JPWO2014136314A1 - アークプラズマ成膜装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の第1の実施形態に係る図1に示すアークプラズマ成膜装置1は、ターゲット600を陰極(カソード)として発生させたアーク放電によって、ターゲット600に含まれる材料元素のイオンを含むプラズマ200を生成する成膜装置である。アークプラズマ成膜装置1によれば、ターゲット600の材料元素を主成分とする薄膜が処理対象の基板100上に形成される。
上記では、アークプラズマ成膜装置1が、中空コイル40間の空間の周囲に配置されたプラズマ電位補正電極を有する例を示した。しかし、プラズマ200が安定して流れるなどして中空コイル40間からのプラズマ200の発散や漏れを考慮する必要がない場合には、図12に示すように、プラズマ電位補正電極を配置しなくてもよい。プラズマチャンバー20内にプラズマ電位補正管30などのプラズマ電位補正電極を配置しないことにより、装置の小型化やコスト削減などが可能である。
Claims (14)
- 処理対象の基板が格納される成膜チャンバーと、
ターゲットの少なくとも一部が格納され、前記成膜チャンバーに連結するプラズマチャンバーと、
前記ターゲットと前記成膜チャンバーとの間に少なくとも1箇所の屈曲部を有して連続する磁力線を発生させる、非磁性金属からなる外皮によって被覆されて前記プラズマチャンバー内に配置された複数の中空コイルと、
を備え、アーク放電により前記プラズマチャンバー内で生成された前記ターゲット材料に由来するイオンを含むプラズマが、前記複数の中空コイルの内側を通過して前記ターゲットから前記基板まで輸送されることを特徴とするアークプラズマ成膜装置。 - 前記中空コイルの内部に、
電流が供給されるコイル部と、
冷却水が流れる水冷管と、
前記水冷管によって冷却される水冷板と
が配置され、
前記中空コイルの内部が熱伝導性を有する樹脂によって充填されていることを特徴とする請求項1に記載のアークプラズマ成膜装置。 - 前記中空コイルの前記外皮の材料が、ステンレス合金、アルミニウム合金及び銅合金のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記中空コイル間の空間の周囲に配置されたプラズマ電位補正電極を更に備え、前記プラズマが前記プラズマ電位補正電極の内側を通過して前記ターゲットから前記基板まで輸送されることを特徴とする請求項1に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記プラズマ電位補正電極の材料が、ステンレス合金、アルミニウム合金及び銅合金のいずれかであることを特徴とする請求項4に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記ターゲットと対向する領域に前記プラズマ電位補正電極が配置されていないことを特徴とする請求項4に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記プラズマ電位補正電極の電位が−20V以上且つ+20V以下であることを特徴とする請求項4に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記プラズマ電位補正電極が、前記中空コイルの内側に配置されたプラズマ電位補正管であることを特徴とする請求項4に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記プラズマ電位補正管が、直管又は屈曲管であることを特徴とする請求項8に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 周囲を前記中空コイルに囲まれた領域において前記プラズマ電位補正管の内部に配置され、中央部に前記プラズマが通過する開口部を有する絞り板を更に備えることを特徴とする請求項8に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記絞り板の材料が、ステンレス合金、アルミニウム合金及び銅合金のいずれかであることを特徴とする請求項10に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記プラズマチャンバーが、前記プラズマ電位補正電極を外部に取り出すための取り出し窓を有することを特徴とする請求項4に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記プラズマチャンバー内における前記中空コイルは、各々独立に配置調整が可能であることを特徴とする請求項1に記載のアークプラズマ成膜装置。
- 前記ターゲットと前記成膜チャンバーとの間に配置された前記中空コイルが、ミラー磁場を形成するように設定されていることを特徴とする請求項1に記載のアークプラズマ成膜装置。
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