WO2013015311A1 - 電磁レンズおよび荷電粒子装置 - Google Patents

電磁レンズおよび荷電粒子装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2013015311A1
WO2013015311A1 PCT/JP2012/068818 JP2012068818W WO2013015311A1 WO 2013015311 A1 WO2013015311 A1 WO 2013015311A1 JP 2012068818 W JP2012068818 W JP 2012068818W WO 2013015311 A1 WO2013015311 A1 WO 2013015311A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
coil
electromagnetic lens
current
coils
amount
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/068818
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
大西 崇
Original Assignee
株式会社日立ハイテクノロジーズ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社日立ハイテクノロジーズ filed Critical 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Publication of WO2013015311A1 publication Critical patent/WO2013015311A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10Lenses
    • H01J37/14Lenses magnetic
    • H01J37/141Electromagnetic lenses

Definitions

  • the present invention relates to a technology of an electromagnetic lens used for convergence of charged particles, and a charged particle device utilizing a reaction between charged particles and a sample.
  • the charged particle device is a device that irradiates a sample as a charged particle bundle (for example, an electron beam) in which charged particles (charged particles) such as electrons and cations are accelerated by an electric field.
  • the charged particle apparatus performs processing, observation, analysis, and the like of a sample by utilizing a reaction between the sample and charged particles.
  • Examples of the charged particle device include an electron microscope, an electron beam drawing device, an ion processing device, and an ion microscope.
  • the electron microscope is a typical charged particle apparatus that observes the fine structure of a sample using an electron beam.
  • Electron microscope is equipped with an electron lens that works to converge the electron beam to irradiate the desired position on the sample with the electron beam generated by the electron source.
  • An electron lens is a device that converges an electron beam using an electric field or a magnetic field.
  • an electron lens based on an electromagnet is used as an electron lens. Since an electromagnet is used as a magnetic field generating source, the electron lens (magnetic field type electron lens) is also called an electromagnetic lens.
  • an electromagnetic lens an electromagnetic lens provided with an axially symmetric solenoid coil around an electron beam passage and having a magnetic path that encloses the solenoid coil is often used.
  • Electromagnetic lens can change the lens strength (strength of electron beam convergence) by changing the current flowing through the coil. This is a major reason for adopting an electromagnetic lens as an electronic lens. This is because even when the conditions for using the charged particle device such as the observation magnification of the sample change, the lens strength can be freely changed by changing the current flowing through the coil.
  • the amount of heat generated by the coil changes.
  • the coil used in the electromagnetic lens is wound with a good electrical conductor such as copper, but generally generates Joule heat according to the amount of current flowing, except when the coil is made of a superconductor. For this reason, when the electric current sent through a coil is changed, the generation amount of Joule heat will change.
  • Joule heat generated by an electromagnetic lens is transmitted to the surroundings by heat conduction, diffuses by dissipating heat to the built-in water cooling mechanism and the atmosphere around the charged particle device, and eventually the electromagnetic lens reaches a steady state.
  • the electromagnetic lens is used under a constant condition (that is, a constant amount of current), it finally reaches a thermal equilibrium state, and Joule heat does not dynamically affect the surroundings.
  • the temperature of the device around the electromagnetic lens such as a magnetic path changes toward a certain equilibrium point determined by the current, the ambient temperature, and the thermal conductivity.
  • the temperature change of the coil takes a certain time, and it often takes several hours for the temperature change of the surrounding structure to converge.
  • the current change of the electromagnetic lens affects the surrounding area for a long time in the form of temperature change.
  • Temperature changes adversely affect the sample observation accuracy. This is because, when the temperature around the electromagnetic lens changes, the mechanical part constituting the device is deformed by thermal expansion. As a result, the positional relationship between the charged particle source or charged particle beam path and the target changes, the distance between the magnetic path opening and the magnetic path changes, or the conditions of the charged particle optical system change. become. These changes are observed as movement of the charged particle beam irradiation position on the target (referred to as drift) and defocusing. As described above, since it takes a certain time for the apparatus to reach thermal equilibrium after changing the electromagnetic lens conditions, drift continues to adversely affect the observation of the sample during this time.
  • Patent Documents 1 to 3 disclose a method in which an electromagnetic lens is provided with a plurality of coils.
  • Patent Document 1 discloses an electromagnetic lens in which two coils are built in one magnetic path. In one coil, a current flows in the forward direction or the reverse direction with respect to the other coil, and the direction of the current can be switched. Thereby, the magnetomotive force added or subtracted by the magnetomotive force by one coil and the magnetomotive force by the other coil is given to the entire electromagnetic lens, and the heat generation amount is constant under both conditions.
  • a current of “6” is passed through one coil (referred to as coil A), and a current of “4” is provided as the other coil (referred to as coil B). It is assumed that it is washed away.
  • the current of the coil A is changed to “7”, and at the same time, the current of the coil B is changed to “3”. In this way, by preventing the total amount of current flowing through the coils A and B from changing, the amount of heat generated by the entire electromagnetic lens is prevented from changing.
  • Patent Document 2 discloses an electronic lens incorporating three or more coils, and a load current line device using the same, by extending the technique described in Patent Document 1.
  • the magnetomotive force can be changed more finely while switching the direction of the current flowing through each coil while keeping the amount of heat generated by the coil in the magnetic path constant.
  • Patent Document 3 discloses an electromagnetic lens that keeps the amount and generation area of Joule heat constant while changing the magnetomotive force by winding copper wires constituting two coils built in a magnetic path adjacent to each other. It is disclosed.
  • a constant current power source for supplying a current to an electromagnetic lens has some inherent fluctuation in the current supplied to the coil.
  • two or more constant current power supplies are required.
  • fluctuations that occur independently and in terms of time also occur, so compared to the case where there is one constant current power source (that is, an electromagnetic lens that does not consider the amount of heat generation)
  • the current fluctuation will increase. This causes the accuracy of the electromagnetic lens to decrease. If it is attempted to reduce the fluctuation of the current, it is necessary to prepare two constant current power supplies with high accuracy (and hence high cost), and there is a problem that technical difficulty increases.
  • the present invention has been made in view of such a background, and an object of the present invention is to improve the stability of a magnetic field generated by an electromagnetic lens.
  • the present invention provides a ferromagnetic material that forms a magnetic path with a first coil, a second coil, and a third coil in which a winding is wound around a traveling axis of charged particles.
  • a current source device for passing a current through each of the coils, the second coil and the third coil, and a current of the same amount of current flowing through the second coil and the third coil.
  • the total amount of heat generated in the second coil and the third coil is P
  • the amount of current flowing through the first coil is I 1
  • the resistance value of the first coil is R 1
  • the second coil and the third coil 3 is I 2
  • the combined resistance value in the second coil and the third coil is R 2
  • the stability of the magnetic field generated by the electromagnetic lens can be improved.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating a cross-section of the electromagnetic lens according to the first embodiment.
  • the electromagnetic lens 1 has a substantially ring shape having an axisymmetric structure with an electron beam path as an axis (traveling axis) 5.
  • FIG. 1 shows a cross-sectional view of such a substantially ring-shaped electromagnetic lens 1.
  • coils 12, 13 a and 13 b which are lens coils are built in a ferromagnetic body 11 for forming a magnetic path.
  • Each coil 12, 13a, 13b is electrically insulated from each other.
  • a highly accurate constant current power source (current source device) 2 is connected to the coil 12 which is the first coil.
  • the coil (second coil) 13 a and the coil (third coil) 13 b are connected in series to each other and connected to the constant current power source (current source device) 3.
  • the constant current power supply 3 can be used with a lower accuracy than the constant current power supply 2.
  • the control device 4 controls the amount of current of the constant current power supplies 2 and 3. In FIG. 1, the windings are actually densely arranged inside each of the coils 12, 13a, 13b.
  • the coil 13a and the coil 13b are connected so that the current from the constant current power source 3 flows in opposite directions in the coil 13a and the coil 13b.
  • the number of turns of the coil 13a and the coil 13b is equal. Note that the number of turns of the coil 12 and the coil 13a may be the same or different.
  • the direction of the current flowing through the coils 12, 13a, 13b may be any direction.
  • the amount of heat generated by the electromagnetic lens 1 is considered.
  • the resistance value of each coil 12, 13a, 13b varies depending on the coil temperature. Assuming that the resistance values of the coils 12, 13a, and 13b at a certain temperature are R 1 , R 2a , and R 2b , respectively, the heat generation amount P of the entire electromagnetic lens 1 is expressed by the following formula (1).
  • the accuracy of the electromagnetic lens 1 at this time is greatly affected by temporal fluctuations (flickers) of the excitation currents flowing through the coils 12, 13a, and 13b.
  • the fluctuation range of the temporal fluctuation of the current I 1 due to the constant current power supply 2 is ⁇ I 1
  • the fluctuation width of the temporal fluctuation of the current I 2 due to the constant current power supply 3 is ⁇ I 2 .
  • the coil 13a, the 13b because the current flows in the opposite direction, current I 2 does not contribute to excitation of the electromagnetic lenses. Therefore, the temporal variation of the current I 2 does not contribute to the excitation variation.
  • the temporal variation (magnetic field accuracy) of the strength of the magnetic lens generated by the electromagnetic lens 1 on the axis 5 is an amount proportional to ⁇ I 1 which is the accuracy (variation width) of the constant current power source 2.
  • control device 4 controls the constant current power supply 2 so that the current I 1 shown in the formula (3) flows.
  • control unit 4 controls the constant current source 3 so as to flow a current I 2 according to the following equation (4).
  • Expression (4) is obtained by substituting Expression (3) into Expression (2) and modifying I 2 .
  • the control device 4 controls the constant current power sources 2 and 3 so that the currents I 1 and I 2 become the formulas (3) and (4), so that the electromagnetic current can be changed even if the currents I 1 and I 2 are changed.
  • the heat generation amount of the entire lens 1 can be kept at a constant value P.
  • the calorific value P is an arbitrarily set value.
  • the constant current power supply 2 supplies the maximum current that can be supplied, and the heat generation amount P max when the current supplied by the constant current power supply 3 is “0” is the heat generation amount in the equation (4). That is, the heat generation amount P is set to P max in the following equation (5).
  • I 2max is the maximum current that the constant current power supply 3 can flow. Further, P ⁇ P max may be used, but in this case, an uncontrollable region is formed, which is not preferable.
  • the resistance value R 1 and the coil 13a of the coil 12, the resistance value R 2 and 13b is performing calculation and control on the assumption that it is constant.
  • the heat generation amount can always be constant at P.
  • the resistance values of the coils 12, 13a, and 13b change due to the influence of the heat generation amount and the heat dissipation efficiency in the coils 12, 13a, and 13b.
  • the resistance value R of the coil 12 is changed. 1 and the coil 13a, the resistance value R 2 of 13b can be fixed at a certain accuracy. Accordingly, the resistance value R 1 and the coil 13a, the resistance value R 2 and 13b of the coil 12 can perform calculations and control on the assumption that it is approximately constant.
  • the resistance values of the coils 12, 13a, and 13b are measured by the constant current power sources 2 and 3, and the control may be performed so that I 1 2 R 1 + I 2 2 R 2 becomes constant. it can.
  • the current fluctuations in the coils 13a and 13b are completely canceled by the same amount of current flowing in opposite directions. Therefore, there is no problem even if the constant current power source 3 uses a low-accuracy power source. It becomes. That is, among the plurality of constant current power sources 2 and 3, the power source with high accuracy may be one of the constant current power sources 2, and the constant current power source 3 may be an inexpensive power source with relatively low accuracy.
  • the magnetic field generated by the electromagnetic lens 1 is compared with a mechanism in which two or more constant current power sources are both related to the magnetomotive force of the electromagnetic lens, as in the techniques described in Patent Documents 1 to 3. Stability can be improved and the electromagnetic lens 1 can be controlled with high accuracy.
  • the following table is a table for explaining this.
  • each characteristic of this embodiment is shown in the upper part, and each comparative example is shown in the lower part.
  • the comparative example is a technique described in Patent Document 1, but the technique described in Patent Document 3 also exhibits similar characteristics.
  • I 1 , I 2 , R 1 , and R 2 in Table 1 indicate values of currents flowing through the coils and resistance values of the coils.
  • “the number of coils” is “3” in the present embodiment, the comparative example is “2”, and the number of power supplies (the number of constant current power supplies) is “2” in the present embodiment and the comparative example.
  • the amount of heat generated by the electromagnetic lens” is the same, description thereof is omitted.
  • the “electromagnetic lens magnetomotive force” in the comparative example is “I 1 -I 2 ”. Further, in the comparative example, since the influence of ⁇ I 2 (the amount of fluctuation of the current I 2 ) cannot be set to “0”, “magnetomotive force accuracy” is as shown in Table 1. On the other hand, in this embodiment, since the influence of I 2 can be eliminated, the “electromagnetic lens magnetomotive force” can be I 1 and the “magnetomotive force accuracy” can be ⁇ I 1 .
  • the method of this embodiment is more stable in the magnetic field generated by the electromagnetic lens 1 than the method of the comparative example. Can be improved, and high-precision control is possible.
  • FIGS. 2 to 4 indicate the cross section of the winding. 2 to 5, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the coils 12, 13 a, and 13 b are integrated coils that wind a plurality of electric wires (windings) interwoven with each other. That is, in the electromagnetic lens 1a, the windings of the coils 12, 13a, 13b (hereinafter referred to as the coils 12, 13a, 13b) are uniformly distributed and wound around the electron beam path 5. It has become.
  • the coils 13a and 13b are wound with windings so that current flows in the opposite direction.
  • the coils 12, 13a and 13b are insulated from each other, and one end and the other end of the windings constituting each coil 12, 13a and 13b can be taken out of the electromagnetic lens 1a independently.
  • winding in the coils 13a and 13b may be connected inside the electromagnetic lens 1a.
  • the location where the coil 12 is arranged and the location where the coils 13a and 13b are arranged are clearly separated, so that the overall heat generation amount is large. Even if it is constant, the heat generation distribution may be biased.
  • the electromagnetic lens 1a shown in the second embodiment since the coils 12, 13a, and 13b are wound in a uniformly dispersed manner as shown in FIG. 2, the heat generation distribution can be made uniform.
  • 3 to 5 are diagrams showing modifications of the electromagnetic lens according to the second embodiment.
  • the number of turns of the windings in the coil 13a and the coil 13b may be equal as in the electromagnetic lens 1b shown in FIG.
  • the number of turns of the coil 12 is larger than the number of turns of each of the coils 13a and 13b, but the number of turns of the coil 12 is smaller than the number of turns of each of the coils 13a and 13b.
  • the coil 13a and the coil 13b are wound so that the number of turns is the same.
  • the number of turns of the coils 13 a and 13 b is much smaller than that of the coil 12 as in the electromagnetic lens 1 c of FIG.
  • the electromagnetic lens 1c can be reduced in size by making the number of turns of the coils 13a and 13b smaller than that of the coil 12.
  • the resistance values of the coils 12, 13 a, and 13 b are expressed by the size of a circle. The smaller the circle size, the larger the resistance value, and the larger the circle size, the smaller the resistance value. By doing in this way, since the electric current sent through coil 13a, 13b can be decreased, stability can be improved. Also in this case, it is desirable that the coils 13a and 13b are wound in the coil 12 in a uniformly dispersed manner.
  • each coil 12, 13a, 13b has shown the cross section of the coil
  • each of the coils 12, 13a, 13b using the square wires is preferably a layered structure as shown in FIG. Further, it is desirable that the coil 13a and the coil 13b be sandwiched between the layers of the coil 12.
  • the windings of the coil 13a and the coil 13b into a thin layer (thinning the thickness of the winding), it is possible to secure a cross-sectional area around which the coil 12 related to excitation is wound and to wind without gaps. become.
  • the diameters and thicknesses of the windings of the coils 12, 13a, 13b of the electromagnetic lenses 1, 1a to 1d of this embodiment may be different.
  • winding of each coil 12, 13a, 13b may differ.
  • the number of turns of the coil 12 and the coils 13a and 13b is different as described in FIG. 4, but the number of turns of the coil 13a and the coil 13b is equal. So that it is wound.
  • the coils corresponding to the coils 13a and 13b can be provided as a composite coil composed of a plurality of coils as long as the total number of turns is the same. That is, in the present embodiment, the coils 13a and 13b are a single coil composed of one winding, but each of the coils 13a and 13b may be a plurality of coils composed of a plurality of windings. In this case, the number of turns of the coil constituting the coil 13a needs to be the same as the number of turns constituting the coil 13b. Similarly, the coil 12 may be composed of a plurality of coils.
  • the coils 13a and 13b can be formed by winding a single winding around a shaft. That is, after forming the coil 13a (or coil 13b) with one winding, the coil 13b (or coil 13a) is wound around the axis (electron beam path 5) by folding the winding. May be formed. The folded portion may be folded after one coil is formed, or may be folded every round. Furthermore, the coils 13a and 13b may be formed by providing a plurality of coils formed by such folding.
  • the constant current power supplies 2 and 3 are separate constant current power supplies, but may be integrated constant current power supplies.
  • the constant current power source can divide the current flowing through the coil 12 and the current flowing through the coils 13a and 13b, and can adjust the amount of current flowing through the coil 12 and the amount of current flowing through the coils 13a and 13b. It is necessary to provide a proper diversion means.
  • the current flowing through the coils 12, 13a and 13b is controlled, so that the magnetic field strength of the electromagnetic lenses 1, 1a to 1d can be changed while keeping the heat generation amount constant.
  • the stability of the magnetic field generated by the electromagnetic lenses 1, 1a to 1d can be improved.
  • the magnetomotive force due to the current flowing through these coils can be canceled.
  • the accuracy of the electromagnetic lenses 1 and 1a to 1d can be improved as compared with the techniques described in Patent Documents 1 to 3.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration example of a charged particle device including the electromagnetic lens according to the present embodiment.
  • an example of a transmission electron microscope is shown as the charged particle device, but a charged particle device such as a scanning electron microscope, an ion beam device, or an electron beam drawing device may be used.
  • the transmission electron microscope (hereinafter referred to as an electron microscope 200) in FIG.
  • the electron gun 201 and the electron optical system unit 202 include vacuum evacuation devices 212 and 213, respectively.
  • the electron gun 201 generates and emits an electron beam from the electron source 211.
  • the emitted electron beam travels along the path 5, is converged and deflected by the electron optical system unit 202, and is irradiated onto the sample 231.
  • the sample holder 203 holds the sample 231 and moves, tilts, and exchanges the sample 231 as required by an operator.
  • the detector 204 measures reflected electrons, secondary electrons, reflected electrons, transmitted electrons, scattered electrons, X-rays, etc. generated by the sample 231.
  • the control detection unit 205 supplies power to the electron gun 201 and the electron optical system unit 202 and adjusts the output according to instructions from the control device 206 to control the electron beam to a state requested by the operator.
  • the electron gun 201 generates an electron beam from the voltage boosted by the high voltage power supply unit 251 connected to the control detection unit 205.
  • the control device 206 converts information acquired from the detector 204 via the control detection unit 205 into a digital signal.
  • the control device 206 controls the electron gun 201 and the electron optical system unit 202 by controlling the control detection unit 205, processes information from the detector 204, and displays or records the information in a form visible to the operator. To do.
  • the control device 206 corresponds to the control device 4 in FIG. 1, and the control detection unit 205 includes the constant current power supplies 2 and 3 in FIG. 1.
  • the electron optical system unit 202 includes three electromagnetic lenses 221, and the detector 204 includes one electromagnetic lens 221.
  • These electromagnetic lenses 221 are a C1 lens, a C2 lens, an objective lens, and an irradiation lens in order from the top of FIG.
  • these four electromagnetic lenses 221 at least one is any one of the electromagnetic lenses 1 and 1a to 1d of the present embodiment.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

 電磁レンズが発生する磁場の安定性を向上させることを課題とする。 本発明の電磁レンズ(1)は、電子線の経路(5)の周囲に巻線が巻回されているコイル(12)、コイル(13a)およびコイル(13b)と、磁路を形成する強磁性体(11)と、各々のコイル(12,13a,13b)に電流を流す電流源装置(2,3)と、コイル(13a)およびコイル(13b)に、互いに逆向き、かつ、同じ電流量の電流を流し、コイル(12,13a,13b)における合計発熱量をPとし、コイル(12)に流れる電流量をIとし、抵抗値をRとし、コイル(13a,13b)に流れる電流量をIとし、合成抵抗値をRとしたとき、コイル(13a,13b)に流れる電流量Iを、I={(P-I )/R1/2に従った量となるよう制御する制御装置(4)と、を有することを特徴とする。

Description

電磁レンズおよび荷電粒子装置
 本発明は、荷電粒子の収束などに用いられる電磁レンズ、および荷電粒子と試料との反応を利用する荷電粒子装置の技術に関する。
 荷電粒子装置は、電子、陽イオンなど、電荷をもつ粒子(荷電粒子)を電界などで加速した荷電粒子束(例えば電子線)として、試料に照射する装置である。荷電粒子装置は、試料と荷電粒子との反応を利用して試料の加工、観察、分析などを行う。荷電粒子装置として、電子顕微鏡、電子線描画装置、イオン加工装置、イオン顕微鏡などが挙げられる。中でも電子顕微鏡は、電子線を用いて試料の微細構造の観察を行う荷電粒子装置の代表的なものである。
 電子顕微鏡は、電子源で発生した電子線を試料の望む位置に照射するため、電子線を収束する働きを持つ電子レンズを備える。電子レンズは、電界ないし磁界を用いて、電子線を収束する装置である。電子顕微鏡では、多くの場合、電子レンズとして、電磁石を原理とする電子レンズが用いられている。電磁石を磁界発生源とするので、電子レンズ(磁界型電子レンズ)は電磁レンズとも称される。このような電磁レンズとして、電子線の通路の周囲に軸対称なソレノイドコイルを設け、さらにこのソレノイドコイルを内包する磁路を備えた電磁レンズが用いられることが多い。
 電磁レンズは、コイルに流す電流を変更することによりレンズ強度(電子線の収束の強さ)を変更することが可能である。このことが電子レンズとして電磁レンズを採用する大きな理由となっている。試料の観察倍率など、荷電粒子装置を使用する条件が変化した場合も、コイルに流す電流を変更すれば、レンズ強度を自在に変化させることができるからである。
 一方、レンズ強度を変更するために、コイルに流す電流を変更すると、コイルの発熱量が変化する。電磁レンズで用いられるコイルは、銅など電気の良導体で巻回されているが、超伝導体でコイルが作られている場合を除き、一般に流れる電流量に応じたジュール熱を発生する。このため、コイルに流す電流を変更した場合、ジュール熱の発生量が変化することになる。
 通常、電磁レンズの発するジュール熱は、熱伝導で周囲に伝わり、内蔵された水冷機構や、荷電粒子装置の周辺の大気に放熱することで拡散し、やがて、電磁レンズは定常状態に達する。電磁レンズを一定の条件(つまり、一定の電流量)で使用している場合、最終的には熱平衡状態に至り、ジュール熱は周囲に動的な影響を及ぼさない。ここで、コイルに流れる電流を変更すると、電流と周囲の温度、熱伝導度によって定まる、ある平衡点に向けて、磁路など電磁レンズ周辺の装置の温度が変化することになる。コイルの温度変化には一定の時間がかかり、さらに周囲の構造の温度変化が収束するまでに、しばしば数時間かかる。
 このように、高精度で制御されている電子顕微鏡の場合、電磁レンズの電流変化が周辺に温度変化のかたちで長時間にわたる影響を与える。温度変化は試料の観測精度に悪影響を及ぼす。なぜならば、電磁レンズ周辺の温度が変化すると、熱膨張により装置を構成する機構部分が変形するからである。これにより、荷電粒子源や荷電粒子線通路と標的との位置関係が変化したり、磁路開口部や磁路間の距離が変わったり、荷電粒子光学系の条件が変化したりしてしまうことになる。これらの変化は、標的上での荷電粒子線照射位置の移動(ドリフトと呼ばれる)や、焦点のぼけとして観測される。前記したように、電磁レンズ条件変更後、装置が熱平衡に達するまでに一定の時間がかかるので、この時間の間、ドリフトが試料の観察に悪影響を与え続けることになる。
 これらの問題点を改善する方法として、電磁レンズに複数のコイルを備える方法が、特許文献1~3に開示されている。
 特許文献1には、1つの磁路中に2つのコイルを内蔵した電磁レンズが開示されている。一方のコイルは、他方のコイルに対して、順方向または逆方向に電流が流され、さらに、電流の方向が切り替え可能となっている。これにより、一方のコイルによる起磁力と、他方のコイルによる起磁力とで加算または減算された起磁力が電磁レンズ全体に与えられることになり、この両方の条件で、発熱量が一定となる。
 つまり、最初、「2」の起磁力が必要なとき、一方のコイル(コイルAとする)に「6」の電流が流され、他方のコイル(コイルBとする)に「4」の電流が流されているものとする。次に「4」の起磁力が必要になったとすると、コイルAの電流が「7」に変化され、同時に、コイルBの電流が「3」に変化される。このように、コイルA、コイルBに流れる電流量の合計が変化しないようにすることで、電磁レンズ全体の発熱量が変化しないようにしている。
 特許文献2には、特許文献1に記載の技術を拡張し、3個以上のコイルを内蔵する電子レンズおよびこれを用いた荷電流線装置が開示されている。特許文献2に記載の技術では、それぞれのコイルに流れる電流の方向を切り替えることで、磁路内のコイルが発生する熱量を一定に保ったまま、起磁力をより細かく変化させることができる。
 特許文献3には、磁路が内蔵する2つのコイルを構成する銅線を、互いに隣接して巻くことで、起磁力を変化させつつ、ジュール熱の量および発生領域を一定に保つ電磁レンズが開示されている。
特開平6-208838号公報 特開2006-210035号公報 特開2009-176542号公報
 電磁レンズに電流を流す定電流電源は、一般に、コイルに流す電流について、ある固有のふらつきを持っている。
 特許文献1~3の技術では、少なくとも2つのコイルに別々に電流を流しているため、2つ以上の定電流電源が必要となる。それぞれの定電流電源において、変動幅としても、また時間的にも独立したふらつきが発生するため、定電流電源が1つである場合(つまり、発熱量を考慮しない電磁レンズ)と比較して、電流のふらつきが大きくなってしまう。これが原因となって、電磁レンズの精度が低下してしまう。そして、電流のふらつきを小さくしようとすると、精度の高い(従って、コストが高い)定電流電源を2つ用意する必要が生じてしまうため、技術的な困難が増加してしまうという問題がある。
 このような背景に鑑みて本発明がなされたのであり、本発明は、電磁レンズが発生する磁場の安定性を向上させることを課題とする。
 前記課題を解決するため、本発明は、荷電粒子の進行軸の周囲に巻線が巻回されている第1のコイル、第2のコイルおよび第3のコイルと、磁路を形成する強磁性体と、各々の前記コイルに電流を流す電流源装置と、前記第2のコイルおよび前記第3のコイルに、互いに逆向き、かつ、同じ電流量の電流を流し、前記第1のコイル、第2のコイルおよび第3のコイルにおける合計発熱量をPとし、前記第1のコイルに流れる電流量をIとし、前記第1のコイルの抵抗値をRとし、前記第2のコイルおよび第3のコイルに流れる電流量をIとし、前記第2のコイルおよび第3のコイルにおける合成抵抗値をRとしたとき、前記第2のコイルおよび第3のコイルに流れる電流量Iを、I={(P-I )/R1/2に従った量となるよう制御する制御装置と、を有することを特徴とする。
 その他の解決手段については、実施形態中にて適宜説明する。
 本発明によれば、電磁レンズが発生する磁場の安定性を向上させることができる。
第1実施形態に係る電磁レンズの断面を示す図である。 第2実施形態に係る電磁レンズの断面を示す図である。 第2実施形態に係る電磁レンズの変形例における断面を示す図である(その1)。 第2実施形態に係る電磁レンズの変形例における断面を示す図である(その2)。 第2実施形態に係る電磁レンズの変形例における断面を示す図である(その3)。 本実施形態に係る電磁レンズを備える荷電粒子装置の構成例を示す図である。
 次に、本発明を実施するための形態(「実施形態」という)について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
[電磁レンズ]
(第1実施形態)
 図1は、第1実施形態に係る電磁レンズの断面を示す図である。電磁レンズ1は、図1に示すように電子線の経路を軸(進行軸)5とする軸対称の構造を有する略リング状の形状を有している。図1は、このような略リング状の電磁レンズ1における断面図を示している。
 電磁レンズ1は、磁路を形成するための強磁性体11に、レンズコイルであるコイル12,13a,13bが内蔵されている。各コイル12,13a,13bは、それぞれ電気的に絶縁されている。第1のコイルであるコイル12には高精度な定電流電源(電流源装置)2が接続されている。また、コイル(第2のコイル)13a、コイル(第3のコイル)13bは、互いに直列に接続されており、定電流電源(電流源装置)3に接続されている。後記するように、定電流電源3は、定電流電源2より精度の低いものを用いることができる。制御装置4は、定電流電源2,3の電流量を制御している。なお、図1において、各コイル12,13a,13bの内部では、実際には巻線が密に配置されている。
 ここで、コイル13aとコイル13bは、定電流電源3からの電流が、コイル13aとコイル13bとで、それぞれ逆向きに流れるよう接続されている。また、コイル13aとコイル13bの巻き数は等しい。なお、コイル12とコイル13aの巻き数は同じでもよいし、異なっていてもよい。また、コイル12,13a,13bに流れる電流の向きは、どちら向きでもよい。
 コイル13aとコイル13bに流れる電流が等しく、電流の流れる向きが反対向きであるため、定電流電源3が電流Iを流したとすると、コイル13aとコイル13bには、互いに逆向きの磁界が発生し、この逆向きの磁界が互いの磁界を打ち消しあう。従って、電流Iによって電磁レンズ1にもたらされる起磁力は「0」となる。
 一方、定電流電源2が電流Iを流したとすると、この電流Iは、コイル12を流れることとなる。コイル12の巻数をTとすると、電流Iは、Iに比例した起磁力を電磁レンズ1に与える。
 ここで、電磁レンズ1の発熱量を考える。各コイル12,13a,13bの抵抗値はコイルの温度によって異なる。
 ある温度におけるコイル12,13a,13bの抵抗値をそれぞれR,R2a,R2bとすると、電磁レンズ1全体の発熱量Pは、以下の式(1)となる。
P=I +I (R2a+R2b) ・・・ (1)
 R=R2a+R2bとすると、式(1)の発熱量Pは、以下の式(2)に変形できる。
P=I +I  ・・・ (2)
 このときの電磁レンズ1の精度は、各コイル12,13a,13bに流れる励磁電流の時間的な変動(ふらつき)が大きく影響すると考えられる。定電流電源2による電流Iの時間的な変動の変動幅をΔIとし、また同様に定電流電源3による電流Iの時間的な変動の変動幅をΔIとする。前記したように、コイル13a,13bは逆向きに電流が流れるため、電流Iは電磁レンズの励磁には寄与しない。そのため、電流Iの時間的な変動も、励磁の変動に寄与しない。従って、電磁レンズ1が軸5上に発生する磁界レンズの強度の時間変動(磁界の精度)は、定電流電源2の精度(変動幅)であるΔIに比例する量となる。
 次に、制御装置4が行う電流の制御を説明する。
 電磁レンズ1に起磁力Aを得たい場合、制御装置4は、式(3)に示す電流Iを流すよう定電流電源2を制御する。
=A/T ・・・ (3)
 そして、制御装置4は、以下の式(4)に従う電流Iを流すよう定電流電源3を制御する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 
 式(4)は、式(2)に式(3)を代入して、Iについて変形することにより得られる。
 制御装置4は、各電流I,Iが、式(3)、式(4)となるよう定電流電源2,3を制御することにより、電流I,Iを変化させても電磁レンズ1全体の発熱量を一定値Pで保つことができる。なお、発熱量Pは任意に設定されている値である。
 次に、電磁レンズ1の発熱量Pの決め方の一例を説明する。
 ここでは、定電流電源2が、流すことのでき得る最大の電流を流し、定電流電源3の流す電流が「0」であるときの発熱量Pmaxを式(4)における発熱量とする。
 すなわち、発熱量Pは以下の式(5)でPmaxに設定される。
max=I1max  ・・・ (5)
 なお、P=Pmaxに限らず、他の値でもよい。例えば、P>Pmaxでもよい。ただし、P<I2max である必要はある。ここで、I2maxは、定電流電源3が、流すことのでき得る最大の電流である。
 また、P<Pmaxでもよいが、この場合、制御できない領域ができるため、好ましくない。P<I11 となるI11(=I)が、I11<I1maxの条件で存在することになるが、このとき、I=0としても電磁レンズ1全体の発熱量がPを上回るためである。
 なお、ここでは、コイル12の抵抗値Rおよびコイル13a,13bの抵抗値Rが一定であるという前提で計算および制御を行っている。本実施形態の電磁レンズ1では、発熱量を常にPで一定とすることができる。コイル12,13a,13bの各抵抗値は、各コイル12,13a,13bにおける発熱量と放熱効率の影響を受けて変化するが、発熱量Pが一定となることにより、コイル12の抵抗値Rおよびコイル13a,13bの抵抗値Rはある精度で一定とすることができる。従って、コイル12の抵抗値Rおよびコイル13a,13bの抵抗値Rは近似的に一定であるという前提で計算および制御を行うことができる。
 さらに、高次の安定性のために、コイル12,13a,13bの抵抗値を定電流電源2,3で測定し、I +I が一定となるよう制御することもできる。
 また、コイル13a,13bにおける電流のふらつきは、互いに逆向きに同じ量の電流が流れることで、完全にキャンセルされるため、定電流電源3は、精度の低いものを使用しても問題ないこととなる。つまり、複数の定電流電源2,3のうち、高い精度を備えた電源は定電流電源2の1つでよく、定電流電源3は相対的に精度の低い、安価な電源で十分である。
 さらに、本実施形態によれば特許文献1~3に記載の技術のような、2台以上の定電流電源がどちらも電磁レンズの起磁力にかかわる機構に比べ、電磁レンズ1が発生する磁場の安定性を向上させることができ、高精度で電磁レンズ1を制御することができる。
 以下の表は、このことを説明するための表である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 
 表1では、上段に本実施形態、下段に比較例の各特性を示す。なお、比較例は特許文献1に記載の技術であるが、特許文献3に記載の技術も、同様の特性を示す。
 なお、表1におけるI,I,R,Rは、それぞれのコイルに流れる電流の値と、それぞれのコイルにおける抵抗値を示している。なお、本実施形態では、前記したようにコイル13aとコイル13bの合成抵抗値をRとする。
 表1において、「コイル数」は、本実施形態において「3」であり、比較例が「2」であること、および電源数(定電流電源数)は、本実施形態および比較例において「2」であることは、本実施形態の説明および特許文献1の記載から明らかであるので、説明を省略する。また、「電磁レンズが発生させる熱量」は、どちらも同じであるため、説明を省略する。
 比較例が互いに逆向きに電流の流れる2つのコイルのそれぞれに電流I,Iを逆向きに流すため、比較例における「電磁レンズ起磁力」は「I-I」となる。また、比較例では、ΔI(電流Iのふらつき量)の影響を「0」にすることができないため、「起磁力精度」は表1に示すようになる。
 これに対し、本実施形態では、Iの影響を排除することができるため、「電磁レンズ起磁力」はIとなり、「起磁力精度」をΔIとすることができる。特に、ΔI≠0であれば、起磁力精度については以下の式(6)が常に成り立つため、本実施形態の手法の方が、比較例の手法より電磁レンズ1が発生する磁場の安定性を向上させることができ、精度の高い制御を可能とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 
(第2実施形態)
 次に、図2~図5を参照して、第2実施形態と、その変形例に係る電磁レンズの例を示す。なお、図2~図4における丸は巻線の断面を示している。また、図2~図5において、図1と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
 図2に示す電磁レンズ1aでは、コイル12,13a,13bが複数の電線(巻線)を互いに織り交ぜて巻く一体のコイルとなっている。つまり、電磁レンズ1aにおいて、コイル12,13a,13bの巻線(以下、コイル12,13a,13bと称する)が、互いに均一に分散して、電子線の経路5の周りを巻回している構造となっている。なお、コイル13a,13bは、第1実施形態と同様、電流が逆向きに流れるように巻線が巻回されている。また、コイル12,13a,13bは、互いに絶縁されており、各コイル12,13a,13bを構成する巻線の一端と他端は、電磁レンズ1a外に独立に取り出すことができる。なお、コイル13a,13bにおける巻線の一端は、電磁レンズ1a内部で接続されていてもよい。
 第1実施形態(図1)に示す電磁レンズ1では、コイル12が配置されている箇所と、コイル13a,13bが配置されている箇所が、明確に分離しているため、全体の発熱量が一定であっても、その発熱分布に偏りが生じる可能性がある。
 第2実施形態に示す電磁レンズ1aでは、図2のようにコイル12,13a,13bが、互いに均一に分散して巻回されているため、発熱分布を均一にすることができる。
 図3~図5は、第2実施形態に係る電磁レンズの変形例を示す図である。
 前記したように、コイル13aとコイル13bにおける巻線の巻数が等しければ、図3に示す電磁レンズ1bのようにコイル12とコイル13a,13bの巻数が異なってもよい。図5に示すように、コイル12の巻数が、コイル13a,13bそれぞれの巻数より多いことが技術的に自然であり好ましいが、コイル12の巻数が、コイル13a,13bそれぞれの巻数より少なくてもよい。なお、コイル13aと、コイル13bの巻数は、同じになるように巻回される。
 また、コイル13a,13bにおける巻線をコイル12に巻回される巻線に比べて高抵抗の材料で作った場合、コイル13a,13bにおける発熱量が大きくなるため(式(2))、図4の電磁レンズ1cのように、コイル13a,13bの巻数をコイル12に比べてずっと少ない巻数とすることが望ましい。このように、コイル13a,13bの巻数をコイル12に比べて少ない巻数とすることで、電磁レンズ1cを小型化することができる。
 なお、図4では、各コイル12,13a,13bの抵抗値を、丸の大きさで表現し、丸の大きさが小さいほど抵抗値が大きく、丸の大きさが大きいほど抵抗値が小さい。このようにすることで、コイル13a,13bに流す電流を少なくすることができるので、安定性を向上させることができる。この場合も、コイル12の中にコイル13a,13bが、均一に分散して巻回されるようにすることが望ましい。
 また、電磁石におけるコイルを高性能にするためには、発熱を熱伝導で逃がす目的と、限られた断面積に最大の電流密度を投入する目的のために、巻線を隙間なく巻回することが重要である。この目的のために、図5の電磁レンズ1dのように、巻線の断面が円形ではなく四角形などの角型である角線を用いてもよい。図5において、各コイル12,13a,13bが、各コイルにおける巻線の断面を示している。この場合、角線を用いた各コイル12,13a,13bは、図5に示すように層状の構造とすることが望ましい。さらに、コイル13aとコイル13bがコイル12の層に挟まれる構造にするのが望ましい。また、コイル13a,コイル13bの巻線を薄い層とする(巻き線の厚みを薄くする)ことで、励磁に関わるコイル12を巻回する断面積を確保し、かつ隙間なく巻くことができるようになる。
 本実施形態では、コイル13aの巻数とコイル13bの巻数が等しければ、本実施形態の電磁レンズ1,1a~1dのコイル12,13a,13bの巻線の直径や厚みが異なっていてもよい。また、各コイル12,13a,13bの巻線の材質が異なっていてもよい。なお、巻線の直径や、厚みや、材質が異なることで、図4で説明したようにコイル12と、コイル13a,13bとの巻数が異なるが、コイル13aと、コイル13bの巻数は等しくなるように巻回される。
 また、コイル13a,13bに相当するコイルは、それぞれの合計巻数が一致していれば、複数のコイルからなる複合コイルとして備えることも可能である。つまり、本実施形態では、コイル13a,13bを1本の巻線からなる単一のコイルとしているが、コイル13a,13bのそれぞれを複数本の巻線からなる複数のコイルとしてもよい。この場合、コイル13aを構成するコイルの巻数と、コイル13bを構成する巻数は同じとする必要がある。同様に、コイル12も複数のコイルで構成されるようにしてもよい。
 また、コイル13a,13bを、1本の巻線を折り返したものを軸の周りに巻くことによって形成することもできる。つまり、コイル13a(またはコイル13b)を1本の巻線で形成した後、この巻線を折り返して、軸(電子線の経路5)の周りに巻回することでコイル13b(またはコイル13a)を形成してもよい。折り返し箇所は一方のコイルを形成した後に折り返してもよいし、1周毎に折り返してもよい。さらに、このような折り返しで形成したコイルを複数備えることで、コイル13a,13bを形成してもよい。
 また、本実施形態では、定電流電源2,3を別の定電流電源としたが、一体の定電流電源としてもよい。この場合、定電流電源はコイル12に流す電流と、コイル13a,13bに流す電流とを分流し、かつ、コイル12に流れる電流の電流量と、コイル13a,13bに流れる電流量とを調節可能な分流手段を備える必要がある。
 本実施形態によれば、3つのコイル12,13a,13bのうち、電流の大きさが同じで、かつ電流の流れる方向が互いに逆向きである2つのコイル13a,13bを設け、さらに式(3)および式(4)に従って各コイル12,13a,13bを流れる電流を制御することによって、発熱量を一定に保ったまま、電磁レンズ1,1a~1dの磁界強度を変化させることができる。このようにすることで、本実施形態では、電磁レンズ1,1a~1dが発生する磁場の安定性を向上させることができる。また、電流の大きさが同じで、かつ電流の流れる方向が互いに逆向きである2つのコイル13a,13bを設けることで、これらのコイルに流れる電流による起磁力をキャンセルすることができる。これにより、電磁レンズ1,1a~1dの精度を、特許文献1~3に記載の技術と比較して向上させることができる。
[荷電粒子装置]
 次に、図6を参照して、本実施形態に係る電磁レンズ1,1a~1dを備える荷電粒子装置を説明する。
 図6は、本実施形態に係る電磁レンズを備える荷電粒子装置の構成例を示す図である。
 なお、本実施形態では、荷電粒子装置として透過型電子顕微鏡の例を示しているが、走査型電子顕微鏡、イオンビーム装置、電子線描画装置などの荷電粒子装置としてもよい。
 図6の透過型電子顕微鏡(以下、電子顕微鏡200と称する)は、一般的な電子顕微鏡であるため、その詳細な説明は省略するが、電子銃201、電子光学系部202、試料ホルダ203、検出器204、電源を有する制御検出部205、制御装置206および高圧電源部251を有する。そして、電子銃201と電子光学系部202は、それぞれ真空排気装置212,213を備えている。
 電子銃201は電子源211から電子線を発生・放出する。放出された電子線は、経路5に従って進み、電子光学系部202において収束、偏向させられ、試料231に照射される。試料ホルダ203は試料231を保持し、必要に応じて、オペレータが操作することにより、試料231を移動、傾斜、交換する。検出器204は、試料231が発生した反射電子、二次電子、反射電子、透過電子、散乱電子、X線などを計測する。制御検出部205は、電子銃201、電子光学系部202に電源を供給するとともに、制御装置206の指示に従って出力を調整することによって、電子線をオペレータが要求する状態に制御する。特に、電子銃201は、制御検出部205に接続されている高圧電源部251で昇圧された電圧から電子線を発生する。また、制御装置206は、制御検出部205を介して検出器204から取得した情報をデジタル信号に変換する。また、制御装置206は、制御検出部205を制御することで電子銃201、電子光学系部202を制御するとともに、検出器204からの情報を処理し、オペレータに視認可能な形で表示または記録する。
 ここで、制御装置206が図1の制御装置4に相当し、制御検出部205に図1の定電流電源2,3が含まれている。
 また、電子光学系部202に3つの電磁レンズ221が備えられ、検出器204に1つの電磁レンズ221が備えられている。これらの電磁レンズ221は、図6の上から順にC1レンズ、C2レンズ、対物レンズ、照射レンズである。
 これら4つの電磁レンズ221のうち、少なくとも1つが本実施形態の電磁レンズ1,1a~1dのいずれかである。
 1,1a~1d 電磁レンズ
 2,3 定電流電源(電流源装置)
 4   制御装置
 5   電子線の経路
 11  強磁性体
 12  コイル(第1のコイル)
 13a コイル(第2のコイル)
 13b コイル(第3のコイル)
 200 電子顕微鏡(荷電粒子装置)
 201 電子銃
 202 電子光学系部
 203 資料ホルダ
 204 検出器
 205 制御検出部
 206 制御装置
 211 電子源
 212,213 真空排気装置
 221 電磁レンズ
 251 高圧電源部

Claims (10)

  1.  荷電粒子の進行軸の周囲に巻線が巻回されている第1のコイル、第2のコイルおよび第3のコイルと、
     磁路を形成する強磁性体と、
     各々の前記コイルに電流を流す電流源装置と、
     前記第2のコイルおよび前記第3のコイルに、互いに逆向き、かつ、同じ電流量の電流を流し、
     前記第1のコイル、第2のコイルおよび第3のコイルにおける合計発熱量をPとし、前記第1のコイルに流れる電流量をIとし、前記第1のコイルの抵抗値をRとし、前記第2のコイルおよび第3のコイルに流れる電流量をIとし、前記第2のコイルおよび第3のコイルにおける合成抵抗値をRとしたとき、前記第2のコイルおよび第3のコイルに流れる電流量Iを、以下の式(1)に従った量となるよう制御する制御装置と、
     を有することを特徴とする電磁レンズ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
     
  2.  前記合計発熱量Pは、前記第1のコイルに流すことのできる電流量のうち、最大の電流量を前記第1のコイルに流し、前記第2のコイルおよび前記第3のコイルには、電流を流さないときの発熱量である
     ことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の電磁レンズ。
  3.  前記第1のコイル、前記第2のコイルおよび前記第3のコイルを構成する巻線が、互いに分散して巻回されている
     ことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の電磁レンズ。
  4.  前記第1のコイルの巻数が、前記第2のコイルおよび前記第3のコイルそれぞれの巻数より多い
     ことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の電磁レンズ。
  5.  前記第2のコイルおよび前記第3のコイルそれぞれの抵抗値が、前記第1のコイルの抵抗値より大きい
     ことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の電磁レンズ。
  6.  前記第1のコイル、前記第2のコイルおよび前記第3のコイルを構成する巻線が角線である
     ことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の電磁レンズ。
  7.  前記第1のコイル、前記第2のコイルおよび前記第3のコイルを構成する角線が、層状に巻回されている
     ことを特徴とする請求の範囲第6項に記載の電磁レンズ。
  8.  前記第2のコイルおよび前記第3のコイルを構成する角線による層が、前記第1のコイルを構成する角線による層に、交互に挟まれている
     ことを特徴とする請求の範囲第7項に記載の電磁レンズ。
  9.  請求の範囲第1項に記載の電磁レンズを有する荷電粒子装置。
  10.  前記荷電粒子装置は、電子顕微鏡である
     ことを特徴とする請求の範囲第9項に記載の荷電粒子装置。
PCT/JP2012/068818 2011-07-26 2012-07-25 電磁レンズおよび荷電粒子装置 WO2013015311A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011163485A JP2013030276A (ja) 2011-07-26 2011-07-26 電磁レンズおよび荷電粒子装置
JP2011-163485 2011-07-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013015311A1 true WO2013015311A1 (ja) 2013-01-31

Family

ID=47601152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/068818 WO2013015311A1 (ja) 2011-07-26 2012-07-25 電磁レンズおよび荷電粒子装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2013030276A (ja)
WO (1) WO2013015311A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106783492A (zh) * 2016-12-14 2017-05-31 聚束科技(北京)有限公司 一种磁透镜及激励电流控制方法
US20200251304A1 (en) * 2017-09-04 2020-08-06 Hitachi High-Technologies Corporation Charged Particle Beam Device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102019004124B4 (de) * 2019-06-13 2024-03-21 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4847265A (ja) * 1971-10-15 1973-07-05
JPS57151160A (en) * 1981-03-16 1982-09-18 Internatl Precision Inc Electron lens
JPH04163842A (ja) * 1990-10-29 1992-06-09 Jeol Ltd 電子顕微鏡等における磁界形レンズ
JP2005079092A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Leica Microsystems Lithography Ltd 電子ビームの磁場作用における熱補償

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4847265A (ja) * 1971-10-15 1973-07-05
JPS57151160A (en) * 1981-03-16 1982-09-18 Internatl Precision Inc Electron lens
JPH04163842A (ja) * 1990-10-29 1992-06-09 Jeol Ltd 電子顕微鏡等における磁界形レンズ
JP2005079092A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Leica Microsystems Lithography Ltd 電子ビームの磁場作用における熱補償

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106783492A (zh) * 2016-12-14 2017-05-31 聚束科技(北京)有限公司 一种磁透镜及激励电流控制方法
WO2018107823A1 (en) 2016-12-14 2018-06-21 Focus-Ebeam Technology (Beijing) Co., Ltd. Magnetic lens and exciting current control method
US10923312B2 (en) 2016-12-14 2021-02-16 Focus-Ebeam Technology (Beijing) Co., Ltd. Magnetic lens and exciting current control method
EP3357079B1 (en) * 2016-12-14 2023-06-21 Focus-eBeam Technology (Beijing) Co., Ltd. Magnetic lens and exciting current control method
US20200251304A1 (en) * 2017-09-04 2020-08-06 Hitachi High-Technologies Corporation Charged Particle Beam Device
US11640897B2 (en) * 2017-09-04 2023-05-02 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013030276A (ja) 2013-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10181389B2 (en) X-ray tube having magnetic quadrupoles for focusing and collocated steering coils for steering
KR102009631B1 (ko) 하전 입자선 장치 및 주사 전자 현미경
TW202046368A (zh) 用於單個粒子束方位角偏轉的粒子束系統及粒子束系統中的方位角校正方法
JP2007311117A (ja) 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置
JP2007514285A (ja) アンジュレータ及びアンジュレータの作動方法
JP2019149387A (ja) 小型偏向磁石
JP6233617B2 (ja) アークプラズマ成膜装置
JP2015023030A (ja) 荷電粒子ビームを集束させる磁気レンズ
US11257659B1 (en) Electrode assembly, electronic apparatus/device using the same, and apparatus of charged-particle beam such as electron microscope using the same
WO2013015311A1 (ja) 電磁レンズおよび荷電粒子装置
EP1018757B1 (en) Charged particle beam emitting device
JP2007207706A (ja) 電磁波発生装置
JP6061771B2 (ja) 試料ホルダおよびそれを用いた荷電粒子線装置
JP4601923B2 (ja) 電子銃とそれを用いた電子ビーム照射装置
JP6666629B2 (ja) 収差補正器および電子顕微鏡
JP2000285839A (ja) 電子銃とそれを用いた露光装置および露光方法
Garrigues et al. Design and first test campaign results with a new flexible magnetic circuit for a Hall thruster
US8653472B2 (en) Electromagnetic field application system
US20020074524A1 (en) Magnetically shielded electromagnetic lens assemblies for charged-particle-beam microlithography systems
WO2016121226A1 (ja) 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡
US11450505B2 (en) Magnetic field free sample plane for charged particle microscope
WO2018168199A1 (ja) 偏向電磁石装置
JP2014041733A (ja) 荷電粒子線装置
US20240145210A1 (en) Electron Microscope, Multipole Element for Use Therein, and Control Method for Such Electron Microscope
JP5210088B2 (ja) 電子ビーム装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12817246

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12817246

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1