JPWO2020098645A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109207920B (zh) 2018-11-12 2021-02-09 京东方科技集团股份有限公司 掩模版
CN109487206B (zh) * 2018-12-11 2020-08-11 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置
CN110764362B (zh) * 2019-01-31 2020-12-29 昆山国显光电有限公司 掩膜条、阵列基板、显示屏及显示装置
CN110760791A (zh) * 2019-02-28 2020-02-07 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN110760790A (zh) * 2019-02-28 2020-02-07 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板及掩膜组件
KR102563190B1 (ko) * 2019-04-23 2023-08-02 애플 인크. 디스플레이 아래의 센서들의 성능을 개선하기 위한 방법 및 구성
KR102932280B1 (ko) * 2019-07-25 2026-02-27 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
CN210916231U (zh) * 2019-10-18 2020-07-03 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版
KR20210054644A (ko) * 2019-11-05 2021-05-14 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리, 표시 장치의 제조장치, 및 표시 장치의 제조방법
US11805678B2 (en) 2019-11-21 2023-10-31 Samsung Display Co., Ltd. Display device, mask assembly, method of manufacturing the mask assembly, apparatus for manufacturing the display device, and method of manufacturing the display device
KR20210114594A (ko) 2020-03-10 2021-09-24 삼성디스플레이 주식회사 금속 마스크
CN113471136B (zh) * 2020-03-30 2024-10-22 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 半导体器件及形成方法
KR102836687B1 (ko) 2020-05-11 2025-07-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크 검사 장치 및 이를 이용한 마스크 검사 방법
KR102741001B1 (ko) * 2020-05-14 2024-12-12 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
US12419138B2 (en) * 2020-09-22 2025-09-16 Enkris Semiconductor, Inc. Method of manufacturing a semiconductor structure, which can be applied to full-color LED
CN112662994B (zh) * 2020-12-04 2023-04-25 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版及其制备方法
CN115116959B (zh) * 2021-03-18 2024-11-15 长鑫存储技术有限公司 半导体结构及其形成方法
US11939658B2 (en) * 2021-04-09 2024-03-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Deposition mask, deposition mask apparatus, deposition apparatus, and manufacturing method for organic device
KR102850627B1 (ko) * 2021-05-11 2025-08-26 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 디스플레이 장치의 제조방법
CN114107895A (zh) * 2021-11-26 2022-03-01 京东方科技集团股份有限公司 一种精细金属掩膜板及有机电致发光显示面板

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3878904B2 (ja) * 2002-10-29 2007-02-07 京セラ株式会社 スクリーン印刷用マスク及びそれを用いた電子部品の製造方法
JP5262226B2 (ja) * 2007-08-24 2013-08-14 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
CN103190005A (zh) * 2010-11-04 2013-07-03 皇家飞利浦电子股份有限公司 基于结晶弛豫结构的固态发光器件
NO334241B1 (no) * 2011-05-18 2014-01-20 Aker Subsea As Koblingsanordning
CN103205687B (zh) * 2012-01-16 2016-03-02 昆山允升吉光电科技有限公司 蒸镀掩模板及其制作方法
JP2014194062A (ja) * 2013-03-29 2014-10-09 Sony Corp マスクフレームユニット、マスク装置及び処理方法
KR102160695B1 (ko) 2013-05-10 2020-09-29 삼성디스플레이 주식회사 마스크
KR102106336B1 (ko) * 2013-07-08 2020-06-03 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크
KR102237428B1 (ko) * 2014-02-14 2021-04-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
CN204434717U (zh) 2014-12-05 2015-07-01 信利(惠州)智能显示有限公司 一种掩膜板
KR102404576B1 (ko) * 2015-04-24 2022-06-03 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
TWI550108B (zh) * 2015-04-28 2016-09-21 友達光電股份有限公司 遮罩
CN105803389B (zh) * 2016-05-18 2019-01-22 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN106294935B (zh) * 2016-07-28 2019-08-20 上海华力微电子有限公司 一种基于图形密度的工艺模型建模与修正方法
KR102632617B1 (ko) * 2016-08-08 2024-02-02 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치, 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 및 표시 장치
KR102642345B1 (ko) * 2016-09-06 2024-02-29 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크
WO2018139822A1 (ko) * 2017-01-24 2018-08-02 주식회사 다원시스 반도체 도너 기판과, 반도체 도너 기판의 제조 방법과, 유기 발광 장치의 제조 방법 및 도너 기판 모듈
CN108666420B (zh) * 2017-03-27 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及其制作方法
CN107740065B (zh) * 2017-09-26 2020-03-31 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模版及其成膜方法、成膜设备
CN107435131B (zh) * 2017-09-29 2019-08-02 上海天马微电子有限公司 掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法
CN107885030B (zh) * 2017-12-01 2021-02-26 信利(惠州)智能显示有限公司 掩膜板
CN108269837B (zh) * 2018-01-23 2020-12-04 京东方科技集团股份有限公司 一种电致发光显示面板、掩膜板及制作方法
CN208013662U (zh) * 2018-03-30 2018-10-26 昆山国显光电有限公司 显示面板及制作显示面板用掩模板
CN108642440B (zh) 2018-05-14 2019-09-17 昆山国显光电有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN109207920B (zh) 2018-11-12 2021-02-09 京东方科技集团股份有限公司 掩模版

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