JPWO2017094339A1 - 炭化珪素半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置について説明する。なお、以下では、第1の導電型がn型であり、第2の導電型がp型であるとして説明する。
図1は、本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置を実現するための構成を概略的に例示する断面図である。図1では、紙面の上方向がオフ角θが付いた[0001]方向であり、紙面の右方向がオフ角θが付いた[11−20]方向であり、紙面の手前向き方向が[1−100]方向である。
以上に記載された構造は、以下のような製造方法で製造することができる。図3から図5は、本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。図3から図5では、紙面の上方向がオフ角θが付いた[0001]方向であり、紙面の右方向がオフ角θが付いた[11−20]方向であり、紙面の手前向き方向が[1−100]方向である。
本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置について説明する。以下では、以上に記載された実施の形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
図8は、本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置を実現するための構成を概略的に例示する断面図である。図8では、紙面の上方向がオフ角θが付いた[0001]方向であり、紙面の右方向がオフ角θが付いた[11−20]方向であり、紙面の手前向き方向が[1−100]方向である。図8に例示されるように、炭化珪素半導体装置においては、活性領域であるp型のボディ領域5の下面、すなわち、ボディ領域5と炭化珪素ドリフト層2との境界面付近に、炭化珪素ドリフト層2よりも高い不純物濃度を有するn型の空乏化抑制層6Aが形成される。
以上に記載された構造は、以下のような製造方法で製造することができる。まず、炭化珪素ドリフト層2の表面にボディコンタクト領域4およびソース領域3が形成され、さらに、ソース領域3の下面およびボディコンタクト領域4の下面に接触する位置にボディ領域5が形成された状態で、ボディコンタクト領域4の上面からソース領域3の上面に亘るマスクを形成する。当該マスクは、ボディコンタクト領域4の上面からオフ角θが付いた[−1−120]方向に向かってソース領域3の上面に至る領域の一部において、開口を有する。当該開口は、ソース領域3の上面においては、後の工程で形成されるトレンチ7の第2の側壁面14の位置まで形成される。または、当該開口は、ソース領域3の上面においては、後の工程で形成されるトレンチ7の第2の側壁面14の位置からさらに第2の距離X2だけ離れた位置まで形成される。
本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置について説明する。以下では、以上に記載された実施の形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
図9は、本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置を実現するための構成を概略的に例示する断面図である。図9では、紙面の上方向がオフ角θが付いた[0001]方向であり、紙面の右方向がオフ角θが付いた[11−20]方向であり、紙面の手前向き方向が[1−100]方向である。図9に例示されるように、炭化珪素半導体装置においては、トレンチ7の底面に炭化珪素ドリフト層2とは逆の導電型のトレンチ底面保護層8が形成される。
以上に記載された構造は、以下のような製造方法で製造することができる。第1の実施の形態において記載された方法と同様の方法でトレンチ7を形成した後、トレンチ7の底面に、5×1017cm−3程度以上、かつ、5×1018cm−3程度以下のアクセプター不純物によってトレンチ底面保護層8を形成する。トレンチ底面保護層8は、イオン注入により形成されてもよいが、トレンチ7をトレンチ底面保護層8の厚み分だけ深く形成した後に、トレンチ7内でエピタキシャル成長させることにより形成されてもよい。
本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置について説明する。以下では、以上に記載された実施の形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
図10は、本実施の形態に関する炭化珪素半導体装置を実現するための構成を概略的に例示する断面図である。図10では、紙面の上方向がオフ角θが付いた[0001]方向であり、紙面の右方向がオフ角θが付いた[11−20]方向であり、紙面の手前向き方向が[1−100]方向である。図10に例示されるように、炭化珪素半導体装置においては、ボディ領域5の下面に、炭化珪素ドリフト層2よりも高い不純物濃度を有するn型の空乏化抑制層6Bが形成される。空乏化抑制層6Bは、トレンチ7の第1の側壁面13と接触して位置し、かつ、トレンチ7の第2の側壁面14とは離間して位置する。また、図10に例示されるように、炭化珪素半導体装置においては、トレンチ7の底面に炭化珪素ドリフト層2とは逆の導電型のトレンチ底面保護層8Aが形成される。トレンチ底面保護層8Aの上端が、ボディ領域5から空乏化抑制層6B内に伸びる空乏層の下端よりも深く、かつ、ボディ領域5から炭化珪素ドリフト層2内に伸びる空乏層の下端よりも浅く位置する。
以上に記載された構造は、以下のような製造方法で製造することができる。まず、炭化珪素ドリフト層2の表面にボディコンタクト領域4およびソース領域3が形成され、さらに、ソース領域3の下面およびボディコンタクト領域4の下面に接触する位置にボディ領域5が形成された状態で、ボディコンタクト領域4の上面からソース領域3の上面に亘るマスクを形成する。当該マスクは、ボディコンタクト領域4の上面からオフ角θが付いた[11−20]方向に向かってソース領域3の上面に至る領域の一部において、開口を有する。当該開口は、ソース領域3の上面においては、後の工程で形成されるトレンチ7の第1の側壁面13の位置まで形成される。
以下に、以上に記載された実施の形態による効果を例示する。なお、以下では、以上に記載された実施の形態に例示された具体的な構成に基づく効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。また、当該置き換えは、複数の実施の形態に跨ってなされてもよいものである。すなわち、異なる実施の形態において例示されたそれぞれの構成が組み合わされて、同様の効果が生じる場合であってもよい。
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面において例示であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。したがって、例示されていない無数の変形例が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも1つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも1つの実施の形態における少なくとも1つの構成要素を抽出し、他の実施の形態の構成要素と組み合わせる場合が含まれるものとする。
Claims (13)
- オフ角を有する炭化珪素半導体基板(1)の上面に形成される第1の導電型の炭化珪素ドリフト層(2)と、
前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面に形成される第2の導電型のボディ領域(5)と、
前記ボディ領域(5)の表層に部分的に形成される第1の導電型のソース領域(3)と、
前記ソース領域(3)の上面から前記ボディ領域(5)を貫通して前記炭化珪素ドリフト層(2)に達する複数のトレンチ(7)と、
それぞれの前記トレンチ(7)の内部の壁面に形成されるゲート絶縁膜(9)と、
それぞれの前記トレンチ(7)の内部において前記ゲート絶縁膜(9)を覆って形成されるゲート電極(10)と、
前記ソース領域(3)を覆って形成されるソース電極(11)と、
前記炭化珪素ドリフト層(2)の下面側に形成されるドレイン電極(12)と、
前記ボディ領域(5)の下面に形成され、かつ、前記炭化珪素ドリフト層(2)よりも不純物濃度が高い第1の導電型の空乏化抑制層(6、6B)とを備え、
前記空乏化抑制層(6、6B)は、平面視において複数の前記トレンチ(7)に挟まれて位置し、
前記炭化珪素半導体基板(1)のオフ角が付いた方向において、前記空乏化抑制層(6、6B)と前記空乏化抑制層(6、6B)に隣接する一方の前記トレンチ(7)との間の距離が、前記空乏化抑制層(6、6B)と前記空乏化抑制層(6、6B)に隣接する他方の前記トレンチ(7)との間の距離とは異なる、
炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(7)の底面に形成される第2の導電型のトレンチ底面保護層(8、8A)をさらに備える、
請求項1に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(7)の前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る方向における側壁面と隣接する前記空乏化抑制層(6)との距離は、前記トレンチ(7)の前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る方向における側壁面と隣接する前記空乏化抑制層(6)との距離よりも短い、
請求項1または請求項2に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記空乏化抑制層(6B)が、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る方向において隣接する一方の前記トレンチ(7)とは離間し、かつ、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る方向において隣接する他方の前記トレンチ(7)と接触して位置し、
前記トレンチ底面保護層(8A)の上面が、前記ボディ領域(5)から前記空乏化抑制層(6B)内に伸びる空乏層の下端よりも深く、かつ、前記ボディ領域(5)から前記炭化珪素ドリフト層(2)内に伸びる空乏層の下端よりも浅い、
請求項2に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(7)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る方向における側壁面に形成される電界効果トランジスタのしきい値電圧が、前記トレンチ(7)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る方向における側壁面に形成される電界効果トランジスタのしきい値電圧と等しい、
請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - オフ角を有する炭化珪素半導体基板(1)の上面に形成される第1の導電型の炭化珪素ドリフト層(2)と、
前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面に形成される第2の導電型のボディ領域(5)と、
前記ボディ領域(5)の表層に部分的に形成される第1の導電型のソース領域(3)と、
前記ソース領域(3)の上面から前記ボディ領域(5)を貫通して前記炭化珪素ドリフト層(2)に達する複数のトレンチ(7)と、
それぞれの前記トレンチ(7)の内部の壁面に形成されるゲート絶縁膜(9)と、
それぞれの前記トレンチ(7)の内部において前記ゲート絶縁膜(9)を覆って形成されるゲート電極(10)と、
前記ソース領域(3)を覆って形成されるソース電極(11)と、
前記炭化珪素ドリフト層(2)の下面側に形成されるドレイン電極(12)と、
前記ボディ領域(5)の下面に形成され、かつ、前記炭化珪素ドリフト層(2)よりも不純物濃度が高い第1の導電型の空乏化抑制層(6A)とを備え、
前記空乏化抑制層(6A)は、平面視において複数の前記トレンチ(7)に挟まれて位置し、
前記空乏化抑制層(6A)は、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る側に位置する第1の層(23)と、前記第1の層(23)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る側に位置する第2の層(24)とを有し、
前記第1の層(23)は、前記第2の層(24)よりも不純物濃度が高い、
炭化珪素半導体装置。 - 前記第1の層(23)と、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る方向において隣接する一方の前記トレンチ(7)との間の距離が、前記第2の層(24)と、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る方向において隣接する他方の前記トレンチ(7)との間の距離よりも短い、
請求項6に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(7)の底面に形成される第2の導電型のトレンチ底面保護層(8)をさらに備える、
請求項6または請求項7に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(7)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る方向における側壁面に形成される電界効果トランジスタのしきい値電圧が、前記トレンチ(7)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る方向における側壁面に形成される電界効果トランジスタのしきい値電圧と等しい、
請求項6から請求項8のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ底面保護層(8、8A)が、前記ソース電極(11)に電気的に接続される、
請求項2、請求項4、および、請求項8のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記炭化珪素半導体基板(1)が、(0001)面から[11−20]軸方向へ傾斜するオフ角を有し、
前記トレンチ(7)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の下る方向における側壁面が(−1−120)面であり、
前記トレンチ(7)の、前記炭化珪素ドリフト層(2)の上面からオフ角分傾斜した結晶面の上る方向における側壁面が(11−20)面である、
請求項1から請求項10のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記炭化珪素半導体基板(1)におけるオフ角は、1°以上であり、かつ、10°以下である、
請求項1から請求項11のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記空乏化抑制層(6、6A、6B)の第1の導電型の不純物濃度は、1×1017cm−3以上であり、かつ、5×1017cm−3以下である、
請求項1から請求項12のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。
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