JPWO2018139368A1 - 樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板 - Google Patents

樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板 Download PDF

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Abstract

本発明に係る樹脂組成物は、(i)シアン酸エステル化合物(A)とポリブタジエン(B)との反応物、及び/又は(ii)当該シアン酸エステル化合物(A)の重合物と当該ポリブタジエン(B)との反応物からなる群より選択される少なくとも1種と、マレイミド化合物(C)と、を含有する。

Description

本発明は、樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板に関する。
近年、電子機器や通信機、パーソナルコンピューター等に広く用いられている半導体の高集積化、微細化はますます加速している。これに伴い、プリント配線板に用いられる半導体パッケージ用積層板に求められる諸特性はますます厳しいものとなっている。求められる特性として、例えば、低吸水性、吸湿耐熱性、難燃性、低誘電率、低誘電正接、低熱膨張率、耐熱性、耐薬品性、高めっきピール強度等の特性が挙げられる。しかし、これまでのところ、これらの要求特性は必ずしも満足されてきたわけではない。
従来から、耐熱性や電気特性に優れるプリント配線板用樹脂として、シアン酸エステル化合物が知られており、近年シアン酸エステル化合物にエポキシ樹脂、ビスマレイミド化合物などを併用した樹脂組成物が半導体プラスチックパッケージ用などの高機能のプリント配線板用材料などに幅広く使用されている。
例えば、特許文献1及び2においては、密着性、低吸水性、吸湿耐熱性、絶縁信頼性などの特性に優れる、シアン酸エステル化合物とエポキシ樹脂からなる樹脂組成物が提案されている。
国際公開第2013/065694号 国際公開第2014/203866号
しかしながら、上記従来技術においては、誘電特性に優れ、その上、耐熱性にも優れるという点については、未だ検討の余地がある。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、誘電特性に優れ、かつ、耐熱性にも優れる樹脂組成物、並びに、当該樹脂組成物を用いたプリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、シアン酸エステル化合物と、ポリブタジエンと、マレイミド化合物とを組み合わせて用いることにより、上記課題を解決し得ることを見出して、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔1〕
(i)シアン酸エステル化合物(A)とポリブタジエン(B)との反応物、及び/又は(ii)当該シアン酸エステル化合物(A)の重合物と当該ポリブタジエン(B)との反応物と、
マレイミド化合物(C)と、
を含有する、樹脂組成物。
[2]
シアン酸エステル化合物(A)が、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールE型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールF型シアン酸エステル化合物及びノボラック型シアン酸エステル化合物からなる群より選択される少なくとも1種のシアン酸エステル化合物(A1)を含む、〔1〕に記載の樹脂組成物。
〔3〕
シアン酸エステル化合物(A)が、さらに、前記シアン酸エステル化合物(A1)以外のシアン酸エステル化合物(A2)を含む、〔2〕に記載の樹脂組成物。
〔4〕
前記シアン酸エステル化合物(A1)100質量部に対して、前記ポリブタジエン(B)が5〜30質量部である、〔2〕又は〔3〕に記載の樹脂組成物。
〔5〕
前記ポリブタジエン(B)が、1,2−付加体及び1,4−付加体を質量比1:3〜3:1の割合で含有する、〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の樹脂組成物。
〔6〕
前記シアン酸エステル化合物(A)の樹脂組成物中における含有量が、樹脂固形分100質量部に対し、1〜90質量部である、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
〔7〕
前記マレイミド化合物(C)が、2,2'−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物(C1)及び下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)からなる群より選択される少なくとも1種を含有する、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
Figure 2018139368
(式(1−1)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは、1以上の整数を表す。)
Figure 2018139368
(上記一般式(1−2)中、複数存在するRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表し、nは、平均値であり、1<n≦5を表す。)
〔8〕
前記マレイミド化合物(C)が、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物(C1)及び下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)からなる群より選択される少なくとも1種を含有する、〔1〕〜〔7〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
Figure 2018139368
(式(1−1)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは、1以上の整数を表す。)
Figure 2018139368
(上記一般式(1−2)中、複数存在するRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表し、nは、平均値であり、1<n≦5を表す。)
〔9〕
さらに、充填材(D)を含有する、〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
〔10〕
前記充填材(D)の樹脂組成物における含有量が、樹脂固形分100質量部に対し、50〜1600質量部である、〔9〕に記載の樹脂組成物。
〔11〕
さらに、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、重合可能な不飽和基を有する化合物から選択される群のうち、いずれか1種類以上を含有する、〔1〕〜〔10〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
〔12〕
基材と、
前記基材に含浸又は塗布された、〔1〕〜〔11〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物と、
を有する、プリプレグ。
〔13〕
少なくとも1枚以上積層された、〔12〕に記載のプリプレグと、
前記プリプレグの片面又は両面に配された金属箔と、
を有する、金属箔張積層板。
〔14〕
〔1〕〜〔11〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物を有する、樹脂シート。
〔15〕
絶縁層と、
前記絶縁層の表面に形成された導体層と、
を有し、
前記絶縁層が、〔1〕〜〔11〕のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含む、プリント配線板。
本発明によれば、誘電特性に優れ、かつ、耐熱性にも優れる、樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート、並びにプリント配線板を提供することができる。
以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
本実施形態の樹脂組成物は、(i)シアン酸エステル化合物(A)とポリブタジエン(B)との反応物、及び/又は(ii)当該シアン酸エステル化合物(A)の重合物と当該ポリブタジエン(B)との反応物を含有する。さらに、本実施形態の樹脂組成物は、マレイミド化合物(C)を含有する。このように構成されているため、本実施形態の樹脂組成物は、誘電特性に優れ、かつ、耐熱性にも優れる。
以下、本実施形態の樹脂組成物を構成する各成分について説明する。
〔シアン酸エステル化合物(A)〕
シアン酸エステル化合物(A)としては、シアナト基(シアン酸エステル基)で少なくとも1個置換された芳香族部分を分子内に有する化合物であれば、特に限定されない。シアン酸エステル化合物(A)を用いた樹脂組成物は、硬化物とした際に、ガラス転移温度、低熱膨張性、めっき密着性等に優れた特性を有する。
シアン酸エステル化合物(A)の例としては、以下に限定されないが、下記式(2)で表されるものが挙げられる。
Figure 2018139368
上記式(2)中、Arは、ベンゼン環、ナフタレン環又は2つのベンゼン環が単結合したものを表す。複数ある場合は互いに同一であっても異なっていてもよい。Raは各々独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜4のアルコキシル基、炭素数1〜6のアルキル基と炭素数6〜12のアリール基とが結合された基を示す。Raにおける芳香環は置換基を有していてもよく、Ar及びRaにおける置換基は任意の位置を選択できる。pはArに結合するシアナト基の数を示し、各々独立に1〜3の整数である。qはArに結合するRaの数を示し、Arがベンゼン環のときは4−p、ナフタレン環のときは6−p、2つのベンゼン環が単結合したもののときは8−pである。tは平均繰り返し数を示し、0〜50の範囲であり、他のシアン酸エステル化合物は、tが異なる化合物の混合物であってもよい。Xは、複数ある場合は各々独立に、単結合、炭素数1〜50の2価の有機基(水素原子がヘテロ原子に置換されていてもよい。)、窒素数1〜10の2価の有機基(例えば−N−R−N−(ここでRは有機基を示す。))、カルボニル基(−CO−)、カルボキシ基(−C(=O)O−)、カルボニルジオキサイド基(−OC(=O)O−)、スルホニル基(−SO−)、2価の硫黄原子又は2価の酸素原子のいずれかを示す。
上記式(2)のRaにおけるアルキル基は、直鎖もしくは分枝の鎖状構造、及び、環状構造(例えばシクロアルキル基等)のいずれを有していてもよい。
また、式(2)におけるアルキル基及びRaにおけるアリール基中の水素原子は、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、フェノキシ基等のアルコキシル基、又はシアノ基等で置換されていてもよい。
アルキル基の具体例としては、以下に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−エチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、以下に限定されないが、フェニル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、フェノキシフェニル基、エチルフェニル基、o−,m−又はp−フルオロフェニル基、ジクロロフェニル基、ジシアノフェニル基、トリフルオロフェニル基、メトキシフェニル基、及びo−,m−又はp−トリル基等が挙げられる。
アルコキシル基としては、以下に限定されないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、及びtert−ブトキシ基が挙げられる。
上記式(2)のXにおける炭素数1〜50の2価の有機基の具体例としては、以下に限定されないが、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、トリメチルシクロヘキシレン基、ビフェニルイルメチレン基、ジメチルメチレン−フェニレン−ジメチルメチレン基、フルオレンジイル基、及びフタリドジイル基等が挙げられる。該2価の有機基中の水素原子は、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、フェノキシ基等のアルコキシル基、シアノ基等で置換されていてもよい。
上記式(2)のXにおける窒素数1〜10の2価の有機基の例としては、以下に限定されないが、イミノ基、ポリイミド基等が挙げられる。
また、上記式(2)中のXの有機基として、例えば、下記式(3)又は下記式(4)で表される構造であるものが挙げられる。
Figure 2018139368
(上記式(3)中、Arはベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基又はビフェニルテトライル基を示し、uが2以上の場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rb、Rc、Rf、及びRgは各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、トリフルオロメチル基、又はフェノール性ヒドロキシ基を少なくとも1個有するアリール基を示す。Rd及び、Reは各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜4のアルコキシル基、又はヒドロキシ基のいずれか一種から選択される。uは0〜5の整数を示す。)
Figure 2018139368
(上記式(4)中、Arはベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基又はビフェニルテトライル基を示し、vが2以上の場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ri、及びRjは各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、ベンジル基、炭素数1〜4のアルコキシル基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、又はシアナト基が少なくとも1個置換されたアリール基を示す。vは0〜5の整数を示すが、vが異なる化合物の混合物であってもよい。)
さらに、式(2)中のXとしては、下記式で表される2価の基が挙げられる。
Figure 2018139368
(上記式中、zは4〜7の整数を示す。Rkは各々独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。)
式(3)のAr及び式(4)のArの具体例としては、式(3)に示す2個の炭素原子、又は式(4)に示す2個の酸素原子が、1,4位又は1,3位に結合するベンゼンテトライル基、上記2個の炭素原子又は2個の酸素原子が4,4'位、2,4'位、2,2'位、2,3'位、3,3'位、又は3,4'位に結合するビフェニルテトライル基、及び、上記2個の炭素原子又は2個の酸素原子が、2,6位、1,5位、1,6位、1,8位、1,3位、1,4位、又は2,7位に結合するナフタレンテトライル基が挙げられる。
式(3)のRb、Rc、Rd、Re、Rf及びRg、並びに式(4)のRi、Rjにおけるアルキル基及びアリール基は、上記式(2)におけるものと同義である。
上記式(2)で表されるシアナト置換芳香族化合物の具体例としては、以下に限定されないが、シアナトベンゼン、1−シアナト−2−,1−シアナト−3−,又は1−シアナト−4−メチルベンゼン、1−シアナト−2−,1−シアナト−3−,又は1−シアナト−4−メトキシベンゼン、1−シアナト−2,3−,1−シアナト−2,4−,1−シアナト−2,5−,1−シアナト−2,6−,1−シアナト−3,4−又は1−シアナト−3,5−ジメチルベンゼン、シアナトエチルベンゼン、シアナトブチルベンゼン、シアナトオクチルベンゼン、シアナトノニルベンゼン、2−(4−シアナフェニル)−2−フェニルプロパン(4−α−クミルフェノールのシアネート)、1−シアナト−4−シクロヘキシルベンゼン、1−シアナト−4−ビニルベンゼン、1−シアナト−2−又は1−シアナト−3−クロロベンゼン、1−シアナト−2,6−ジクロロベンゼン、1−シアナト−2−メチル−3−クロロベンゼン、シアナトニトロベンゼン、1−シアナト−4−ニトロ−2−エチルベンゼン、1−シアナト−2−メトキシ−4−アリルベンゼン(オイゲノールのシアネート)、メチル(4−シアナトフェニル)スルフィド、1−シアナト−3−トリフルオロメチルベンゼン、4−シアナトビフェニル、1−シアナト−2−又は1−シアナト−4−アセチルベンゼン、4−シアナトベンズアルデヒド、4−シアナト安息香酸メチルエステル、4−シアナト安息香酸フェニルエステル、1−シアナト−4−アセトアミノベンゼン、4−シアナトベンゾフェノン、1−シアナト−2,6−ジ−tert−ブチルベンゼン、1,2−ジシアナトベンゼン、1,3−ジシアナトベンゼン、1,4−ジシアナトベンゼン、1,4−ジシアナト−2−tert−ブチルベンゼン、1,4−ジシアナト−2,4−ジメチルベンゼン、1,4−ジシアナト−2,3,4−ジメチルベンゼン、1,3−ジシアナト−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,3−ジシアナト−5−メチルベンゼン、1−シアナト又は2−シアナトナフタレン、1−シアナト4−メトキシナフタレン、2−シアナト−6−メチルナフタレン、2−シアナト−7−メトキシナフタレン、2,2'−ジシアナト−1,1'−ビナフチル、1,3−,1,4−,1,5−,1,6−,1,7−,2,3−,2,6−又は2,7−ジシアナトシナフタレン、2,2'−又は4,4'−ジシアナトビフェニル、4,4'−ジシアナトオクタフルオロビフェニル、2,4'−又は4,4'−ジシアナトジフェニルメタン、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)エタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−シアナト−5−ビフェニルイル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)イソブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ペンタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジメチルプロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−3,3−ジメチルブタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)ヘプタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)オクタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルペンタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジメチルペンタン、4,4−ビス(4−シアナトフェニル)−3−メチルヘプタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルヘプタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジメチルヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,4−ジメチルヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2,4−トリメチルペンタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−シアナトフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−シアナトフェニル)ビフェニルメタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−シアナト−3−イソプロピルフェニル)プロパン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−シアナトフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−シアナトフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジクロロエチレン、1,3−ビス[2−(4−シアナトフェニル)−2−プロピル]ベンゼン、1,4−ビス[2−(4−シアナトフェニル)−2−プロピル]ベンゼン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、4−[ビス(4−シアナトフェニル)メチル]ビフェニル、4,4−ジシアナトベンゾフェノン、1,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−プロペン−1−オン、ビス(4−シアナトフェニル)エーテル、ビス(4−シアナトフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナトフェニル)スルホン、4−シアナト安息香酸−4−シアナトフェニルエステル(4−シアナトフェニル−4−シアナトベンゾエート)、ビス−(4−シアナトフェニル)カーボネート、1,3−ビス(4−シアナトフェニル)アダマンタン、1,3−ビス(4−シアナトフェニル)−5,7−ジメチルアダマンタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)イソベンゾフラン−1(3H)−オン(フェノールフタレインのシアネート)、3,3−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)イソベンゾフラン−1(3H)−オン(o−クレゾールフタレインのシアネート)、9,9'−ビス(4−シアナトフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−シアナト−5−ビフェニルイル)フルオレン、トリス(4−シアナトフェニル)メタン、1,1,1−トリス(4−シアナトフェニル)エタン、1,1,3−トリス(4−シアナトフェニル)プロパン、α,α,α'−トリス(4−シアナトフェニル)−1−エチル−4−イソプロピルベンゼン、1,1,2,2−テトラキス(4−シアナトフェニル)エタン、テトラキス(4−シアナトフェニル)メタン、2,4,6−トリス(N−メチル−4−シアナトアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(N−メチル−4−シアナトアニリノ)−6−(N−メチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、ビス(N−4−シアナト−2−メチルフェニル)−4,4'−オキシジフタルイミド、ビス(N−3−シアナト−4−メチルフェニル)−4,4'−オキシジフタルイミド、ビス(N−4−シアナトフェニル)−4,4'−オキシジフタルイミド、ビス(N−4−シアナト−2−メチルフェニル)−4,4'−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタルイミド、トリス(3,5−ジメチル−4−シアナトベンジル)イソシアヌレート、2−フェニル−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)フタルイミジン、2−(4−メチルフェニル)−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)フタルイミジン、2−フェニル−3,3−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)フタルイミジン、1−メチル−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)インドリン−2−オン、及び、2−フェニル−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)インドリン−2−オンが挙げられる。
また、上記式(2)で表される化合物の別の具体例としては、以下に限定されないが、フェノールノボラック樹脂及びクレゾールノボラック樹脂(公知の方法により、フェノール、アルキル置換フェノール又はハロゲン置換フェノールと、ホルマリンやパラホルムアルデヒドなどのホルムアルデヒド化合物とを、酸性溶液中で反応させたもの)、トリスフェノールノボラック樹脂(ヒドロキシベンズアルデヒドとフェノールとを酸性触媒の存在下に反応させたもの)、フルオレンノボラック樹脂(フルオレノン化合物と9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類を酸性触媒の存在下に反応させたもの)、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂及びビフェニルアラルキル樹脂(公知の方法により、Ar−(CHY)(Arはフェニル基を示し、Yはハロゲン原子を示す。以下、この段落において同様。)で表されるようなビスハロゲノメチル化合物とフェノール化合物とを酸性触媒若しくは無触媒で反応させたもの、Ar−(CHOR)で表されるようなビス(アルコキシメチル)化合物とフェノール化合物とを酸性触媒の存在下に反応させたもの、又は、Ar−(CHOH)で表されるようなビス(ヒドロキシメチル)化合物とフェノール化合物を酸性触媒の存在下に反応させたもの、あるいは、芳香族アルデヒド化合物とアラルキル化合物とフェノール化合物とを重縮合させたもの)、フェノール変性キシレンホルムアルデヒド樹脂(公知の方法により、キシレンホルムアルデヒド樹脂とフェノール化合物とを酸性触媒の存在下に反応させたもの)、変性ナフタレンホルムアルデヒド樹脂(公知の方法により、ナフタレンホルムアルデヒド樹脂とヒドロキシ置換芳香族化合物を酸性触媒の存在下に反応させたもの)、フェノール変性ジシクロペンタジエン樹脂、ポリナフチレンエーテル構造を有するフェノール樹脂(公知の方法により、フェノール性ヒドロキシ基を1分子中に2つ以上有する多価ヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性触媒の存在下に脱水縮合させたもの)等のフェノール樹脂を、上述と同様の方法によりシアネート化したもの等、並びにこれらのプレポリマー等が挙げられる。
上記したシアン酸エステル化合物(A)は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
上述したシアン酸エステル化合物(A)の中でも、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールE型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールF型シアン酸エステル化合物及びノボラック型シアン酸エステル化合物が好ましく、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物がとりわけ好ましい。すなわち、本実施形態において、シアン酸エステル化合物(A)が、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールE型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールF型シアン酸エステル化合物及びノボラック型シアン酸エステル化合物からなる群より選択される少なくとも1種のシアン酸エステル化合物(A1)を含むことが好ましい。
本明細書中、シアン酸エステル化合物(A1)以外のシアン酸エステル化合物を、「シアン酸エステル化合物(A2)」とも称する。本実施形態においては、シアン酸エステル化合物(A)が、シアン酸エステル化合物(A1)に加え、シアン酸エステル化合物(A2)を含むことが好ましい。
シアン酸エステル化合物(A)の含有量は、所望する特性に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、熱膨張係数がより低い硬化物を得る観点から、樹脂固形分100質量部に対し、1〜90質量部が好ましく、より好ましくは30〜70質量部であり、さらに好ましくは40〜60質量部である。
なお、本実施形態において、「樹脂固形分」とは、特に断りのない限り、本実施形態の樹脂組成物における、溶剤及び充填材を除いた成分をいい、「樹脂固形分100質量部」とは、本実施形態の樹脂組成物における溶剤及び充填材を除いた成分の合計が100質量部であることをいうものとする。
〔ポリブタジエン(B)〕
本実施形態で用いるポリブタジエン(B)は、その極性の低さゆえ、誘電特性の向上に寄与するものと考えられる。本実施形態においては、誘電特性を十分に低くする観点から、非変性のポリブタジエン(B)を用いる。本実施形態において、「非変性ポリブタジエン」とは、極性基により変性されていないポリブタジエンを意味する。ここで、極性基とは、誘電特性に影響を及ぼす官能基であり、例えば、フェノール基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。ポリブタジエン(B)としては、特に限定されず、例えば、1,2−ポリブタジエンや1,4−ポリブタジエン等を用いることができる。
また、ポリブタジエン(B)として、重合体鎖中のブタジエン単位の50%以上が1,2−結合であるブタジエンのホモポリマー及びその誘導体を用いることもできる。そのようなポリブタジエン(B)の具体例としては、以下に限定されないが、日本曹達(株)から市販されているNISSO PB B−1000,同B−2000,同B−3000,同G−1000,同G−2000,同G−3000,同C−1000等、及びそれらの誘導体であるGI−1000、GI−3000 (以上水素添加変性体)等が挙げられる。
本実施形態においては、より良好な誘電特性を発現する観点から、ポリブタジエン(B)が、1,2−付加体及び1,4−付加体を質量比1:3〜3:1の割合で含有することが好ましい。また、特に良好な誘電特性を発現する観点から、上記質量比を1:1〜3:1とすることがより好ましく、さらに好ましくは1:1〜2:1である。
本実施形態において、「1,2−付加体及び1,4−付加体を質量比1:3〜3:1の割合で含有する」とは、ポリブタジエン(B)の分子構造において、分岐状の構成成分(1,2−付加由来)の量と直鎖状の構成成分(1,4−付加由来)の量とが質量比として、1:3〜3:1であることを意味する。
本実施形態において、より良好な誘電特性及び耐熱性を発現する観点から、シアン酸エステル化合物(A1)100質量部に対して、ポリブタジエン(B)が5〜30質量部であることが好ましく、より好ましくは15〜30質量部であり、さらに好ましくは20〜30質量部である。
[樹脂組成物中のシアン酸エステル化合物(A)及びポリブタジエン(B)]
本実施形態の樹脂組成物中におけるシアン酸エステル化合物(A)及びポリブタジエン(B)の存在状態は、シアン酸エステル化合物(A)及びポリブタジエン(B)の単なる混合物とは異なるものであり、(i)シアン酸エステル化合物(A)とポリブタジエン(B)との反応物、及び/又は(ii)当該シアン酸エステル化合物(A)の重合物と当該ポリブタジエン(B)との反応物を含むものであれば特に限定されない。このようなシアン酸エステル化合物(A)及びポリブタジエン(B)を含むものの具体例としては、以下に限定されないが、ロンザ社製のULL−950S等が挙げられる。
上記(i)の反応物は、以下に限定されないが、例えば、シアン酸エステル化合物(A)及びポリブタジエン(B)を混合した後、種々公知のラジカル開始剤を用いて熱重合を行うこと等により得ることができる。
上記(ii)の反応物は、以下に限定されないが、例えば、シアン酸エステル化合物(A)を熱重合等して重合物とし、当該重合物及びポリブタジエン(B)を混合した後、上記と同様にラジカル開始剤を用いて熱重合を行うこと等により得ることができる。
樹脂組成物中のシアン酸エステル化合物(A)及びポリブタジエン(B)の存在状態は、核磁気共鳴法、紫外可視分光法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ等により確認することができる。
本実施形態において、上記(i)及び/又は(ii)を用いることで、シアン酸エステル化合物(A)とポリブタジエン(B)との単なる混合物を用いた場合と比較して、各成分同士の相溶性が向上し、結果として特に誘電特性及び耐熱性のバランスが良好なものとなると考えられる。
〔マレイミド化合物(C)〕
マレイミド化合物(C)としては、分子中に1個以上のマレイミド基を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、N−フェニルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5−ジエチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物、下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)、これらマレイミド化合物のプレポリマー、若しくはマレイミド化合物とアミン化合物のプレポリマーが挙げられる。これらの中でも、2,2'−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物(C1)及び下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。このようなマレイミド化合物(C)を含むことにより、得られる硬化物の熱膨張率がより低下し、ガラス転移温度がより優れたものとなる傾向にある。同様の観点から、マレイミド化合物(C)が、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物(C1)及び下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)からなる群より選択される少なくとも1種を含有することがより好ましい。
Figure 2018139368
ここで、式(1−1)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を示し、好ましくは水素原子を示す。また、式(1−1)中、nは、1以上の整数を表し、好ましくは10以下の整数であり、より好ましくは7以下の整数である。
Figure 2018139368
上記式(1−2)中、複数存在するRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等)、又はフェニル基を表す。これらの中でも、耐燃性及びピール強度をより一層向上する観点から、水素原子、メチル基、及びフェニル基からなる群より選択される基であることが好ましく、水素原子及びメチル基の一方であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
上記式(1−2)中、nは、平均値であり、1<n≦5を示す。nは、溶剤溶解性がより一層優れる観点から、4以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましく、2以下であることがさらに好ましい。
上記式(1−2)で表されるポリマレイミド化合物は、公知の方法で調製してもよく、市販品を用いてもよい。市販品としては、以下に限定されないが、例えば、日本化薬株式会社製品「MIR−3000」が挙げられる。
本実施形態におけるマレイミド化合物(C)の含有量は、樹脂固形分100質量部に対して、好ましくは10〜70質量部であり、より好ましくは20〜60質量部であり、更に好ましくは25〜50質量部であり、特に好ましくは35〜50質量部である。マレイミド化合物(C)の含有量が上記範囲内であることにより、得られる硬化物の熱膨張率がより低下し、耐熱性がより向上する傾向にある。
〔充填材(D)〕
本実施形態の樹脂組成物は、熱膨張特性、寸法安定性、難燃性などの観点から、充填材(D)をさらに含有することが好ましい。充填材(D)としては、公知のものを適宜使用することができ、その種類は特に限定されない。特に、積層板用途において一般に使用されている充填材を、充填材(D)として好適に用いることができる。充填材(D)の具体例としては、天然シリカ、溶融シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、アエロジル、中空シリカ等のシリカ類、ホワイトカーボン、チタンホワイト、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等の酸化物、窒化ホウ素、凝集窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム加熱処理品(水酸化アルミニウムを加熱処理し、結晶水の一部を減じたもの)、ベーマイト、水酸化マグネシウム等の金属水和物、酸化モリブデンやモリブデン酸亜鉛等のモリブデン化合物、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、アルミナ、クレー、カオリン、タルク、焼成クレー、焼成カオリン、焼成タルク、マイカ、E−ガラス、A−ガラス、NE−ガラス、C−ガラス、L−ガラス、D−ガラス、S−ガラス、M−ガラスG20、ガラス短繊維(Eガラス、Tガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等のガラス微粉末類を含む。)、中空ガラス、球状ガラスなど無機系の充填材の他、スチレン型、ブタジエン型、アクリル型などのゴムパウダー、コアシェル型のゴムパウダー、並びにシリコーンレジンパウダー、シリコーンゴムパウダー、シリコーン複合パウダーなど有機系の充填材などが挙げられる。これらの充填材は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、シリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、酸化マグネシウム及び水酸化マグネシウムからなる群から選択される1種又は2種以上が好適である。これらの充填材を使用することで、樹脂組成物の熱膨張特性、寸法安定性、難燃性などの特性がより向上する傾向にある。
本実施形態の樹脂組成物における充填材(D)の含有量は、所望する特性に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、樹脂組成物の成形性の観点から、樹脂固形分を100質量部とした場合、50〜1600質量部とすることが好ましく、より好ましくは50〜750質量部であり、さらに好ましくは50〜300質量部であり、特に好ましくは50〜200質量部である。
ここで充填材(D)を樹脂組成物に含有させるにあたり、シランカップリング剤や湿潤分散剤を併用することが好ましい。シランカップリング剤としては、一般に無機物の表面処理に用いられるものを好適に用いることができ、その種類は特に限定されない。シランカップリング剤として、具体的には、以下に限定されないが、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシランなどのアミノシラン系、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシシラン系、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルートリ(β−メトキシエトキシ)シランなどのビニルシラン系、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩などのカチオニックシラン系、並びにフェニルシラン系が挙げられる。シランカップリング剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、湿潤分散剤としては、一般に塗料用に用いられているものを好適に用いることができ、その種類は特に限定されない。湿潤分散剤としては、好ましくは、共重合体ベースの湿潤分散剤が用いられ、市販品であってもよい。市販品の具体例としては、以下に限定されないが、ビックケミー・ジャパン(株)製のDisperbyk−110、111、161、180、BYK−W996、BYK−W9010、BYK−W903、BYK−W940などが挙げられる。湿潤分散剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
〔その他の成分〕
さらに、本実施形態の樹脂組成物においては、所期の特性が損なわれない範囲において、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、重合可能な不飽和基を有する化合物等をさらに含有していてもよい。これらを併用することで、樹脂組成物を硬化して得られる硬化物の難燃性、低誘電性などの所望する特性が向上する傾向にある。
(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば、一般に公知のものを用いることができ、その種類は特に限定されない。その具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、キシレンノボラック型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格変性ノボラック型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、3官能フェノール型エポキシ樹脂、4官能フェノール型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキルノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキルノボラック型エポキシ樹脂、アラルキルノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ポリオール型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、グリシジルアミン、ブタジエンなどの二重結合をエポキシ化した化合物、水酸基含有シリコーン樹脂類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる化合物、或いはこれらのハロゲン化物等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
このなかでも、エポキシ樹脂が、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂からなる群より選択される一種以上であることが好ましい。このようなエポキシ樹脂を含むことにより、得られる硬化物の難燃性及び耐熱性がより向上する傾向にある。
(フェノール樹脂)
フェノール樹脂としては、1分子中に2個以上のヒドロキシ基を有するフェノール樹脂であれば、一般に公知のものを使用できる。その具体例としては、ビスフェノールA型フェノール樹脂、ビスフェノールE型フェノール樹脂、ビスフェノールF型フェノール樹脂、ビスフェノールS型フェノール樹脂、フェノールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック型フェノール樹脂、グリシジルエステル型フェノール樹脂、アラルキルノボラック型フェノール樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、クレゾールノボラック型フェノール樹脂、多官能フェノール樹脂、ナフトール樹脂、ナフトールノボラック樹脂、多官能ナフトール樹脂、アントラセン型フェノール樹脂、ナフタレン骨格変性ノボラック型フェノール樹脂、フェノールアラルキル型フェノール樹脂、ナフトールアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、ビフェニル型フェノール樹脂、脂環式フェノール樹脂、ポリオール型フェノール樹脂、リン含有フェノール樹脂、水酸基含有シリコーン樹脂類等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのフェノール樹脂の中では、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、ナフトールアラルキル型フェノール樹脂、リン含有フェノール樹脂、水酸基含有シリコーン樹脂が難燃性の点で好ましい。これらのフェノール樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(オキセタン樹脂)
オキセタン樹脂としては、一般に公知のものを使用できる。例えば、オキセタン、2−メチルオキセタン、2,2−ジメチルオキセタン、3−メチルオキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等のアルキルオキセタン、3−メチル−3−メトキシメチルオキセタン、3,3−ジ(トリフルオロメチル)パーフルオキセタン、2−クロロメチルオキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、ビフェニル型オキセタン、OXT−101(東亞合成製商品名)、OXT−121(東亞合成製商品名)等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのオキセタン樹脂は、1種又は2種以上混合して用いることができる。
(ベンゾオキサジン化合物)
ベンゾオキサジン化合物としては、1分子中に2個以上のジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物であれば、一般に公知のものを用いることができる。例えば、ビスフェノールA型ベンゾオキサジンBA−BXZ(小西化学製商品名)ビスフェノールF型ベンゾオキサジンBF−BXZ(小西化学製商品名)、ビスフェノールS型ベンゾオキサジンBS−BXZ(小西化学製商品名)、P−d型ベンゾオキサジン(四国化成工業製商品名)、F−a型ベンゾオキサジン(四国化成工業製商品名)等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのベンゾオキサジン化合物は、1種又は2種以上混合して用いることができる。
(重合可能な不飽和基を有する化合物)
重合可能な不飽和基を有する化合物としては、一般に公知のものを使用できる。例えば、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のビニル化合物、メチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の1価又は多価アルコールの(メタ)アクリレート類、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート類、及びベンゾシクロブテン樹脂、が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらの不飽和基を有する化合物は、1種又は2種以上混合して用いることができる。なお、上記「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びそれに対応するメタクリレートを包含する概念である。
(硬化促進剤)
また、本実施形態の樹脂組成物は、必要に応じて、硬化速度を適宜調節するための硬化促進剤を含有していてもよい。この硬化促進剤としては、シアン酸エステル化合物やエポキシ樹脂等の硬化促進剤として一般に使用されているものを好適に用いることができ、その種類は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、アセチルアセトン鉄、オクチル酸ニッケル、オクチル酸マンガン等の有機金属塩類、フェノール、キシレノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、オクチルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール化合物、1−ブタノール、2−エチルヘキサノール等のアルコール類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらのイミダゾール類のカルボン酸若しくはその酸無水類の付加体等の誘導体、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4−メチル−N,N−ジメチルベンジルアミン等のアミン類、ホスフィン系化合物、ホスフィンオキサイド系化合物、ホスホニウム塩系化合物、ダイホスフィン系化合物等のリン化合物、エポキシ−イミダゾールアダクト系化合物、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシカーボネート等の過酸化物、又はアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、N,N-ジメチルアミノピリジンが挙げられる。硬化促進剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
硬化促進剤の使用量は、樹脂の硬化度や樹脂組成物の粘度等を考慮して適宜調整でき、特に限定されない。硬化促進剤の使用量は、樹脂組成物中の樹脂固形分を100質量部に対し、0.005〜10質量部であってもよい。
(他の添加剤)
さらに、本実施形態の樹脂組成物は、所期の特性が損なわれない範囲において、他の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及びそのオリゴマー、エラストマー類などの種々の高分子化合物、難燃性化合物、並びに各種添加剤等を併用することができる。これらは一般に使用されているものであれば、特に限定されるものではない。難燃性化合物の具体例としては、以下に限定されないが、4,4'−ジブロモビフェニル等の臭素化合物、リン酸エステル、リン酸メラミン、リン含有エポキシ樹脂、メラミン及びベンゾグアナミンなどの窒素化合物、オキサジン環含有化合物、並びに、シリコーン系化合物等が挙げられる。また、各種添加剤としては、以下に限定されないが、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光重合開始剤、蛍光増白剤、光増感剤、染料、顔料、増粘剤、流動調整剤、滑剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤等が挙げられる。これらは、所望に応じて1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(有機溶剤)
なお、本実施形態の樹脂組成物は、必要に応じて、有機溶剤を含有することができる。この場合、本実施形態の樹脂組成物は、上述した各種樹脂成分の少なくとも一部、好ましくは全部が有機溶剤に溶解又は相溶した態様(溶液又はワニス)として用いることができる。有機溶剤としては、上述した各種樹脂成分の少なくとも一部、好ましくは全部を溶解又は相溶可能なものであれば、公知のものを適宜用いることができ、その種類は特に限定されるものではない。有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ系溶媒、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステル系溶媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類などの極性溶剤類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等の無極性溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施形態の樹脂組成物は、常法にしたがって調製することができ、シアン酸エステル化合物(A)、ポリブタジエン(B)、マレイミド化合物(C)及び上述したその他の任意成分を均一に含有する樹脂組成物が得られる方法であれば、その調製方法は特に限定されない。例えば、シアン酸エステル化合物(A)、ポリブタジエン(B)、マレイミド化合物(C)及び上述したその他の任意成分を順次溶剤に配合し、十分に撹拌することで本実施形態の樹脂組成物を容易に調製することができる。
なお、樹脂組成物の調製時に、各成分を均一に溶解或いは分散させるための公知の処理(撹拌、混合、混練処理など)を行うことができる。例えば、充填材(D)の均一分散にあたり、適切な撹拌能力を有する撹拌機を付設した撹拌槽を用いて撹拌分散処理を行うことで、樹脂組成物に対する分散性が高められる。上記の撹拌、混合、混練処理は、例えば、ボールミル、ビーズミルなどの混合を目的とした装置、または、公転・自転型の混合装置などの公知の装置を用いて適宜行うことができる。
本実施形態の樹脂組成物は、プリプレグ、金属箔張積層板、プリント配線板、及び半導体パッケージの構成材料として用いることができる。例えば、本実施形態の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を基材に含浸又は塗布し乾燥することでプリプレグを得ることができる。
また、基材として剥離可能なプラスチックフィルムを用い、本実施形態の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を、そのプラスチックフィルムに塗布し乾燥することでビルドアップ用フィルム又はドライフィルムソルダーレジストを得ることができる。ここで、溶剤は、20℃〜150℃の温度で1〜90分間乾燥することで乾燥できる。
また、本実施形態の樹脂組成物は溶剤を乾燥しただけの未硬化の状態で使用することもできるし、必要に応じて半硬化(Bステージ化)の状態にして使用することもできる。
以下、本実施形態のプリプレグについて詳述する。本実施形態のプリプレグは、基材と、該基材に含浸又は塗布された上記樹脂組成物とを有するものである。本実施形態のプリプレグの製造方法は、本実施形態の樹脂組成物と基材とを組み合わせてプリプレグを製造する方法であれば、特に限定されない。具体的には、本実施形態の樹脂組成物を基材に含浸又は塗布させた後、120〜220℃の乾燥機中で、2〜15分程度乾燥させる方法等によって半硬化させることで、本実施形態のプリプレグを製造することができる。このとき、基材に対する樹脂組成物の付着量、すなわち半硬化後のプリプレグの総量に対する樹脂組成物の含有量(充填材(D)を含む。)は、20〜99質量%の範囲であることが好ましい。
本実施形態のプリプレグを製造する際に用いられる基材としては、各種プリント配線板材料に用いられている公知のものであってもよい。そのような基材としては、例えば、Eガラス、Dガラス、Lガラス、Sガラス、Tガラス、Qガラス、UNガラス、NEガラス、球状ガラス等のガラス繊維、クォーツ等のガラス以外の無機繊維、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の有機繊維、液晶ポリエステル等の織布が挙げられるが、これらに特に限定されるものではない。基材の形状としては、織布、不織布、ロービング、チョップドストランドマット、及びサーフェシングマット等が知られており、これらのいずれであってもよい。基材は、1種を単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。織布の中では、特に超開繊処理や目詰め処理を施した織布が、寸法安定性の観点から好適である。さらに、エポキシシラン処理、又はアミノシラン処理などのシランカップリング剤などで表面処理したガラス織布は吸湿耐熱性の観点から好ましい。また、液晶ポリエステル織布は、電気特性の面から好ましい。さらに、基材の厚さは、特に限定されないが、積層板用途であれば、0.01〜0.2mmの範囲が好ましい。
本実施形態の金属箔張積層板は、少なくとも1枚以上積層された上述のプリプレグと、そのプリプレグの片面又は両面に配された金属箔とを有するものである。具体的には、前述のプリプレグ1枚に対して、又はプリプレグを複数枚重ねたものに対して、その片面又は両面に銅やアルミニウムなどの金属箔を配置して、積層成形することにより作製することができる。ここで用いられる金属箔は、プリント配線板材料に用いられているものであれば、特に限定されないが、圧延銅箔及び解銅箔等の銅箔が好ましい。また、金属箔の厚さは、特に限定されないが、2〜70μmであると好ましく、3〜35μmであるとより好ましい。成形条件としては、通常のプリント配線板用積層板及び多層板の作製時に用いられる手法を採用できる。例えば、多段プレス機、多段真空プレス機、連続成形機、又はオートクレーブ成形機などを用い、温度180〜350℃、加熱時間100〜300分、面圧20〜100kg/cmの条件で積層成形することにより本実施形態の金属箔張積層板を製造することができる。また、上記のプリプレグと、別途作製した内層用の配線板とを組み合わせて積層成形することにより、多層板を作製することもできる。多層板の製造方法としては、例えば、上述したプリプレグ1枚の両面に35μmの銅箔を配置し、上記条件にて積層形成した後、内層回路を形成し、この回路に黒化処理を実施して内層回路板を形成する。さらに、この内層回路板と上記のプリプレグとを交互に1枚ずつ配置し、さらに最外層に銅箔を配置して、上記条件にて好ましくは真空下で積層成形する。こうして、多層板を作製することができる。
本実施形態の金属箔張積層板は、更にパターン形成することにより、プリント配線板として好適に用いることができる。プリント配線板は、常法に従って製造することができ、その製造方法は特に限定されない。以下、プリント配線板の製造方法の一例を示す。まず、上述した金属箔張積層板を用意する。次に、金属箔張積層板の表面にエッチング処理を施して内層回路を形成することにより、内層基板を作製する。この内層基板の内層回路表面に、必要に応じて接着強度を高めるための表面処理を施し、次いで、その内層回路表面に上述したプリプレグを所要枚数重ねる。さらに、その外側に外層回路用の金属箔を積層し、加熱加圧して一体成形する。このようにして、内層回路と外層回路用の金属箔との間に、基材及び熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層が形成された多層の積層板が製造される。次いで、この多層の積層板にスルーホールやバイアホール用の穴あけ加工を施した後、この穴の壁面に内層回路と外層回路用の金属箔とを導通させるめっき金属皮膜を形成する。さらに、外層回路用の金属箔にエッチング処理を施して外層回路を形成することで、プリント配線板が製造される。
上記の製造例で得られるプリント配線板は、絶縁層と、この絶縁層の表面に形成された導体層とを有し、絶縁層が上述した本実施形態の樹脂組成物を含む構成となる。すなわち、上述した本実施形態のプリプレグ(基材及びこれに含浸又は塗布された本実施形態の樹脂組成物)、上述した本実施形態の金属箔張積層板の樹脂組成物の層(本実施形態の樹脂組成物からなる層)が、本実施形態の樹脂組成物を含む絶縁層から構成されることになる。
本実施形態の樹脂シートは、支持体と、その支持体の表面に配された、上記樹脂組成物層(積層シート)とを指し、また支持体を取り除いた樹脂組成物層のみ(単層シート)も指す。すなわち、本実施形態の樹脂シートは、少なくとも、本実施形態の樹脂組成物を有するものである。この積層シートは、上記の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を支持体に塗布し乾燥することで得ることができる。ここで用いる支持体としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体フィルム、並びにこれらのフィルムの表面に離型剤を塗布した離型フィルム、ポリイミドフィルム等の有機系のフィルム基材、銅箔、アルミ箔等の導体箔、ガラス板、SUS板、FRP等の板状の無機系のフィルムが挙げられる。塗布方法としては、例えば、上記の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を、バーコーター、ダイコーター、ドクターブレード、ベーカーアプリケーター等で支持体上に塗布することで、支持体と樹脂組成物層が一体となった積層シートを作製する方法が挙げられる。また、塗布後、さらに乾燥して得られる樹脂シートから支持体を剥離又はエッチングすることで、単層シートを得ることもできる。なお、上記の本実施形態の樹脂組成物を溶剤に溶解又は相溶させた溶液を、シート状のキャビティを有する金型内に供給し乾燥する等してシート状に成形することで、支持体を用いることなく単層シートを得ることもできる。
なお、本実施形態の樹脂シート又は単層シートの作製において、溶剤を除去する際の乾燥条件は、特に限定されないが、20℃〜200℃の温度で1〜90分間乾燥させることが好ましい。20℃以上であると樹脂組成物中への溶剤の残存をより防止でき、200℃以下であると樹脂組成物の硬化の進行を抑制することができる。また、本実施形態の樹脂シート又は単層シートにおける樹脂層の厚さは、本実施形態の樹脂組成物の溶液の濃度と塗布厚さにより調整することができ、特に限定されない。ただし、その厚さは0.1〜500μmであると好ましい。樹脂層の厚さが500μm以下であると、乾燥時に溶剤が更に残り難くなる。
以下、本実施形態を実施例及び比較例を用いてより具体的に説明する。本実施形態は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
〔合成例1〕ナフトールアラルキル型シアン酸エステル樹脂(SNCN)の合成
1−ナフトールアラルキル樹脂(新日鉄住金化学(株)製)300g(OH基換算1.28mol)及びトリエチルアミン194.6g(1.92mol)(ヒドロキシ基1molに対して1.5mol)をジクロロメタン1800gに溶解させ、これを溶液1とした。
塩化シアン125.9g(2.05mol)(ヒドロキシ基1molに対して1.6mol)、ジクロロメタン293.8g、36%塩酸194.5g(1.92mol)(ヒドロキシ基1モルに対して1.5モル)、水1205.9gを、撹拌下、液温−2〜−0.5℃に保ちながら、溶液1を30分かけて注下した。溶液1注下終了後、同温度にて30分撹拌した後、トリエチルアミン65g(0.64mol)(ヒドロキシ基1molに対して0.5mol)をジクロロメタン65gに溶解させた溶液(溶液2)を10分かけて注下した。溶液2注下終了後、同温度にて30分撹拌して反応を完結させた。
その後反応液を静置して有機相と水相を分離した。得られた有機相を水1300gで5回洗浄した。水洗5回目の廃水の電気伝導度は5μS/cmであり、水による洗浄により、除けるイオン性化合物は十分に除けられたことを確認した。
水洗後の有機相を減圧下で濃縮し、最終的に90℃で1時間濃縮乾固させて目的とするナフトールアラルキル型のシアン酸エステル化合物(SNCN)(橙色粘性物)を331g得た。得られたSNCNの質量平均分子量Mwは600であった。また、SNCNのIRスペクトルは2250cm−1(シアン酸エステル基)の吸収を示し、且つ、ヒドロキシ基の吸収は示さなかった。
〔合成例2〕1,1−ビス(4−シアナトフェニル)エタン(ビスフェノールE型シアン酸エステル)の合成
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(東京化成工業株式会社製)300g(OH基換算2.80mol)及びトリエチルアミン283.4g(2.80mol)(ヒドロキシ基1モルに対して1.0モル)をジクロロメタン1800gに溶解させ、これを溶液3とした。
塩化シアン275.4g(4.48mol)(ヒドロキシ基1モルに対して1.6モル)、ジクロロメタン642.6g、36%塩酸425.4g(4.20mol)(ヒドロキシ基1モルに対して1.5モル)、水2637.6gを、撹拌下、液温−2〜−0.5℃に保ちながら、溶液3を60分かけて注下した。溶液3注下終了後、同温度にて30分撹拌した後、トリエチルアミン283.4g(2.80mol)(ヒドロキシ基1モルに対して1.0モル)をジクロロメタン283.4gに溶解させた溶液(溶液4)を30分かけて注下した。溶液4注下終了後、同温度にて30分撹拌して反応を完結させた。
その後反応液を静置して有機相と水相を分離した。得られた有機相を水1300gで5回洗浄した。水洗5回目の廃水の電気伝導度は20μS/cmであり、水による洗浄により、除けるイオン性化合物は十分に除けられたことを確認した。水洗後の有機相を減圧下で濃縮し、最終的に90℃で1時間濃縮乾固させて目的とするシアン酸エステル化合物を360g得た。得られたシアン酸エステル化合物の構造をNMRにて同定した。
H−NMR:(270MHz、クロロホルム−d、内部標準TMS)
δ(ppm)=1.62 (d,3H)、4.22(q,1H)、7.42(complex,8H)
(実施例1)
ビスフェノールA型シアン酸エステル82.7質量%及び非変性ポリブタジエン17.3質量%の反応物(ロンザ社製;ULL−950S;ポリブタジエン中、1,2−付加体を64質量%、1,4−付加体を36質量%含む。)50.0質量部、ノボラック型ビスマレイミド化合物(大和化成工業社製、BMI−2300)50.0質量部、エポキシシラン処理された溶融シリカ(SC2050MB、アドマテックス製)100.0質量部、オクチル酸亜鉛(日本化学産業(株)製)0.10質量部を混合して、メチルエチルケトンで希釈することでワニスを得た。
(比較例1)
ビスフェノールA型シアン酸エステル(三菱ガス化学(株)社製、商品名「CA210」)50.0質量部、ノボラック型ビスマレイミド化合物(大和化成工業社製、BMI−2300)50.0質量部、エポキシシラン処理された溶融シリカ(SC2050MB、アドマテックス製)100.0質量部、オクチル酸亜鉛(日本化学産業(株)製)0.10質量部を混合して、メチルエチルケトンで希釈することでワニスを得た。
(比較例2)
合成例1で製造したSNCN50.0質量部、ノボラック型ビスマレイミド化合物(大和化成工業社製、BMI−2300)50.0質量部、エポキシシラン処理された溶融シリカ(SC2050MB、アドマテックス製)100.0質量部、オクチル酸亜鉛(日本化学産業(株)製)0.15質量部を混合して、メチルエチルケトンで希釈することでワニスを得た。
(比較例3)
合成例2で得られたビスフェノールE型シアン酸エステル50.0質量部、ノボラック型ビスマレイミド化合物(大和化成工業社製、BMI−2300)50.0質量部、エポキシシラン処理された溶融シリカ(SC2050MB、アドマテックス製)100.0質量部、オクチル酸亜鉛(日本化学産業(株)製)0.10質量部を混合して、メチルエチルケトンで希釈することでワニスを得た。
〔銅張り積層板の製造方法〕
以上のようにして得られたワニスを厚さ0.1mmのEガラスクロスに含浸塗工し、乾燥機(耐圧防爆型スチーム乾燥機、(株)高杉製作所製))を用いて165℃、4分加熱乾燥し、樹脂組成物46質量%のプリプレグを得た。このプリプレグ8枚を重ね、両面に12μm銅箔(3EC−M3−VLP、三井金属鉱業(株)製)を配置し、圧力40kg/cm、温度230℃で120分間真空プレスを行い、厚さ0.8mmの12μm銅張り積層板を得た。得られた銅張り積層板を用いて、以下の評価を行った。
〔誘電率(Dk)〕
銅張り積層板の銅箔を除去した試験片(n=3)を使用し、空洞共振器摂動法(Agilent 8722ES,アジレントテクノロジー製)にて2GHz及び10GHzの誘電率を測定し、各々3回の平均値を求めた。
〔誘電正接(Df)〕
銅張り積層板の銅箔を除去した試験片(n=3)を使用し、空洞共振器摂動法(Agilent 8722ES,アジレントテクノロジー製)にて2GHz及び10GHzの誘電正接を測定し、各々3回の平均値を求めた。
〔耐熱性評価〕
得られた銅箔張積層板をダイシングソーでサイズ12.7×30mmに切断後、表面の銅箔をエッチングにより除去し、測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを用い、JIS C6481に準拠して動的粘弾性分析装置(TAインスツルメント製)でDMA法により、貯蔵弾性率E'、損失弾性率E''を測定し、E''及びtanδ(=E''/E')のピークの値をそれぞれTgとして耐熱性を評価した。
Figure 2018139368
本出願は、2017年1月26日出願の日本国特許出願(特願2017−012365号)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
本発明の樹脂組成物は、プリプレグ、金属箔張積層板、積層樹脂シート、樹脂シート、プリント配線板等の材料として、産業上の利用可能性を有する。

Claims (16)

  1. (i)シアン酸エステル化合物(A)とポリブタジエン(B)との反応物、及び/又は(ii)当該シアン酸エステル化合物(A)の重合物と当該ポリブタジエン(B)との反応物と、
    マレイミド化合物(C)と、
    を含有する、樹脂組成物。
  2. シアン酸エステル化合物(A)が、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールE型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールF型シアン酸エステル化合物及びノボラック型シアン酸エステル化合物からなる群より選択される少なくとも1種のシアン酸エステル化合物(A1)を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  3. シアン酸エステル化合物(A)が、さらに、前記シアン酸エステル化合物(A1)以外のシアン酸エステル化合物(A2)を含む、請求項2に記載の樹脂組成物。
  4. 前記シアン酸エステル化合物(A1)100質量部に対して、前記ポリブタジエン(B)が5〜30質量部である、請求項2又は3に記載の樹脂組成物。
  5. 前記ポリブタジエン(B)が、1,2−付加体及び1,4−付加体を質量比1:3〜3:1の割合で含有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
  6. 前記ポリブタジエン(B)が、1,2−付加体及び1,4−付加体を質量比1:1〜3:1の割合で含有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
  7. 前記シアン酸エステル化合物(A)の樹脂組成物中における含有量が、樹脂固形分100質量部に対し、1〜90質量部である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
  8. 前記マレイミド化合物(C)が、2,2'−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物(C1)及び下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)からなる群より選択される少なくとも1種を含有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
    Figure 2018139368
    (式(1−1)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは、1以上の整数を表す。)
    Figure 2018139368
    (上記一般式(1−2)中、複数存在するRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表し、nは、平均値であり、1<n≦5を表す。)
  9. 前記マレイミド化合物(C)が、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1−1)で表されるマレイミド化合物(C1)及び下記式(1−2)で表されるマレイミド化合物(C2)からなる群より選択される少なくとも1種を含有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
    Figure 2018139368
    (式(1−1)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは、1以上の整数を表す。)
    Figure 2018139368
    (上記一般式(1−2)中、複数存在するRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表し、nは、平均値であり、1<n≦5を表す。)
  10. さらに、充填材(D)を含有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
  11. 前記充填材(D)の樹脂組成物における含有量が、樹脂固形分100質量部に対し、50〜1600質量部である、請求項10に記載の樹脂組成物。
  12. さらに、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、重合可能な不飽和基を有する化合物から選択される群のうち、いずれか1種類以上を含有する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
  13. 基材と、
    前記基材に含浸又は塗布された、請求項1〜12のいずれか一項に記載の樹脂組成物と、
    を有する、プリプレグ。
  14. 少なくとも1枚以上積層された、請求項13に記載のプリプレグと、
    前記プリプレグの片面又は両面に配された金属箔と、
    を有する、金属箔張積層板。
  15. 請求項1〜12のいずれか一項に記載の樹脂組成物を有する、樹脂シート。
  16. 絶縁層と、
    前記絶縁層の表面に形成された導体層と、
    を有し、
    前記絶縁層が、請求項1〜12のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含む、プリント配線板。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4090696B1 (en) 2020-02-14 2024-01-03 Arxada AG Method for preparation of a moulded composite from a bulk moulding compound
JP7381778B2 (ja) 2020-06-24 2023-11-16 アークサーダ・アー・ゲー 改善された特性を有する新規な組成物
CN112059104B (zh) * 2020-09-01 2021-11-23 和县华顺铸造有限公司 一种铸造用热芯盒树脂的制备方法
WO2023110819A1 (en) 2021-12-14 2023-06-22 Arxada Ag Novel compositions with improved characteristics

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5698244A (en) * 1980-01-09 1981-08-07 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS56141310A (en) * 1980-04-08 1981-11-05 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS56157425A (en) * 1980-05-06 1981-12-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS57143350A (en) * 1981-02-28 1982-09-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS57153046A (en) * 1981-03-19 1982-09-21 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS58164638A (ja) * 1982-03-25 1983-09-29 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 硬化性樹脂組成物
JPH04366146A (ja) * 1991-06-13 1992-12-18 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd シアン酸エステル樹脂組成物
JPH06192478A (ja) * 1992-10-28 1994-07-12 Nippon Soda Co Ltd 硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプリプレグ、積層板及び成形材料
JP2006022309A (ja) * 2004-06-09 2006-01-26 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 硬化性樹脂組成物
JP2009001783A (ja) * 2007-05-18 2009-01-08 Nippon Kayaku Co Ltd 積層板用樹脂組成物、プリプレグ及び積層板
JP2014037485A (ja) * 2012-08-16 2014-02-27 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント配線板
JP2016537496A (ja) * 2013-11-04 2016-12-01 ノボセット、エルエルシー 超低誘電損失熱硬化性樹脂組成物およびこれにより製造される高性能ラミネート
JP2017177469A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 味の素株式会社 樹脂シート

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4403073A (en) 1980-05-06 1983-09-06 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Curable resin composition
EP0056473B1 (en) * 1980-12-23 1987-07-08 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Colloidal solutions, processes for producing the same and uses thereof
US4780507A (en) * 1985-04-09 1988-10-25 Mitsubishi Gas Chemical Co. Inc. Curable thermosetting cyanate ester composition
JP2841747B2 (ja) 1990-06-26 1998-12-24 日本曹達株式会社 硬化性樹脂組成物
JP2004002653A (ja) * 2002-04-22 2004-01-08 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd プリント基板用プリプレグ及びその製造法とプリント基板
TWI441866B (zh) * 2006-02-17 2014-06-21 Hitachi Chemical Co Ltd A thermosetting resin composition of a semi-IPN type composite and a varnish, a prepreg and a metal laminate
JP2012131947A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd プリント配線板用エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板、樹脂シート、プリント配線板及び半導体装置
SG11201401958TA (en) 2011-11-02 2014-09-26 Mitsubishi Gas Chemical Co Resin composition, prepreg, and laminate
SG11201404727XA (en) * 2012-03-29 2014-10-30 Mitsubishi Gas Chemical Co Resin composition, prepreg, resin sheet, and metal foil-clad laminate
WO2014203866A1 (ja) 2013-06-18 2014-12-24 三菱瓦斯化学株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート及び金属箔張り積層板
TW201507131A (zh) 2013-08-05 2015-02-16 Ye Xin Technology Consulting Co Ltd 有機發光二極體顯示面板
US10034371B2 (en) 2014-02-04 2018-07-24 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Resin composition for printed wiring board, prepreg, metal foil-clad laminate, resin composite sheet, and printed wiring board
TWI519602B (zh) * 2014-06-06 2016-02-01 Elite Material Co Ltd Low dielectric resin composition and the application of its resin film, semi-cured film and circuit board
CN107148452B (zh) * 2014-11-06 2018-10-09 三菱瓦斯化学株式会社 树脂组合物、预浸料、覆金属箔层叠板、树脂复合片及印刷电路板
JP6587340B2 (ja) 2015-06-30 2019-10-09 コージ産業株式会社 収納家具
CN106349643B (zh) 2016-08-29 2018-08-31 苏州生益科技有限公司 一种热固性树脂组合物及使用其制作的半固化片及层压板

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5698244A (en) * 1980-01-09 1981-08-07 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS56141310A (en) * 1980-04-08 1981-11-05 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS56157425A (en) * 1980-05-06 1981-12-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS57143350A (en) * 1981-02-28 1982-09-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS57153046A (en) * 1981-03-19 1982-09-21 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
JPS58164638A (ja) * 1982-03-25 1983-09-29 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 硬化性樹脂組成物
JPH04366146A (ja) * 1991-06-13 1992-12-18 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd シアン酸エステル樹脂組成物
JPH06192478A (ja) * 1992-10-28 1994-07-12 Nippon Soda Co Ltd 硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプリプレグ、積層板及び成形材料
JP2006022309A (ja) * 2004-06-09 2006-01-26 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 硬化性樹脂組成物
JP2009001783A (ja) * 2007-05-18 2009-01-08 Nippon Kayaku Co Ltd 積層板用樹脂組成物、プリプレグ及び積層板
JP2014037485A (ja) * 2012-08-16 2014-02-27 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント配線板
JP2016537496A (ja) * 2013-11-04 2016-12-01 ノボセット、エルエルシー 超低誘電損失熱硬化性樹脂組成物およびこれにより製造される高性能ラミネート
JP2017177469A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 味の素株式会社 樹脂シート

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