JPWO2018193742A1 - 反射防止部材及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

基材上の多層反射防止層表面の自乗平均平方根面粗さが０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である多層反射防止層上に、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤の硬化物である膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を有する反射防止部材が、優れた表面滑り性、撥水撥油性と耐久性とを有する反射防止部材となり得る。

Description

本発明は、反射防止部材及びその製造方法に関し、詳細には、基材上の多層反射防止層表面の自乗平均平方根面粗さが０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である多層反射防止層上に、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤の硬化物である膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を有する、優れた表面滑り性、撥水撥油性と耐久性とを有する反射防止部材に関するものである。

近年、外観や視認性をよくするために、光学物品の表面に指紋を付きにくくする技術や、汚れを落とし易くする技術の要求が年々高まってきており、特に眼鏡レンズ、ウェアラブル端末、タッチパネルディスプレイの表面は、皮脂汚れが付着し易いため、撥水撥油層を設けることが望まれている。

このような問題を解決するために、ガラス等の基材表面を撥水撥油処理できる処理剤として、例えば、特許文献１（特開２０１２−０７２２７２号公報）では、下記平均組成式

（式中、Ｒｆ基は−（ＣＦ₂）_d−（ＯＣ₂Ｆ₄）_e（ＯＣＦ₂）_f−Ｏ（ＣＦ₂）_d−であり、Ａは末端が−ＣＦ₃基である１価のフッ素含有基であり、Ｑは２価の有機基であり、Ｚはシロキサン結合を有する２〜８価のオルガノポリシロキサン残基であり、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｂは１〜６の整数、ｃは１〜５の整数であり、αは０又は１であり、ｄはそれぞれ独立に０又は１〜５の整数、ｅは０〜８０の整数、ｆは０〜８０の整数であり、かつ、ｅ＋ｆ＝５〜１００の整数であり、繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。）
で表される直鎖状フルオロオキシアルキレン基含有ポリマーが開示されている。

特許文献１で提案されている撥水撥油処理基板は、ガラスにＳｉＯ₂層を１０ｎｍ程度塗工した後に上記表面処理剤を塗工した場合に、耐スチールウール性と優れた低動摩擦性を示すとされている。

一方、これらの表面に設けられることが一般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液、整髪料等の汚染物が付着し易く、その付着で表面反射率が変化したり、付着物が白く浮き出て見えて表示内容が不鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染が目立ち易いという難点がある。また、一般に、反射率を下げるためには、何層も塗工する必要があり、反射防止膜表面をガラス基板と同等に平滑にすることは極めて困難であるため、表面滑り性や耐摩耗性を確保することが難しくなる。

特許文献１に記載されている実施例で用いられたＳｉＯ₂層基板の自乗平均平方根面粗さ（以下、ＲＭＳと略すこともある）は、０．４８ｎｍであるが、反射防止層のＲＭＳを量産で制御できるのは１．０ｎｍであるのが現状である。
特許文献１に記載の処理剤を多層反射防止膜に塗工しても、耐スチールウール性や低動摩擦性が不十分であった。

そこで、ＲＭＳが０．８ｎｍ以上の反射防止膜上でも優れた表面滑り性や耐摩耗性を発揮できる撥水撥油処理剤の開発が求められている。

特開２０１２−０７２２７２号公報

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、表面滑り性や耐摩耗性に優れた反射防止部材及びその製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、基材上の多層反射防止層表面のＲＭＳ（自乗平均平方根面粗さ又は二乗平均平方根面粗さ、Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ ｂｙ Ｒｏｏｔ Ｍｅａｎ Ｓｑｕａｒｅ、即ち、平均線から測定曲線までの偏差の二乗を平均した値の平方根による表面粗さ）が０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である多層反射防止層上に、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤の硬化物である膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を有する反射防止部材が、優れた表面滑り性、撥水撥油性と耐久性とを有する反射防止部材となり得ることを見出し、本発明をなすに至った。

即ち、本発明は、優れた表面滑り性、撥水撥油性と耐久性とを有する反射防止部材及びその製造方法を提供する。
〔１〕
基材上の多層反射防止層表面の自乗平均平方根面粗さが０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である多層反射防止層上に、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤の硬化物である膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を有する反射防止部材。
〔２〕
前記多層反射防止層が、ＭｇＦ₂、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＣｅＦ₃、ＮｄＦ₃、ＬａＦ₃、ＡｌＦ₃、ＹＦ₃、ＢａＦ₂、ＣａＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＮ_x（ｘは１〜１．５の正数）、ＩＴＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₄Ｏ₇、Ｔｉ₃Ｏ₅、ＴｉＮ_x'Ｏ_y（ｘ’は１〜４の正数、ｙは１〜１２の正数）、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂及びＬａ₂Ｔｉ₂Ｏ₇から選ばれる少なくとも２種を使用した多層反射防止層であることを特徴とする〔１〕に記載の反射防止部材。
〔３〕
前記多層反射防止層が、真空蒸着膜、イオンプレーティング膜、イオンアシスト膜、スパッタリング膜又はプラズマＣＶＤ膜であることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の反射防止部材。
〔４〕
前記フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物が、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）及び（５）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の反射防止部材。
（Ａ−Ｒｆ）_α−ＺＷ_β （１）
Ｒｆ−（ＺＷ_β）₂ （２）
Ｚ’−（Ｒｆ−ＺＷ_β）_γ （３）
〔式中、Ｒｆは−（ＣＦ₂）_d−Ｏ−（ＣＦ₂Ｏ）_p（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_q（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_r（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_s（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_t−（ＣＦ₂）_d−であり、ｄは０〜８の整数であり、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜２００の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋２ｄはフッ素ポリマー部分の数平均分子量を４，５００以上１０，０００以下とする数であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。Ａはフッ素原子、水素原子、又は末端が−ＣＦ₃基、−ＣＦ₂Ｈ基もしくは−ＣＨ₂Ｆ基である１価のフッ素含有基であり、Ｚ、Ｚ’は独立に単結合、又は窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよく、フッ素置換されていてもよい２〜８価の有機基であり、Ｗは独立に末端に加水分解性基を有する１価の有機基である。α、βはそれぞれ独立に１〜７の整数であり、かつ、α＋β＝２〜８である。γは２〜８の整数である。〕
Ａ−Ｒｆ−Ｑ−（Ｙ）_δ−Ｂ （４）
Ｒｆ−（Ｑ−（Ｙ）_δ−Ｂ）₂ （５）
（式中、Ｒｆ、Ａは前記と同じであり、Ｑは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは加水分解性基を有する２価の有機基であり、δは１〜１０の整数であり、Ｂは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子である。）
〔５〕
前記式（１）〜（５）中のＲｆが直鎖構造であることを特徴とする〔４〕に記載の反射防止部材。
〔６〕
前記式（１）〜（５）中のＲｆが、−ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−を含むことを特徴とする〔５〕に記載の反射防止部材。
〔７〕
前記フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物が、下記式で表されるものである〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の反射防止部材。

（式中、Ｍｅはメチル基であり、ｐ１、ｑ１、ｒ１、ｓ１、ｔ１はそれぞれ独立に１〜２００の整数であり、ｔ２＋ｔ３＝ｔ１であり、フッ素ポリマー部分の数平均分子量は４，５００〜１０，０００である。また、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。）
〔８〕
前記基材が、ガラス、サファイヤ、石英又は透明樹脂であることを特徴とする〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の反射防止部材。
〔９〕
基材上に、表面の自乗平均平方根面粗さが０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下になるように、少なくとも２種の反射防止剤を真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法、スパッタリング法又はプラズマＣＶＤ法により複数回成膜して多層反射防止層を形成する工程と、該多層反射防止層上に、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤を真空蒸着法、スプレー法、Ｄｉｐ法又はスピン法により成膜して撥水撥油層を形成する工程とを含むことを特徴とする〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の反射防止部材の製造方法。

本発明によれば、優れた表面滑り性、撥水撥油性と耐久性とを有する反射防止部材が製造でき、特に光学用途に好適に用いることができる。例えば、スマートフォン、時計、タブレットＰＣ、ＰＣ、テレビ、カーナビ、券売機、セキュリティー装置、冷蔵庫、電子レンジ、ゲーム機器等のタッチパネルディスプレイや視力矯正メガネ、ＡＲメガネ、ＶＲメガネ、カメラ等のレンズやカバー部材等に有用である。

以下、本発明について更に詳しく説明する。
本発明の反射防止部材は、基材上の多層反射防止層表面の自乗平均平方根面粗さ（ＲＭＳ）が０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である多層反射防止層上に、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤の硬化物である膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を有するものである。

本発明は、各種基材（ガラス、サファイヤ、石英、透明樹脂）に、多層構造の反射防止層表面を設け、更に該多層反射防止層上にフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤を硬化させてなる膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を設けるものである。本発明者らが鋭意検討した結果、多層反射防止層上の撥水撥油層の滑り性と耐摩耗性は、多層反射防止層のＲＭＳが小さいほど優れることがわかった。現状で量産されている多層反射防止層のＲＭＳは、１．０ｎｍ程度と大きいため、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物のフッ素ポリマー部分の数平均分子量が、従来よりも高分子量領域である４，５００以上１０，０００以下のポリマーで処理する必要がある。なお、多層反射防止層のＲＭＳが０．８ｎｍ未満の場合には、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物のフッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，０００以下であっても所望の性能を付与することが可能であるが、現状では多層構造の反射防止膜においてＲＭＳを安定的に０．８ｎｍ未満に制御することは困難である。

本発明に用いられる上記方法で処理される基材は、ソーダガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス等のガラス類、サファイヤ、石英、透明樹脂等が挙げられる。
なお、基材表面は、できるだけ平滑であることが好ましく、例えば、ＲＭＳが０．１〜１．０ｎｍであることが好ましい。

本発明に用いられる多層反射防止層とは、基材上の片面のみ反射防止層を設ける場合には、少なくとも可視領域の光（例えば、波長５５０ｎｍの光）の基材の反射率が下がるように（例えば、０．１〜７．０％、特に０．１〜５．０％の反射率となるように）少なくとも２種の反射防止剤を複数回塗工された多層構造（即ち、２層又は３層以上）の膜のことをいう。また、基材の両面に反射防止層を設ける場合には、少なくとも可視領域の光（例えば、波長５５０ｎｍの光）の基材の反射率が下がるように（例えば、０．１〜４．０％、特に０．１〜２．０％の反射率となるように）設ける膜のことをいう。

反射防止層に用いられる反射防止剤の組成としては、ＭｇＦ₂、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＣｅＦ₃、ＮｄＦ₃、ＬａＦ₃、ＡｌＦ₃、ＹＦ₃、ＢａＦ₂、ＣａＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＮ_x（ｘは１〜１．５の正数）、ＩＴＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₄Ｏ₇、Ｔｉ₃Ｏ₅、ＴｉＮ_x'Ｏ_y（ｘ’は１〜４の正数、ｙは１〜１２の正数）、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、Ｌａ₂Ｔｉ₂Ｏ₇が挙げられ、好ましくはＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂、ＣｅＦ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＮ_x、ＩＴＯ、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＴｉＮ_x'Ｏ_y、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃であり、これら２種以上の混合物でもよい。また、これら２種以上を有する反射防止剤を順次積層して２層以上、好ましくは３層以上、より好ましくは４〜８層の互いに異なる層を有する多層構造の多層反射防止層とすることが好ましい。

これら反射防止層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、イオンアシスト法のいずれかの方法により塗工される。反射防止層と撥水撥油層を同じ装置で塗工する方が効率的なため、真空蒸着装置か、スパッタ装置に真空蒸着ユニットを組み込んだ装置が好適である。また、反射防止層を成膜する際には、サンプルを自転及び又は公転させることが望ましい。

上記多層反射防止層の膜厚（全体）は、１００〜１，０００ｎｍであることが好ましく、２００〜８００ｎｍであることがより好ましい。多層反射防止層全体の膜厚が薄すぎると反射防止効果が小さい場合があり、厚すぎると多層反射防止層表面のＲＭＳが大きくなる場合がある。なお、本発明において、多層反射防止層等の膜厚は、分光エリプソメトリー（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ製 Ｍ−２０００Ｄ）により測定することができる（以下、同じ。）。

なお、多層反射防止層表面のＲＭＳ（自乗平均平方根面粗さ又は二乗平均平方根面粗さ）は、０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下、好ましくは０．８０ｎｍ以上１．９ｎｍ以下、より好ましくは０．８１ｎｍ以上１．８９ｎｍ以下で制御することが重要である。ＲＭＳが２．０ｎｍ超になると、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物（撥水撥油剤）の硬化物からなる撥水撥油層を積層しても十分な滑り性と耐摩耗性が発現し難くなるため、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物の数平均分子量を更に増大させることが考えられるが、現実的には非常に難しい。また、多層反射防止層のＲＭＳを０．８ｎｍ未満に制御することは極めて困難である。なお、本発明において、自乗平均平方根面粗さ（ＲＭＳ）は、走査型プローブ顕微鏡（（株）日立ハイテクサイエンス製ＳＰＡ３００、カンチレバー：ＳＩ−ＤＦ２０）により測定できる。

次に、形成した反射防止層表面に撥水撥油剤を塗布して硬化し、撥水撥油層を形成する。撥水撥油剤としては、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とするものを用いる。
フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物に関して、更に具体的に説明する。

フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物は、１分子中にケイ素原子に結合した加水分解性基（例えば、ケイ素原子に結合したアルコキシ基等のケイ素原子結合オルガノオキシ基など）を少なくとも１個、特に２〜９個、とりわけ６〜９個有するものが好ましい。フルオロオキシアルキレン基とは、−Ｃ_jＦ_2jＯ−で示される繰り返し単位が複数結合された（ポリ）フルオロオキシアルキレン構造を有する２価のポリマー残基である（該構造においてｊは１以上、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４の整数である）。

本発明においては、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物として、フッ素ポリマー部分（即ち、（ポリ）フルオロオキシアルキレン構造を有する２価のポリマー残基）の数平均分子量が４，５００〜１０，０００、好ましくは５，０００〜９，０００、より好ましくは５，５００〜７，５００のものを使用する。この数平均分子量が４，５００未満では、優れた滑り性と耐摩耗性を両立できなくなり、１０，０００を超えるものは、製造自体が困難であるばかりでなく、ポリマーの長さに対して官能基の割合が少なくなるため、密着性が悪くなる。なお、本発明において、（ポリ）フルオロオキシアルキレン構造を有する２価のポリマー残基（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量は、¹⁹Ｆ−ＮＭＲにより測定することができる。

上記繰り返し単位−Ｃ_jＦ_2jＯ−は、直鎖型及び分岐型のいずれであってもよい。例えば下記の単位が挙げられ、これらの繰り返し単位の２種以上が結合されたものであってもよい。
−ＣＦ₂Ｏ−
−ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−
−ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−
−ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ−
−ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−
−ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−
−Ｃ（ＣＦ₃）₂Ｏ−

上記数平均分子量が４，５００〜１０，０００である（ポリ）フルオロオキシアルキレン構造は、特には、−（ＣＦ₂）_d−Ｏ−（ＣＦ₂Ｏ）_p（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_q（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_r（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_s（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_t−（ＣＦ₂）_d−であり、ｄは０〜８の整数であり、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜２００の整数であるものが好ましい。

（ポリ）フルオロオキシアルキレン構造として、具体的には、下記に示すものが例示できる。

（式中、ｄ’は０〜５の整数であり、ｐ’、ｑ’、ｒ’、ｓ’、ｔ’はそれぞれ独立に１〜２００の整数であり、該構造の数平均分子量は４，５００〜１０，０００である。）

本発明に用いるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物として、より好ましくは下記式（１）〜（５）のいずれかで表されるフッ素含有有機ケイ素化合物が用いられる。これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
（Ａ−Ｒｆ）_α−ＺＷ_β （１）
Ｒｆ−（ＺＷ_β）₂ （２）
Ｚ’−（Ｒｆ−ＺＷ_β）_γ （３）
Ａ−Ｒｆ−Ｑ−（Ｙ）_δ−Ｂ （４）
Ｒｆ−（Ｑ−（Ｙ）_δ−Ｂ）₂ （５）
〔式（１）〜（５）中、Ｒｆは−（ＣＦ₂）_d−Ｏ−（ＣＦ₂Ｏ）_p（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_q（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_r（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_s（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_t−（ＣＦ₂）_d−であり、ｄは０〜８の整数であり、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜２００の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋２ｄはフッ素ポリマー部分の数平均分子量を４，５００以上１０，０００以下とする数であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。Ａはフッ素原子、水素原子、又は末端が−ＣＦ₃基、−ＣＦ₂Ｈ基もしくは−ＣＨ₂Ｆ基である１価のフッ素含有基であり、Ｚ、Ｚ’は独立に単結合、又は窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよく、フッ素置換されていてもよい２〜８価の有機基であり、Ｗは独立に末端に加水分解性基を有する１価の有機基である。α、βはそれぞれ独立に１〜７の整数であり、かつ、α＋β＝２〜８である。γは２〜８の整数である。Ｑは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは加水分解性基を有する２価の有機基であり、δは１〜１０の整数であり、Ｂは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子である。〕

上記式（１）〜（５）において、Ｒｆは−（ＣＦ₂）_d−Ｏ−（ＣＦ₂Ｏ）_p（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_q（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_r（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_s（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_t−（ＣＦ₂）_d−であり、ｄは０〜８、好ましくは１〜４の整数であり、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜２００の整数、好ましくはｐは１０〜１００の整数、ｑは１〜７０の整数、ｒは０〜６０の整数、ｓは０〜５０の整数、ｔは０〜４０の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋２ｄはフッ素ポリマー部分の数平均分子量を４，５００以上１０，０００以下とする数であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。具体的には上記（ポリ）フルオロオキシアルキレン構造として例示したものを挙げることができる。
なお、Ｒｆは直鎖構造であることが好ましく、更には−ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−の繰り返し単位を含むことが好ましい。

上記式（１）及び（４）において、Ａはフッ素原子、水素原子、又は末端が−ＣＦ₃基、−ＣＦ₂Ｈ基もしくは−ＣＨ₂Ｆ基である１価のフッ素含有基である。中でも、−ＣＦ₃基、−ＣＦ₂ＣＦ₃基、−ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₃基が好ましい。

上記式（１）〜（３）において、Ｚ、Ｚ’は、単結合、又は窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよく、フッ素置換されていてもよい２〜８価の有機基である。該有機基は−Ｑ−Ｍ（−）_kで表わすことができる。

Ｑは単結合又は２価の有機基であり、Ｒｆ基とＭ基との連結基である。Ｑとして、好ましくはアミド結合、エーテル結合、エステル結合、又はジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基等のジオルガノシリレン基、−Ｓｉ［ＯＨ］［（ＣＨ₂）_fＳｉ（ＣＨ₃）₃］−（ｆは２〜４の整数）で示される基、ジオルガノシロキサン基から選ばれる１種又は２種以上を含んでいてもよい非置換又は置換の炭素数２〜１２の２価有機基である。より好ましくは前記結合を含んでいてもよい非置換又は置換の炭素数２〜１２の２価炭化水素基である。

前記Ｑで表される非置換又は置換の炭素数２〜１２の２価炭化水素基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、又はこれらの基の２種以上の組み合わせ（アルキレン・アリーレン基等）が挙げられる。更に、これらの基の炭素原子に結合する水素原子の一部又は全部をフッ素等のハロゲン原子で置換した基であってもよい。中でも、非置換又は置換の炭素数２〜４のアルキレン基又はフェニレン基が好ましい。

Ｑとしては、例えば、下記構造で示される基、又はこれらの基の２種以上が結合された基が挙げられる。

（式中、ｆは２〜４の整数であり、ｎは２〜６の整数、好ましくは２〜４の整数であり、ｕ、ｖ、ｇは１〜４の整数であり、ｈは１〜５０の整数、好ましくは１〜１０の整数であり、Ｍｅはメチル基である。）

ｋは１〜７の整数、好ましくは１〜５の整数である。
Ｍは互いに独立に、単結合、−Ｒ¹ ₂Ｃ−で示される２価の基、−Ｒ³ ₂Ｓｉ−で示される２価の基、−Ｒ¹Ｃ＝で示される３価の基、−Ｒ³Ｓｉ＝で示される３価の基、−Ｃ≡で示される４価の基、−Ｏ−Ｃ≡で示される４価の基、及び−Ｓｉ≡で示される４価の基から選ばれる基、又は２〜８価のシロキサン残基である。上記において、Ｒ¹は独立に、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基、ヒドロキシル基、ＣＨ₃（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_i−Ｏ−（ｉは１〜２０の整数）で示される基又はＲ² ₃ＳｉＯ−で示されるシリルエーテル基であり、Ｒ²は互いに独立に、水素原子、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基、フェニル基等のアリール基、又は炭素数１〜３のアルコキシ基である。Ｒ³は独立に、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基、炭素数２又は３のアルケニル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又はクロル基である。Ｍが２〜８価のシロキサン残基の場合には、ケイ素原子数２〜１３個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状又は環状オルガノポリシロキサン構造を有することが好ましい。該オルガノポリシロキサン構造は、炭素数１〜８、より好ましくは１〜４のメチル基、エチル基、プロピル基、及びブチル基等のアルキル基又はフェニル基を有するものがよい。また、２つのケイ素原子がアルキレン基で結合されたシルアルキレン構造、即ちＳｉ−（ＣＨ₂）_n−Ｓｉ、を含んでいてもよい。前記式においてｎは２〜６の整数であり、好ましくは２〜４の整数である。

このようなＭとしては、下記に示すものが挙げられる。

（式中、ｉは１〜２０の整数であり、Ｍｅはメチル基である。）

上記式（１）〜（３）において、Ｗは末端に加水分解性基を有する１価の有機基であり、好ましくは下記式で表される。

（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３であり、ｍは０〜１０の整数であり、好ましくは２〜８の整数である。ｚは０〜１０の整数であり、好ましくは０〜６の整数である。括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。）

Ｘとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数２〜１０のオキシアルコキシ基、アセトキシ基などの炭素数１〜１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基などの炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、クロル基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基、アミノ基などが挙げられる。中でもメトキシ基及びエトキシ基が好適である。上記式において、Ｒは、炭素数１〜４のメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基又はフェニル基であり、中でもメチル基が好適である。ａは２又は３であり、反応性、基材に対する密着性の観点から、３が好ましい。

式（１）〜（３）において、−ＺＷ_βで表される構造としては、下記の構造が挙げられる。

式（６ａ）〜（６ｅ）において、Ｒ、Ｘ、ａ、ｍ、ｚ、ｎ及びｈは上記の通りであり、Ｑ’はＱと同じであり、ｍ’は１〜１０の整数であり、好ましくは２〜８の整数である。ｍ又はｍ’とｚで括られた括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。Ｍｅはメチル基である。

上記式（４）及び（５）において、Ｑは単結合又は２価の有機基であり、Ｒｆ基とＹ基との連結基である。該Ｑの詳細は上記で説明した通りである。

上記式（４）及び（５）において、Ｙは、互いに独立に加水分解性基を有する２価の有機基である。好ましくは下記式で表される。

式中、Ｒ、Ｘ、ａ、及びｍは上記の通りである。ｅは１〜３の整数、好ましくは１又は２であり、Ｍ’は、非置換又は置換の３〜５価、好ましくは３価又は４価の炭化水素基であり、該炭化水素基における炭素原子の一部又は全部がケイ素原子に置き換わっていてもよく、また、該炭素原子に結合する水素原子の一部又は全部がフッ素原子等のハロゲン原子に置き換わっていてもよい。Ｍ’は好ましくは下記構造で表される基である。

（式中、Ｍ¹は炭素数１〜１０の２価炭化水素基又はジメチルシリル基等のジオルガノシリル基であり、Ｍ²は炭素数１〜１０の３価炭化水素基又はメチルシリル基等のオルガノシリル基であり、Ｒ⁴は水素原子又は炭素数１〜６の１価炭化水素基である。）

このようなＹとしては、例えば下記の基が挙げられる。

（式中、Ｘは上記と同じであり、ｍ１は０〜１０の整数、好ましくは１〜８の整数であり、ｍ２は２〜１０の整数、好ましくは３〜８の整数である。Ｍｅはメチル基である。）

上記式（４）及び（５）において、δは１〜１０の整数、好ましくは１〜４の整数である。
また、Ｂは水素原子、炭素数１〜４のメチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等のアルキル基、又はフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等のハロゲン原子である。

上記式（１）〜（５）で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物として、例えば、下記構造のものが挙げられる。

（式中、Ｍｅはメチル基であり、ｐ１、ｑ１、ｒ１、ｓ１、ｔ１はそれぞれ独立に１〜２００の整数であり、ｔ２＋ｔ３＝ｔ１であり、フッ素ポリマー部分の数平均分子量は４，５００〜１０，０００である。また、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。）

本発明に用いる撥水撥油剤の主成分としては、上記フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物の、分子中のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解・縮合した加水分解縮合物を用いることもできる。

また、本発明に係る撥水撥油剤は溶媒を含んでいてもよい。溶媒は、好ましくはフッ素変性脂肪族炭化水素系溶媒（パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタンなど）、フッ素変性芳香族炭化水素系溶媒（ｍ−キシレンヘキサフルオライド、ベンゾトリフルオライド、１，３−トリフルオロメチルベンゼンなど）、フッ素変性エーテル系溶媒（メチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）など）、フッ素変性アルキルアミン系溶媒（パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミンなど）、炭化水素系溶媒（石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン、キシレンなど）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）であるのがよい。中でも、溶解性、濡れ性などの点で、フッ素変性された溶媒（フッ素系溶剤という）が望ましく、特には、１，３−トリフルオロメチルベンゼン、ｍ−キシレンヘキサフルオライド、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、パーフルオロトリブチルアミン、及びエチルパーフルオロブチルエーテルが好ましい。

上記溶媒はその２種以上を混合してもよく、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及びその部分加水分解縮合物を均一に溶解させることが好ましい。なお、溶媒に溶解させるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物の最適濃度は、表面処理剤の使用方法に応じて適宜選定すればよく、制限されるものではない。通常は０．０１〜３０質量％、好ましくは０．０２〜２０質量％、更に好ましくは０．０５〜５質量％となるように溶解させる。

フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤は、ウェット塗工法（刷毛塗り、ディッピング、スプレー、インクジェット）、蒸着法など公知の方法で上記反射防止層表面に施与することができる。塗工条件等は従来公知の方法に従えばよいが、反射防止層を乾式法で塗工することから、撥水撥油剤も蒸着法で塗工する方が効率的である。蒸着処理の方法は特に限定されるものではなく、例えば抵抗加熱方式、又は電子ビーム加熱方式を使用することができる。

硬化被膜の膜厚は、処理する基材の種類により適宜選定されるが、通常１〜３０ｎｍ、特に３〜２０ｎｍである。また、３０ｎｍより厚く塗工してから、硬化処理前あるいは硬化処理後に、純水や溶剤による超音波洗浄又は手拭き等で余分な撥水撥油剤又は撥水撥油層を取り除いて１〜３０ｎｍの膜厚に調整してもよい。
撥水撥油剤は、室温（２５℃）で硬化させることができるが、更に短時間で硬化させるために３０〜２００℃で１０〜２４時間程度加熱してもよい。硬化は加湿下で行うことが加水分解を促進する上で好ましい。

なお、撥水撥油剤を塗工する前に、プラズマ処理、ＵＶ処理、ＶＵＶ処理、エキシマ処理、オゾン処理等の洗浄や表面を活性化させる処理を反射防止層表面に施してもよい。アルカリ処理は、反射防止層を侵す可能性があるため、好ましくない。

本発明の反射防止部材としては、カーナビゲーション、タブレットＰＣ、スマートフォン、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器等のディスプレイ、眼鏡レンズ、カメラレンズ、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ、保護フイルム、反射防止フイルムなどの光学物品、自動車、電車、航空機などの窓ガラス、ヘッドランプカバー等の防汚コーティング等が挙げられる。

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。下記例中、Ｍｅはメチル基を示す。

実施例及び比較例において使用した試験方法は、以下の通りである。
［撥水撥油性の評価方法］
接触角計（ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ、協和界面科学社製）を用いて、硬化被膜（撥水撥油層）の水接触角及びオレイン酸に対する接触角を測定した。

［動摩擦係数］
ベンコット（旭化成社製）に対する硬化被膜（撥水撥油層）の動摩擦係数を、新東科学社製の表面性試験機を用いて下記条件で測定した。
接触面積：１０ｍｍ×３０ｍｍ
荷重：１００ｇ

［耐摩耗性試験］
往復摩耗試験機（ＨＥＩＤＯＮ ３０Ｓ、新東科学社製）を用いて、以下の条件で硬化被膜（撥水撥油層）の耐摩耗性試験を実施し、試験後の硬化被膜の水接触角を上記と同様の方法により測定した。
評価環境条件：２５℃、湿度４０％
擦り材：試料と接触するテスターの先端部（１０ｍｍ×１０ｍｍ）にスチールウール（＃００００ ボンスター）を３ｍｍ厚になるように重ねて包み、輪ゴムで固定した。
荷重：１ｋｇ
擦り距離（片道）：３０ｍｍ
擦り速度：３，６００ｍｍ／ｍｉｎ
往復回数：５，０００往復

［反射防止層の形成］
基材上に、表１に示す材料を用い、真空蒸着法又はスパッタ法により（多層）反射防止層を順次形成し、基板Ａ〜Ｆを作製した。基材は、コーニング社のＧｏｒｉｌｌａ３（ガラス基材）を用いた。表１中のカッコ内の数値は各層の厚みである。

なお、基材のＧｏｒｉｌｌａ３のＲＭＳは０．４５ｎｍ、反射率は８．４６％であった。

各反射防止層の膜厚は、分光エリプソメトリー（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ製 Ｍ−２０００Ｄ）を用いて測定した。
多層反射防止層表面の自乗平均平方根面粗さＲＭＳは、走査型プローブ顕微鏡（（株）日立ハイテクサイエンス製ＳＰＡ３００、カンチレバー：ＳＩ−ＤＦ２０）で測定した。
また、入射角５度反射率は、島津製作所製ＵＶ−３６００を用いて測定し、波長５５０ｎｍの反射率を採用した。

撥水撥油剤として、下記の化合物１〜５を用いた。なお、フッ素ポリマー部分の数平均分子量は¹⁹Ｆ−ＮＭＲにより測定した。
［化合物１］

主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量は４，５５０
［化合物２］

主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量は５，４５０
［化合物３］

主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量は７，２８０
［化合物４］

主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量は９，１００
［化合物５］

主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量は４，１２０

［撥水撥油層の形成］
上記で得られた基材の反射防止層上に、上記化合物１〜５をそれぞれＮｏｖｅｃ（登録商標）７２００（３Ｍ社製）で有効成分２０質量％になるように希釈してから下記塗工条件で真空蒸着塗工した。４０℃、湿度８０％の雰囲気下で２時間硬化させて撥水撥油層を形成し、反射防止部材を作製した。

［塗工条件］
・塗工装置：小型真空蒸着装置ＶＰＣ−２５０Ｆ
・圧力：２．０×１０^-3〜３．０×１０^-2Ｐａ
・蒸着温度（ボートの到達温度）：７００℃
・蒸着距離：２０ｍｍ
・処理剤の仕込み量：１０ｍｇ
・蒸着量：１０ｍｇ（膜厚：１５ｎｍ）

［実施例１〜４及び比較例１］
実施例１〜４及び比較例１は、上記の方法に基づき、上記基板Ａ（ＲＭＳ：０．８２ｎｍ）に化合物１〜５（撥水撥油剤の数平均分子量を変えたもの）をそれぞれ用いて撥水撥油層を形成した。上記の評価を行い、評価結果を表２に示す。

主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量が４，５００未満の化合物５を用いた比較例１は、表面の凹凸の影響を受け、動摩擦係数が高く、耐摩耗性が悪かった。一方、主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量が４，５００以上の化合物を用いた実施例１〜４は、動摩擦係数が０．０５以下で、耐摩耗性も良好であった。

［実施例５〜７及び比較例２］
実施例５〜７及び比較例２は、上記の方法に基づき、上記基板Ｂ〜Ｅそれぞれに化合物３（数平均分子量：７，２８０）を用いて撥水撥油層を形成した。上記の評価を行い、評価結果を上記実施例３（基板Ａ及び化合物３を用いたもの）の結果と共に表３に示す。

多層反射防止層表面のＲＭＳが２．０ｎｍより大きい比較例２は、主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量の大きな化合物を用いても、表面の凹凸の影響を埋めることはできず、動摩擦係数が高く、耐摩耗性が悪かった。一方、多層反射防止層表面のＲＭＳが２．０ｎｍ以下である実施例３、５〜７は、動摩擦係数が０．０５以下で、耐摩耗性も良好であった。なお、主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量が更に大きい化合物を用いれば、多層反射防止層表面のＲＭＳが２．０ｎｍ以上であっても所望の性能を発揮できる可能性があるが、これ以上主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量の大きなポリマーを製造することができず断念した。

［比較例３］
上記実施例／比較例において、多層反射防止層のＲＭＳを０．８ｎｍより小さくすることはできなかったが、参考に、ガラス基材上に単層の反射防止層としてＳｉＯ₂層（単層）を１０ｎｍ成膜した基板Ｆ（ＲＭＳ：０．６３ｎｍ）に、上記の方法に基づき、化合物５を塗工して撥水撥油層を形成し、上記と同様の評価を行ったところ、表４に示す結果が得られた。

単層の反射防止層として表面のＲＭＳが０．６３ｎｍのＳｉＯ₂層（単層）上であれば、主鎖（フッ素ポリマー部分）の数平均分子量が４，５００未満の化合物を用いた撥水撥油層であっても所望の特性を発揮できることが確認された。しかし、単層の反射防止層では十分な反射防止効果が得られないものであり、他方、多層構造の反射防止層のＲＭＳを０．８ｎｍ未満で安定して大量生産することは極めて難しい。

本発明の反射防止部材は、撥水撥油性に優れるだけでなく、低動摩擦性で汚れが拭き取り易く、耐摩耗性に優れた硬化被膜を与えることができる。このため、特に、油脂の付着が想定され、摩耗される用途に非常に有効であり、タッチパネル等、日常的に使用し、触れることが多く、汚れの拭き取り作業の多い用途でも、長期間にわたって良好な撥水撥油表面を維持することができる。

Claims (9)

1. 基材上の多層反射防止層表面の自乗平均平方根面粗さが０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下である多層反射防止層上に、フッ素ポリマー部分の数平均分子量が４，５００以上１０，０００以下であるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤の硬化物である膜厚１〜３０ｎｍの撥水撥油層を有する反射防止部材。
2. 前記多層反射防止層が、ＭｇＦ₂、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＣｅＦ₃、ＮｄＦ₃、ＬａＦ₃、ＡｌＦ₃、ＹＦ₃、ＢａＦ₂、ＣａＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＮ_x（ｘは１〜１．５の正数）、ＩＴＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₄Ｏ₇、Ｔｉ₃Ｏ₅、ＴｉＮ_x'Ｏ_y（ｘ’は１〜４の正数、ｙは１〜１２の正数）、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｎＳ、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂及びＬａ₂Ｔｉ₂Ｏ₇から選ばれる少なくとも２種を使用した多層反射防止層であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止部材。
3. 前記多層反射防止層が、真空蒸着膜、イオンプレーティング膜、イオンアシスト膜、スパッタリング膜又はプラズマＣＶＤ膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止部材。
4. 前記フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物が、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）及び（５）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止部材。
   （Ａ−Ｒｆ）_α−ＺＷ_β （１）
   Ｒｆ−（ＺＷ_β）₂ （２）
   Ｚ’−（Ｒｆ−ＺＷ_β）_γ （３）
   〔式中、Ｒｆは−（ＣＦ₂）_d−Ｏ−（ＣＦ₂Ｏ）_p（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_q（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_r（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_s（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_t−（ＣＦ₂）_d−であり、ｄは０〜８の整数であり、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０〜２００の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋２ｄはフッ素ポリマー部分の数平均分子量を４，５００以上１０，０００以下とする数であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。Ａはフッ素原子、水素原子、又は末端が−ＣＦ₃基、−ＣＦ₂Ｈ基もしくは−ＣＨ₂Ｆ基である１価のフッ素含有基であり、Ｚ、Ｚ’は独立に単結合、又は窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよく、フッ素置換されていてもよい２〜８価の有機基であり、Ｗは独立に末端に加水分解性基を有する１価の有機基である。α、βはそれぞれ独立に１〜７の整数であり、かつ、α＋β＝２〜８である。γは２〜８の整数である。〕
   Ａ−Ｒｆ−Ｑ−（Ｙ）_δ−Ｂ （４）
   Ｒｆ−（Ｑ−（Ｙ）_δ−Ｂ）₂ （５）
   （式中、Ｒｆ、Ａは前記と同じであり、Ｑは単結合又は２価の有機基であり、Ｙは加水分解性基を有する２価の有機基であり、δは１〜１０の整数であり、Ｂは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子である。）
5. 前記式（１）〜（５）中のＲｆが直鎖構造であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止部材。
6. 前記式（１）〜（５）中のＲｆが、−ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−を含むことを特徴とする請求項５に記載の反射防止部材。
7. 前記フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物が、下記式で表されるものである請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止部材。
   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   （式中、Ｍｅはメチル基であり、ｐ１、ｑ１、ｒ１、ｓ１、ｔ１はそれぞれ独立に１〜２００の整数であり、ｔ２＋ｔ３＝ｔ１であり、フッ素ポリマー部分の数平均分子量は４，５００〜１０，０００である。また、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。）
8. 前記基材が、ガラス、サファイヤ、石英又は透明樹脂であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止部材。
9. 基材上に、表面の自乗平均平方根面粗さが０．８ｎｍ以上２．０ｎｍ以下になるように、少なくとも２種の反射防止剤を真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法、スパッタリング法又はプラズマＣＶＤ法により複数回成膜して多層反射防止層を形成する工程と、該多層反射防止層上に、フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を主成分とする撥水撥油剤を真空蒸着法、スプレー法、Ｄｉｐ法又はスピン法により成膜して撥水撥油層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の反射防止部材の製造方法。