JPWO2014122993A1 - 磁性粒子の製造方法、磁性粒子および磁性体 - Google Patents
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Abstract
Description
この強磁性粒子は、BET比表面積が50〜250m2/g、平均長軸径が50〜450nm、アスペクト比(長軸径/短軸径)が3〜25であって金属元素X(Xは、Mn、Ni、Ti、Ga、Al、Ge、Zn、Pt、Siから選ばれる一種又は二種以上である)をFeモル対比0.04〜25%含有する酸化鉄又はオキシ水酸化鉄を出発原料として用いて、250μm以下のメッシュを通した鉄化合物粒子粉末について還元処理を行い、次いで、窒化処理を行って得られる。
この強磁性粒子粉末は、平均長軸径が40〜5000nm、アスペクト比(長軸径/短軸径)が1〜200の酸化鉄又はオキシ水酸化鉄を出発原料として用い、D50が40μm以下、D90が150μm以下になるよう凝集粒子分散処理を行い、さらに250μm以下のメッシュを通した鉄化合物粒子粉末を160〜420℃にて水素還元し、130〜170℃にて窒化処理して得られる。
窒化処理は、窒素元素を含むガスを原料粒子に供給しつつ、140℃〜200℃の温度に加熱し、3〜50時間保持して行うことが好ましい。より好ましくは、窒化処理は140℃〜160℃に加熱し、3〜20時間保持して行う。
原料粒子は、粒径が200nm未満であることが好ましく、より好ましくは、5〜50nmである。
乾燥・還元処理は、水素ガスまたは水素ガスを含む不活性ガスを供給しつつ、水素ガス雰囲気中または水素ガスを含む不活性ガス雰囲気中で原料粒子を200℃〜500℃の温度に加熱し、1〜20時間保持して行うことが好ましい。
この場合でも、窒化処理は、窒素元素を含むガスを原料粒子に供給しつつ、140℃〜200℃の温度に加熱し、3〜50時間保持して行うことが好ましい。より好ましくは、窒化処理は140℃〜160℃に加熱し、3〜20時間保持して行う。
酸化処理は、空気中で原料粒子を100℃〜500℃の温度に加熱し、1〜20時間保持して行うことが好ましい。
還元処理は、水素ガスと窒素ガスの混合ガスを原料粒子に供給しつつ、200℃〜500℃の温度に加熱し、1〜20時間保持して行うことが好ましい。
窒化処理は、窒素元素を含むガスを原料粒子に供給しつつ、140℃〜200℃の温度に加熱し、3〜50時間保持して行うことが好ましい。この場合でも、より好ましくは、窒化処理は140℃〜160℃に加熱し、3〜20時間保持して行う。
なお、窒化処理工程の前に、乾燥・還元処理工程を有し、乾燥・還元工程の後に、酸化処理工程と還元処理工程とをこの順番で有してもよい。
本発明の第3の態様は、窒化鉄の微粒子の表面に酸化アルミニウム層が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子を用いて形成されたことを特徴とする磁性体を提供するものである。
さらに、窒化処理工程の前に、原料粒子に乾燥・還元処理を施す乾燥・還元処理工程または原料粒子に酸化処理を施す酸化処理工程と、酸化処理された原料粒子に還元処理を施す還元処理工程とを有することにより、窒化処理時間を短縮することができる。
本発明の磁性粒子、およびこの磁性粒子を用いて形成された磁性体は、微粒子が窒化鉄で構成されているため、高い保磁力を有し、優れた磁気特性を有する。
図1(a)は、本発明の磁性粒子を示す模式的断面図であり、(b)は、原料粒子を示す模式的断面図である。図2は、磁性粒子および原料粒子の磁気ヒステリシス曲線(B−H曲線)の一例を示すグラフである。
図1(a)に示すように、本実施形態の磁性粒子10は、窒化鉄の微粒子12(コア)の表面に、酸化アルミニウム層(Al2O3層)14(シェル)が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子である。
磁性粒子10は、球状粒子であり、その粒径が50nm程度であるが、好ましくは、5〜50nmである。なお、粒径は比表面積測定から換算し、求めた値である。
なお、微粒子12は、Fe16N2単相ではなく、他の窒化鉄が混合する組成であってもよい。
磁性粒子10は、窒化鉄の微粒子12を有するため、高い保磁力を有し、優れた磁気特性を有する。微粒子12がFe16N2単相である場合、後に詳細に説明するが、保磁力として、例えば、3070Oe(約244.3kA/m)が得られる。また、磁性粒子10は、分散性も良好である。
また、磁性粒子10は、絶縁体である酸化アルミニウム層14により、磁性粒子10間に流れる電流を抑制することができ、電流による損失を抑制することができる。
このような磁性粒子10を用いて形成した磁性体は、高い保磁力を有するとともに、優れた磁気特性を有する。磁性体としては、例えば、ボンド磁石が挙げられる。
磁性粒子10は、図1(b)に示す原料粒子20を原料とし、この原料粒子20に窒化処理を施すこと(窒化処理工程)により製造することができる。原料粒子20は、鉄(Fe)の微粒子22の表面に、酸化アルミニウム層24が形成されたコアシェル構造を有するものである。原料粒子20をFe/Al2O3粒子とも表わす。
原料粒子20は、球状であり、その粒径が50nm程度であるが、好ましくは、5〜50nmである。なお、粒径は比表面積測定から換算し、求めた値である。
窒化処理により、鉄の微粒子22を窒化し、窒化鉄、最も好ましくはFe16N2の微粒子にする。このとき、酸化アルミニウム層24は、安定した物質であり、窒化処理により、他の物質に変わることがない。このため、コアシェル構造が維持された状態で、コアの鉄の微粒子22を窒化し、窒化鉄の微粒子12に変えて、図1(a)に示す磁性粒子10が得られる。
本発明では、原料の原料粒子20のコアシェル構造を維持して、コアの鉄の微粒子22を窒化し、窒化鉄の微粒子12にすることができれば、窒化処理の方法は、上記の窒化処理方法に限定されるものではない。
図2に示すように、原料粒子20は、符号Aに示す磁気ヒステリシス曲線(B−H曲線)が得られ、磁性粒子10は、符号Bに示す磁気ヒステリシス曲線(B−H曲線)が得られた。磁気ヒステリシス曲線Aと磁気ヒステリシス曲線Bからわかるように、磁性粒子10の方が磁気特性が優れている。磁性粒子10は、コアを窒化鉄の微粒子12とすることにより、コアが鉄の原料粒子20に比して高い保磁力、例えば、3070Oe(約244.3kA/m)が得られる。また、飽和磁束密度として、162emu/g(約2.0×10−4Wb・m/kg)が得られる。
また、窒化処理時間は、3〜50時間であることが好ましい。窒化処理時間が3時間未満では、窒化が十分ではない。一方、窒化処理時間が50時間を超えると、原料粒子同士が融着するとともに窒化が飽和する。
図3(a)は、窒化処理温度200℃での結晶構造の解析結果であり、図3(b)は、窒化処理温度175℃での結晶構造の解析結果であり、図3(c)は、窒化処理温度150℃での結晶構造の解析結果である。窒化処理の保持時間は、いずれも5時間である。
なお、図3(d)は、原料粒子(Fe/Al2O3粒子)の結晶構造の解析結果である。
図3(d)と図3(a)〜(c)を比較すると、窒化された図3(a)〜(c)では、窒化鉄が生じている。中でも、窒化処理温度150℃では、窒化鉄(Fe16N2)の略単相状態である。
図4(a)は、窒化処理温度150℃での結晶構造の解析結果であり、図4(b)は、窒化処理温度145℃での結晶構造の解析結果である。図4(c)は、Fe16N2のX線回折法による結晶構造の解析結果である。図4(d)は、原料粒子(Fe/Al2O3粒子)の結晶構造の解析結果である。
図4(c)を参照し、図4(d)と図4(a)、(b)とを比較すると、図4(a)、(b)にはFe16N2の回折ピークが表れており、窒化処理により鉄が窒化鉄に変化していることは明らかである。
図5(c)を参照し、図5(a)と(b)を比較すると、右側の回折ピークについては、図5(a)の回折ピークC1よりも図5(b)の回折ピークC2の方が図5(c)のFe16N2の右側の回折ピークC3の高さと等しく、窒化処理温度145℃での窒化処理により鉄が完全に窒化鉄に変化している。
図6(a)、(b)を比較すると、窒化処理時間が10時間(図6(b)参照)の方が、Fe16N2の回折ピークのパターンに近い回折ピークのパターンが得られている。このように、窒化処理時間は長い方が、窒化処理時間が5時間のもの(図6(a)参照)よりも、窒化が進行してFe16N2に変化している。
図7(a)は、原料粒子のTEM像であり、図7(b)は、磁性粒子のTEM像であり、図7(c)は、図7(b)の磁性粒子を拡大したTEM像である。
図7(a)、(b)に示すように、窒化処理前後で、粒子構造に大きな変化はなく、窒化処理後も、図7(c)に示すように、コアシェル構造が維持された磁性粒子が得られる。また、図7(b)に示すように、各磁性粒子は、凝集することなく分散している。
図8(a)は、窒化処理温度145℃、窒化処理時間6時間での解析結果であり、図8(b)は窒化処理温度145℃、窒化処理時間12時間での解析結果であり、図8(c)は、窒化処理温度145℃、窒化処理時間18時間での解析結果である。
図8(d)を参照して、図8(a)〜(c)を比較すると、窒化処理時間が長くなると、窒化が進行する。しかしながら、上述の粒径が10nmの場合に比して、窒化が十分に進行しない。なお、窒化処理温度145℃は、粒径が10nmで最も窒化が良好な結果が得られた温度である。
図9(a)、(b)に示すように、粒径が50nmであっても、窒化処理前後で、粒子構造に大きな変化はなく、窒化処理後も、図9(c)に示すように、コアシェル構造が維持された磁性粒子が得られる。
図10(a)は、本発明の磁性粒子の他の製造方法の第1例を示すフローチャートであり、(b)は、本発明の磁性粒子の他の製造方法の第2例を示すフローチャートであり、(c)は、本発明の磁性粒子の他の製造方法の第3例を示すフローチャートである。
本発明は、原料粒子に窒化処理を施して磁性粒子を得る製造方法に限定されるものではない。図10(a)に示すように、窒化処理の前に、原料粒子20に酸化処理を施し、鉄(Fe)の微粒子22を酸化させる(ステップS10)。その後、原料粒子20に還元処理を施し、酸化された鉄(Fe)の微粒子22を還元する(ステップS12)。次に、原料粒子20に窒化処理を施し、還元された鉄(Fe)の微粒子22を窒化する(ステップS14)。これにより、窒化鉄の微粒子12を有する磁性粒子10を製造することができる。
酸化処理は、温度が100℃未満では、酸化が十分ではない。一方、温度が500℃を超えると、原料粒子同士が融着する。さらには、酸化反応が飽和し、酸化がそれ以上進行しない。
また、酸化処理は、酸化処理時間が1時間未満では、酸化が十分ではない。一方、酸化処理時間が20時間を超えると、原料粒子同士が融着する。さらには、酸化反応が飽和し、酸化がそれ以上進行しない。
還元処理は、温度が200℃未満では、還元が十分ではない。一方、温度が500℃を超えると、原料粒子同士が融着するとともに、還元反応が飽和し、還元がそれ以上進行しない。
また、還元処理は、還元処理時間が1時間未満では、還元が十分ではない。一方、還元処理時間が50時間を超えると、原料粒子同士が融着するとともに、還元反応が飽和し、還元がそれ以上進行しない。
窒化処理時間は、窒化処理時間が3時間未満では、窒化が十分ではない。一方、窒化処理時間が50時間を超えると、窒化が飽和するとともに原料粒子同士が融着する。
原料粒子20と他の粒子が混在したものを原料として用いて、上述の一連の酸化処理工程、還元処理工程および窒化処理工程を施した場合、他の粒子の割合が体積%で半分程度であっても、図1(a)に示す磁性粒子10が形成されることはもちろんのこと、窒化鉄の微粒子(コア)の表面に酸化鉄層(シェル)が形成されたコアシェル構造を有する磁性粒子が形成されることを確認している。上記酸化鉄層を有する磁性粒子は、図1(a)に示す磁性粒子10と同程度のサイズであることも確認している。しかも、磁性粒子10と上記酸化鉄層を有する磁性粒子は固着せずに分散する。
なお、上述の原料粒子20と他の粒子が混在したものを原料として用いて、窒化処理工程を施すだけで、他の粒子の割合が体積%で半分程度であっても、上述のように同程度のサイズで、磁性粒子10と上記酸化鉄層を有する磁性粒子を形成することができ、しかも固着せずに分散することを確認している。このように、原料に原料粒子20と他の粒子が混在したものを用いても、磁性粒子10を得ることができ、加えて上述の酸化鉄層を有する磁性粒子を得ることができる。
原料粒子20に水分が吸着している場合、そのまま加熱して水分を蒸発させようとすると、水分と鉄が反応し酸化する可能性があるが、乾燥・還元処理を施すことで、水素を用いて還元雰囲気で加熱するため、酸化反応を生じずに水分を除去することができる。
原料粒子20を大気中に放置した場合、または水分が吸着している場合、鉄の微粒子22の表面に酸化皮膜ができている可能性があり、これにより窒化が速やかに進行しないことがある。しかしながら、窒化処理の前に乾燥・還元処理を施すことで、鉄の微粒子22の表面における表面酸化の防止および表面酸化膜を除去することができ、速やかに窒化させることができる。
乾燥・還元処理は、温度が200℃未満では、還元が十分ではない。一方、温度が500℃を超えると、原料粒子同士が融着するとともに乾燥および還元が飽和し、乾燥および還元がそれ以上進行しない。
また、乾燥・還元処理は、乾燥・還元処理時間が1時間未満では、乾燥および還元が十分ではない。一方、乾燥・還元処理時間が20時間を超えると、原料粒子同士が融着するとともに乾燥および還元が飽和し、乾燥がそれ以上進行しない。
図11(a)は、酸化処理前のX線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、(b)、(c)は、酸化処理後のX線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフである。図12(a)、(b)は、窒化処理後のX線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフである。図12(a)、(b)は、図11(c)に示す結晶構造を有するものに対して窒化処理をして得られたものである。
還元処理工程では、水素存在雰囲気にて、温度300℃で15時間の還元処理条件で行った。なお、水素存在雰囲気には、H2ガス濃度4体積%のH2ガス(水素ガス)とN2ガス(窒素ガス)の混合気体を用いた。
窒化処理工程では、アンモニアガス雰囲気にて、温度145℃で10時間または15時間の窒化処理条件で行った。
図11(a)に示す原料粒子の回折ピークと、酸化時間が2時間の図11(b)に示す回折ピークとを比較すると、図11(b)には酸化鉄の回折ピークがあり、鉄(Fe)の微粒子22が酸化されている。また、図11(a)に示す原料粒子の回折ピークと、酸化時間が4時間の図11(c)に示す回折ピークとを比較しても、図11(c)には酸化鉄のピークがあり、鉄(Fe)の微粒子22が酸化されている。
還元処理後に、窒化処理することにより、図12(a)、(b)に示すように酸化鉄の回折ピークがなくなり、Fe16N2の回折ピークが表れており、窒化処理により窒化鉄(Fe16N2)に変化していることは明らかである。
図13は、窒化処理の前に酸化処理および還元処理して製造された磁性粒子、および窒化処理だけで製造された磁性粒子における窒化処理時間と窒化鉄の収量の関係を示すグラフである。窒化鉄の収量については、X線回折法による結晶構造の解析を行い、得られた回折ピークを基に、公知の方法を用いて窒化鉄の割合を算出し、これを窒化鉄の収量とした。
図13に示すように、窒化処理だけでは、窒化が収束するのに窒化処理時間として40時間要する。これに対して、窒化処理の前に、酸化処理および還元処理を施すと、15時間で窒化が収束する。このように、窒化処理工程の前工程に、酸化処理工程および還元処理工程を加えることで、窒化処理時間を短縮することができ、かつ窒化鉄の収量を多くすることができる。
12、22 微粒子
14、24 酸化アルミニウム層
20 原料粒子
Claims (11)
- 鉄の微粒子の表面に酸化アルミニウム層が形成されたコアシェル構造の原料粒子に、窒化処理を施し、コアシェル構造を維持しつつ、鉄の微粒子を窒化させる窒化処理工程を有することを特徴とする磁性粒子の製造方法。
- 前記窒化処理工程の前に、前記原料粒子に乾燥・還元処理を施す乾燥・還元処理工程を有し、
前記窒化処理工程では、前記乾燥・還元処理された前記原料粒子に前記窒化処理を施す請求項1に記載の磁性粒子の製造方法。 - 前記乾燥・還元処理は、水素ガスまたは水素ガスを含む不活性ガスを供給しつつ、水素ガス雰囲気中または前記水素ガスを含む不活性ガス雰囲気中で前記原料粒子を200℃〜500℃の温度に加熱し、1〜20時間保持して行う請求項2に記載の磁性粒子の製造方法。
- 前記窒化処理工程の前に、前記原料粒子に酸化処理を施す酸化処理工程と、前記酸化処理された前記原料粒子に還元処理を施す還元処理工程とを有し、
前記窒化処理工程では、前記還元処理された前記原料粒子に前記窒化処理を施す請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁性粒子の製造方法。 - 前記酸化処理は、空気中で前記原料粒子を100℃〜500℃の温度に加熱し、1〜20時間保持して行う請求項4に記載の磁性粒子の製造方法。
- 前記還元処理は、水素ガスと窒素ガスの混合ガスを前記原料粒子に供給しつつ、200℃〜500℃の温度に加熱し、1〜20時間保持して行う請求項4に記載の磁性粒子の製造方法。
- 前記窒化処理は、窒素元素を含むガスを前記原料粒子に供給しつつ、140℃〜200℃の温度に加熱し、3〜50時間保持して行う請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁性粒子の製造方法。
- 前記窒化処理工程の前に、前記乾燥・還元処理工程を有し、前記乾燥・還元工程の後に、前記酸化処理工程と前記還元処理工程とをこの順番で有する請求項4〜7のいずれか1項に記載の磁性粒子の製造方法。
- 前記原料粒子は、球状であり、粒径が200nm未満である請求項1〜8のいずれか1項に記載の磁性粒子の製造方法。
- 窒化鉄の微粒子の表面に酸化アルミニウム層が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子であることを特徴とする磁性粒子。
- 窒化鉄の微粒子の表面に酸化アルミニウム層が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子を用いて形成されたことを特徴とする磁性体。
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