するアリール、メトキ
シフェニル、エトキシフェニルのような低級アルコキシ
を置換分として有するアリール、フルオロフェニル、ク
ロロフェニル、ブロムフェニルのようなハロゲンを置換
分として有するアリールおよびメチレンジオキシフェニ
ルのようなアルキレンジオキシを置換分として有するア
リールをあげることができる。好適には4−メトキシフ
ェニルおよび3,4−メチレンジオキシフェニルであ
る。
ル、低級アルコキシ、ハロゲンまたはアルキレンジオキ
シを有するアリール基である場合、例えばトリルのよう
な低級アルキルを置換分として有するアリール、メトキ
シフェニル、エトキシフェニルのような低級アルコキシ
を置換分として有するアリール、フルオロフェニル、ク
ロロフェニル、ブロムフェニルのようなハロゲンを置換
分として有するアリールおよびメチレンジオキシフェニ
ルのようなアルキレンジオキシを置換分として有するア
リールをあげることができる。好適には4−メトキシフ
ェニルおよび3,4−メチレンジオキシフェニルであ
る。
【0029】該置換分が炭素数6乃至10個を有するア
リールオキシ基である場合、例えばフェニルオキシ、ナ
フチルオキシをあげることができる。
リールオキシ基である場合、例えばフェニルオキシ、ナ
フチルオキシをあげることができる。
【0030】該置換分が炭素数6乃至10個を有するア
リールチオ基である場合、例えばフェニルチオ、ナフチ
ルチオをあげることができる。
リールチオ基である場合、例えばフェニルチオ、ナフチ
ルチオをあげることができる。
【0031】該置換分が炭素数6乃至10個を有するア
リールスルホニル基である場合、例えばフェニルスルホ
ニル、ナフチルスルホニルをあげることができる。
リールスルホニル基である場合、例えばフェニルスルホ
ニル、ナフチルスルホニルをあげることができる。
【0032】該置換分が炭素数6乃至10個を有するア
リールスルホニルアミノ基である場合、例えばフェニル
スルホニルアミノ、N−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ、ナフチルスルホニルアミノおよびN−メチルナフチ
ルスルホニルアミノをあげることができる。
リールスルホニルアミノ基である場合、例えばフェニル
スルホニルアミノ、N−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ、ナフチルスルホニルアミノおよびN−メチルナフチ
ルスルホニルアミノをあげることができる。
【0033】R2 が環上に1乃至3個の置換分を有する
アリール基、複素環基またはアラルキル基を示す場合、
およびXが環上に1乃至3個の置換分を有するアリール
基または複素環基を示す場合、これらの基の好適な具体
例としては、以下に述べる基を挙げることができる。
アリール基、複素環基またはアラルキル基を示す場合、
およびXが環上に1乃至3個の置換分を有するアリール
基または複素環基を示す場合、これらの基の好適な具体
例としては、以下に述べる基を挙げることができる。
【0034】環上に1乃至3個の置換分を有するアリー
ル基としては、例えばm−トリル基、p−トリル基、3
−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、3−イソ
プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、3
−t−ブチルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、
3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、3
−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、3−
イソプロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニ
ル基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、3−メチ
ルチオフェニル基、4−メチルチオフェニル基、3−エ
チルチオフェニル基、4−エチルチオフェニル基、3−
イソプロピルチオフェニル基、4−イソプロピルチオフ
ェニル基、3−メチルスルホニルフェニル基、4−メチ
ルスルホニルフェニル基、3−エチルスルホニルフェニ
ル基、4−エチルスルホニルフェニル基、3−イソプロ
ピルスルホニルフェニル基、4−イソプロピルスルホニ
ルフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェ
ニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル
基、3−ビフェニリル基、4−ビフェニリル基、3−
(4−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4−メト
キシフェニル)フェニル基、3−(3,4−メチレンジ
オキシフェニル)フェニル基、4−(3,4−メチレン
ジオキシフェニル)フェニル基、3−ベンジルフェニル
基、4−ベンジルフェニル基、3−フェノキシフェニル
基、4−フェノキシフェニル基、3−フェニルチオフェ
ニル基、4−フェニルチオフェニル基、3−フェニルス
ルホニルフェニル基、4−フェニルスルホニルフェニル
基、3−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、4
−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、N−メチ
ル−3−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、N
−メチル−4−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル
基、3−(イミダゾール−1−イル)フェニル基、4−
(イミダゾール−1−イル)フェニル基、3−(1−メ
チルイミダゾール−4−イル)フェニル基、4−(1−
メチルイミダゾール−4−イル)フェニル基、3−(2
−フリル)フェニル基、4−(2−フリル)フェニル
基、3−(2−チエニル)フェニル基、4−(2−チエ
ニル)フェニル基、3−(3−チエニル)フェニル基、
4−(3−チエニル)フェニル基、3−(2−ピリジ
ル)フェニル基、4−(2−ピリジル)フェニル基、3
−(3−ピリジル)フェニル基、4−(3−ピリジル)
フェニル基、3−(4−ピリジル)フェニル基、4−
(4−ピリジル)フェニル基、3−(2−ピリジルスル
ホニル)フェニル基、4−(2−ピリジルスルホニル)
フェニル基、3−(3−ピリジルスルホニル)フェニル
基、4−(3−ピリジルスルホニル)フェニル基、3−
(2−ピリジルスルホニルアミノ)フェニル基、3−
(N−メチル−2−ピリジルスルホニルアミノ)フェニ
ル基、4−(2−ピリジルスルホニルアミノ)フェニル
基、4−(N−メチル−2−ピリジルスルホニルアミ
ノ)フェニル基、3−(3−ピリジルスルホニルアミ
ノ)フェニル基、3−(N−メチル−3−ピリジルスル
ホニルアミノ)フェニル基、4−(3−ピリジルスルホ
ニルアミノ)フェニル基、4−(N−メチル−3−ピリ
ジルスルホニルアミノ)フェニル基、3−(オキサゾー
ル−2−イル)フェニル基、4−(オキサゾール−2−
イル)フェニル基、3−(オキサゾール−4−イル)フ
ェニル基、4−(オキサゾール−4−イル)フェニル
基、3−(オキサゾール−5−イル)フェニル基、4−
(オキサゾール−5−イル)フェニル基、3−(チアゾ
ール−2−イル)フェニル基、4−(チアゾール−2−
イル)フェニル基、3−(チアゾール−4−イル)フェ
ニル基、4−(チアゾール−4−イル)フェニル基、3
−(チアゾール−5−イル)フェニル基、4−(チアゾ
ール−5−イル)フェニル基などを挙げることができ
る。
ル基としては、例えばm−トリル基、p−トリル基、3
−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、3−イソ
プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、3
−t−ブチルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、
3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、3
−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、3−
イソプロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニ
ル基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、3−メチ
ルチオフェニル基、4−メチルチオフェニル基、3−エ
チルチオフェニル基、4−エチルチオフェニル基、3−
イソプロピルチオフェニル基、4−イソプロピルチオフ
ェニル基、3−メチルスルホニルフェニル基、4−メチ
ルスルホニルフェニル基、3−エチルスルホニルフェニ
ル基、4−エチルスルホニルフェニル基、3−イソプロ
ピルスルホニルフェニル基、4−イソプロピルスルホニ
ルフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェ
ニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル
基、3−ビフェニリル基、4−ビフェニリル基、3−
(4−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4−メト
キシフェニル)フェニル基、3−(3,4−メチレンジ
オキシフェニル)フェニル基、4−(3,4−メチレン
ジオキシフェニル)フェニル基、3−ベンジルフェニル
基、4−ベンジルフェニル基、3−フェノキシフェニル
基、4−フェノキシフェニル基、3−フェニルチオフェ
ニル基、4−フェニルチオフェニル基、3−フェニルス
ルホニルフェニル基、4−フェニルスルホニルフェニル
基、3−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、4
−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、N−メチ
ル−3−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、N
−メチル−4−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル
基、3−(イミダゾール−1−イル)フェニル基、4−
(イミダゾール−1−イル)フェニル基、3−(1−メ
チルイミダゾール−4−イル)フェニル基、4−(1−
メチルイミダゾール−4−イル)フェニル基、3−(2
−フリル)フェニル基、4−(2−フリル)フェニル
基、3−(2−チエニル)フェニル基、4−(2−チエ
ニル)フェニル基、3−(3−チエニル)フェニル基、
4−(3−チエニル)フェニル基、3−(2−ピリジ
ル)フェニル基、4−(2−ピリジル)フェニル基、3
−(3−ピリジル)フェニル基、4−(3−ピリジル)
フェニル基、3−(4−ピリジル)フェニル基、4−
(4−ピリジル)フェニル基、3−(2−ピリジルスル
ホニル)フェニル基、4−(2−ピリジルスルホニル)
フェニル基、3−(3−ピリジルスルホニル)フェニル
基、4−(3−ピリジルスルホニル)フェニル基、3−
(2−ピリジルスルホニルアミノ)フェニル基、3−
(N−メチル−2−ピリジルスルホニルアミノ)フェニ
ル基、4−(2−ピリジルスルホニルアミノ)フェニル
基、4−(N−メチル−2−ピリジルスルホニルアミ
ノ)フェニル基、3−(3−ピリジルスルホニルアミ
ノ)フェニル基、3−(N−メチル−3−ピリジルスル
ホニルアミノ)フェニル基、4−(3−ピリジルスルホ
ニルアミノ)フェニル基、4−(N−メチル−3−ピリ
ジルスルホニルアミノ)フェニル基、3−(オキサゾー
ル−2−イル)フェニル基、4−(オキサゾール−2−
イル)フェニル基、3−(オキサゾール−4−イル)フ
ェニル基、4−(オキサゾール−4−イル)フェニル
基、3−(オキサゾール−5−イル)フェニル基、4−
(オキサゾール−5−イル)フェニル基、3−(チアゾ
ール−2−イル)フェニル基、4−(チアゾール−2−
イル)フェニル基、3−(チアゾール−4−イル)フェ
ニル基、4−(チアゾール−4−イル)フェニル基、3
−(チアゾール−5−イル)フェニル基、4−(チアゾ
ール−5−イル)フェニル基などを挙げることができ
る。
【0035】環上に1乃至3個の置換分を有する複素環
基としては、例えば1−メチル−2−ピロリル基、1−
フェニル−2−ピロリル基、1−ベンジル−2−ピロリ
ル基、5−メチル−2−フリル基、5−フェニル−2−
フリル基、5−メチル−2−チエニル基、5−フェニル
−2−チエニル基、5−メチル−3−チエニル基、5−
フェニル−3−チエニル基、1−メチル−3−ピラゾリ
ル基、1−フェニル−3−ピラゾリル基、1−メチル−
2−イミダゾリル基、1−フェニル−2−イミダゾリル
基、1−メチル−4−イミダゾリル基、1−フェニル−
4−イミダゾリル基、1−メチル−2−フェニル−4−
イミダゾリル基、1,5−ジメチル−2−フェニル−4
−イミダゾリル基、1,4,−ジメチル−2−フェニル
−5−イミダゾリル基、2−メチル−4−オキサゾリル
基、2−フェニル−4−オキサゾリル基、2−メチル−
5−オキサゾリル基、2−フェニル−5−オキサゾリル
基、4−メチル−2−フェニル−5−オキサゾリル基、
5−メチル−2−フェニル−4−オキサゾリル基、2−
メチル−4−チアゾリル基、2−フェニル−4−チアゾ
リル基、2−メチル−5−チアゾリル基、2−フェニル
−5−チアゾリル基、4−メチル−2−フェニル−5−
チアゾリル基、5−メチル−2−フェニル−4−チアゾ
リル基、1−メチル−3−ピラゾリル基、1−フェニル
−3−ピラゾリル基、3−メチル−5−イソオキサゾリ
ル基、3−フェニル−5−イソオキサゾリル基、5−メ
チル−3−ピリジル基、5−エチル−3−ピリジル基、
5−フェニル−3−ピリジル基、6−メチル−3−ピリ
ジル基、6−エチル−3−ピリジル基、6−フェニル−
3−ピリジル基、6−メトキシ−3−ピリジル基、6−
エトキシ−3−ピリジル基、6−イソプロポキシ−3−
ピリジル基、6−メチルチオ−3−ピリジル基、6−エ
チルチオ−3−ピリジル基、6−イソプロピルチオ−3
−ピリジル基、6−メチルスルホニル−3−ピリジル
基、6−エチルスルホニル−3−ピリジル基、6−イソ
プロピルスルホニル−3−ピリジル基、6−ベンジル−
3−ピリジル基、6−フェノキシ−3−ピリジル基、6
−フェニルチオ−3−ピリジル基、6−フェニルスルホ
ニル−3−ピリジル基、5−メチル−2−ピリジル基、
5−フェニル−2−ビリジル基、6メチル−2−ピリジ
ル基、6−フェニル−2−ピリジル基、2−メチル−4
−ピリミジニル基、2−フェニル−4−ピリミジニル
基、2−メトキシ−4−ピリミジニル基、2−エトキシ
−4−ピリミジニル基、2−イソプロポキシ−4−ピリ
ミジニル基、2−メチルチオ−4−ピリミジニル基、2
−エチルチオ−4−ピリミジニル基、2−イソプロピル
チオ−4−ピリミジニル基、2−フェニルチオ−4−ピ
リミジニル基、2−メチルスルホニル−4−ピリミジニ
ル基、2−エチルスルホニル−4−ピリミジニル基、2
−イソプロピルスルホニル−4−ピリミジニル基、2−
フェニルスルホニル−4−ピリミジニル基、2−メチル
−5−ピリミジニル基、2−フェニル−5−ピリミジニ
ル基、2−メトキシ−5−ピリミジニル基、2−エトキ
シ−5−ピリミジニル基、2−イソプロポキシ−5−ピ
リミジニル基、2−メチルチオ−5−ピリミジニル基、
2−エチルチオ−5−ピリミジニル基、2−イソプロピ
ルチオ−5−ピリミジニル基、2−フェニルチオ−5−
ビリミジニル基、2−メチルスルホニル−5−ピリミジ
ニル基、2−エチルスルホニル−5−ピリミジニル基、
2−イソプロピルスルホニル−5−ピリミジニル基、2
−フェニルスルホニル−5−ピリミジニル基、1−メチ
ル−2−インドリル基、1−メチル−3−インドリル基
および1−メチル−2−ベンズイミダゾリル基などを挙
げることができる。
基としては、例えば1−メチル−2−ピロリル基、1−
フェニル−2−ピロリル基、1−ベンジル−2−ピロリ
ル基、5−メチル−2−フリル基、5−フェニル−2−
フリル基、5−メチル−2−チエニル基、5−フェニル
−2−チエニル基、5−メチル−3−チエニル基、5−
フェニル−3−チエニル基、1−メチル−3−ピラゾリ
ル基、1−フェニル−3−ピラゾリル基、1−メチル−
2−イミダゾリル基、1−フェニル−2−イミダゾリル
基、1−メチル−4−イミダゾリル基、1−フェニル−
4−イミダゾリル基、1−メチル−2−フェニル−4−
イミダゾリル基、1,5−ジメチル−2−フェニル−4
−イミダゾリル基、1,4,−ジメチル−2−フェニル
−5−イミダゾリル基、2−メチル−4−オキサゾリル
基、2−フェニル−4−オキサゾリル基、2−メチル−
5−オキサゾリル基、2−フェニル−5−オキサゾリル
基、4−メチル−2−フェニル−5−オキサゾリル基、
5−メチル−2−フェニル−4−オキサゾリル基、2−
メチル−4−チアゾリル基、2−フェニル−4−チアゾ
リル基、2−メチル−5−チアゾリル基、2−フェニル
−5−チアゾリル基、4−メチル−2−フェニル−5−
チアゾリル基、5−メチル−2−フェニル−4−チアゾ
リル基、1−メチル−3−ピラゾリル基、1−フェニル
−3−ピラゾリル基、3−メチル−5−イソオキサゾリ
ル基、3−フェニル−5−イソオキサゾリル基、5−メ
チル−3−ピリジル基、5−エチル−3−ピリジル基、
5−フェニル−3−ピリジル基、6−メチル−3−ピリ
ジル基、6−エチル−3−ピリジル基、6−フェニル−
3−ピリジル基、6−メトキシ−3−ピリジル基、6−
エトキシ−3−ピリジル基、6−イソプロポキシ−3−
ピリジル基、6−メチルチオ−3−ピリジル基、6−エ
チルチオ−3−ピリジル基、6−イソプロピルチオ−3
−ピリジル基、6−メチルスルホニル−3−ピリジル
基、6−エチルスルホニル−3−ピリジル基、6−イソ
プロピルスルホニル−3−ピリジル基、6−ベンジル−
3−ピリジル基、6−フェノキシ−3−ピリジル基、6
−フェニルチオ−3−ピリジル基、6−フェニルスルホ
ニル−3−ピリジル基、5−メチル−2−ピリジル基、
5−フェニル−2−ビリジル基、6メチル−2−ピリジ
ル基、6−フェニル−2−ピリジル基、2−メチル−4
−ピリミジニル基、2−フェニル−4−ピリミジニル
基、2−メトキシ−4−ピリミジニル基、2−エトキシ
−4−ピリミジニル基、2−イソプロポキシ−4−ピリ
ミジニル基、2−メチルチオ−4−ピリミジニル基、2
−エチルチオ−4−ピリミジニル基、2−イソプロピル
チオ−4−ピリミジニル基、2−フェニルチオ−4−ピ
リミジニル基、2−メチルスルホニル−4−ピリミジニ
ル基、2−エチルスルホニル−4−ピリミジニル基、2
−イソプロピルスルホニル−4−ピリミジニル基、2−
フェニルスルホニル−4−ピリミジニル基、2−メチル
−5−ピリミジニル基、2−フェニル−5−ピリミジニ
ル基、2−メトキシ−5−ピリミジニル基、2−エトキ
シ−5−ピリミジニル基、2−イソプロポキシ−5−ピ
リミジニル基、2−メチルチオ−5−ピリミジニル基、
2−エチルチオ−5−ピリミジニル基、2−イソプロピ
ルチオ−5−ピリミジニル基、2−フェニルチオ−5−
ビリミジニル基、2−メチルスルホニル−5−ピリミジ
ニル基、2−エチルスルホニル−5−ピリミジニル基、
2−イソプロピルスルホニル−5−ピリミジニル基、2
−フェニルスルホニル−5−ピリミジニル基、1−メチ
ル−2−インドリル基、1−メチル−3−インドリル基
および1−メチル−2−ベンズイミダゾリル基などを挙
げることができる。
【0036】環上に1乃至3個の置換分を有するアラル
キル基としては、例えば4−メチルベンジル基、4−メ
トキシベンジル基、4−メチルチオベンジル基、4−メ
チルスルホニルベンジル基、4−フルオロベンジル基、
4−クロロベンジル基、4−ジメチルアミノベンジル
基、4−フェニルベンジル基、2−(4−メチルフェニ
ル)エチル基、2−(4−メトキシフェニル)エチル
基、2−(4−フルオロフェニル)エチル基および2−
(4−クロロフェニル)エチル基などを挙げることがで
きる。
キル基としては、例えば4−メチルベンジル基、4−メ
トキシベンジル基、4−メチルチオベンジル基、4−メ
チルスルホニルベンジル基、4−フルオロベンジル基、
4−クロロベンジル基、4−ジメチルアミノベンジル
基、4−フェニルベンジル基、2−(4−メチルフェニ
ル)エチル基、2−(4−メトキシフェニル)エチル
基、2−(4−フルオロフェニル)エチル基および2−
(4−クロロフェニル)エチル基などを挙げることがで
きる。
【0037】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
は、常法に従って酸付加塩や金属塩にすることができ
る。
は、常法に従って酸付加塩や金属塩にすることができ
る。
【0038】酸付加塩塩としては、例えばフッ化水素
酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化
水素酸の塩;硝酸、過塩素酸、硫酸、燐酸のような無機
酸の塩;トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸のような低級アルカンスルホン酸の塩;ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルホン酸のようなアリールス
ルホン酸の塩;グルタミン酸、アスパラギン酸のような
アミノ酸の塩;フマール酸、コハク酸、クエン酸、酒石
酸、蓚酸、マレイン酸のようなカルボン酸の塩を挙げる
ことができる。好適には薬理上許容しうる酸付加塩であ
る。
酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化
水素酸の塩;硝酸、過塩素酸、硫酸、燐酸のような無機
酸の塩;トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸のような低級アルカンスルホン酸の塩;ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルホン酸のようなアリールス
ルホン酸の塩;グルタミン酸、アスパラギン酸のような
アミノ酸の塩;フマール酸、コハク酸、クエン酸、酒石
酸、蓚酸、マレイン酸のようなカルボン酸の塩を挙げる
ことができる。好適には薬理上許容しうる酸付加塩であ
る。
【0039】金属塩としては、例えばリチウム、ナトリ
ウム、カリウムのようなアルカリ金属塩;カルシウム、
バリウムのようなアルカリ土類金属塩;マグネシウム
塩;アルミニウム塩等をあげることができる。好適には
薬理上許容しうる金属塩である。
ウム、カリウムのようなアルカリ金属塩;カルシウム、
バリウムのようなアルカリ土類金属塩;マグネシウム
塩;アルミニウム塩等をあげることができる。好適には
薬理上許容しうる金属塩である。
【0040】なお、前記一般式(I)を有する化合物
は、種々の異性体を有する。
は、種々の異性体を有する。
【0041】例えばZが2,4−ジオキソチアゾリジン
−5−イルメチル基(Zb)または2,4−ジオキソオ
キサゾリジン−5−イルメチル基(Zc)を示す場合、
該チアゾリジン環の5位およびオキサゾリジン環の5位
は不斉炭素原子である。前記一般式(I)においては、
これら不斉炭素原子に基づく立体異性体およびこれら異
性体の等量および非等量混合物がすべて単一の式で示さ
れている。従って、本発明においてはこれらの異性体お
よびこれらの異性体の混合物をもすべて含むものであ
る。
−5−イルメチル基(Zb)または2,4−ジオキソオ
キサゾリジン−5−イルメチル基(Zc)を示す場合、
該チアゾリジン環の5位およびオキサゾリジン環の5位
は不斉炭素原子である。前記一般式(I)においては、
これら不斉炭素原子に基づく立体異性体およびこれら異
性体の等量および非等量混合物がすべて単一の式で示さ
れている。従って、本発明においてはこれらの異性体お
よびこれらの異性体の混合物をもすべて含むものであ
る。
【0042】更に、前記一般式(I)を有する化合物
が、溶剤和物(例えば水和物)を形成する場合には、こ
れらもすべて含むものである。
が、溶剤和物(例えば水和物)を形成する場合には、こ
れらもすべて含むものである。
【0043】更に、Zが2,4−ジオキソチアゾリジン
−5−イリデニルメチル(Za)、2,4−ジオキソチ
アゾリジン−5−イルメチル(Zb)、2,4−ジオキ
ソオキサゾリジン−5−イルメチル(Zc)、3,5−
ジオキソオキサジアゾリジン−2−イルメチル(Zd)
を示す場合、種々の互変異性体の存在が考えられる。例
えば次に示す通りである。
−5−イリデニルメチル(Za)、2,4−ジオキソチ
アゾリジン−5−イルメチル(Zb)、2,4−ジオキ
ソオキサゾリジン−5−イルメチル(Zc)、3,5−
ジオキソオキサジアゾリジン−2−イルメチル(Zd)
を示す場合、種々の互変異性体の存在が考えられる。例
えば次に示す通りである。
【0044】
【化5】
【0045】
【化6】
【0046】
【化7】
【0047】
【化8】
【0048】前記一般式(I)においては、これらに基
づく互変異性体およびこれらの異性体の等量および非等
量混合物がすべて単一の式で示されている。従って、本
発明においてはこれらの異性体およびこれらの異性体の
混合物をもすべて含むものである。
づく互変異性体およびこれらの異性体の等量および非等
量混合物がすべて単一の式で示されている。従って、本
発明においてはこれらの異性体およびこれらの異性体の
混合物をもすべて含むものである。
【0049】前記一般式(I)を有する化合物におい
て、 (1)好適には、R1 が炭素数2乃至5個を有するアル
キレン基を示し、R2 が水素原子、炭素数1乃至4個を
有するアルキル基、メトキシ基、メチルチオ基、フッ素
原子、塩素原子、ニトロ基、アミノ基、メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、フェニル基、窒素原子、酸素原子および/または
硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環基もしくは
二環性複素環基、ベンジル基またはフェネチル基を示
し、X が置換分として炭素数1乃至6個を有するアル
キル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素
数1または2個を有するアルキレンジオキシ基、炭素数
1乃至4個を有するアルキルチオ基、炭素数1乃至4個
を有するアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、アミノ基、炭素数1乃至4個を有するモノアルキル
アミノ基、同一もしくは異なって各アルキルが炭素数1
乃至4個を有するジアルキルアミノ基、炭素数6乃至1
0個を有するアリール基(該アリール基は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロゲンまたはアルキレンジオキ
シ基で置換されていてもよい)、複素環基、炭素数7乃
至11個を有するアラルキル基、炭素数6乃至10個を
有するアリールオキシ基、炭素数6乃至10個を有する
アリールチオ基、炭素数6乃至10個を有するアリール
スルホニル基または炭素数6乃至10個を有するアリー
ルスルホニルアミノ基(該基の窒素原子は低級アルキル
で置換されていてもよい)を1乃至3個有していてもよ
い、フェニル基、ナフチル基、窒素原子、酸素原子およ
び/または硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環
基もしくは二環性複素環基を示し、Y が酸素原子、硫
黄原子または基 >N−R3(R3 は水素原子、炭素数
1乃至3個を有するアルキル基または炭素数2乃至5個
を有するアシル基を示す。)を示し、Z が2,4−ジ
オキソチアゾリジン−5−イルメチル基、2,4−ジオ
キソオキサゾリジン−5−イルメチル基または3,5−
ジオキソオキサジアゾリジン−2−イルメチル基を示
す、化合物またはその塩である。
て、 (1)好適には、R1 が炭素数2乃至5個を有するアル
キレン基を示し、R2 が水素原子、炭素数1乃至4個を
有するアルキル基、メトキシ基、メチルチオ基、フッ素
原子、塩素原子、ニトロ基、アミノ基、メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、フェニル基、窒素原子、酸素原子および/または
硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環基もしくは
二環性複素環基、ベンジル基またはフェネチル基を示
し、X が置換分として炭素数1乃至6個を有するアル
キル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素
数1または2個を有するアルキレンジオキシ基、炭素数
1乃至4個を有するアルキルチオ基、炭素数1乃至4個
を有するアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、アミノ基、炭素数1乃至4個を有するモノアルキル
アミノ基、同一もしくは異なって各アルキルが炭素数1
乃至4個を有するジアルキルアミノ基、炭素数6乃至1
0個を有するアリール基(該アリール基は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロゲンまたはアルキレンジオキ
シ基で置換されていてもよい)、複素環基、炭素数7乃
至11個を有するアラルキル基、炭素数6乃至10個を
有するアリールオキシ基、炭素数6乃至10個を有する
アリールチオ基、炭素数6乃至10個を有するアリール
スルホニル基または炭素数6乃至10個を有するアリー
ルスルホニルアミノ基(該基の窒素原子は低級アルキル
で置換されていてもよい)を1乃至3個有していてもよ
い、フェニル基、ナフチル基、窒素原子、酸素原子およ
び/または硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環
基もしくは二環性複素環基を示し、Y が酸素原子、硫
黄原子または基 >N−R3(R3 は水素原子、炭素数
1乃至3個を有するアルキル基または炭素数2乃至5個
を有するアシル基を示す。)を示し、Z が2,4−ジ
オキソチアゾリジン−5−イルメチル基、2,4−ジオ
キソオキサゾリジン−5−イルメチル基または3,5−
ジオキソオキサジアゾリジン−2−イルメチル基を示
す、化合物またはその塩である。
【0050】(2)更に好適には、R1 が炭素数2乃至
5個を有するアルキレン基を示し、R2 が水素原子、メ
チル基、メトキシ基、フッ素原子または塩素原子を示
し、X が置換分として、炭素数1乃至4個を有するア
ルキル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、メ
チレンジオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチ
ルスルホニル基、エチルスルホニル基、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、フェニル基(該フェニル基はメトキ
シまたはメチレンジオキシで置換されていてもよい)、
ピリジル基、ベンジル基、フェノキシ基、フェニルチオ
基、フェニルスルホニル基、フェニルスルホニルアミノ
基、N−メチルフェニルスルホニルアミノ基を1乃至2
個有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、ピリジ
ル基、キノリル基またはインドリル基を示し、Y が酸
素原子、硫黄原子、>NH、>NCH3 または>NCO
CH3 を示し、Z が2,4−ジオキソチアゾリジン−
5−イルメチル基、2,4−ジオキソオキサゾリジン−
5−イルメチル基または3,5−ジオキソオキサジアゾ
リジン−2−イルメチル基を示す、化合物またはその塩
である。
5個を有するアルキレン基を示し、R2 が水素原子、メ
チル基、メトキシ基、フッ素原子または塩素原子を示
し、X が置換分として、炭素数1乃至4個を有するア
ルキル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、メ
チレンジオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチ
ルスルホニル基、エチルスルホニル基、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、フェニル基(該フェニル基はメトキ
シまたはメチレンジオキシで置換されていてもよい)、
ピリジル基、ベンジル基、フェノキシ基、フェニルチオ
基、フェニルスルホニル基、フェニルスルホニルアミノ
基、N−メチルフェニルスルホニルアミノ基を1乃至2
個有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、ピリジ
ル基、キノリル基またはインドリル基を示し、Y が酸
素原子、硫黄原子、>NH、>NCH3 または>NCO
CH3 を示し、Z が2,4−ジオキソチアゾリジン−
5−イルメチル基、2,4−ジオキソオキサゾリジン−
5−イルメチル基または3,5−ジオキソオキサジアゾ
リジン−2−イルメチル基を示す、化合物またはその塩
である。
【0051】(3)更に好適には、R1 がエチレン、メ
チルエチレン基、エチルエチレン基、イソプロピルエチ
レン基またはトリメチレン基を示し、R2 が水素原子を
示し、X がフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチ
ル基、p−トリル基、4−エチルフェニル基、4−イソ
プロピルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、4−
メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、4−イ
ソプロポキシフェニル基、3,4−メチレンジオキシフ
ェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、4−メチル
チオフェニル基、4−エチルチオフェニル基、4−メチ
ルスルホニルフェニル基、4−エチルスルホニルフェニ
ル基、4−フルオロフェニル基、4−クロロフェニル
基、4−ブロモフェニル基、3,4−ジクロロフェニル
基、2,5−ジクロロフェニル基、4−ビフェニル基、
4−(4−メトキシフェニル)フェニル基、4−(3,
4−ジメトキシフェニル)フェニル基、4−(3,4−
メチレンジオキシフェニル)フェニル基、4−(2−ピ
リジル)フェニル基、4−(3−ピリジル)フェニル
基、4−ベンジルフェニル基、4−フェノキシフェニル
基、4−フェニルチオフェニル基、4−フェニルスルホ
ニルフェニル基、4−(フェニルスルホニルアミノ)フ
ェニル基、4−(N−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ)フェニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4
−ピリジル基、5−メチル−3−ピリジル基、6−メチ
ル−3−ピリジル基、5−フェニル−3−ピリジル基、
6−フェニル−3−ピリジル基、2−キノリル基または
3−キノリル基を示し、Y が酸素原子を示し、Z が
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル基また
は2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチル基
を示す、化合物またはその塩である。
チルエチレン基、エチルエチレン基、イソプロピルエチ
レン基またはトリメチレン基を示し、R2 が水素原子を
示し、X がフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチ
ル基、p−トリル基、4−エチルフェニル基、4−イソ
プロピルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、4−
メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、4−イ
ソプロポキシフェニル基、3,4−メチレンジオキシフ
ェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、4−メチル
チオフェニル基、4−エチルチオフェニル基、4−メチ
ルスルホニルフェニル基、4−エチルスルホニルフェニ
ル基、4−フルオロフェニル基、4−クロロフェニル
基、4−ブロモフェニル基、3,4−ジクロロフェニル
基、2,5−ジクロロフェニル基、4−ビフェニル基、
4−(4−メトキシフェニル)フェニル基、4−(3,
4−ジメトキシフェニル)フェニル基、4−(3,4−
メチレンジオキシフェニル)フェニル基、4−(2−ピ
リジル)フェニル基、4−(3−ピリジル)フェニル
基、4−ベンジルフェニル基、4−フェノキシフェニル
基、4−フェニルチオフェニル基、4−フェニルスルホ
ニルフェニル基、4−(フェニルスルホニルアミノ)フ
ェニル基、4−(N−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ)フェニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4
−ピリジル基、5−メチル−3−ピリジル基、6−メチ
ル−3−ピリジル基、5−フェニル−3−ピリジル基、
6−フェニル−3−ピリジル基、2−キノリル基または
3−キノリル基を示し、Y が酸素原子を示し、Z が
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル基また
は2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチル基
を示す、化合物またはその塩である。
【0052】(4)更に好適には、R1 がエチレン基、
メチルエチレン基またはエチルエチレン基を示し、R2
が水素原子を示し、X がフェニル基、2−ナフチル
基、p−トリル基、4−エチルフェニル基、4−イソプ
ロピルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、4−メ
トキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、4−イソ
プロポキシフェニル基、3,4−メチレンジオキシフェ
ニル基、4−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル
基、4−ビフェニル基、4−(4−メトキシフェニル)
フェニル基、2−ピリジル基または2−キノリル基を示
し、Y が酸素原子を示し、Z が2,4−ジオキソチ
アゾリジン−5−イルメチル基を示す、化合物またはそ
の塩である。
メチルエチレン基またはエチルエチレン基を示し、R2
が水素原子を示し、X がフェニル基、2−ナフチル
基、p−トリル基、4−エチルフェニル基、4−イソプ
ロピルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、4−メ
トキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、4−イソ
プロポキシフェニル基、3,4−メチレンジオキシフェ
ニル基、4−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル
基、4−ビフェニル基、4−(4−メトキシフェニル)
フェニル基、2−ピリジル基または2−キノリル基を示
し、Y が酸素原子を示し、Z が2,4−ジオキソチ
アゾリジン−5−イルメチル基を示す、化合物またはそ
の塩である。
【0053】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
の具体例としては、例えば下記の表に記載する化合物を
あげることができる。
の具体例としては、例えば下記の表に記載する化合物を
あげることができる。
【0054】
【化9】
【0055】
【表1】
【0056】
【表2】
【0057】
【表3】
【0058】
【表4】
【0059】
【表5】
【0060】
【表6】
【0061】
【表7】
【0062】
【表8】
【0063】上記表において、略号は以下の基を示す。 Me:メチル、 Et:エチル、 iPr:イソプ
ロピル、tBu:t−ブチル、 Ph:フェニル、
Np:ナフチル、Pyr:ピリジル、 Quin:
キノリル、Mdo:メチレンジオキシ、Za:2,4−
ジオキソチアゾリジン−5−イリデニルメチル、Zb:
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル、Z
c:2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル、Zd:3,5−ジオキソオキサジアゾリジン−2−
イルメチル。
ロピル、tBu:t−ブチル、 Ph:フェニル、
Np:ナフチル、Pyr:ピリジル、 Quin:
キノリル、Mdo:メチレンジオキシ、Za:2,4−
ジオキソチアゾリジン−5−イリデニルメチル、Zb:
2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル、Z
c:2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル、Zd:3,5−ジオキソオキサジアゾリジン−2−
イルメチル。
【0064】上記表において、好適には例示化合物番号
1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、12、1
4、15、16、17、18、19、20、22、2
6、28、29、30、31、32、33、35、3
7、39、41、42、43、44、45、46、4
7、48、49、50、52、54、56、58、6
0、64、65、66、67、68、69、70、7
1、72、73、74、75、76、77、78、79
、80、81、82、83、84、85、134、1
35、136、137、138、139、140、14
1、142、143、144、145、146、14
7、148、149、150、151、152、15
3、154、155、156、157、158、15
9、160、161、162、163、164、165
である。
1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、12、1
4、15、16、17、18、19、20、22、2
6、28、29、30、31、32、33、35、3
7、39、41、42、43、44、45、46、4
7、48、49、50、52、54、56、58、6
0、64、65、66、67、68、69、70、7
1、72、73、74、75、76、77、78、79
、80、81、82、83、84、85、134、1
35、136、137、138、139、140、14
1、142、143、144、145、146、14
7、148、149、150、151、152、15
3、154、155、156、157、158、15
9、160、161、162、163、164、165
である。
【0065】更に好適には例示化合物番号3、4、6、
8、10、12、14、16、18、22、26、2
8、30、31、32、33、39、41、42、4
5、47、48、56、58、60、64、65、6
6、67、68、69、71、72、73、74、7
6、77、82、135、137、138、140、1
41、146、である。
8、10、12、14、16、18、22、26、2
8、30、31、32、33、39、41、42、4
5、47、48、56、58、60、64、65、6
6、67、68、69、71、72、73、74、7
6、77、82、135、137、138、140、1
41、146、である。
【0066】特に好適には例示化合物番号3、4、6、
8、14、16、22、26、28、30、33、5
6、58、64、65、66、67、である。
8、14、16、22、26、28、30、33、5
6、58、64、65、66、67、である。
【0067】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
は、A法またはB法に従って容易に製造される。
は、A法またはB法に従って容易に製造される。
【0068】
【化10】
【0069】上記式中、R1 、R2 、XおよびYは、前
述したものと同意義を示す。
述したものと同意義を示す。
【0070】Za−dは前述したZa、Zb、Zcまた
はZdを示す。
はZdを示す。
【0071】Uは水酸基、ハロゲン原子(好適には塩素
原子、臭素原子、沃素原子)または基−O−SO2 −R
4 (基中、R4 はメチル、エチルのような炭素数1乃至
6個を有するアルキル基、トリフルオロメチルのような
ハロゲン原子と炭素数1乃至6個を有するアルキルとか
らなるハロゲン化アルキル基、フェニル、p−トリル、
p−ニトロフェニル、p−ブロモフェニルのような置換
分として炭素数1乃至4個を有するアルキル、ニトロ、
ブロモのようなハロゲン原子を有する炭素数6乃至10
個を有するアリール基)を示す。
原子、臭素原子、沃素原子)または基−O−SO2 −R
4 (基中、R4 はメチル、エチルのような炭素数1乃至
6個を有するアルキル基、トリフルオロメチルのような
ハロゲン原子と炭素数1乃至6個を有するアルキルとか
らなるハロゲン化アルキル基、フェニル、p−トリル、
p−ニトロフェニル、p−ブロモフェニルのような置換
分として炭素数1乃至4個を有するアルキル、ニトロ、
ブロモのようなハロゲン原子を有する炭素数6乃至10
個を有するアリール基)を示す。
【0072】Z´a−dは、Z´a、 Z´b、 Z´
c または Z´dを示す。
c または Z´dを示す。
【0073】ここに、Z´a、 Z´b、 Z´c ま
たは Z´d はZa、Zb、ZcまたはZdにおい
て、これらの基に含まれる基 >NHがトリフェニルメ
チル(以下、トリチルと略す)で保護された基を示す。
たは Z´d はZa、Zb、ZcまたはZdにおい
て、これらの基に含まれる基 >NHがトリフェニルメ
チル(以下、トリチルと略す)で保護された基を示す。
【0074】A法は、前記一般式(I)を有する化合物
を製造する方法である。
を製造する方法である。
【0075】第A1工程 第A1工程は、前記一般式(IV)を有する化合物を製
造する工程であり、前記一般式(II)を有する化合物
と前記一般式(III) を有する化合物とを反応させる
ことによって達成される。
造する工程であり、前記一般式(II)を有する化合物
と前記一般式(III) を有する化合物とを反応させる
ことによって達成される。
【0076】Uが水酸基である場合は、通常の光延反応
〔O.Mitsunobu,シンセシス(Synthe
sis)、1頁(1981年)〕に準じた反応に付すこ
とによって行なわれる。
〔O.Mitsunobu,シンセシス(Synthe
sis)、1頁(1981年)〕に準じた反応に付すこ
とによって行なわれる。
【0077】反応は通常溶剤の存在下でアゾ化合物類と
ホスフィン類とを接触させることによって達成される。
反応試薬のアゾ化合物類としてはアゾジカルボン酸ジ
エチル、1,1′−アゾジカルボニルジピペリジンなど
が用いられる。ホスフィン類としてはトリフェニルホス
フィン、トリブチルホスフィンなどが用いられる。
ホスフィン類とを接触させることによって達成される。
反応試薬のアゾ化合物類としてはアゾジカルボン酸ジ
エチル、1,1′−アゾジカルボニルジピペリジンなど
が用いられる。ホスフィン類としてはトリフェニルホス
フィン、トリブチルホスフィンなどが用いられる。
【0078】反応は通常、溶剤の存在下で好適に行われ
る。使用される溶剤としては本反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素類;クロロホ
ルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭
化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドの
ようなアミド類;またはこれらの混合溶剤が好適に用い
られる。
る。使用される溶剤としては本反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素類;クロロホ
ルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭
化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドの
ようなアミド類;またはこれらの混合溶剤が好適に用い
られる。
【0079】反応温度は10℃乃至100℃で行なわ
れ、好適には20℃乃至80℃で行われる。
れ、好適には20℃乃至80℃で行われる。
【0080】反応時間は反応試薬、反応温度、溶剤など
によって異なるが、通常1時間乃至3日間であり、好適
には5時間ないし3日間である。
によって異なるが、通常1時間乃至3日間であり、好適
には5時間ないし3日間である。
【0081】Uがハロゲン原子または基−O−SO2 −
R4 である場合には、不活性溶剤中、塩基の存在下で、
反応させることにより達成される。
R4 である場合には、不活性溶剤中、塩基の存在下で、
反応させることにより達成される。
【0082】使用される塩基としては、好適には、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩;水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウ
ムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、
リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシ
ド;ブチルリチウム、メチルリチウムのようなアルキル
リチウム塩;リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)ア
ミドのようなリチウムアミド類;炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素化物;
1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−5−エ
ン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ−
7−エン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンのよう
な三級有機アミン;であり、好適にはアルカリ金属炭酸
塩、アルカリ金属水素化物またはアルカリ金属アルコキ
シドである。
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩;水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウ
ムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、
リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシ
ド;ブチルリチウム、メチルリチウムのようなアルキル
リチウム塩;リチウムジエチルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)ア
ミドのようなリチウムアミド類;炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素化物;
1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−5−エ
ン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデカ−
7−エン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンのよう
な三級有機アミン;であり、好適にはアルカリ金属炭酸
塩、アルカリ金属水素化物またはアルカリ金属アルコキ
シドである。
【0083】反応に使用される不活性溶剤は、反応に関
与しなければ特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トル
エンのような炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、t
−ブタノールのようなアルコール類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン
のようなアミド類;アセトン、2−ブタノンのようなケ
トン類;アセトニトリルのようなニトリル類;ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類またはこれらの混
合溶剤であり、好適にはエーテル類、アミド類、ケトン
類またはスルホキシド類である。
与しなければ特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トル
エンのような炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、t
−ブタノールのようなアルコール類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン
のようなアミド類;アセトン、2−ブタノンのようなケ
トン類;アセトニトリルのようなニトリル類;ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類またはこれらの混
合溶剤であり、好適にはエーテル類、アミド類、ケトン
類またはスルホキシド類である。
【0084】本反応をベンジルトリエチルアンモニウム
ヨーダイド、テトラブチルアンモニウムヨーダイドのよ
うな相移動触媒の存在下で行なう場合には、塩基として
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物を用い、水と塩化メチレン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素の二層系の溶剤中で行なわれ
る。
ヨーダイド、テトラブチルアンモニウムヨーダイドのよ
うな相移動触媒の存在下で行なう場合には、塩基として
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物を用い、水と塩化メチレン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素の二層系の溶剤中で行なわれ
る。
【0085】反応温度は、−10℃乃至120℃で行わ
れ、好適には10℃乃至100℃である。
れ、好適には10℃乃至100℃である。
【0086】反応時間は、使用される試薬、反応温度等
により異なるが、30分間乃至48時間であり、好適に
は1時間乃至16時間である。
により異なるが、30分間乃至48時間であり、好適に
は1時間乃至16時間である。
【0087】第A2工程 第A2工程は、前記一般式(I)を有する化合物を製造
する工程であり、前記一般式(IV)を有する化合物の
保護基であるトリチル基を除去することによって達成さ
れる。
する工程であり、前記一般式(IV)を有する化合物の
保護基であるトリチル基を除去することによって達成さ
れる。
【0088】本工程は、溶剤の存在下または非存在下で
ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、塩酸、硫酸などのような酸と反応させること
によって行われる。
ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、塩酸、硫酸などのような酸と反応させること
によって行われる。
【0089】本反応において、溶剤を使用する場合、使
用される溶剤としては反応に影響を与えなければ特に限
定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタンのような炭化水素類;クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素
類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのような
アミド類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル
類;水;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
用される溶剤としては反応に影響を与えなければ特に限
定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタンのような炭化水素類;クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素
類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのような
アミド類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル
類;水;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
【0090】反応温度は、使用される酸により異なる
が、−10℃乃至120℃であり、好適には0℃乃至1
00℃である。
が、−10℃乃至120℃であり、好適には0℃乃至1
00℃である。
【0091】反応時間は、使用される酸、反応温度によ
り異なるが、通常10分間乃至24時間であり、好適に
は30分間乃至16時間である。
り異なるが、通常10分間乃至24時間であり、好適に
は30分間乃至16時間である。
【0092】また、本工程は前記一般式(IV)を有す
る化合物に接触水素添加反応を行うことによっても達成
される。使用される触媒としては例えばパラジウム−炭
素、パラジウム黒、酸化白金、白金黒などがあげられ、
好適にはパラジウム−炭素である。
る化合物に接触水素添加反応を行うことによっても達成
される。使用される触媒としては例えばパラジウム−炭
素、パラジウム黒、酸化白金、白金黒などがあげられ、
好適にはパラジウム−炭素である。
【0093】反応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわ
れる。使用される溶剤としては反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素類;クロロホ
ルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭
化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
イソプロパノールのようなアルコール類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;ギ酸、酢酸のようなカル
ボン酸類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられ
る。
れる。使用される溶剤としては反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素類;クロロホ
ルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭
化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
イソプロパノールのようなアルコール類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;ギ酸、酢酸のようなカル
ボン酸類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられ
る。
【0094】反応温度は10℃乃至140℃であり、好
適には20℃乃至120℃である。
適には20℃乃至120℃である。
【0095】本反応においては、ギ酸、酢酸、トリフル
オロ酢酸のようなカルボン酸;塩酸、硫酸のような鉱酸
を加えることにより、反応が促進される場合がある。
オロ酢酸のようなカルボン酸;塩酸、硫酸のような鉱酸
を加えることにより、反応が促進される場合がある。
【0096】反応時間は反応試薬、反応温度、溶剤など
によって異なるが、通常30分間乃至3日間であり、好
適には1時間乃至1日間である。
によって異なるが、通常30分間乃至3日間であり、好
適には1時間乃至1日間である。
【0097】次に、B法も、前記一般式(I)を有する
化合物を製造する方法である。
化合物を製造する方法である。
【0098】
【化11】
【0099】上記式中、R1 、R2 、XおよびYは、前
述したものと同意義を示す。
述したものと同意義を示す。
【0100】B法は、前記一般式(I)を有する化合物
のうち、ZがZaである前記一般式(Ia)を有する化
合物、およびZがZbである前記一般式(Ib)を有す
る化合物を製造する方法である。
のうち、ZがZaである前記一般式(Ia)を有する化
合物、およびZがZbである前記一般式(Ib)を有す
る化合物を製造する方法である。
【0101】第B1工程 第B1工程はZがZaである前記一般式(Ia)を有す
る化合物を製造する工程であり、前記一般式(V)を有
する化合物と前記一般式(VI)を有する化合物とを反
応させることによって達成される。
る化合物を製造する工程であり、前記一般式(V)を有
する化合物と前記一般式(VI)を有する化合物とを反
応させることによって達成される。
【0102】本工程は、触媒量の塩基または塩基−酸存
在下、溶剤中で行われる。
在下、溶剤中で行われる。
【0103】使用される塩基としては、ピペリジン、ピ
ロリジン、ピリジンなどのような有機アミンがあげら
れ、酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸
などのカルボン酸があげられる。
ロリジン、ピリジンなどのような有機アミンがあげら
れ、酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸
などのカルボン酸があげられる。
【0104】使用される溶剤としては、反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような炭化水素類;クロロホルム、塩化
メチレンのようなハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノールのような
アルコール類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類があげられ、好適にはアルコー
ル類である。
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような炭化水素類;クロロホルム、塩化
メチレンのようなハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノールのような
アルコール類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類があげられ、好適にはアルコー
ル類である。
【0105】反応温度は、使用される塩基、塩基−酸に
より異なるが、0℃乃至150℃であり、好適には20
℃乃至120℃である。
より異なるが、0℃乃至150℃であり、好適には20
℃乃至120℃である。
【0106】反応時間は、使用される塩基、塩基−酸、
反応温度により異なるが通常30分間乃至24時間であ
り、好適には1時間乃至16時間である。
反応温度により異なるが通常30分間乃至24時間であ
り、好適には1時間乃至16時間である。
【0107】第B2工程 第B2工程はZがZbである前記一般式(Ib)を有す
る化合物を製造する工程であり、前記一般式(Ia)を
有する化合物中の炭素・炭素二重結合を還元することに
より達成される。
る化合物を製造する工程であり、前記一般式(Ia)を
有する化合物中の炭素・炭素二重結合を還元することに
より達成される。
【0108】本還元工程は、A法の第A2工程における
接触水素添加反応と同様の方法により行われる。
接触水素添加反応と同様の方法により行われる。
【0109】なお、B法の原料化合物である前記一般式
(V)を有する化合物は、以下のC法乃至F法により、
容易に製造される。
(V)を有する化合物は、以下のC法乃至F法により、
容易に製造される。
【0110】
【化12】
【0111】上記式中、R1 ,R2 、X、YおよびU
は、前述したものと同意義を示す。
は、前述したものと同意義を示す。
【0112】第C1工程 第C1工程は前記一般式(V)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(VII) を有する化合物と
前記一般式(VIII)を有する化合物とを反応させる
ことによって達成される。
る工程であり、前記一般式(VII) を有する化合物と
前記一般式(VIII)を有する化合物とを反応させる
ことによって達成される。
【0113】本工程は、A法の第A1工程と同様の方法
により行われる。
により行われる。
【0114】
【化13】
【0115】上記式中、R1 ,R2 ,X,YおよびU
は、前述したものと同意義を示す。
は、前述したものと同意義を示す。
【0116】第D1工程 第D1工程は前記一般式(X)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物と前
記一般式(VIII)を有する化合物とを反応させるこ
とによって達成される。
る工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物と前
記一般式(VIII)を有する化合物とを反応させるこ
とによって達成される。
【0117】本工程は、A法の第A1工程と同様の方法
により行われる。
により行われる。
【0118】第D2工程 第D2工程は前記一般式(V)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(X)を有する化合物を酸化
することにより達成される。
る工程であり、前記一般式(X)を有する化合物を酸化
することにより達成される。
【0119】本工程は、溶剤中、酸化剤を反応させるこ
とにより行われる。
とにより行われる。
【0120】使用される酸化剤としては、有機合成化学
においてスルフィドをスルホンに変換する酸化剤として
知られている試薬が使われ、例えば過酸化水素、過ヨウ
素酸、過ヨウ素酸ナトリウム、過ヨウ素酸カリウム、ペ
ルオキシモノ硫酸カリウム等のような無機酸化剤;過酢
酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、モノ過フタル
酸マグネシウム塩等のような有機酸化剤があげられる。
においてスルフィドをスルホンに変換する酸化剤として
知られている試薬が使われ、例えば過酸化水素、過ヨウ
素酸、過ヨウ素酸ナトリウム、過ヨウ素酸カリウム、ペ
ルオキシモノ硫酸カリウム等のような無機酸化剤;過酢
酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、モノ過フタル
酸マグネシウム塩等のような有機酸化剤があげられる。
【0121】使用される溶剤としては、反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン
のような炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;アセ
トン、2−ブタノンのようなケトン類;メタノール、エ
タノール、t−ブタノールのようなアルコール類;酢
酸、トリフルオロ酢酸のようなカルボン酸類;水;また
はこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン
のような炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;アセ
トン、2−ブタノンのようなケトン類;メタノール、エ
タノール、t−ブタノールのようなアルコール類;酢
酸、トリフルオロ酢酸のようなカルボン酸類;水;また
はこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
【0122】反応温度は、−20℃乃至100℃であ
り、好適には0℃乃至80℃である。反応時間は、反応
試薬、反応温度、溶剤などによって異なるが、通常20
分間乃至24時間であり、好適には30分間乃至16時
間である。
り、好適には0℃乃至80℃である。反応時間は、反応
試薬、反応温度、溶剤などによって異なるが、通常20
分間乃至24時間であり、好適には30分間乃至16時
間である。
【0123】
【化14】
【0124】上記式中、R1 、R2 、X、YおよびU
は、前述したものと同意義を示す。
は、前述したものと同意義を示す。
【0125】第E1工程 第E1工程は前記一般式(XII)を有する化合物を製
造する工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物
と前記一般式(XI)を有するシアノ化合物とを反応さ
せることによって達成される。
造する工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物
と前記一般式(XI)を有するシアノ化合物とを反応さ
せることによって達成される。
【0126】本工程は、A法の第A1工程と同様の方法
により行われる。
により行われる。
【0127】第E2工程 第E2工程は、前記一般式(XII)を有する化合物を
酸化して、前記一般式(XIII) を有する化合物を製
造する工程である。
酸化して、前記一般式(XIII) を有する化合物を製
造する工程である。
【0128】本工程は、D法の第D2工程と同様の方法
により行われる。
により行われる。
【0129】第E3工程 第E3工程は、前記一般式(XIII) を有する化合物
を還元して、前記一般式(V)を有する化合物を製造す
る工程である。
を還元して、前記一般式(V)を有する化合物を製造す
る工程である。
【0130】本工程は溶剤中、還元剤を反応させること
により達成される。
により達成される。
【0131】使用される還元剤としては、水素化アルミ
ニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好
適に使われる。
ニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好
適に使われる。
【0132】使用される溶剤としては、反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン
のような炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適に
用いられる。
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン
のような炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類が好適に
用いられる。
【0133】反応温度は、−70℃乃至80℃であり、
好適には−40℃乃至40℃である。
好適には−40℃乃至40℃である。
【0134】反応時間は、反応試薬、反応温度、溶剤な
どによって異なるが、通常30分間乃至24時間であ
り、好適には1時間乃至16時間である。
どによって異なるが、通常30分間乃至24時間であ
り、好適には1時間乃至16時間である。
【0135】
【化15】
【0136】上記式中、R1 ,R2 ,X,YおよびUは
前述したものと同意義を示す。
前述したものと同意義を示す。
【0137】R5 はメチル、エチルのような低級アルキ
ル基を示す。
ル基を示す。
【0138】第F1工程 第F1工程は、前記一般式(XV) を有する化合物を製
造する工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物
と前記一般式(XIV)を有する化合物とを反応させる
ことによって達成される。
造する工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物
と前記一般式(XIV)を有する化合物とを反応させる
ことによって達成される。
【0139】本工程は、A法の第A1工程と同様の方法
により行われる。
により行われる。
【0140】第F2工程 第F2工程は、前記一般式(XV) を有する化合物を酸
化して、前記一般式(XVI) を有する化合物を製造す
る工程である。
化して、前記一般式(XVI) を有する化合物を製造す
る工程である。
【0141】本工程は、D法の第D2工程と同様の方法
により行われる。
により行われる。
【0142】第F3工程 第F3工程は、前記一般式(XVI)を有する化合物を
還元して、前記一般式(XVII) を有する化合物を製
造する工程である。
還元して、前記一般式(XVII) を有する化合物を製
造する工程である。
【0143】本工程はE法の第E3工程と同様の方法に
より行われる。
より行われる。
【0144】第F4工程 第F4工程は、前記一般式(XVII) を有する化合物
を酸化して、前記一般式(V)を有する化合物を製造す
る工程である。
を酸化して、前記一般式(V)を有する化合物を製造す
る工程である。
【0145】本工程は、溶剤中、酸化剤を反応させるこ
とにより達成される。
とにより達成される。
【0146】使用される酸化剤としては、有機合成化学
において知られているベンジル位水酸基をアルデヒド基
に変換する試薬が用いられ、例えば二酸化マンガン、過
酸化ニッケル、酸化銀、硝酸セリウム(IV)アンモニ
ウム、無水クロム酸、ニクロム酸ナトリウム、ニクロム
酸カリウム、N−メチルモルホリンN−オキシド−過ル
テニウム酸テトラプロピルアンモニウム、ジメチルスル
ホキシド−三酸化硫黄・ピリジン錯体、ジメチルスルホ
キシド−無水トリフルオロ酢酸−トリエチルアミン、四
酸化二窒素である。
において知られているベンジル位水酸基をアルデヒド基
に変換する試薬が用いられ、例えば二酸化マンガン、過
酸化ニッケル、酸化銀、硝酸セリウム(IV)アンモニ
ウム、無水クロム酸、ニクロム酸ナトリウム、ニクロム
酸カリウム、N−メチルモルホリンN−オキシド−過ル
テニウム酸テトラプロピルアンモニウム、ジメチルスル
ホキシド−三酸化硫黄・ピリジン錯体、ジメチルスルホ
キシド−無水トリフルオロ酢酸−トリエチルアミン、四
酸化二窒素である。
【0147】使用される溶剤は、反応に影響を与えなけ
れば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素類;ジクロ
ロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素;
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類;酢酸のような有機酸類;ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類;水;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。
れば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素類;ジクロ
ロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素;
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類;酢酸のような有機酸類;ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類;水;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。
【0148】反応温度は−70℃乃至80℃であり、好
適には−50℃乃至30℃である。
適には−50℃乃至30℃である。
【0149】反応時間は還元剤、温度などによって異な
るが、通常30分間乃至24時間であり、好適には1時
間乃至16時間である。
るが、通常30分間乃至24時間であり、好適には1時
間乃至16時間である。
【0150】前記の各工程によって得られた目的化合物
は、反応終了後、必要に応じて常法、例えばカラムクロ
マトグラフィー、再結晶法、再沈殿法などによって精製
することができる。例えば、反応混合物に溶剤を加えて
抽出し、抽出液により溶剤を留去する。得られた残渣を
シリカゲル等を用いたカラムクロマトグラフィーに付す
ことによって精製し、目的化合物の純品を得ることがで
きる。
は、反応終了後、必要に応じて常法、例えばカラムクロ
マトグラフィー、再結晶法、再沈殿法などによって精製
することができる。例えば、反応混合物に溶剤を加えて
抽出し、抽出液により溶剤を留去する。得られた残渣を
シリカゲル等を用いたカラムクロマトグラフィーに付す
ことによって精製し、目的化合物の純品を得ることがで
きる。
【0151】
【作用】本発明の前記一般式(I)を有する化合物また
はその塩は、血糖低下作用、肥満改善作用、耐糖能不全
改善作用、肝臓での糖新生抑制作用、脂質低下作用、ア
ルドース還元酵素阻害作用を有し、高血糖症、肥満症、
高脂血症、糖尿病合併症たとえば網膜症、腎症、神経
症、白内障、冠動脈疾患、動脈硬化症、更に肥満性高血
圧症、骨粗鬆症などの予防薬および/または治療薬とし
て有用である。
はその塩は、血糖低下作用、肥満改善作用、耐糖能不全
改善作用、肝臓での糖新生抑制作用、脂質低下作用、ア
ルドース還元酵素阻害作用を有し、高血糖症、肥満症、
高脂血症、糖尿病合併症たとえば網膜症、腎症、神経
症、白内障、冠動脈疾患、動脈硬化症、更に肥満性高血
圧症、骨粗鬆症などの予防薬および/または治療薬とし
て有用である。
【0152】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
は種々の形態で投与される。その投与形態としては例え
ば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等によ
る経口投与または注射剤(静脈内、筋肉内、皮下)、点
滴剤、座剤等による非経口投与をあげることができる。
これらの各種製剤は、常法に従って主薬に賦形剤、結合
剤、崩壊剤、滑沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁
剤、コーティング剤などの医薬の製剤技術分野において
通常使用しうる既知の補助剤を用いて製剤化することが
できる。その投与量は症状、年令、体重、投与方法およ
び剤型等によって異なるが、通常は成人に対して1日
0.01mg乃至 2000mgを投与することができ
る。
は種々の形態で投与される。その投与形態としては例え
ば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等によ
る経口投与または注射剤(静脈内、筋肉内、皮下)、点
滴剤、座剤等による非経口投与をあげることができる。
これらの各種製剤は、常法に従って主薬に賦形剤、結合
剤、崩壊剤、滑沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁
剤、コーティング剤などの医薬の製剤技術分野において
通常使用しうる既知の補助剤を用いて製剤化することが
できる。その投与量は症状、年令、体重、投与方法およ
び剤型等によって異なるが、通常は成人に対して1日
0.01mg乃至 2000mgを投与することができ
る。
【0153】
【実施例】次に実施例および参考例をあげて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
【0154】実施例15−[4−[2−(4−メチルフェニルスルホニル)エ
トキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン
(例示化合物番号 136) 4−[2−(4−メチルフェニルスルホニル)エトキ
シ]ベンズアルデヒド0.71gと2,4−チアゾリジ
ンジオン 0.55gのエタノール 15ml懸濁液
に、ピペリジン 0.1mlを加え、16時間、還流下
で攪拌した。反応終了後、反応混合物を冷却し、析出物
をろ取すると目的化合物 680mgが得られた。
トキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン
(例示化合物番号 136) 4−[2−(4−メチルフェニルスルホニル)エトキ
シ]ベンズアルデヒド0.71gと2,4−チアゾリジ
ンジオン 0.55gのエタノール 15ml懸濁液
に、ピペリジン 0.1mlを加え、16時間、還流下
で攪拌した。反応終了後、反応混合物を冷却し、析出物
をろ取すると目的化合物 680mgが得られた。
【0155】1)融点: 222℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。
トルは、次の通りである。
【0156】2.43(3H, s), 3.84(2H, t, J=5.5Hz),
4.34(2H, t, J=5.5Hz),6.85(2H, d, J=8.5Hz), 7.45(2
H, d, J=8Hz), 7.51(2H, d, J=8.5Hz),7.74(1H, s),
7.78(2H, d. J=8Hz)。
4.34(2H, t, J=5.5Hz),6.85(2H, d, J=8.5Hz), 7.45(2
H, d, J=8Hz), 7.51(2H, d, J=8.5Hz),7.74(1H, s),
7.78(2H, d. J=8Hz)。
【0157】実施例25−[4−[2−(4−メチルフェニルスルホニル)エ
トキシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 4) 実施例1で得られた5−[4−[2−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジ
ン−2,4−ジオン 680mgと5%パラジウム−炭
素 680mgを含む酢酸 10mlを、水素雰囲気
下、90℃で20時間攪拌した。反応終了後、反応混合
物より触媒をろ去し、ろ液を減圧下で濃縮し、残留する
酢酸をトルエンとの共沸留去により除去した。得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)に付して精製すると、ガム状
の目的化合物 340mgが得られた。
トキシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 4) 実施例1で得られた5−[4−[2−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジ
ン−2,4−ジオン 680mgと5%パラジウム−炭
素 680mgを含む酢酸 10mlを、水素雰囲気
下、90℃で20時間攪拌した。反応終了後、反応混合
物より触媒をろ去し、ろ液を減圧下で濃縮し、残留する
酢酸をトルエンとの共沸留去により除去した。得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)に付して精製すると、ガム状
の目的化合物 340mgが得られた。
【0158】1)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ p
pm 重クロロホルム中で測定した核磁気共鳴スペクトルは、
次の通りである。 2.42(3H, s), 3.03(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.29(1H,
d,d, J=4.5, 14Hz),3.78(2H, t, J=5.5Hz), 4.23(2H,
t, J=5.5Hz),4.85(1H, d,d, J=4.5, 9Hz), 6.64(2H,
d, J=8.5Hz),7.11(2H, d, J=8.5Hz), 7.43(2H, d. J=8
Hz), 7.77(2H, d, J=8Hz)。
pm 重クロロホルム中で測定した核磁気共鳴スペクトルは、
次の通りである。 2.42(3H, s), 3.03(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.29(1H,
d,d, J=4.5, 14Hz),3.78(2H, t, J=5.5Hz), 4.23(2H,
t, J=5.5Hz),4.85(1H, d,d, J=4.5, 9Hz), 6.64(2H,
d, J=8.5Hz),7.11(2H, d, J=8.5Hz), 7.43(2H, d. J=8
Hz), 7.77(2H, d, J=8Hz)。
【0159】上記で得られた5−[4−[2−(4−メ
チルフェニルスルホニル)エトキシ]ベンジル]チアゾ
リジン−2,4−ジオン 264mgを含むエタノール
4ml溶液に1Nカ性ソーダ水溶液 0.67mlを加
え、混合溶液を濃縮し、残留物をエタノール:エチルエ
ーテル(=1:1)混合液中で粉末化し、ろ取すると、
5−[4−[2−(4−メチルフェニルスルホニル)エ
トキシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン・ナ
トリウム塩 187mgが得られた。
チルフェニルスルホニル)エトキシ]ベンジル]チアゾ
リジン−2,4−ジオン 264mgを含むエタノール
4ml溶液に1Nカ性ソーダ水溶液 0.67mlを加
え、混合溶液を濃縮し、残留物をエタノール:エチルエ
ーテル(=1:1)混合液中で粉末化し、ろ取すると、
5−[4−[2−(4−メチルフェニルスルホニル)エ
トキシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン・ナ
トリウム塩 187mgが得られた。
【0160】1)融点: 180℃以上で着色、200
℃で溶融 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 2.43(3H, s), 2.59(1H, d,d, J=10.5, 17Hz),3.29(1H,
d,d, J=3.5, 17Hz), 3.77(2H, t, J=5.5Hz),4.06(1
H, d,d, J=3.5, 10.5Hz), 4.20(2H, t. J=5.5Hz),6.5
7(2H, d, J=8.5Hz), 7.05(2H, d. J=8.5Hz), 7.44(2
H, d, J=8Hz),7.77(2H, d, J=8Hz)。
℃で溶融 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 2.43(3H, s), 2.59(1H, d,d, J=10.5, 17Hz),3.29(1H,
d,d, J=3.5, 17Hz), 3.77(2H, t, J=5.5Hz),4.06(1
H, d,d, J=3.5, 10.5Hz), 4.20(2H, t. J=5.5Hz),6.5
7(2H, d, J=8.5Hz), 7.05(2H, d. J=8.5Hz), 7.44(2
H, d, J=8Hz),7.77(2H, d, J=8Hz)。
【0161】実施例35−[4−[3−(4−メチルフェニルスルホニル)プ
ロポキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオ
ン(例示化合物番号 180) 4−[3−(4−メチルフェニルスルホニル)プロポキ
シ]ベンズアルデヒド0.80g、2,4−チアゾリジ
ンジオン 0.59gおよびピペリジン0.11mlを
用い、実施例1に準じて反応および後処理を行うと、結
晶性粉末の目的化合物 0.94gが得られた。
ロポキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオ
ン(例示化合物番号 180) 4−[3−(4−メチルフェニルスルホニル)プロポキ
シ]ベンズアルデヒド0.80g、2,4−チアゾリジ
ンジオン 0.59gおよびピペリジン0.11mlを
用い、実施例1に準じて反応および後処理を行うと、結
晶性粉末の目的化合物 0.94gが得られた。
【0162】1)融点: 191−193℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重クロロホルム中で測定した核磁気共鳴スペクトルは、
次の通りである。 1.91-2.03(2H, m), 2.41(3H, s), 3.43(2H, t, J=7H
z),4.08(2H, t, J=6Hz), 7.04(2H, d, J=8.5Hz), 7.
47(2H, d, J=8Hz),7.53(2H, d, J=8.5Hz), 7.74(1H,
s), 7.80(2H, d, J=8Hz)。
次の通りである。 1.91-2.03(2H, m), 2.41(3H, s), 3.43(2H, t, J=7H
z),4.08(2H, t, J=6Hz), 7.04(2H, d, J=8.5Hz), 7.
47(2H, d, J=8Hz),7.53(2H, d, J=8.5Hz), 7.74(1H,
s), 7.80(2H, d, J=8Hz)。
【0163】実施例45−[4−[3−(4−メチルフェニルスルホニル)プ
ロポキシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン
(例示化合物番号 120) 実施例3で得られた5−[4−[3−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)プロポキシ]ベンジリデン]チアゾリ
ジン−2,4−ジオン 0.90gを用い、実施例2に
準じてパラジウム−炭素で接触還元すると、結晶性粉末
の目的化合物0.30gが得られた。
ロポキシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン
(例示化合物番号 120) 実施例3で得られた5−[4−[3−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)プロポキシ]ベンジリデン]チアゾリ
ジン−2,4−ジオン 0.90gを用い、実施例2に
準じてパラジウム−炭素で接触還元すると、結晶性粉末
の目的化合物0.30gが得られた。
【0164】1)融点: 133−135℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 2.16-2.26(2H, m), 2.46(3H, s), 3.11(1H, d,d, J=
9.5, 14Hz),3.30(2H, d,d, J=6, 7Hz), 3.43(1H, d,d,
J=4, 14Hz),4.01(2H, t, J=6Hz), 4.50(1H, d,d, J=
4, 9.5Hz),6.78(2H, d, J=8.5Hz), 7.12(2H, d, J=8.5
Hz), 7.37(2H, d, J=8Hz),7.82(2H, d, J=8Hz), 8.07
(1H, brs)。
トルは、次の通りである。 2.16-2.26(2H, m), 2.46(3H, s), 3.11(1H, d,d, J=
9.5, 14Hz),3.30(2H, d,d, J=6, 7Hz), 3.43(1H, d,d,
J=4, 14Hz),4.01(2H, t, J=6Hz), 4.50(1H, d,d, J=
4, 9.5Hz),6.78(2H, d, J=8.5Hz), 7.12(2H, d, J=8.5
Hz), 7.37(2H, d, J=8Hz),7.82(2H, d, J=8Hz), 8.07
(1H, brs)。
【0165】実施例55−[4−[2−(2−ナフチルスルホニル)エトキ
シ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 135) 4−[2−(2−ナフチルスルホニル)エトキシ]ベン
ズアルデヒド2.87g、 2,4−チアゾリジンジオ
ン 1.98gおよびピペリジン0.33mlを用い、
実施例1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉
末の目的化合物 3.38gが得られた。
シ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 135) 4−[2−(2−ナフチルスルホニル)エトキシ]ベン
ズアルデヒド2.87g、 2,4−チアゾリジンジオ
ン 1.98gおよびピペリジン0.33mlを用い、
実施例1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉
末の目的化合物 3.38gが得られた。
【0166】1)融点: 225−227℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 3.97(2H, t, J=5.5Hz), 4.40(2H, t, J=5.5Hz), 6.73
(2H, d, J=8.5Hz),7.41(2H, d, J=8.5Hz), 7.67-7.79
(3H, m), 7.92(1H, d,d, J=2, 8.5Hz),8.09-8.20(3H,
m), 8.56(1H, s)。
トルは、次の通りである。 3.97(2H, t, J=5.5Hz), 4.40(2H, t, J=5.5Hz), 6.73
(2H, d, J=8.5Hz),7.41(2H, d, J=8.5Hz), 7.67-7.79
(3H, m), 7.92(1H, d,d, J=2, 8.5Hz),8.09-8.20(3H,
m), 8.56(1H, s)。
【0167】実施例65−[4−[2−(2−ナフチルスルホニル)エトキ
シ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 3) 実施例5で得られた5−[4−[2−(2−ナフチルス
ルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−
2,4−ジオン 3.25gを用い、実施例2に準じて
パラジウム−炭素で接触還元すると、粉末状の目的化合
物 2.20gが得られた。
シ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 3) 実施例5で得られた5−[4−[2−(2−ナフチルス
ルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−
2,4−ジオン 3.25gを用い、実施例2に準じて
パラジウム−炭素で接触還元すると、粉末状の目的化合
物 2.20gが得られた。
【0168】1)融点: 179−181℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 2.99(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.25(1H, d,d, J=4, 14H
z),3.91(2H, t, J=5.5Hz), 4.29(2H, t, J=5.5Hz),4.
81(1H, d,d,J=4, 9Hz), 6.52(2H, d, J=8.5Hz),7.02
(2H, d, J=8.5Hz), 7.67-7.79(2H, m), 7.91(1H, d,
d, J=2, 8.5Hz),8.08-8.18(3H, m), 8.57(1H, s)。
トルは、次の通りである。 2.99(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.25(1H, d,d, J=4, 14H
z),3.91(2H, t, J=5.5Hz), 4.29(2H, t, J=5.5Hz),4.
81(1H, d,d,J=4, 9Hz), 6.52(2H, d, J=8.5Hz),7.02
(2H, d, J=8.5Hz), 7.67-7.79(2H, m), 7.91(1H, d,
d, J=2, 8.5Hz),8.08-8.18(3H, m), 8.57(1H, s)。
【0169】実施例75−[4−[2−(4−ビフェニリルスルホニル)エト
キシ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン
(例示化合物番号 146) 4−[2−(4−ビフェニリルスルホニル)エトキシ]
ベンズアルデヒド19g,2,4−チアゾリジンジオン
12.1gおよびピペリジン 2mlを用い、実施例
1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉末の目
的化合物23.6gが得られた。
キシ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン
(例示化合物番号 146) 4−[2−(4−ビフェニリルスルホニル)エトキシ]
ベンズアルデヒド19g,2,4−チアゾリジンジオン
12.1gおよびピペリジン 2mlを用い、実施例
1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉末の目
的化合物23.6gが得られた。
【0170】1)融点: 270−273℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 3.93(2H, t, J=5Hz), 4.40(2H, t, J=5Hz), 6.84(2H,
d, J=8.5Hz),7.46-7.57(5H, m), 7.72-7.77(3H, m),
7.90-7.99(4H, m)。
トルは、次の通りである。 3.93(2H, t, J=5Hz), 4.40(2H, t, J=5Hz), 6.84(2H,
d, J=8.5Hz),7.46-7.57(5H, m), 7.72-7.77(3H, m),
7.90-7.99(4H, m)。
【0171】実施例85−[4−[2−(4−ビフェニリルスルホニル)エト
キシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例示
化合物番号 28) 実施例7で得られた5−[4−[2−(4−ビフェニリ
ルスルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジン
−2,4−ジオン 10gを用い、実施例2に準じてパ
ラジウム−炭素で接触還元すると、粉末状の目的化合物
2.93gが得られた。
キシ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例示
化合物番号 28) 実施例7で得られた5−[4−[2−(4−ビフェニリ
ルスルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジン
−2,4−ジオン 10gを用い、実施例2に準じてパ
ラジウム−炭素で接触還元すると、粉末状の目的化合物
2.93gが得られた。
【0172】1)融点: 115℃以上で軟化 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 3.01(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.26(1H, d,d, J=4.5, 14
Hz),3.87(2H, t, J=5.5Hz), 4.27(2H, t, J=5.5Hz),4.
83(1H, d,d, J=4.5, 9Hz), 6.62(2H, d, J=8.5Hz),7.0
8(2H, d, J=8.5Hz), 7.43-7.56(3H, m), 7.75(2H, d,
J=7Hz),7.89-7.97(4H, m)。
トルは、次の通りである。 3.01(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.26(1H, d,d, J=4.5, 14
Hz),3.87(2H, t, J=5.5Hz), 4.27(2H, t, J=5.5Hz),4.
83(1H, d,d, J=4.5, 9Hz), 6.62(2H, d, J=8.5Hz),7.0
8(2H, d, J=8.5Hz), 7.43-7.56(3H, m), 7.75(2H, d,
J=7Hz),7.89-7.97(4H, m)。
【0173】実施例95−[4−[2−(2−ピリジルスルホニル)エトキ
シ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 148) 4−[2−(2−ピリジルスルホニル)エトキシ]ベン
ズアルデヒド 2.9g、2,4−チアゾリジンジオン
2.33gおよびピペリジン 0.5mlを用い、実
施例1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉末
の目的化合物2.75gが得られた。
シ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 148) 4−[2−(2−ピリジルスルホニル)エトキシ]ベン
ズアルデヒド 2.9g、2,4−チアゾリジンジオン
2.33gおよびピペリジン 0.5mlを用い、実
施例1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉末
の目的化合物2.75gが得られた。
【0174】1)融点: 210−212℃ 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 4.02(2H, t, J=5.5Hz), 4.41(2H, t, J=5.5Hz), 6.71
(2H, d, J=8.5Hz),7.47(2H, d, J=8.5Hz), 7.72(1H,
s), 7.75-7.80(1H, m),8.01(1H, d, J=8Hz), 8.16(1
H, d,t, J=1.5, 8Hz),8.79(1H, d, J=4.5Hz)。
トルは、次の通りである。 4.02(2H, t, J=5.5Hz), 4.41(2H, t, J=5.5Hz), 6.71
(2H, d, J=8.5Hz),7.47(2H, d, J=8.5Hz), 7.72(1H,
s), 7.75-7.80(1H, m),8.01(1H, d, J=8Hz), 8.16(1
H, d,t, J=1.5, 8Hz),8.79(1H, d, J=4.5Hz)。
【0175】実施例105−[4−[2−(2−ピリジルスルホニル)エトキ
シ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 41) 実施例9で得られた5−[4−[2−(2−ピリジルス
ルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−
2,4−ジオン 2.64gを用い、実施例2に準じて
パラジウム−炭素で接触還元すると、ガム状の目的化合
物 1.86gが得られた。
シ]ベンジル]チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 41) 実施例9で得られた5−[4−[2−(2−ピリジルス
ルホニル)エトキシ]ベンジリデン]チアゾリジン−
2,4−ジオン 2.64gを用い、実施例2に準じて
パラジウム−炭素で接触還元すると、ガム状の目的化合
物 1.86gが得られた。
【0176】1)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ p
pm 重クロロホルム中で測定した核磁気共鳴スペクトルは、
次の通りである。3.09(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.40(1
H, d,d, J=4, 14Hz),3.90(2H, t, J=6Hz), 4.40(2H,
t, J=6Hz), 4.47(1H, d,d,J=4, 9Hz),6.54(2H, d, J=
8.5Hz), 7.07(2H, d, J=8.5Hz), 7.57-7.77(1H, m),
7.97(1H, d,t, J=1.5, 8Hz), 8.07(1H, d, J=8Hz),8.7
6(1H, d, J=4.5Hz)。
pm 重クロロホルム中で測定した核磁気共鳴スペクトルは、
次の通りである。3.09(1H, d,d, J=9, 14Hz), 3.40(1
H, d,d, J=4, 14Hz),3.90(2H, t, J=6Hz), 4.40(2H,
t, J=6Hz), 4.47(1H, d,d,J=4, 9Hz),6.54(2H, d, J=
8.5Hz), 7.07(2H, d, J=8.5Hz), 7.57-7.77(1H, m),
7.97(1H, d,t, J=1.5, 8Hz), 8.07(1H, d, J=8Hz),8.7
6(1H, d, J=4.5Hz)。
【0177】上記で得られた5−[4−[2−(2−ピ
リジルスルホニル)エトキシ]ベンジル]チアゾリジン
−2,4−ジオン 85mgのメタノール 4ml溶液
に1Nカ性ソーダー水溶液 0.216mlを加えた
後、混合溶液を減圧下で濃縮し、残留物をメタノール−
エチルエーテル中で粉末化すると、目的化合物のナトリ
ウム塩 40mgが得られた。
リジルスルホニル)エトキシ]ベンジル]チアゾリジン
−2,4−ジオン 85mgのメタノール 4ml溶液
に1Nカ性ソーダー水溶液 0.216mlを加えた
後、混合溶液を減圧下で濃縮し、残留物をメタノール−
エチルエーテル中で粉末化すると、目的化合物のナトリ
ウム塩 40mgが得られた。
【0178】1)融点: 160℃以上で着色、175
℃(分解) 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 2.62(1H, d,d, J=10, 14Hz), 3.26(1H, d,d, J=3.5, 1
4Hz),3.96(2H, t, J=5.5Hz), 4.13(1H, d,d, J=3.5, 1
0Hz),4.27(2H, t, J=5.5Hz), 6.41(2H, d, J=8.5Hz),
7.01(2H, d, J=8.5Hz),7.74-7.78(1H, m), 8.00(1H,
d, J=8Hz), 8.15(1H, d,d, J=1.5, 8Hz),8.77(1H,
d, J=4.5Hz)。
℃(分解) 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 2.62(1H, d,d, J=10, 14Hz), 3.26(1H, d,d, J=3.5, 1
4Hz),3.96(2H, t, J=5.5Hz), 4.13(1H, d,d, J=3.5, 1
0Hz),4.27(2H, t, J=5.5Hz), 6.41(2H, d, J=8.5Hz),
7.01(2H, d, J=8.5Hz),7.74-7.78(1H, m), 8.00(1H,
d, J=8Hz), 8.15(1H, d,d, J=1.5, 8Hz),8.77(1H,
d, J=4.5Hz)。
【0179】実施例115−[4−[2−(2−キノリルスルホニル)エトキ
シ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 149) 4−[2−(2−キノリルスルホニル)エトキシ]ベン
ズアルデヒド5.67g、2,4−チアゾリジンジオン
3.89gおよびピペリジン0.82gを用い、実施
例1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉末の
目的化合物 6.08gが得られた。
シ]ベンジリデン]チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 149) 4−[2−(2−キノリルスルホニル)エトキシ]ベン
ズアルデヒド5.67g、2,4−チアゾリジンジオン
3.89gおよびピペリジン0.82gを用い、実施
例1に準じて反応および後処理を行うと、結晶性粉末の
目的化合物 6.08gが得られた。
【0180】1)融点: 211−213℃(分解) 2)1 H−核磁気共鳴スペクトル:δ ppm 重ジメチルスルホキシド中で測定した核磁気共鳴スペク
トルは、次の通りである。 4.18(2H, t, J=5.5Hz), 4.49(2H, t, J=5.5Hz), 6.59
(2H, d, J=9Hz),7.34(2H, d, J=9Hz), 7.65(1H, s),
7.83(1H, t, J=7.5H),7.92(1H, d,t, J=1.5, 7.5Hz),
8.07(1H, d, J=7.5Hz),8.10(1H, d, J=8.5Hz), 8.20(1
H, d, J=8Hz), 8.77(1H, d, J=8.5Hz)。
トルは、次の通りである。 4.18(2H, t, J=5.5Hz), 4.49(2H, t, J=5.5Hz), 6.59
(2H, d, J=9Hz),7.34(2H, d, J=9Hz), 7.65(1H, s),
7.83(1H, t, J=7.5H),7.92(1H, d,t, J=1.5, 7.5Hz),
8.07(1H, d, J=7.5Hz),8.10(1H, d, J=8.5Hz), 8.20(1
H, d, J=8Hz), 8.77(1H, d, J=8.5Hz)。
【0181】参考例1 4−[2−(4−メチルフェニ
ルスルホニル)エトキシ]ベンズアルデヒド (a)4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンズニトリル 2−ブロモエタノール 8.39g、4−ヒドロキシベ
ンズニトリル8.00gおよび炭酸カリウム 9.28
gを含む2−ブタノン 160mlを、7時間還流下で
攪拌した。その間、2−ブロモエタノール 16.8g
および炭酸カリウム 18.6gを5回にわたり加え
た。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルと水を加え、
有機溶剤層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。有機溶剤層より溶剤を減圧下で留去すると、結晶性
残留物が得られた。得られた結晶性残留物をイソプロピ
ルエーテルで洗浄すると、融点 83−85℃を有する
目的化合物 6.30gが得られた。
ルスルホニル)エトキシ]ベンズアルデヒド (a)4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンズニトリル 2−ブロモエタノール 8.39g、4−ヒドロキシベ
ンズニトリル8.00gおよび炭酸カリウム 9.28
gを含む2−ブタノン 160mlを、7時間還流下で
攪拌した。その間、2−ブロモエタノール 16.8g
および炭酸カリウム 18.6gを5回にわたり加え
た。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルと水を加え、
有機溶剤層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。有機溶剤層より溶剤を減圧下で留去すると、結晶性
残留物が得られた。得られた結晶性残留物をイソプロピ
ルエーテルで洗浄すると、融点 83−85℃を有する
目的化合物 6.30gが得られた。
【0182】(b)4−(2−メタンスルホニルオキシ
エトキシ)ベンズニトリル (a)で得られた4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベン
ズニトリル 6.25gおよびトリエチルアミン 1
0.68mlのジクロロメタン 70ml溶液に、氷冷
下でメタンスルホニルクロライド 445mlを滴加し
た後、混合物を室温で1時間攪拌した。得られた反応混
合物を濃縮し、残留物を酢酸エチルと食塩水に溶解し
た。得られた有機溶剤層を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。有機溶剤層より溶剤を減圧下で留去する
と、結晶性残留物が得られた。得られた結晶性残留物を
イソプロピルエーテルで洗浄すると、融点 89−91
℃を有する目的化合物 8.19gが得られた。
エトキシ)ベンズニトリル (a)で得られた4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベン
ズニトリル 6.25gおよびトリエチルアミン 1
0.68mlのジクロロメタン 70ml溶液に、氷冷
下でメタンスルホニルクロライド 445mlを滴加し
た後、混合物を室温で1時間攪拌した。得られた反応混
合物を濃縮し、残留物を酢酸エチルと食塩水に溶解し
た。得られた有機溶剤層を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。有機溶剤層より溶剤を減圧下で留去する
と、結晶性残留物が得られた。得られた結晶性残留物を
イソプロピルエーテルで洗浄すると、融点 89−91
℃を有する目的化合物 8.19gが得られた。
【0183】(c)4−[2−(4−メチルフェニルチ
オ)エトキシ]ベンズニトリル (b)で得られた4−(2−メタンスルホニルオキシエ
トキシ)ベンズニトリル 4gのジメチルアセトアミド
50ml溶液に、p−トルエンチオール3.0gおよ
び炭酸カリウム 4.58gを加え、70℃で1.5時
間攪拌した。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルと水
を加え、有機溶剤層を分離した。有機溶剤層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。有機溶剤層より溶剤を減圧下
で留去すると、結晶性残留物が得られた。得られた結晶
性残留物をイソプロピルエーテルとヘキサンで洗浄する
と、融点 72℃を有する目的化合物 3.45gが得
られた。
オ)エトキシ]ベンズニトリル (b)で得られた4−(2−メタンスルホニルオキシエ
トキシ)ベンズニトリル 4gのジメチルアセトアミド
50ml溶液に、p−トルエンチオール3.0gおよ
び炭酸カリウム 4.58gを加え、70℃で1.5時
間攪拌した。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルと水
を加え、有機溶剤層を分離した。有機溶剤層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。有機溶剤層より溶剤を減圧下
で留去すると、結晶性残留物が得られた。得られた結晶
性残留物をイソプロピルエーテルとヘキサンで洗浄する
と、融点 72℃を有する目的化合物 3.45gが得
られた。
【0184】(d)4−〔2−(4−メチルフェニルス
ルホニル)エトキシ〕ベンズニトリル (c)で得られた4−[2−(4−メチルフェニルチ
オ)エトキシ]ベンズニトリル 3.36gのジクロロ
メタン 30ml溶液に、m−クロロ過安息香酸(純度
70%) 6.14gのジクロロメタン 80ml溶液
を氷冷下で滴加した。反応混合液を氷冷下で2時間攪拌
した後、反応混合物をチオ硫酸ナトリウム水溶液および
重曹水で順次洗浄した。得られた反応混合物を無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶剤を減圧下で留去すると、結
晶性残留物が得られた。得られた結晶性残留物をイソプ
ロピルエーテルで洗浄すると、融点 117−118℃
を有する目的化合物 3.58gが得られた。
ルホニル)エトキシ〕ベンズニトリル (c)で得られた4−[2−(4−メチルフェニルチ
オ)エトキシ]ベンズニトリル 3.36gのジクロロ
メタン 30ml溶液に、m−クロロ過安息香酸(純度
70%) 6.14gのジクロロメタン 80ml溶液
を氷冷下で滴加した。反応混合液を氷冷下で2時間攪拌
した後、反応混合物をチオ硫酸ナトリウム水溶液および
重曹水で順次洗浄した。得られた反応混合物を無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶剤を減圧下で留去すると、結
晶性残留物が得られた。得られた結晶性残留物をイソプ
ロピルエーテルで洗浄すると、融点 117−118℃
を有する目的化合物 3.58gが得られた。
【0185】(e)4−[2−(4−メチルフェニルス
ルホニル)エトキシ]ベンズアルデヒド (d)で得られた4−[2−(4−メチルフェニルスル
ホニル)エトキシ]ベンズニトリル 3.48gのテト
ラビトロフラン 50ml溶液に、窒素気流中、−50
℃で2M水素化ジイソブチルアルミニウム・トルエン溶
液 27.2mlを滴加した。滴加終了後、反応混合液
を氷冷下で5時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アン
モニウム水溶液 50mlおよび3N塩酸 150ml
を順次加えた。反応混合物を30分間攪拌後、反応混合
物より不溶物をろ去した。得られた有機溶剤層を分離
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶剤層より
溶剤を減圧下で留去すると、結晶性残留物が得られた。
得られた結晶性残留物をイソプロピルエーテルで洗浄す
ると、融点 72−74℃を有する目的化合物2.43
gが得られた。
ルホニル)エトキシ]ベンズアルデヒド (d)で得られた4−[2−(4−メチルフェニルスル
ホニル)エトキシ]ベンズニトリル 3.48gのテト
ラビトロフラン 50ml溶液に、窒素気流中、−50
℃で2M水素化ジイソブチルアルミニウム・トルエン溶
液 27.2mlを滴加した。滴加終了後、反応混合液
を氷冷下で5時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アン
モニウム水溶液 50mlおよび3N塩酸 150ml
を順次加えた。反応混合物を30分間攪拌後、反応混合
物より不溶物をろ去した。得られた有機溶剤層を分離
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶剤層より
溶剤を減圧下で留去すると、結晶性残留物が得られた。
得られた結晶性残留物をイソプロピルエーテルで洗浄す
ると、融点 72−74℃を有する目的化合物2.43
gが得られた。
【0186】上記と同様の方法で、以下の化合物を製造
した。
した。
【0187】参考例2 4−[3−(4−メチルフェニ
ルスルホニル)プロポキシ]ベンズアルデヒド 融点 144−146℃。
ルスルホニル)プロポキシ]ベンズアルデヒド 融点 144−146℃。
【0188】参考例3 4−[2−(2−ナフチルスル
ホニル)エトキシ]ベンズアルデヒド 融点 113℃ 参考例4 4−[2−(4−ビフェニリルスルホニル)
エトキシ]ベンズアルデヒド 融点 137℃ 参考例5 4−[2−(2−ピリジルスルホニル)エト
キシ]ベンズアルデヒド 融点 103−105℃ 参考例6 4−[2−(2−キノリルスルホニル)エト
キシ]ベンズアルデヒド 融点 124−126℃。
ホニル)エトキシ]ベンズアルデヒド 融点 113℃ 参考例4 4−[2−(4−ビフェニリルスルホニル)
エトキシ]ベンズアルデヒド 融点 137℃ 参考例5 4−[2−(2−ピリジルスルホニル)エト
キシ]ベンズアルデヒド 融点 103−105℃ 参考例6 4−[2−(2−キノリルスルホニル)エト
キシ]ベンズアルデヒド 融点 124−126℃。
【0189】試験例1 血糖降下作用 体重40g以上高血糖状態を示す雄性KKマウスに各化
合物1mg/kgをポリエチレングリコール400:
0.5%W/Vカルボキシメチルセルロース生理食塩水
=1:1の溶剤に混合して経口投与し、飽和条件下で1
8時間放置した。次いで無麻酔下で尾静脈より採血し、
グリコースアナライザー(GL−101(商品名)、三
菱化成(株)社製)にて血糖値を測定した。
合物1mg/kgをポリエチレングリコール400:
0.5%W/Vカルボキシメチルセルロース生理食塩水
=1:1の溶剤に混合して経口投与し、飽和条件下で1
8時間放置した。次いで無麻酔下で尾静脈より採血し、
グリコースアナライザー(GL−101(商品名)、三
菱化成(株)社製)にて血糖値を測定した。
【0190】血糖降下率は以下の式より求めた。 血糖降下率(%)=[(溶剤投与群血糖値−化合物投与
群血糖値)/溶剤投与群血糖値]×100 得られた結果のうち、好適な化合物の結果を表9に示
す。
群血糖値)/溶剤投与群血糖値]×100 得られた結果のうち、好適な化合物の結果を表9に示
す。
【0191】
【表9】 ───────────────────────────── 試験化合物 血糖降下率(%) ───────────────────────────── 実施例2の化合物 35.2 実施例6の化合物 25.2 実施例8の化合物 44.9 ───────────────────────────── 表9から、本発明の化合物は優れた血糖降下作用を示し
た。
た。
【0192】
【発明の効果】本発明の化合物は高脂血症、高血糖症、
肥満症、耐糖能不全状態、インスリン抵抗性および糖尿
病合併症等を改善し、更にアルドース還元酵素阻害作用
を有する。従って、例えば高脂血症、高血糖症、肥満症
および耐糖能不全等に起因する疾病、高血圧症、骨粗鬆
症、悪液質、糖尿病合併症たとえば網膜症、腎症、神経
症、白内障、冠動脈疾患、動脈硬化症、等の予約薬およ
び/または治療薬として有用である。
肥満症、耐糖能不全状態、インスリン抵抗性および糖尿
病合併症等を改善し、更にアルドース還元酵素阻害作用
を有する。従って、例えば高脂血症、高血糖症、肥満症
および耐糖能不全等に起因する疾病、高血圧症、骨粗鬆
症、悪液質、糖尿病合併症たとえば網膜症、腎症、神経
症、白内障、冠動脈疾患、動脈硬化症、等の予約薬およ
び/または治療薬として有用である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/425 ABL ABU 31/44 ABS ABX 31/47 ACV C07D 263/44 271/06 413/12 213 215 317 417/12 213 215 317 (72)発明者 和田 邦雄 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 小口 実 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 吉岡 孝雄 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 藤原 俊彦 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 掘越 大能 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中、 R1 は炭素数1乃至6個を有するアルキレン基を示す。
R2 は水素原子、炭素数1乃至6個を有するアルキル
基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数1
乃至4個を有するアルキルチオ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、アミノ基、炭素数1乃至4個を有するモノアルキ
ルアミノ基、同一もしくは異なって各アルキルが炭素数
1乃至4個を有するジアルキルアミノ基、1乃至3個の
置換分を有していてもよい炭素数6乃至10個を有する
アリール基、1乃至3個の置換分を有していてもよい複
素環基、または1乃至3個の置換分を有していてもよい
炭素数7乃至11個を有するアラルキル基を示す。Xは
1乃至3個の置換分を有していてもよい炭素数6乃至1
0個を有するアリール基、または1乃至3個の置換分を
有していてもよい複素環基を示す。Yは酸素原子、硫黄
原子または基 >N−R3(式中、R3 は水素原子、炭
素数1乃至6個を有するアルキル基または炭素数1乃至
8個を有するアシル基を示す。)を示す。Zは基 【化2】 を示す。]を有するスルホン誘導体またはその薬理上許
容される塩。 - 【請求項2】[請求項1]において、 R1 が炭素数2乃至5個を有するアルキレン基を示し、 R2 が水素原子、炭素数1乃至4個を有するアルキル
基、メトキシ基、メチルチオ基、フッ素原子、塩素原
子、ニトロ基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミ
ノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル
基、窒素原子、酸素原子および/または硫黄原子を1乃
至3個含有する単環性複素環基もしくは二環性複素環
基、ベンジル基またはフェネチル基を示し、 X が置換分として炭素数1乃至6個を有するアルキル
基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、炭素数1
または2個を有するアルキレンジオキシ基、炭素数1乃
至4個を有するアルキルチオ基、炭素数1乃至4個を有
するアルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、
アミノ基、炭素数1乃至4個を有するモノアルキルアミ
ノ基、同一もしくは異なって各アルキルが炭素数1乃至
4個を有するジアルキルアミノ基、炭素数6乃至10個
を有するアリール基(該アリール基は低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲンまたはアルキレンジオキシ基で
置換されていてもよい)、複素環基、炭素数7乃至11
個を有するアラルキル基、炭素数6乃至10個を有する
アリールオキシ基、炭素数6乃至10個を有するアリー
ルチオ基、炭素数6乃至10個を有するアリールスルホ
ニル基または炭素数6乃至10個を有するアリールスル
ホニルアミノ基(該基の窒素原子は低級アルキルで置換
されていてもよい)を1乃至3個有していてもよい、フ
ェニル基、ナフチル基、窒素原子、酸素原子および/ま
たは硫黄原子を1乃至3個含有する単環性複素環基もし
くは二環性複素環基を示し、 Y が酸素原子、硫黄原子または基 >N−R3(R3
は水素原子、炭素数1乃至3個を有するアルキル基また
は炭素数2乃至5個を有するアシル基を示す。)を示
し、 Z が2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル
基、2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチル
基または3,5−ジオキソオキサジアゾリジン−2−イ
ルメチル基を示す、化合物またはその塩。 - 【請求項3】[請求項1]または[請求項2]におい
て、 R1 が炭素数2乃至5個を有するアルキレン基を示し、 R2 が水素原子、メチル基、メトキシ基、フッ素原子ま
たは塩素原子を示し、 X が置換分として、炭素数1乃至4個を有するアルキ
ル基、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基、メチレ
ンジオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルス
ルホニル基、エチルスルホニル基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、フェニル基(該フェニル基はメトキシま
たはメチレンジオキシで置換されていてもよい)、ピリ
ジル基、ベンジル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、
フェニルスルホニル基、フェニルスルホニルアミノ基、
N−メチルフェニルスルホニルアミノ基を1乃至2個有
していてもよい、フェニル基、ナフチル基、ピリジル
基、キノリル基またはインドリル基を示し、 Y が酸素原子、硫黄原子、>NH、>NCH3 または
>NCOCH3 を示し、 Z が2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル
基、2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメチル
基または3,5−ジオキソオキサジアゾリジン−2−イ
ルメチル基を示す、化合物またはその塩。 - 【請求項4】[請求項1]、[請求項2]または[請求
項3]において、 R1 がエチレン、メチルエチレン基、エチルエチレン
基、イソプロピルエチレン基またはトリメチレン基を示
し、 R2 が水素原子を示し、 X がフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、
p−トリル基、4−エチルフェニル基、4−イソプロピ
ルフェニル基、4−t−ブチルフェニル基、4−メトキ
シフェニル基、4−エトキシフェニル基、4−イソプロ
ポキシフェニル基、3,4−メチレンジオキシフェニル
基、3,4−ジメトキシフェニル基、4−メチルチオフ
ェニル基、4−エチルチオフェニル基、4−メチルスル
ホニルフェニル基、4−エチルスルホニルフェニル基、
4−フルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、4−
ブロモフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、2,
5−ジクロロフェニル基、4−ビフェニル基、4−(4
−メトキシフェニル)フェニル基、4−(3,4−ジメ
トキシフェニル)フェニル基、4−(3,4−メチレン
ジオキシフェニル)フェニル基、4−(2−ピリジル)
フェニル基、4−(3−ピリジル)フェニル基、4−ベ
ンジルフェニル基、4−フェノキシフェニル基、4−フ
ェニルチオフェニル基、4−フェニルスルホニルフェニ
ル基、4−(フェニルスルホニルアミノ)フェニル基、
4−(N−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニル
基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル
基、5−メチル−3−ピリジル基、6−メチル−3−ピ
リジル基、5−フェニル−3−ピリジル基、6−フェニ
ル−3−ピリジル基、2−キノリル基または3−キノリ
ル基を示し、 Y が酸素原子を示し、 Z が2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル
基または2,4−ジオキソオキサゾリジン−5−イルメ
チル基を示す、化合物またはその塩。 - 【請求項5】[請求項1]、[請求項2]、[請求項
3]または[請求項4]において、 R1 がエチレン基、メチルエチレン基またはエチルエチ
レン基を示し、 R2 が水素原子を示し、 X がフェニル基、2−ナフチル基、p−トリル基、4
−エチルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4
−t−ブチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4
−エトキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニル
基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、4−クロロ
フェニル基、4−ブロモフェニル基、4−ビフェニル
基、4−(4−メトキシフェニル)フェニル基、2−ピ
リジル基または2−キノリル基を示し、 Y が酸素原子を示し、 Z が2,4−ジオキソチアゾリジン−5−イルメチル
基を示す、化合物またはその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6303810A JPH08157461A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | スルホン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6303810A JPH08157461A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | スルホン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08157461A true JPH08157461A (ja) | 1996-06-18 |
Family
ID=17925580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6303810A Pending JPH08157461A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | スルホン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08157461A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5804590A (en) * | 1995-12-26 | 1998-09-08 | Sankyo Company, Limited | Treatment and prophylaxis of osteoporosis |
WO2001036402A1 (fr) * | 1998-07-14 | 2001-05-25 | Fujimoto Brothers Co., Ltd. | Nouveaux derives de 2-(n-cyano-imino)thiazolidin-4-one |
WO2001052849A1 (fr) * | 2000-01-24 | 2001-07-26 | Fujimoto Brothers Co., Ltd. | Remedes contre le diabete |
US11471455B2 (en) | 2018-10-05 | 2022-10-18 | Annapurna Bio, Inc. | Compounds and compositions for treating conditions associated with APJ receptor activity |
US11884647B2 (en) | 2019-10-18 | 2024-01-30 | The Regents Of The University Of California | Compounds and methods for targeting pathogenic blood vessels |
-
1994
- 1994-12-07 JP JP6303810A patent/JPH08157461A/ja active Pending
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