JPWO2018163513A1 - 光モジュール - Google Patents

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Abstract

光モジュールは、ベース部材と、赤色半導体レーザと、緑色半導体レーザと、青色半導体レーザと、赤色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第1レンズと、緑色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第2レンズと、青色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第3レンズと、赤色半導体レーザから第1レンズに向う光とは反対側に出射される赤色後方光を第1受光面にて受光する第1受光素子と、緑色半導体レーザから第2レンズに向う光とは反対側に出射される緑色後方光を第2受光面にて受光する第2受光素子と、青色半導体レーザから第3レンズに向う光とは反対側に出射される青色後方光を第3受光面にて受光する第3受光素子と、を含み、第1受光面、第2受光面および第3受光面は、赤色後方光、緑色後方光および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。

Description

本開示は、光モジュールに関する。
本出願は、2017年3月6日出願の日本出願第2017-042145号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
光源として半導体レーザを採用した光モジュールにおいては、半導体レーザから出射された光の一部を受光する受光素子が採用される場合がある。受光素子においては、たとえば基板上に半導体層が配置され、半導体層側の主面に受光面が配置される構造を採用することができる(たとえば、特許文献1参照)。
特開2009−267251号公報
実施例による光モジュールは、光を形成する光形成部と、光形成部を取り囲むように配置される保護部材と、を備える。光形成部は、ベース部材と、ベース部材上に配置され、赤色の光を出射する赤色半導体レーザと、ベース部材上に配置され、緑色の光を出射する緑色半導体レーザと、ベース部材上に配置され、青色の光を出射する青色半導体レーザと、を含む。光形成部は、ベース部材上に配置され、赤色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第1レンズと、ベース部材上に配置され、緑色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第2レンズと、ベース部材上に配置され、青色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第3レンズと、をさらに含む。光形成部は、ベース部材上に配置され、赤色半導体レーザから第1レンズに向う光とは反対側に出射される赤色後方光を第1受光面にて受光する第1受光素子と、ベース部材上に配置され、緑色半導体レーザから第2レンズに向う光とは反対側に出射される緑色後方光を第2受光面にて受光する第2受光素子と、ベース部材上に配置され、青色半導体レーザから第3レンズに向う光とは反対側に出射される青色後方光を第3受光面にて受光する第3受光素子と、をさらに含む。第1受光面、第2受光面および第3受光面は、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。
第1の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 第1の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 第1の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略平面図である。 第1の実施の形態における受光素子の構造を示す概略断面図である。 第2の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 第2の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略平面図である。 第3の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 第3の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略平面図である。 第4の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 第4の実施の形態における光モジュールの構造を示す概略平面図である。 第4の実施の形態における受光素子の構造を示す概略断面図である。
[本開示が解決しようとする課題]
受光素子が採用される光モジュールにおいては、受光面に入射する半導体レーザからの光の一部が受光面において反射されて光モジュールから出射され、意図しない場所に光が到達する現象(迷光)が生じ得る。光モジュールが部品として使用される装置によっては、迷光が当該装置の機能との関係において好ましくない場合がある。
そこで、迷光の発生し難い光モジュールを提供することを本開示の目的の1つとする。
[本開示の効果]
本開示の少なくとも1つの実施例の光モジュールによれば、迷光を発生し難くすることができる。
[本開示の実施形態の説明]
最初に本開示の技術の実施態様を列記して説明する。本開示の光モジュールは、光を形成する光形成部と、光形成部を取り囲むように配置される保護部材と、を備える。光形成部は、ベース部材と、ベース部材上に配置され、赤色の光を出射する赤色半導体レーザと、ベース部材上に配置され、緑色の光を出射する緑色半導体レーザと、ベース部材上に配置され、青色の光を出射する青色半導体レーザと、を含む。光形成部は、ベース部材上に配置され、赤色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第1レンズと、ベース部材上に配置され、緑色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第2レンズと、ベース部材上に配置され、青色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第3レンズと、をさらに含む。光形成部は、ベース部材上に配置され、赤色半導体レーザから第1レンズに向う光とは反対側に出射される赤色後方光を第1受光面にて受光する第1受光素子と、ベース部材上に配置され、緑色半導体レーザから第2レンズに向う光とは反対側に出射される緑色後方光を第2受光面にて受光する第2受光素子と、ベース部材上に配置され、青色半導体レーザから第3レンズに向う光とは反対側に出射される青色後方光を第3受光面にて受光する第3受光素子と、をさらに含む。第1受光面、第2受光面および第3受光面は、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。
本開示の光モジュールは、赤色、緑色および青色の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの後方光を受光する受光素子とを含む。ここで、受光素子の受光面を後方光の光軸に垂直にすることにより、後方光を効率よく受光素子に導入することができる。しかし、本発明者の検討によれば、このような構造に起因して迷光が発生する場合がある。具体的には、受光面に入射した後方光の一部は、受光面において反射される。また、後方光は、半導体レーザからレンズに向けて出射される光(前方光)とは同一直線上の反対側に出射される。そのため、後方光の光軸に対して受光面が垂直になるように受光素子を配置すると、受光面において反射された後方光は、前方光と(ほぼ)同じ光路を通ってレンズに入射し、光モジュールの外部へと出射される。その結果、受光面において反射された後方光が迷光となる。
本開示の光モジュールでは、受光面である第1受光面、第2受光面および第3受光面が、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。そのため、受光面において反射された後方光が前方光と(ほぼ)同じ光路を通ってレンズに入射し難くなる。その結果、迷光を発生し難くすることができる。このように、本開示の光モジュールによれば、迷光を発生し難くすることができる。
上記光モジュールにおいて、第1受光面、第2受光面および第3受光面は、それぞれ赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対し、受光される光の光軸を含み前記ベース部材の主面に垂直な第1の平面に含まれる方向に回転するとともに、前記ベース部材の前記主面に平行な第2の平面に含まれる方向に回転することにより、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜していてもよい。このようにすることにより、迷光をより発生し難くすることができる。
上記光モジュールにおいて、第1受光素子、第2受光素子および第3受光素子のうち少なくとも1つの受光素子は、ベース部材上に配置される支持部材の搭載面上に搭載されてもよい。搭載面は、上記少なくとも1つの受光素子において受光される光の光軸に垂直な面に対して傾斜していてもよい。支持部材の搭載面が光(後方光)の光軸に垂直な面に対して傾斜する構造を採用することにより、受光面を後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜させることが容易となる。
上記光モジュールにおいて、第1受光素子、第2受光素子および第3受光素子のうち少なくとも1つの受光素子は、半導体層を含む半導体受光素子であってもよい。半導体受光素子は、半導体層の主面に平行な面に対して傾斜する受光面を有していてもよい。このような半導体受光素子を採用することにより、受光面を後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜させることが容易となる。
本開示の別の観点による光モジュールは、ベース部材と、ベース部材上に配置される半導体レーザと、ベース部材上に配置され、半導体レーザからの光が入射される光学系と、ベース部材上に配置され、半導体レーザから光学系に向う光とは反対側に半導体レーザから出射される後方光を受光面にて受光する受光素子と、を含み、受光面は、後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜している。
本開示の光モジュールでは、受光面が後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜している。そのため、受光面において反射された後方光が前方光と(ほぼ)同じ光路を通って光学系に入射し難くなる。その結果、迷光を発生し難くすることができる。このように、本開示の光モジュールによれば、迷光を発生し難くすることができる。
[本開示の実施形態の詳細]
<第1の実施の形態>
次に、本開示の光モジュールの第1の実施の形態について、図1〜図3を参照して説明する。図2は、図1のキャップ40を取り外した状態に対応する図である。以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
図1および図2を参照して、本実施の形態における光モジュール1は、平板状の形状を有する基部10と、基部10の第1の主面10A上に配置され、光を形成する光形成部20と、光形成部20を覆うように基部10の第1の主面10A上に接触して配置されるキャップ40と、基部10の第2の主面10B側から第1の主面10A側まで貫通し、第1の主面10A側および第2の主面10B側の両側に突出する複数のリードピン51とを含んでいる。基部10とキャップ40とは、たとえば溶接されることにより気密状態とされている。すなわち、光形成部20は、基部10とキャップ40とによりハーメチックシールされている。基部10とキャップ40とにより取り囲まれる空間には、たとえば乾燥空気などの水分が低減(除去)された気体が封入されている。キャップ40には、光形成部20からの光を透過する出射窓41が形成されている。出射窓41は主面が互いに平行な平板状の形状を有していてもよいし、光形成部20からの光を集光または拡散させるレンズ形状を有していてもよい。基部10およびキャップ40は、保護部材を構成する。
図2および図3を参照して、光形成部20は、板状の形状を有するベース部材であるベース板60を含む。ベース板60は、平面視で長方形形状を有する第1の主面60Aを有している。主面60A上には、直方体状の形状を有する第1ブロック63、第2ブロック64および第3ブロック65が配置されている。第1ブロック63、第2ブロック64および第3ブロック65上には、平板状の形状を有する第1サブマウント71、第2サブマウント72および第3サブマウント73がそれぞれ配置されている。そして、第1サブマウント71、第2サブマウント72および第3サブマウント73上に、赤色半導体レーザとしての赤色レーザダイオード81、緑色半導体レーザとしての緑色レーザダイオード82および青色半導体レーザとしての青色レーザダイオード83がそれぞれ配置されている。
赤色レーザダイオード81は、長方形状の形状を有する主面60Aの長辺に沿う方向(X軸方向)に光を出射するように配置される。緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83は、主面60Aの短辺に沿う方向(Y軸方向)に光を出射するように配置される。赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83の光軸の高さ(ベース板60の第1の主面60Aを基準面とした場合の基準面と光軸との距離;Z軸方向における基準面からの距離)は、第1ブロック63、第2ブロック64および第3ブロック65ならびに第1サブマウント71、第2サブマウント72および第3サブマウント73により調整されて互いに一致している。
ベース板60の主面60A上には、台状の第1レンズ保持部77、第2レンズ保持部78および第3レンズ保持部79が形成されている。そして、第1レンズ保持部77、第2レンズ保持部78および第3レンズ保持部79上には、それぞれ第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93が配置されている。第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93は、表面がレンズ面となっているレンズ部91A,92A,93Aをそれぞれ有している。第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93は、レンズ部91A,92A,93Aとレンズ部91A,92A,93A以外の領域とが一体成型されている。第1レンズ保持部77、第2レンズ保持部78および第3レンズ保持部79により、第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93のレンズ部91A,92A,93Aの中心軸、すなわちレンズ部91A,92A,93Aの光軸は、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83の光軸に一致するように調整されている。
第1レンズ91には、赤色レーザダイオード81から出射される光(赤色前方光)が入射する。第2レンズ92には、緑色レーザダイオード82から出射される光(緑色前方光)が入射する。第3レンズ93には、青色レーザダイオード83から出射される光(青色前方光)が入射する。第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93は、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光のスポットサイズを変換する。第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93により、赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光のスポットサイズが互いに一致するようにスポットサイズが変換される。
ベース板60の主面60A上には、第1フィルタ97と第2フィルタ98とが配置される。第1フィルタ97および第2フィルタ98は、それぞれ互いに平行な主面を有する平板状の形状を有している。第1フィルタ97および第2フィルタ98は、たとえば波長選択性フィルタである。第1フィルタ97および第2フィルタ98は、誘電体多層膜フィルタである。より具体的には、第1フィルタ97は、赤色の光を透過し、緑色の光を反射する。第2フィルタ98は、赤色の光および緑色の光を透過し、青色の光を反射する。このように、第1フィルタ97および第2フィルタ98は、特定の波長の光を選択的に透過および反射する。その結果、第1フィルタ97および第2フィルタ98は、赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射された光を合波する。第1フィルタ97および第2フィルタ98は、それぞれ主面60A上に形成された台状の第1突出領域88および第2突出領域89上に配置される。
ベース板60の主面60A上には、一対の底面が台形形状である直四角柱形状を有する第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68が配置されている。第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68は、台形形状の底面の互いに平行な辺のうち長い方の辺を含む側面が主面60Aに接触するように、主面60A上に配置される。また、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68は、台形形状の底面の互いに平行な辺に対して垂直な辺を含む側面が、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直となるように、主面60A上に配置される。その結果、台形形状の底面の互いに平行な辺を接続し、当該平行な辺に対して垂直でない辺を含む側面である支持面66A,67A,68Aが、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な面に対して傾斜する。
より具体的には、第4ブロック66の支持面66Aは、赤色レーザダイオード81から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Z面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第4ブロック66の支持面66Aは、赤色レーザダイオード81から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Z面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。第5ブロック67および第6ブロック68の支持面67A,68Aは、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してY−Z面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面67A,68Aは、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してY−Z面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。
第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68A上には、平板状の形状を有する第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76がそれぞれ配置されている。その結果、第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76において第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68とは反対側の主面である搭載面74A,75A,76Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な面に対して傾斜する。
第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76上には、それぞれ第1受光素子としての第1フォトダイオード94、第2受光素子としての第2フォトダイオード95および第3受光素子としての第3フォトダイオード96が配置されている。第4ブロック66および第4サブマウント74は、第1フォトダイオード94の支持部材を構成する。第5ブロック67および第5サブマウント75は、第2フォトダイオード95の支持部材を構成する。第6ブロック68および第6サブマウント76は、第3フォトダイオード96の支持部材を構成する。
第1フォトダイオード94は、赤色レーザダイオード81から第1レンズ91に向う赤色前方光とは反対側に出射される赤色後方光を第1受光面94Aにて受光する。第2フォトダイオード95は、緑色レーザダイオード82から第2レンズ92に向う緑色前方光とは反対側に出射される緑色後方光を第2受光面95Aにて受光する。第3フォトダイオード96は、青色レーザダイオード83から第3レンズ93に向う青色前方光とは反対側に出射される青色後方光を第3受光面96Aにて受光する。
ここで、本実施の形態における受光素子の構造について、第1フォトダイオード94を例に説明する。第2フォトダイオード95および第3フォトダイオード96は、第1フォトダイオード94と同様の構造を有する。
図4を参照して、第1フォトダイオード94は、高濃度n型層3と、n型層4と、p型領域5と、p側電極6と、n側電極7と、を含む。
高濃度n型層3は、n型不純物を含むことにより、n型の導電型を有している。n型層4は、高濃度n型層の第1主面3A上に接触して配置される。n型層4は、高濃度n型層3よりも低い濃度でn型不純物を含むことにより、n型の導電型を有している。p型領域5は、n型層4の第1の主面4Aを含むように、n型層4の内部に形成されている。p型領域5は、p型不純物を含むことにより導電型がp型となっている。高濃度n型層3、n型層4およびp型領域5は、半導体層を構成する。
n側電極7は、高濃度n型層3の第2主面3B上に接触して配置される。n側電極7は、金属などの導電体からなっている。n側電極7は、高濃度n型層3とオーミック接触している。p側電極6は、半導体層のn側電極7とは反対側の主面上に接触して配置されている。p側電極6は、半導体層の当該主面において露出するp型領域5に接触して配置される。p側電極6は、金属などの導電体からなっている。p側電極6は、p型領域5とオーミック接触している。半導体層のn側電極7とは反対側の主面に、半導体層に外部から光が入射するための受光面94Aが形成されている。p側電極6は、第1受光面94Aの外周を取り囲む環状(円環状)の形状を有している。
受光面94Aから光が入射すると、p型領域5およびn型層4内に入射した光の強度に応じた量のキャリアが生成する。これをp側電極6およびn側電極7を介して電流として取り出すことで、入射した光の強度に関する情報を得ることができる。
図2〜図4を参照して、第1フォトダイオード94は、搭載面74Aにn側電極7の高濃度n型層3とは反対側の主面が対向するように、第4サブマウント74上に配置される。第2フォトダイオード95は、搭載面75Aにn側電極7の高濃度n型層3とは反対側の主面が対向するように、第5サブマウント75上に配置される。第3フォトダイオード96は、搭載面76Aにn側電極7の高濃度n型層3とは反対側の主面が対向するように、第6サブマウント76上に配置される。その結果、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aは、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。
より具体的には、第1受光面94Aは、赤色レーザダイオード81から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Z面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第1受光面94Aは、赤色レーザダイオード81から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Z面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。第2受光面95Aおよび第3受光面96Aは、それぞれ緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してY−Z面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aは、それぞれ緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してY−Z面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。
図3を参照して、第1フォトダイオード94の第1受光面94A、赤色レーザダイオード81、第1レンズ91のレンズ部91A、第1フィルタ97および第2フィルタ98は、赤色レーザダイオード81の光の出射方向に沿う一直線上に並んで(X軸方向に並んで)配置されている。第2フォトダイオード95の第2受光面95A、緑色レーザダイオード82、第2レンズ92のレンズ部92Aおよび第1フィルタ97は、緑色レーザダイオード82の光の出射方向に沿う一直線上に並んで(Y軸方向に並んで)配置されている。第3フォトダイオード96の第3受光面96A、青色レーザダイオード83、第3レンズ93のレンズ部93Aおよび第2フィルタ98は、青色レーザダイオード83の光の出射方向に沿う一直線上に並んで(Y軸方向に並んで)配置されている。
すなわち、赤色レーザダイオード81の出射方向と、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83の出射方向とは交差する。より具体的には、赤色レーザダイオード81の出射方向と、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83の出射方向とは直交する。緑色レーザダイオード82の出射方向は、青色レーザダイオード83の出射方向に沿った方向である。より具体的には、緑色レーザダイオード82の出射方向と青色レーザダイオード83の出射方向とは平行である。
第1フィルタ97および第2フィルタ98の主面は、赤色レーザダイオード81の光の出射方向に対して傾斜している。より具体的には、第1フィルタ97および第2フィルタ98の主面は、赤色レーザダイオード81の光の出射方向(X軸方向)に対して45°傾斜している。第1フィルタ97および第2フィルタ98の主面は、赤色レーザダイオード81からの光の光軸に垂直な面に対して、主面60Aに平行な平面(X−Y平面)に含まれる回転方向に45°だけ回転した面となっている。
また、図2および図3を参照して、光モジュール1は、基部10と光形成部20との間に、電子冷却モジュール30を含んでいる。電子冷却モジュール30は、吸熱板31と、放熱板32と、電極を挟んで吸熱板31と放熱板32との間に並べて配置される半導体柱33とを含む。吸熱板31および放熱板32は、たとえばアルミナからなっている。吸熱板31がベース板60の第2の主面60Bに接触して配置される。放熱板32は、基部10の第1の主面10Aに接触して配置される。本実施の形態において、電子冷却モジュール30はペルチェモジュール(ペルチェ素子)である。そして、電子冷却モジュール30に電流を流すことにより、吸熱板31に接触するベース板60の熱が基部10へと移動し、ベース板60が冷却される。
次に、本実施の形態における光モジュール1の動作について説明する。図3を参照して、赤色レーザダイオード81から出射された赤色前方光は、光路L1に沿って進行する。赤色レーザダイオード81からの光(赤色レーザ光)の大半は、赤色前方光として出射される。一方、赤色レーザダイオード81から出射された赤色後方光は、光路L7に沿って進行し、第1フォトダイオード94の第1受光面94Aに入射する。赤色前方光と赤色後方光との強度の比率は、予め知ることができる。そのため、赤色後方光の強度から、赤色前方光の強度に関する情報を得ることができる。そして、当該情報が示す光の強度と出射されるべき目標の光の強度との差に基づいて赤色レーザダイオード81に流される電流値が制御され、赤色の光の強度が調整される。
光路L1に沿って進行する赤色前方光は、第1レンズ91のレンズ部91Aに入射し、光のスポットサイズが変換される。具体的には、たとえば赤色レーザダイオード81から出射された赤色前方光がコリメート光に変換される。第1レンズ91においてスポットサイズが変換された赤色前方光は、光路L1に沿って進行し、第1フィルタ97に入射する。第1フィルタ97は赤色の光を透過するため、赤色レーザダイオード81から出射された赤色前方光は光路L2に沿ってさらに進行し、第2フィルタ98に入射する。そして、第2フィルタ98は赤色の光を透過するため、赤色レーザダイオード81から出射された赤色前方光は光路L3に沿ってさらに進行し、キャップ40の出射窓41を通って光モジュール1の外部へと出射する。
緑色レーザダイオード82から出射された緑色前方光は、光路L4に沿って進行する。緑色レーザダイオード82からの光(緑色レーザ光)の大半は、緑色前方光として出射される。一方、緑色レーザダイオード82から出射された緑色後方光は、光路L8に沿って進行し、第2フォトダイオード95の第2受光面95Aに入射する。緑色前方光と緑色後方光との強度の比率は、予め知ることができる。そのため、緑色後方光の強度から、緑色前方光の強度に関する情報を得ることができる。そして、当該情報が示す光の強度と出射されるべき目標の光の強度との差に基づいて緑色レーザダイオード82に流される電流値が制御され、緑色の光の強度が調整される。
光路L4に沿って進行する緑色前方光は、第2レンズ92のレンズ部92Aに入射し、光のスポットサイズが変換される。具体的には、たとえば緑色レーザダイオード82から出射された緑色前方光がコリメート光に変換される。第2レンズ92においてスポットサイズが変換された緑色前方光は、光路L4に沿って進行し、第1フィルタ97に入射する。第1フィルタ97は緑色の光を反射するため、緑色レーザダイオード82から出射された緑色前方光は光路L2に合流する。その結果、緑色前方光は赤色前方光と合波され、光路L2に沿って進行し、第2フィルタ98に入射する。そして、第2フィルタ98は緑色の光を透過するため、緑色レーザダイオード82から出射された緑色前方光は光路L3に沿ってさらに進行し、キャップ40の出射窓41を通って光モジュール1の外部へと出射する。
青色レーザダイオード83から出射された青色前方光は、光路L5に沿って進行する。青色レーザダイオード83からの光(青色レーザ光)の大半は、青色前方光として出射される。一方、青色レーザダイオード83から出射された緑色後方光は、光路L9に沿って進行し、第3フォトダイオード96の第3受光面96Aに入射する。青色前方光と青色後方光との強度の比率は、予め知ることができる。そのため、青色後方光の強度から、青色前方光の強度に関する情報を得ることができる。そして、当該情報が示す光の強度と出射されるべき目標の光の強度との差に基づいて青色レーザダイオード83に流される電流値が制御され、青色の光の強度が調整される。
光路L5に沿って進行する青色前方光は、第3レンズ93のレンズ部93Aに入射し、光のスポットサイズが変換される。具体的には、たとえば青色レーザダイオード83から出射された青色前方光がコリメート光に変換される。第3レンズ93においてスポットサイズが変換された青色前方光は、光路L5に沿って進行し、第2フィルタ98に入射する。第2フィルタ98は青色の光を反射するため、青色レーザダイオード83から出射された青色前方光は光路L3に合流する。その結果、青色前方光は赤色前方光および緑色前方光と合波され、光路L3に沿って進行し、キャップ40の出射窓41を通って光モジュール1の外部へと出射する。
このようにして、キャップ40の出射窓41から、赤色、緑色および青色の光が合波されて形成された光が出射する。また、電子冷却モジュール30に電流を流すことにより、吸熱板31に接触するベース板60の熱が基部10へと移動し、ベース板60が冷却される。その結果、赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83の温度上昇が抑制される。これにより、たとえば自動車に搭載される場合など、温度が高くなる環境下においても光モジュール1を使用することが可能となる。また、赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83の温度を適正な範囲に維持することで、所望の色の光を精度よく形成することが可能となる。
ここで、本実施の形態における光モジュール1では、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aは、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。そのため、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光の光軸は、それぞれ赤色前方光、緑色前方光および青色前方光の光軸に対して傾斜する。したがって、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光が前方光と(ほぼ)同じ光路を通ってそれぞれ第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93に入射し難くなる。その結果、光モジュール1は、迷光の発生し難い光モジュールとなっている。
<第2の実施の形態>
次に、本開示の光モジュールの第2の実施の形態について、図5および図6を参照して説明する。図5〜図6および図1〜図4を参照して、第2の実施の形態における光モジュール1は、基本的には第1の実施の形態の場合と同様の構造を有し、同様の効果を奏する。しかし、第2の実施の形態の光モジュール1は、第1フォトダイオード94、第2フォトダイオード95および第3フォトダイオード96の設置状態において、第1の実施の形態の場合とは異なっている。
図5および図6を参照して、第2の実施の形態の光モジュール1においては、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68は、直方体状の形状を有している。そして、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68において第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76を保持する面である支持面66A,67A,68Aが、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な面に対して傾斜するように、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68が配置されている。
より具体的には、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Y面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Y面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。その結果、第1フォトダイオード94の第1受光面94A、第2フォトダイオード95の第2受光面95Aおよび第3フォトダイオード96の第3受光面96Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Y面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第1フォトダイオード94の第1受光面94A、第2フォトダイオード95の第2受光面95Aおよび第3フォトダイオード96の第3受光面96Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Y面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。
そのため、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光の光軸は、それぞれ赤色前方光、緑色前方光および青色前方光の光軸に対して傾斜する。したがって、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光が前方光と(ほぼ)同じ光路を通ってそれぞれ第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93に入射し難くなる。その結果、光モジュール1は、迷光の発生し難い光モジュールとなっている。
<第3の実施の形態>
次に、本開示の光モジュールの第3の実施の形態について、図7および図8を参照して説明する。図7〜図8および図1〜図4を参照して、第3の実施の形態における光モジュール1は、基本的には第1の実施の形態の場合と同様の構造を有し、同様の効果を奏する。しかし、第3の実施の形態の光モジュール1は、第1フォトダイオード94、第2フォトダイオード95および第3フォトダイオード96の設置状態において、第1の実施の形態の場合とは異なっている。
図7および図8を参照して、第3の実施の形態の光モジュール1においては、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Y面に含まれる回転方向に0°を超え90°未満の角度だけ回転するように傾斜している。より好ましくは、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68Aは、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Y面に含まれる回転方向に10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。その結果、第1フォトダイオード94の第1受光面94Aは、赤色レーザダイオード81から出射される光の光軸に垂直な平面に対してX−Z面(第1の平面)に含まれる回転方向に0°を超え90°未満、より好ましくは10°を超え30°未満の角度だけ回転するとともにX−Y面(第2の平面)に含まれる回転方向に0°を超え90°未満、より好ましくは10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。また、第2フォトダイオード95の第2受光面95Aおよび第3フォトダイオード96の第3受光面96Aは、それぞれ緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に垂直な平面に対してY−Z面(第1の平面)に含まれる回転方向に0°を超え90°未満、より好ましくは10°を超え30°未満の角度だけ回転するとともにX−Y面(第2の平面)に含まれる回転方向に0°を超え90°未満、より好ましくは10°を超え30°未満の角度だけ回転するように傾斜している。
そのため、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光の光軸は、それぞれ赤色前方光、緑色前方光および青色前方光の光軸に対して傾斜する。したがって、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光が前方光と(ほぼ)同じ光路を通ってそれぞれ第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93に、より入射し難くなる。その結果、光モジュール1は、迷光の発生し難い光モジュールとなっている。
<第4の実施の形態>
次に、本開示の光モジュールの第4の実施の形態について、図9〜図11を参照して説明する。図9〜図11および図1〜図4を参照して、第4の実施の形態における光モジュール1は、基本的には第1の実施の形態の場合と同様の構造を有し、同様の効果を奏する。しかし、第4の実施の形態の光モジュール1は、第1フォトダイオード94、第2フォトダイオード95および第3フォトダイオード96の設置状態および構造において、第1の実施の形態の場合とは異なっている。
図9および図10を参照して、第4の実施の形態の光モジュール1においては、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68は、直方体状の形状を有している。そして、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68において第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76を保持する面である支持面66A,67A,68Aが、それぞれ赤色レーザダイオード81、緑色レーザダイオード82および青色レーザダイオード83から出射される光の光軸に平行となるように配置されている。より具体的には、第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68Aは、X−Y平面に平行である。
第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68の支持面66A,67A,68A上には、平板状の第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76がそれぞれ配置されている。そして、第4サブマウント74、第5サブマウント75および第6サブマウント76の第4ブロック66、第5ブロック67および第6ブロック68とは反対側の主面である搭載面74A,75A,76A上に、第1フォトダイオード94、第2フォトダイオード95および第3フォトダイオード96がそれぞれ配置されている。
次に図11を参照して、本実施の形態の受光素子の構造について、第1フォトダイオード94を例に説明する。第2フォトダイオード95および第3フォトダイオード96は、第1フォトダイオード94と同様の構造を有する。図11は、図10の線分XI−XIに沿う断面図である。
図11を参照して、第4の実施の形態における第1フォトダイオード94は、高濃度n型層3と、n型層4と、p型領域5と、絶縁膜8と、p側電極6と、n側電極7と、を含む。
高濃度n型層3は、n型不純物を含むことにより、n型の導電型を有している。n型層4は、高濃度n型層の第1主面3A上に接触して配置される。n型層4は、高濃度n型層3よりも低い濃度でn型不純物を含むことにより、n型の導電型を有している。p型領域5は、n型層4の第1の主面4Aを含むように、n型層4の内部に形成されている。p型領域5は、p型不純物を含むことにより導電型がp型となっている。高濃度n型層3、n型層4およびp型領域5は、半導体層を構成する。
n側電極7は、高濃度n型層3の第2主面3B上に接触して配置されている。n側電極7は、金属などの導電体からなっている。n側電極7は、高濃度n型層3とオーミック接触している。絶縁膜8は、半導体層のn側電極7とは反対側の主面上に接触して配置されている。絶縁膜8は、絶縁体からなっている。絶縁膜8は、絶縁膜8を厚み方向に貫通する貫通孔8Aを有する。貫通孔8Aは、p型領域5に対応する領域に形成されている。すなわち、p型領域5は、貫通孔8Aから露出している。そして、貫通孔8Aから露出するp型領域5に接触するように、p側電極6が配置されている。p側電極6は、金属などの導電体からなっている。p側電極6は、p型領域5とオーミック接触している。
半導体層の端面に、半導体層に外部から光が入射するための受光面94Aが形成されている。受光面94Aは、半導体層の主面に平行な面に対して傾斜している。より具体的には、受光面94Aは、半導体層の主面に平行な面に対して0°を超え90°未満の角度だけ傾斜している。受光面94Aは、たとえば半導体層の主面に平行な面に対して40°を超え70°未満の角度だけ傾斜している。更に好ましくは、受光面94Aは、半導体層の主面に平行な面に対して50°を超え60°未満の角度だけ傾斜している。半導体層の積層方向に垂直な断面積は、絶縁膜8側からn側電極7側に近づくに従って小さくなっている。
受光面94Aから光が入射すると、p型領域5およびn型層4内に入射した光の強度に応じた量のキャリアが生成する。これをp側電極6およびn側電極7を介して電流として取り出すことで、入射した光の強度に関する情報を得ることができる。
図9〜図11を参照して、第1フォトダイオード94は、搭載面74Aにn側電極7の高濃度n型層3とは反対側の主面が対向するように、第4サブマウント74上に配置される。第2フォトダイオード95は、搭載面75Aにn側電極7の高濃度n型層3とは反対側の主面が対向するように、第5サブマウント75上に配置される。第3フォトダイオード96は、搭載面76Aにn側電極7の高濃度n型層3とは反対側の主面が対向するように、第6サブマウント76上に配置される。その結果、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aは、赤色後方光の光軸に垂直な面、緑色後方光の光軸に垂直な面および青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している。
そのため、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光の光軸は、それぞれ赤色前方光、緑色前方光および青色前方光の光軸に対して傾斜する。したがって、第1受光面94A、第2受光面95Aおよび第3受光面96Aにおいて反射された後方光が前方光と(ほぼ)同じ光路を通ってそれぞれ第1レンズ91、第2レンズ92および第3レンズ93に入射し難くなる。その結果、光モジュール1は、迷光の発生し難い光モジュールとなっている。
上記実施の形態においては、第1フィルタ97および第2フィルタ98として波長選択性フィルタが採用される場合を例示したが、これらのフィルタは、たとえば偏波合成フィルタであってもよい。
本開示の実施の形態はすべての点で例示であって、どのような面からも制限的なものではないと理解されるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく、請求の範囲によって規定され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本開示の光モジュールは、迷光の低減が求められる光モジュールに、特に有利に適用され得る。
1光モジュール
3高濃度n型層
3A第1主面
3B第2主面
4n型層
4A主面
5p型領域
6p側電極
7n側電極
8絶縁膜
8A貫通孔
10基部
10A,10B主面
20光形成部
30電子冷却モジュール
31吸熱板
32放熱板
33半導体柱
40キャップ
41出射窓
51リードピン
60ベース板
60A,60B主面
63第1ブロック
64第2ブロック
65第3ブロック
66第4ブロック
67第5ブロック
68第6ブロック
66A,67A,68A支持面
71第1サブマウント
72第2サブマウント
73第3サブマウント
74第4サブマウント
75第5サブマウント
76第6サブマウント
74A,75A,76A搭載面
77第1レンズ保持部
78第2レンズ保持部
79第3レンズ保持部
81赤色レーザダイオード
82緑色レーザダイオード
83青色レーザダイオード
88第1突出領域
89第2突出領域
91第1レンズ
92第2レンズ
93第3レンズ
91A,92A,93Aレンズ部
94第1フォトダイオード
95第2フォトダイオード
96第3フォトダイオード
94A第1受光面
95A第2受光面
96A第3受光面
97第1フィルタ
98第2フィルタ

Claims (5)

  1. 光を形成する光形成部と、
    前記光形成部を取り囲むように配置される保護部材と、を備え、
    前記光形成部は、
    ベース部材と、
    前記ベース部材上に配置され、赤色の光を出射する赤色半導体レーザと、
    前記ベース部材上に配置され、緑色の光を出射する緑色半導体レーザと、
    前記ベース部材上に配置され、青色の光を出射する青色半導体レーザと、
    前記ベース部材上に配置され、前記赤色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第1レンズと、
    前記ベース部材上に配置され、前記緑色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第2レンズと、
    前記ベース部材上に配置され、前記青色半導体レーザから出射される光のスポットサイズを変換する第3レンズと、
    前記ベース部材上に配置され、前記赤色半導体レーザから前記第1レンズに向う光とは反対側に出射される赤色後方光を第1受光面にて受光する第1受光素子と、
    前記ベース部材上に配置され、前記緑色半導体レーザから前記第2レンズに向う光とは反対側に出射される緑色後方光を第2受光面にて受光する第2受光素子と、
    前記ベース部材上に配置され、前記青色半導体レーザから前記第3レンズに向う光とは反対側に出射される青色後方光を第3受光面にて受光する第3受光素子と、を含み、
    前記第1受光面、前記第2受光面および前記第3受光面は、前記赤色後方光の光軸に垂直な面、前記緑色後方光の光軸に垂直な面および前記青色後方光の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾斜している、光モジュール。
  2. 前記第1受光面、前記第2受光面および前記第3受光面は、それぞれ前記赤色後方光の光軸に垂直な面、前記緑色後方光の光軸に垂直な面および前記青色後方光の光軸に垂直な面に対し、受光される光の光軸を含み前記ベース部材の主面に垂直な第1の平面に含まれる方向に回転するとともに、前記ベース部材の前記主面に平行な第2の平面に含まれる方向に回転することにより、前記赤色後方光の光軸に垂直な面、前記緑色後方光の光軸に垂直な面および前記青色後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜している、請求項1に記載の光モジュール。
  3. 前記第1受光素子、前記第2受光素子および前記第3受光素子のうち少なくとも1つの受光素子は、前記ベース部材上に配置される支持部材の搭載面上に搭載され、
    前記搭載面は、前記少なくとも1つの受光素子において受光される光の光軸に垂直な面に対して傾斜している、請求項1または請求項2に記載の光モジュール。
  4. 前記第1受光素子、前記第2受光素子および前記第3受光素子のうち少なくとも1つの受光素子は、半導体層を含む半導体受光素子であり、
    前記半導体受光素子は、前記半導体層の主面に平行な面に対して傾斜する受光面を有する、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の光モジュール。
  5. ベース部材と、
    前記ベース部材上に配置される半導体レーザと、
    前記ベース部材上に配置され、前記半導体レーザからの光が入射される光学系と、
    前記ベース部材上に配置され、前記半導体レーザから前記光学系に向う光とは反対側に前記半導体レーザから出射される後方光を受光面にて受光する受光素子と、
    を含み、前記受光面は、前記後方光の光軸に垂直な面に対して傾斜している、光モジュール。
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