JP2022503355A

JP2022503355A - マスクプレートおよびその製造方法

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Publication number: JP2022503355A
Application number: JP2020560749A
Authority: JP
Inventors: ▲珊▼▲珊▼ 白
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Priority date: 2018-11-12
Filing date: 2019-11-12
Publication date: 2022-01-12
Anticipated expiration: 2039-11-12
Also published as: US20210301386A1; CN109207920A; EP3882369A1; CN109207920B; EP3882369A4; WO2020098645A1; JP7499186B2; WO2020098645A9

Abstract

本開示はマスクプレートおよびその製造方法を提供しており、表示技術分野に属するものであって、従来のマスクプレートが第1の開口領域と第2の開口領域に分けられた後、張設時にパターン開口の形状および位置を正確に制御することが困難であるという課題を少なくとも部分的に解決することができる。本開示のマスクプレートは少なくとも1つのパターン領域を含み、各パターン領域はマスクプレートの長さ方向において隣り合う第1の開口領域と第2の開口領域とを含み、各第1の開口領域および各第2の開口領域内に、貫通するパターン開口を複数備え、第2の開口領域におけるパターン開口の面積の和が第2の開口領域の総面積に占める割合は、第1の開口領域におけるパターン開口の面積の和が第1の開口領域の総面積に占める割合よりも大きく、第1の開口領域のパターン開口間の箇所に、前記マスクプレートの厚みを貫通しない凹溝がさらに設けられる。

Description

本開示は表示技術分野に属し、具体的にマスクプレートおよびその製造方法に関するものである。
[関連出願の相互参照]
本願は2018年11月12日に提出された中国特許出願番号201811338402.7の優先権を主張し、その公開内容を参照によりここに援用する。

従来の「全画面」表示装置において、全画面表示携帯電話を例にすると、その表示領域は2つの領域に分けられ、一端に近い表示領域内の画素の面積占有はやや小さく、解像度はやや低く、この部分の表示領域裏面はカメラなどのセンサを配置するために用いられ、より低い解像度はこれらセンサに十分な透明領域を残すことができ、その他の大部分の表示領域内の画素の面積占有はやや大きく、解像度もより高い。

本開示の一実施例は、少なくとも1つのパターン領域を含み、各前記パターン領域はマスクプレートの長さ方向において隣り合う第1の開口領域と第2の開口領域とを含み、各前記第1の開口領域および各前記第2の開口領域内に、厚み方向にマスクプレートを貫通するパターン開口を複数備えるマスクプレートであって、前記第2の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第2の開口領域の総面積に占める割合は、前記第1の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第1の開口領域の総面積に占める割合よりも大きく、前記第1の開口領域において、厚み方向に前記マスクプレートを貫通しない凹溝がさらに設けられる、マスクプレートを提供する。

いくつかの実施の形態において、前記第1の開口領域内のパターン開口と第2の開口領域内のパターン開口の開口面積が異なる。

いくつかの実施の形態において、前記凹溝の形状はそれが所在する第1の開口領域におけるパターン開口の形状およびサイズと同一である。

いくつかの実施の形態において、少なくとも一部の前記凹溝の中心が、それに隣り合う複数のパターン開口の中心で構成されるパターンの中心に設けられる。

いくつかの実施の形態において、前記第1の開口領域におけるパターン開口が複数行複数列に並べられ、少なくとも一部の前記凹溝が前記第1の開口領域における隣り合う行のパターン開口間に設けられ、かつ前記第1の開口領域における隣り合う列のパターン開口間に設けられる。

いくつかの実施の形態において、前記凹溝が前記マスクプレートの上面および/または下面に位置する。

いくつかの実施の形態において、前記第1の開口領域と前記第2の開口領域との境界を除き、前記第1の開口領域内の任意の箇所と前記第2の開口領域内の任意の箇所とを比較すると、前記マスクプレートの第1の方向および第2の方向における両者の伸縮率はいずれも異なり、前記第1の方向は前記第1の開口領域と前記第2の開口領域の配列方向で、前記第2の方向は前記第1の方向に直交する方向である。

いくつかの実施の形態において、前記第1の開口領域と前記第2の開口領域との境界を除き、前記第1の開口領域内の任意の箇所と前記第2の開口領域内の任意の箇所とを比較すると、前記マスクプレートの第2の方向における前者の伸縮率は前記マスクプレートの第2の方向における後者の伸縮率よりも小さい。

いくつかの実施の形態において、前記第1の開口領域と前記第2の開口領域との境界を除き、前記第1の開口領域内の任意の箇所と前記第2の開口領域内の任意の箇所とを比較すると、前記マスクプレートの第1の方向における前記第1の開口領域の伸縮率は前記マスクプレートの第1の方向における前記第2の開口領域の伸縮率よりも大きい。

いくつかの実施の形態において、前記マスクプレートは、仮想の第1の開口領域と、前記マスクプレートの第1の方向両端に位置する第1の仮想端部領域および第2の仮想端部領域と、をさらに含み、前記仮想の第1の開口領域は、前記第1の開口領域よりもさらに離れた前記第2の仮想端部領域と、前記第2の仮想端部領域に最も近接する第2の開口領域との間に設けられ、前記仮想の第1の開口領域の形状と前記第1の開口領域の形状が同一である。

いくつかの実施の形態において、前記仮想の第1の開口領域、および前記第2の仮想端部領域に隣り合う第1の開口領域の両者は、前記マスクプレートの第2の方向における伸縮率が前記マスクプレートの第1の方向に沿って直線的な変化を呈する関係である。

いくつかの実施の形態において、前記マスクプレートは、前記マスクプレートの第1の方向に重複配列された前記パターン領域を2つ備え、前記第2の仮想端部領域に隣り合う第1の開口領域を除き、前記マスクプレートの第2の方向における他の第1の開口領域の伸縮率が、その中の第1の位置から隣り合う2つの第2の開口領域の境界にそれぞれ至っていずれも直線的な変化を呈する関係である。

いくつかの実施の形態において、前記マスクプレートは、前記マスクプレートの第1の方向に沿って重複配列された前記パターン領域を複数備え、前記マスクプレートは中央位置に位置する第1の開口領域の、第2の方向に沿う中心線に沿って対称配置をなし、中央位置に位置する第1の開口領域において、前記中心線から前記第1の仮想端部領域に至る方向上で、各境界箇所の第2の方向に沿うサイズが直線的に増加し、前記中心線から前記第2の仮想端部領域に至る方向上で、各境界箇所の第2の方向に沿うサイズが直線的に増加し、前記中央位置の第1の開口領域から前記第1の仮想端部領域に至る方向上で、前記中央位置の第1の開口領域を除く各第1の開口領域内の各境界箇所の第2の方向に沿うサイズが直線的に減少し、前記中央位置の第1の開口領域から前記第2の仮想端部領域に至る方向上で、前記中央位置の第1の開口領域を除く各第1の開口領域内の各境界箇所の第2の方向に沿うサイズが直線的に減少する。

いくつかの実施の形態において、各前記第2の開口領域において、境界各箇所の前記第2の方向に沿うサイズが同一であり、前記中央位置の第1の開口領域から前記第1の仮想端部領域に至る方向上で、各第2の開口領域の前記第2の方向に沿うサイズが徐々に小さくなり、前記中央位置の第1の開口領域から前記第1の仮想端部領域に至る方向上で、各第2の開口領域の前記第2の方向に沿うサイズが徐々に小さくなる。

本開示の一実施例は、マスク基板上にパターン開口を形成し、第1の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第1の開口領域の総面積に占める割合は、第1の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第1の開口領域の総面積に占める割合を上回らず、前記第1の開口領域におけるパターン開口間の箇所に、マスクプレートの厚み方向に沿って前記マスクプレートを貫通しない凹溝を形成することを含む、上記のマスクプレートの製造方法を提供する。

本開示の一実施例は、前記マスクプレートの、一端に位置する第1の開口領域の、第2の開口領域から離れた一端に第1の仮想端部領域を加え、
前記マスクプレートの、他端に位置する第2の開口領域の、第1の開口領域から離れた一端に仮想の第1の開口領域を加え、
前記他の開口領域の、前記第2の開口領域から離れた一端に第2の仮想端部領域を加え、
前記第1の仮想端部領域と前記第2の端部領域を用いて前記マスクプレートを張設し、前記マスクプレートの張設方向に沿う境界を直線形状にすることを含む、マスクプレートの使用方法を提供する。

図1は関連技術のマスクプレートにおける低密度開口領域および高密度開口領域内のパターン開口の分布図である。図2（a）は本開示の一実施例によるマスクプレートにおける仮想の低密度開口領域の分布図である。図2（b）は本開示の一実施例によるマスクプレートにおける仮想の低密度開口領域の分布図である。図2（c）は本開示の一実施例によるマスクプレートにおける、RGB画素ユニット形成用の開口形状の模式図である。図3は図2に示すマスクプレートの線Lに沿った断面図である。図4は本開示の一実施例によるマスクプレートの張設前のサイズの模式図である。図5は本開示の一実施例によるマスクプレートの張設前のサイズの模式図である。図6は本開示の一実施例によるマスクプレートを製造する方法のフロー図である。図7は本開示の一実施例によるマスクプレートの使用方法のフロー図である。

当業者が本開示の技術案をより良く理解できるように、以下では図面および具体的な実施の形態を組み合わせて本開示についてさらに詳細に説明する。

関連技術における「全画面」表示装置内の表示基板を製造する際、よく用いられるのは精細メタルマスクプレートのようなマスクプレートである。このようなマスクプレートを用いて、例えば蒸着などの成膜工程を実行することで、表示基板上に画素のパターン（例えば、有機発光ダイオードの有機発光層のアウトライン）を形成できる。図1に示すのは、このようなマスクプレート内のパターン開口13の形状および分布である。パターン開口13がマスクプレート全体を貫通することで、蒸着材料はこれらパターン開口13を介して表示基板に達することができる。具体的に、図1に示すパターン開口13が対応するのは赤色有機発光ダイオードの有機発光層の形状である。図1に示すのはマスクプレート内のパターン領域の1つであり、表示基板（パネルともいう）上のパターンを形成するためのものであって、二種類の解像度の領域を形成するために、各パターン領域内に2つの領域（低密度開口領域11と高密度開口領域12）を有するということが容易に理解できる。

低密度開口領域11と高密度開口領域12内のパターン開口13の形状および分布はいずれも異なるため、マスクプレートを広げて均一にする（張設ともいう）際に、2つの領域内のマスクプレートの伸縮が一致しなくなってしまい、張設後の各パターン開口13の位置および形状が予見の位置および形状でなくなり、張設後のパターン開口13の正確な制御の難度が高まるという状況を非常に招きやすい。

上記の課題を解決するために、本開示はマスクプレートを提供しており、図2（a）から図4を参照すると、当該マスクプレートは少なくとも1つのパターン領域を含み、各パターン領域はマスクプレートの長さ方向において隣り合う低密度開口領域11と高密度開口領域12とを含み、各低密度開口領域11は貫通するパターン開口13を複数備え、さらに、各高密度開口領域12内に、貫通するパターン開口13´を複数備え、高密度開口領域12におけるパターン開口13´の面積の和が高密度開口領域12の総面積に占める割合は、低密度開口領域11におけるパターン開口13の面積の和が低密度開口領域11の総面積に占める割合よりも大きく、低密度開口領域11のパターン開口13の空隙箇所に、貫通しない補償凹溝100がさらに設けられる。

本開示における「マスクプレートの長さ方向」とはマスクプレートが引っ張られる方向で、「マスクプレートの幅方向」とは上記マスクプレートの長さ方向に垂直な方向である。
図2（a）および図2（b）に示すのはパターン領域のパターン開口13、13´の細部で、図4に示すのはマスクプレートに備える2つのパターン領域である。マスクプレートの長さ方向（図2および図4の上下方向）に隣り合う低密度開口領域11と高密度開口領域12は、表示基板（パネル）における低解像度表示領域内のパターンおよび高解像度表示領域内のパターンを形成するためにそれぞれ用いられるものである。パターン開口13、13´の役割は、成膜材料がパターン開口13、13´を介することで、パターン開口13、13´の形状に基づいて、対応する成膜材料のアウトラインを表示基板上に形成することを可能にするというものである。

低密度開口領域11内のパターン開口13の面積は高密度開口領域12内のパターン開口13´の面積よりも大きい、または両者の面積は等しくてよく、例えば、形成される赤色画素ユニットおよび青色画素ユニットについて述べれば、低密度開口領域11内のパターン開口13と高密度開口領域12内のパターン開口13´の形状は同一で、例えばどちらも六角形であるが、低密度開口領域11内のパターン開口13の面積は高密度開口領域12内のパターン開口13´の面積よりも大きく、つまり、低密度開口領域11内のパターン開口13のサイズは高密度開口領域12内のパターン開口13´のサイズよりも大きい。形成される緑色画素について述べれば、低密度開口領域11内のパターン開口13と高密度開口領域12内のパターン開口13´の形状は異なり、例えば低密度開口領域11内のパターン開口13は六角形であるが、高密度開口領域12内のパターン開口13´は2つの対称な五角形を含み、また、図2（c）に示すように、低密度開口領域11内のパターン開口13の面積は高密度開口領域12内のパターン開口13´の面積を下回らない。低密度開口領域11における単位面積内のパターン開口13の数はより少なく、つまり解像度はより低く、低密度開口領域11内においてより多くの透明領域を残せるようにしている。より多くの透明領域は、例えば携帯電話などの表示デバイスにおいて、カメラなどにより多くの有効な検出面積を残していることに相当する。

図2と図3を参照すると、本開示では低密度開口領域11に、貫通しない補償凹溝100が設けられている。補償凹溝100は貫通しない開口であるため、成膜材料を遮ることができる。補償凹溝100の導入により、低密度開口領域11の機械的強度を高密度開口領域12の機械的強度に近づけ、両者内のパターン開口13、13´は張設時において伸縮の動向がより近づくことから、張設時にパターン開口13、13´の形状および位置を正確に制御する難易度が低くなっている。

いくつかの実施の形態において、低密度開口領域11におけるパターン開口13は長さ方向を有し、補償凹溝100は長さ方向を有し、補償凹溝100の形状および長さ方向はそれが所在する低密度開口領域11内のパターン開口13の形状および長さ方向と同一である。

図2を参照すると、補償凹溝100の長さ方向は上下方向であり、これはそれが所在する低密度開口領域11内のパターン開口13の長さ方向と同一である。

当然ながら、ここでのパターン開口13の長さ方向が極性を有する場合は、補償凹溝100の長さ方向の「向き」もそれが所在する低密度開口領域11におけるパターン開口13の「向き」と同一でなければならない。

このように、低密度開口領域11内の機械的構造の形状の分布をより均一にさせるためのものであることから、張設時においてその中のパターンの形状を制御するのに有利である。

いくつかの実施の形態において、図2を参照すると、少なくとも一部の補償凹溝100の中心が、それに隣り合う複数のパターン開口13の中心で構成されるパターンの中心に設けられる。

補償凹溝100がその周辺構造の質量中心点箇所にあったとしても、このように設置する目的もまた、低密度開口領域11内の機械的構造の形状分布をより均一にすることであるため、張設時においてその中のパターンの形状を制御するのに有利である。

いくつかの実施の形態において、図2を参照すると、低密度開口領域11におけるパターン開口13は複数行複数列に並べられ、少なくとも一部の補償凹溝100が低密度開口領域11における隣り合う行のパターン開口13間に設けられ、かつ低密度開口領域11における隣り合う列のパターン開口13間に設けられる。

このように設置する目的もまた、低密度開口領域11内の機械的構造の形状分布をより均一にすることであるため、張設時においてその中のパターンの形状を制御するのに有利である。

いくつかの実施の形態において、マスクプレートは基板成膜過程において基板に伝わる成膜材料を遮断する部分として用いられる。

具体的に、例えば蒸着技術において、マスクプレートにおけるパターン開口13を除く領域は成膜材料が表示基板に接触するのを遮る。

具体的には、図3を参照すると、図3におけるマスクプレートの下面は基板に相対して設けられる。よって、補償凹溝100はマスクプレートの上面、上下2つの面に設けることができる。当然ながら、マスクプレートの下面に補償凹溝100を設けることもできる。これら補償凹溝100がマスクプレートを貫通してさえいなければ、成膜材料が基板に接触するのを遮るという役割を引き続き果たすことができる。

いくつかの実施の形態において、マスクプレートは、その長さ方向に沿う外力を受けていないとき初期状態にあり、その長さ方向に沿う外力で引っ張られ平坦にされたとき平坦状態にある。マスクプレートのその長さ方向における異なる箇所の、マスクプレートの初期状態下での任意の方向に沿うサイズと、マスクプレートの平坦状態下での当該方向に沿うサイズの比は、当該箇所の当該方向における伸縮率である。低密度開口領域と高密度開口領域との境界を除き、低密度開口領域内の任意の箇所と高密度開口領域内の任意の箇所とを比較すると、マスクプレートの長さ方向および幅方向における両者の伸縮率はいずれも異なる。

マスクプレートを完全に平坦にした（張設完了）後の各サイズを参考基準とし、それぞれ1として正規化すると、マスクプレートの張設前の低密度開口領域11内の各種パターンのサイズの正規化値と、高密度開口領域12内の各種パターンのサイズの正規化値は異なる。

例えば、マスクプレートの幅方向における低密度開口領域11内の各パターンの事前引き伸ばしの度合いと、マスクプレートの幅方向における高密度開口領域12内のパターンの事前拡張の度合いは異なり、マスクプレートの長さ方向における低密度開口領域11内のパターンの事前収縮の度合いと、マスクプレートの長さ方向における高密度開口領域12内のパターンの事前収縮の度合いも異なる。

なお、マスクプレート各位置の異なる方向における事前収縮または事前引き伸ばしはすべて連続するはずであるため、低密度開口領域11と高密度開口領域12との境界において、これらの事前収縮量または事前引き伸ばし量も連続するものである。

このように設けるのは、低密度開口領域11に補償凹溝100が設けられていることで、低密度開口領域11と高密度開口領域12の機械的性能の差が縮まっても、両者の差は完全には解消することができないためである。これにより、低密度開口領域11と高密度開口領域12内の各種パターンのサイズの事前収縮の度合いまたは事前拡張の度合いを異にして設けることでこれらの差異を補う。こうすることで、マスクプレート張設後の各種パターンの位置および形状の正確な制御により有利である。

いくつかの実施の形態において、低密度開口領域11と高密度開口領域12との境界を除き、低密度開口領域11内の任意の箇所と高密度開口領域12内の任意の箇所とを比較すると、マスクプレートの幅方向における前者の伸縮率はマスクプレートの幅方向における後者の伸縮率よりも小さい。

つまり、マスクプレートの幅方向において、低密度開口領域11内のパターンの事前収縮の度合いは、高密度開口領域12内のパターンの事前収縮の度合いよりも大きい。これは、低密度開口領域11の機械的強度が高密度開口領域12の機械的強度よりもさらに大きいためであり、張設時において、低密度開口領域11はマスクプレートの幅方向においてより圧縮されにくく、張設後の低密度開口領域11の全体幅を高密度開口領域12の全体幅と同一にするために、低密度開口領域11の張設前の幅はより狭いものであるべきである。

いくつかの実施の形態において、低密度開口領域11と高密度開口領域12との境界を除き、低密度開口領域11内の任意の箇所と高密度開口領域12内の任意の箇所とを比較すると、マスクプレートの長さ方向における前者の伸縮率はマスクプレートの長さ方向における後者の伸縮率よりも大きい。

マスクプレートの長さ方向に沿って付与する張力は、マスクプレートの各箇所において同一であるため、低密度開口領域11はマスクプレートの長さ方向に沿ってより「引き伸ばし」にくく、このため、マスクプレートが張設されていないとき、マスクプレートの長さ方向において低密度開口領域11は高密度開口領域12よりも事前収縮がより軽微であるように設けるべきである。

いくつかの実施の形態において、マスクプレートは、仮想の低密度開口領域30と、マスクプレートの長さ方向両端に位置する仮想端部領域20をさらに含み、仮想の低密度開口領域30は、低密度開口領域11よりもさらに離れた仮想端部領域20と、当該仮想端部領域20に最も近接する高密度開口領域12との間に設けられ、仮想の低密度開口領域30の形状と低密度開口領域の形状11が同一である。

図4を参照すると、仮想の低密度開口領域30を設ける目的は、マスクプレートを「上下対称」にするためである。このような対称な構造はマスクプレートの変形制御に有利である。低密度開口領域11内に補償凹溝100が設けられるため、仮想の低密度開口領域30内にも同一の方法で補償凹溝100が設けられるべきである。

仮想端部領域20は主に引っ張り機構（図示せず）に直接接触するものである。引っ張り機構は2つの仮想端部領域20を引っ張り、マスクプレートを平坦にする。

いくつかの実施の形態において、仮想の低密度開口領域30、および他の仮想端部領域20に隣り合う低密度開口領域11の両者は、マスクプレートの幅方向における伸縮率がマスクプレートの長さ方向に沿って直線的な変化を呈する関係である。

図4を参照すると、図4におけるX方向はマスクプレートの幅方向で、Y方向はマスクプレートの長さ方向である。図4ではマスクプレート両端部分の構造が対称に示されており、ここでは図4の上半分の構造のみを例として説明する。図4に示すY1とY2はY方向における対応構造の伸縮率で、X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7はX方向における対応構造の伸縮率であって、X1が示すのはX方向における仮想端部領域20の伸縮率で、X方向におけるこの領域内のパターン全体の事前引き伸ばしの度合いは同一で、X1である。X3、X5、X7が示すのはX方向における各高密度開口領域12の伸縮率で、X方向における各高密度開口領域内のパターン全体の事前引き伸ばしの度合いもそれぞれ同一で、それぞれX3、X5、X7である。図4から見て取れるように、マスクプレートの中心位置の上部に向かう仮想端部領域20の方向に沿って、X方向における各高密度開口領域内のパターンの伸縮率は徐々に小さくなり、ひいては事前引き伸ばしの度合いも徐々に小さくなる。X2、X4、X6が示すのは、図4での上から下への各低密度開口領域11の、X方向における伸縮率である。図4から見て取れるように、X方向における各低密度開口領域の伸縮率は直線的な経過を呈するものであり、各低密度開口領域は上部の仮想端部領域20からの距離が大きくなるにつれて、X方向におけるその伸縮率の経過の勾配がより小さくなる。図4に示すマスクプレート左側の折れ線が表すのは、目下の視点での、マスクプレートの張設前のその「左側」の輪郭であり、図から見て取れるように、マスクプレートの低密度領域の張設方向に沿う各境界箇所のサイズ（X方向上のサイズ、つまり幅方向上のサイズ）は異なる。また、各箇所のサイズは収縮率に比例し、マスクプレートの高密度領域の張設方向に沿う各境界箇所のサイズは基本的に同一である。

図4の目下の視点によれば、このような設置では張設前であっても、仮想の低密度開口領域11の左右境界が1本の斜線であり、仮想の低密度開口領域20周辺環境と同一でかつその隣り合う低密度開口領域11の左右境界も1本の斜線である。

このように設置するのは、本開示の発明者がマスクプレートを研究し張設時の変位コンター図において、この2つの領域内における収縮値は直線的な経過を呈するものであるということを発見したからである。当然ながら、幅方向におけるこの2つの領域の事前引き伸ばしも直線的な経過をする。

いくつかの実施の形態において、図5に示すように、マスクプレートはマスクプレートの長さ方向に重複配列された2つのパターン領域を備え、他の仮想端部領域20と隣り合う低密度開口領域11を除き、X3の所在領域が示すように、マスクプレートの幅方向における他の低密度開口領域11の伸縮率はその中の第1の位置から隣り合う2つの高密度開口領域12の境界にそれぞれ至っていずれも直線的な変化を呈する関係である。

つまり、マスクプレートが2つのパターン領域を備えるとき、最端部のパターン領域を除き、他のパターン領域内の、マスクプレートの幅方向における低密度開口領域11の伸縮率も直線的な経過をする。マスクプレートの形状が厳密な上下対称のものであれば、他のパターン領域の低密度開口領域11の中心はちょうどマスクプレートの長さ方向の中間位置に位置し、この中心からマスクプレートの長さ方向の両端に至る方向の、幅方向におけるマスクプレートの事前拡張は直線的に増加し、上述の変化規則が得られる。当然ながら、マスクプレートの形状が厳密な上下対称のものではない場合、前述の第1の位置はこの中心から一定のずれを有している。

以下は、その長さ方向と幅方向におけるマスクプレートの事前収縮および事前拡張の具体的なパラメータ設定である。図5を組み合わせると、X1=1.00005、X2=1.0001、X3=1.00007、Y1=0.9998、Y2=0.9999である。異なるマスクプレートに対して、具体的な数値の選択はそれぞれ異なる。

当該実施の形態では、高密度領域と低密度領域の各箇所の伸縮率に基づいて、これら箇所の幅方向のサイズを設けており、マスクプレート張設後において、マスクプレートは平坦になり、具体的には図4および図5に示す通り左側の輪郭線が一本の直線になる。つまり、マスクプレートの張設方向に沿う各箇所のサイズは同一になるため、パターン開口の形状および位置を正確に制御することができ、さらには製作する基板の制度を向上させることができる。

本開示の一実施例では上記マスクプレートを製造する方法をさらに提供し、図6に示すように、当該方法は、
ステップ601、マスク基板上にパターン開口を形成し、前記高密度開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記高密度開口領域の総面積に占める割合は、前記低密度開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記低密度開口領域の総面積に占める割合よりも大きく、
ステップ602、前記低密度開口領域のパターン開口間の箇所に、マスクプレートの厚み方向に沿って前記マスクプレートを貫通しない凹溝を形成するということを含む。
本開示の上記実施例にて製造されるマスクプレートは、パターン開口の形状および位置を正確に制御することができるため、製作する基板の精度を向上させることができる。

本開示の一実施例は上記実施例におけるマスクプレートの使用方法をさらに提供し、図7に示すように、当該方法は、
ステップ701、前記マスクプレートの、一端に位置する第1の開口領域の、第2の開口領域から離れた一端に第1の仮想端部領域を加え、
ステップ702、前記マスクプレートの、他端に位置する第2の開口領域の、第1の開口領域から離れた一端に仮想の第1の開口領域を加え、
ステップ703、前記他の開口領域の、前記第2の開口領域から離れた一端に第2の仮想端部領域を加え、
ステップ704、前記第1の仮想端部領域と前記第2の端部領域を用いて前記マスクプレートを張設し、前記マスクプレートの張設方向に沿う境界を直線形状にするということを含み、
張設前において、前記マスクプレートの張設方向に沿う各箇所の、張設方向に垂直な方向に沿うサイズは異なり、前記サイズは、張設方向に垂直な方向に沿う当該箇所の伸縮率に比例する。

以上の実施形態は本開示の原理を説明するために用いた例示的なものにすぎず、本開示はこれに限定されないと理解できる。本分野の一般的な技術者は本開示の主旨と実質的な状況を逸脱しない範囲で各種の変形と改善を加えることができ、これらの変形と改善も本開示の請求範囲と見なされる。

１１低密度開口領域
１２高密度開口領域
１３パターン開口

Claims

少なくとも１つのパターン領域を含み、各前記パターン領域はマスクプレートの長さ方向において隣り合う第１の開口領域と第２の開口領域とを含み、各前記第１の開口領域および各前記第２の開口領域内に、厚み方向にマスクプレートを貫通するパターン開口を複数備えるマスクプレートであって、前記第２の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第２の開口領域の総面積に占める割合は、前記第１の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第１の開口領域の総面積に占める割合よりも大きく、前記第１の開口領域において、厚み方向に前記マスクプレートを貫通しない凹溝がさらに設けられる、マスクプレート。
前記第１の開口領域内のパターン開口と第２の開口領域内のパターン開口の開口面積が異なる、請求項１に記載のマスクプレート。
前記凹溝の形状はそれが所在する第１の開口領域におけるパターン開口の形状およびサイズと同一である、請求項１または２に記載のマスクプレート。
少なくとも一部の前記凹溝の中心が、それに隣り合う複数のパターン開口の中心で構成されるパターンの中心に設けられる、請求項１に記載のマスクプレート。
前記第１の開口領域におけるパターン開口が複数行複数列に並べられ、少なくとも一部の前記凹溝が前記第１の開口領域における隣り合う行のパターン開口間に設けられ、かつ前記第１の開口領域における隣り合う列のパターン開口間に設けられる、請求項１に記載のマスクプレート。
前記凹溝が前記マスクプレートの上面および／または下面に位置する、請求項１に記載のマスクプレート。
前記第１の開口領域と前記第２の開口領域との境界を除き、前記第１の開口領域内の任意の箇所と前記第２の開口領域内の任意の箇所とを比較すると、前記マスクプレートの第１の方向および第２の方向における両者の伸縮率はいずれも異なり、前記第１の方向は前記第１の開口領域と前記第２の開口領域の配列方向で、前記第２の方向は前記第１の方向に直交する方向である、請求項１から６のいずれか一項に記載のマスクプレート。
前記第１の開口領域と前記第２の開口領域との境界を除き、前記第１の開口領域内の任意の箇所と前記第２の開口領域内の任意の箇所とを比較すると、前記マスクプレートの第２の方向における前者の伸縮率は前記マスクプレートの第２の方向における後者の伸縮率よりも小さい、請求項７に記載のマスクプレート。
前記第１の開口領域と前記第２の開口領域との境界を除き、前記第１の開口領域内の任意の箇所と前記第２の開口領域内の任意の箇所とを比較すると、前記マスクプレートの第１の方向における前記第１の開口領域の伸縮率は前記マスクプレートの第１の方向における前記第２の開口領域の伸縮率よりも大きい、請求項８に記載のマスクプレート。
前記マスクプレートは、仮想の第１の開口領域と、前記マスクプレートの第１の方向両端に位置する第１の仮想端部領域および第２の仮想端部領域と、をさらに含み、前記仮想の第１の開口領域は、前記第１の開口領域よりもさらに離れた前記第２の仮想端部領域と、前記第２の仮想端部領域に最も近接する第２の開口領域との間に設けられ、前記仮想の第１の開口領域の形状と前記第１の開口領域の形状が同一である、請求項９に記載のマスクプレート。
前記仮想の第１の開口領域、および前記第２の仮想端部領域に隣り合う第１の開口領域の両者は、前記マスクプレートの第２の方向における伸縮率が前記マスクプレートの第１の方向に沿って直線的な変化を呈する関係である、請求項１０に記載のマスクプレート。
前記マスクプレートは、前記マスクプレートの第１の方向に重複配列された前記パターン領域を２つ備え、前記第２の仮想端部領域に隣り合う第１の開口領域を除き、前記マスクプレートの第２の方向における他の第１の開口領域の伸縮率が、その中の第１の位置から隣り合う２つの第２の開口領域の境界にそれぞれ至っていずれも直線的な変化を呈する関係である、請求項１１に記載のマスクプレート。
前記マスクプレートは、前記マスクプレートの第１の方向に沿って重複配列された前記パターン領域を複数備え、前記マスクプレートは中央位置に位置する第１の開口領域の、第２の方向に沿う中心線に沿って対称配置をなし、
中央位置に位置する第１の開口領域において、前記中心線から第１の仮想端部領域に至る方向上で、各境界箇所の第２の方向に沿うサイズが直線的に増加し、前記中心線から第２の仮想端部領域に至る方向上で、各境界箇所の第２の方向に沿うサイズが直線的に増加し、
前記中央位置の第１の開口領域から前記第１の仮想端部領域に至る方向上で、前記中央位置の第１の開口領域を除く各第１の開口領域内の各境界箇所の第２の方向に沿うサイズが直線的に減少し、
前記中央位置の第１の開口領域から前記第２の仮想端部領域に至る方向上で、前記中央位置の第１の開口領域を除く各第１の開口領域内の各境界箇所の第２の方向に沿うサイズが直線的に減少する、請求項１から６のいずれか一項に記載のマスクプレート。
各前記第２の開口領域において、境界各箇所の前記第２の方向に沿うサイズが同一であり、
前記中央位置の第１の開口領域から前記第１の仮想端部領域に至る方向上で、各第２の開口領域の前記第２の方向に沿うサイズが徐々に小さくなり、
前記中央位置の第１の開口領域から前記第１の仮想端部領域に至る方向上で、各第２の開口領域の前記第２の方向に沿うサイズが徐々に小さくなる、請求項１３に記載のマスクプレート。
マスク基板上にパターン開口を形成し、第１の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第１の開口領域の総面積に占める割合は、第１の開口領域におけるパターン開口の面積の和が前記第１の開口領域の総面積に占める割合を上回らず、
前記第１の開口領域におけるパターン開口間の箇所に、マスクプレートの厚み方向に沿って前記マスクプレートを貫通しない凹溝を形成することを含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載のマスクプレートの製造方法。
前記マスクプレートの、一端に位置する第１の開口領域の、第２の開口領域から離れた一端に第１の仮想端部領域を加え、
前記マスクプレートの、他端に位置する第２の開口領域の、第１の開口領域から離れた一端に仮想の第１の開口領域を加え、
他の開口領域の、第２の開口領域から離れた一端に第２の仮想端部領域を加え、
前記第１の仮想端部領域と第２の端部領域を用いて前記マスクプレートを張設し、前記マスクプレートの張設方向に沿う境界を直線形状にすることを含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載のマスクプレートの使用方法。