JPWO2011052327A1 - 芳香族スルホニウム塩化合物 - Google Patents
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Abstract
Description
即ち、本発明は、下記一般式(I)で表される芳香族スルホニウム塩化合物を提供するものである。
R11〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基又は水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基を表し、
R15〜R19は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜12のエステル基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基又は水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基を表し、
An-は、1価の陰イオンを表す。
上記R1〜R19のうち少なくとも一つは、水酸基、水酸基で置換された炭素原子数1〜12のエステル基、水酸基で置換された炭素原子数1〜18のアルコキシ基及び水酸基で置換された炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基の群より選択される置換基であり、
上記R1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基及びR1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基及びR1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基のメチレン基は、−O−で中断されていても良い。)
更に、本発明の芳香族スルホニウム塩化合物は、カチオン重合開始剤としても有用であり、これを用いることで、硬化性に優れたカチオン重合性組成物が得られる。
先ず、本発明のスルホニウム塩化合物について説明する。
本発明のスルホニウム塩化合物は、上記一般式(I)で表わされる新規な化合物である。本発明のスルホニウム塩化合物は、一般式(I)中のR1〜R19で表される基のうち少なくとも一つが、水酸基、水酸基で置換された炭素原子数1〜12のエステル基、水酸基で置換された炭素原子数1〜18のアルコキシ基及び水酸基で置換された炭素原子数1〜18のチオアルコキシの群より選択される置換基である点に特徴の一つを有している。
R1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−ブチル、t−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、エチルオクチル、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−メチルチオエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ジフルオロエチル、トリクロロエチル、ジクロロジフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、デカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル、ペンタデカフルオロヘプチル、ヘプタデカフルオロオクチル、メトキシメチル、1,2−エポキシエチル、メトキシエチル、メトキシエトキシメチル、メチルチオメチル、エトキシエチル、ブトキシメチル、t−ブチルチオメチル、4−ペンテニルオキシメチル、トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル、メトキシシクロヘキシル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、1−メチル−1−メトキシエチル、エチルジチオエチル、トリメチルシリルエチル、t−ブチルジメチルシリルオキシメチル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル、t−ブトキシカルボニルメチル、エチルオキシカルボニルメチル、エチルカルボニルメチル、t−ブトキシカルボニルメチル、アクリロイルオキシエチル、メタクリロイルオキシエチル、2−メチル−2−アダマンチルオキシカルボニルメチル、アセチルエチル、カンファー−10−イル、2−メトキシ−1−プロペニル、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、1,2−ジヒドロキシエチル等が挙げられ、
R1〜R10及びR15〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜12のエステル基としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシ、t−ブチルカルボニルオキシ、メトキシアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、ヒドロキシメチルカルボニルオキシ、ヒドロキシメトキシメチルカルボニルオキシ、ヒドロキシエトキシエチルカルボニル、2−ヒドロキシエトキシカルボニル、3−ヒドロキシプロピルオキシカルボニル、4−ヒドロキシフェノキシカルボニル、3−ヒドロキシプロピオニルオキシ、4−ヒドロキシブチリルオキシ、2,3−ジヒドロキシプロピルカルボニルオキシ、4−ヒドロキシブチルカルボニルオキシ、3−ヒドロキシブチルカルボニルオキシ、3−ヒドロキシ−1−メチルプロピルカルボニルオキシ、5−ヒドロキシペンチルカルボニルオキシ、4−ヒドロキシペンチルカルボニルオキシ、3−ヒドロキシペンチルカルボニルオキシ、4−ヒドロキシベンゾイルオキシ等が挙げられ、
R1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、s−ブチルオキシ、t−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソアミルオキシ、t−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘキシルメチルオキシ、テトラヒドロフラニルオキシ、テトラヒドロピラニルオキシ、2−メトキシエチルオキシ、3−メトキシプロピルオキシ、4−メトキシブチルオキシ、2−ブトキシエチルオキシ、メトキシエトキシエチルオキシ、メトキシエトキシエトキシエチルオキシ、3−メトキシブチルオキシ、2−メチルチオエチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、ヒドロキシメチルオキシ、1−ヒドロキシエチルオキシ、2−ヒドロキシエチルオキシ、2−ヒドロキシプロピルオキシ、3−ヒドロキシプロピルオキシ、2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ、2−ヒドロキシ−1−メチルプロピルオキシ、2−ヒドロキシ−1−メチルエチルオキシ、2−ヒドロキシブチルオキシ、4−ヒドロキシブチルオキシ、2,3−ジヒドロキシブチルオキシ、3,4−ジヒドロキシブチルオキシ、2,3,4−トリヒドロキシブチルオキシ、2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルオキシ、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピルオキシ、5−ヒドロキシペンチルオキシ、2−ヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)ブチルオキシ、3−ヒドロキシ−2−ジ(ヒドロキシメチル)プロピルオキシ、6−ヒドロキシヘキシルオキシ、5,6−ジヒドロキシヘキシルオキシ、2−ヒドロキシシクロヘキシルオキシ、4−ヒドロキシシクロヘキシルオキシ、2,3,4,5,6−ペンタヒドロキシシクロヘキシルオキシ、2−(2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルオキシ)エチルオキシ、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルオキシ、2−ジ(ヒドロキシメチル)ブチルオキシ等が挙げられ、
R1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基としては、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、t−アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、アダマンチルチオ、メトキシメチルチオ、イソブチルメチルチオ、2−ヒドロキシエチルチオ、3−ヒドロキシプロピルチオ、2,3−ジヒドロキシプロピルチオ、2−ヒドロキシ−1−メチルプロピルチオ等が挙げられる。
これらの化合物の中でも、R1〜R10の何れか1つが水酸基であり、R11〜R14 の何れか1つがフッ素原子である化合物;R1〜R10の何れか1つが水酸基で置換された炭素原子数1〜18のアルコキシ基又は水酸基で置換された炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基である化合物;R11〜R19の何れか1つが水酸基であり、R11〜R14の何れか1つがフッ素原子である化合物が、現像性及び酸発生能が高いので更に好ましい。
200mlの四つ口フラスコに、濃硫酸72.11g(0.735モル)を仕込み、窒素置換し、内温10℃まで冷却した。ビス(ヒドロキシフェニル)スルホキシド11.24g(0.048モル)を加え、クロロベンゼン12.33gに溶解した3−フルオロ−4−フェニルチオ−ベンゾフェノン12.33g(0.04モル)を滴下し、内温30℃で3時間撹拌した。次いで、1Lのビーカーに氷水120g、メタノール120g及びトルエン120gを混合しておき、これに反応液を投入して、1時間撹拌後静置した。上層を取り除き、下層に塩化メチレン200ml及びトリフルオロメタンスルホン酸リチウム7.49g(0.048モル)を加え、1.5時間撹拌した。塩化メチレン層を水120gで3回洗浄後溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラム(塩化メチレン/アセトン/メタノール=8/1/1)を用いて精製することにより、化合物No.1のトリフルオロメタンスルホン酸塩を得た(収量7.61g、収率25.0%及びHPLC純度94.4%)。
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムに替えてKSbF6の13.19g(0.048モル)を用いた以外は実施例1−1と同様にして合成することにより、化合物No.1の六フッ化アンチモン塩を得た(収量6.49g、収率21.3%及びHPLC純度93.2%)。
200ml四つ口フラスコに、テトラクロロエタン28.00ml、3,4−ジフルオロアニソール15.97g(0.111モル)、塩化亜鉛0.50g(3.67×10-3モル)及びベンゾイルクロライド20.00g(0.142モル)を投入して撹拌し、窒素置換し、内温150℃で8時間加熱した。次いで、1Lビーカーにトルエン200ml及び水100mlを混合しておき、これに反応液を投入し撹拌した。トルエン層に水50mlを加え、NaOHでpH=10とし、更に水50mlで4回水洗した。トルエン層を濃縮し、ヘキサン20mlを加えると結晶が析出した。これをろ別し乾燥することにより、3,4−ジフルオロ−6−メトキシベンゾフェノンを得た(収量9.00g、収率32.7%及びHPLC純度98.1%)。
50ml四つ口フラスコに、ステップ1で得られた化合物2.73g(0.011モル)、ジメチルホルムアミド(DMF)6.00g及びチオフェノール1.45g(0.0132モル)を投入して撹拌し、窒素置換した。48%NaOH水溶液1.37g(0.0165モル)を20〜25℃で滴下し、1時間撹拌した。反応液に塩化メチレン40mlを加え、水50mlで5回水洗し、塩化メチレン層から溶媒を留去した。トルエン1.0mlに溶解し、ヘキサン5.0mlを加えると結晶が析出した。これをろ別、乾燥することにより、3−フルオロ−6−メトキシ−4−フェニルチオベンゾフェノンを得た(収量3.22g、収率86.6%、及びHPLC純度98.9%)。
50ml四つ口フラスコに、濃硫酸16.87gを仕込み、窒素置換して、内温10℃まで冷却した。クロロベンゼン2.68gに溶解したビス(フルオロフェニル)スルホキシド2.68g(0.0112モル)を滴下し、更にクロロベンゼン6.20gにステップ2で得られた化合物3.17g(0.00936モル)を溶解したものを滴下し、35℃で2.5時間撹拌した。次に、500mlビーカーにトルエン40ml及びメタノール40ml、水40mlを混合しておき、これに反応液を投入して1時間撹拌した。上層を取り除き、下層に塩化メチレン50ml及びトリフルオロメタンスルホン酸リチウム1.752g(0.0112モル)を加え、1時間撹拌した。塩化メチレン層を水50mlで4回水洗し、溶媒を留去することにより、中間体No.3を得た(収量5.52g、収率83.2%、及びHPLC純度82.1%)。
50ml四つ口フラスコに、ステップ3で得られた中間体No.3の4.57g(0.00645モル)、テトラクロロエタン13.5g及び塩化アルミニウム4.30g(0.0322モル)を投入して撹拌し、窒素置換した。更にオクタンチオール0.944g(0.00646モル)を添加し、内温30℃で6時間撹拌した。次に、500mlビーカーに塩化メチレン200ml及び水50mlを混合しておき、これに反応液を投入して1時間撹拌した。上層を取り除き、塩化メチレン層に水50ml及びNaOH水溶液を加えてpH=7〜8とし、塩化メチレン層を水50mlで3回水洗し濃縮した。得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラム(塩化メチレン/アセトン=7/3)を用いて精製することにより、化合物No.3のトリフルオロメタンスルホン酸塩を得た(収量2.32g、収率51.8%、及びHPLC純度93.2%)。
200mlの四つ口フラスコに、濃硫酸99.06g(1.01モル)を仕込み、窒素置換し、内温10℃まで冷却した。クロロベンゼン16.38gに溶解したビス(フルオロフェニル)スルホキシド16.38g(0.0688モル)を滴下し、更にクロロベンゼン33.00gに溶解させた3−フルオロ−4−フェニルチオ−ベンゾフェノン16.96g(0.055モル)を滴下し、内温30℃で3時間撹拌した。次いで、1Lのビーカーに氷水120g、メタノール120g、及びトルエン120gを混合しておき、これに反応液を投入して、1時間撹拌後静置した。上層を取り除き、下層に塩化メチレン200ml及びトリフルオロメタンスルホン酸リチウム10.73g(0.0688モル)を加えて1時間撹拌した。塩化メチレン層を水120gで3回洗浄後、溶媒を留去し、得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラム(塩化メチレン/アセトン/メタノール=8/1/1)を用いて精製することにより、中間体No.4を得た(収量23.74g、収率63.6%、及びHPLC純度96.9%)。
50ml四つ口フラスコに、ステップ1で得られた中間体No.4の3.40g(5.01×10-3モル)、DMF4.00g及びエチレングリコール3.20g(0.0516モル)を投入して撹拌し、窒素置換した。48%NaOH水溶液1.04g(0.0125モル)を滴下し、3時間撹拌した後、塩化メチレン30mlを加え、更に水60ml及びHClを加え、pH=2とした。塩化メチレン層を水60mlで3回水洗し、溶媒を留去し、得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラム(塩化メチレン/アセトン/メタノール=6/3/1)を用いて精製することにより、化合物No.4のトリフルオロメタンスルホン酸塩を得た(収量1.81g、収率47.4%及びHPLC純度94.6%)。
100ml四つ口フラスコに、アニソール16.65g(0.154モル)、テトラクロロエタン35.0g、3,4−ジフルオロベンゾイルクロライド24.72g(0.14モル)及び塩化亜鉛0.630g(0.033モル)を投入して撹拌し、窒素置換し、135℃で4時間撹拌した。次に、1Lビーカーにトルエン200ml及び水100mlを混合しておき、これに反応液を投入して撹拌した。トルエン層に水100mlを加え、NaOHでpH=10とし、更に水100mlで4回水洗した。トルエン層を濃縮し、ヘキサン100mlを加えると結晶が析出した。これをろ別、乾燥することにより、3,4−ジフルオロ−4’−メトキシベンゾフェノンを得た(収量13.63g、収率39.2%及びHPLC純度97.8%)。
200ml四つ口フラスコに、ステップ1で得られた化合物13.55g(0.0546モル)、DMF30.00g及びチオフェノール7.219g(0.0655モル)を投入して撹拌し、窒素置換した。48%NaOH水溶液6.82g(0.0819モル)を20〜25℃で滴下し、1時間撹拌した。反応液に塩化メチレン100mlを加え、水100mlで5回水洗し、塩化メチレン層から溶媒を留去した。トルエン6.0mlに溶解し、ヘキサン50mlを加えると結晶が析出した。これをろ別、乾燥することにより、3−フルオロ−4’−メトキシ−4−フェニルチオベンゾフェノンを得た(収量16.60g、収率89.8%、及びHPLC純度99.6%)。
200ml四つ口フラスコに、濃硫酸87.43gを仕込み、窒素置換し、内温10℃まで冷却した。クロロベンゼン13.87gに溶解したビス(フルオロフェニル)スルホキシド13.87g(0.0582モル)を滴下し、更にクロロベンゼン32.82gにステップ2で得られた化合物16.41g(0.0485モル)を溶解させたものを滴下して、35℃で2.5時間撹拌した。次に、1Lビーカーにトルエン200ml、メタノール150ml及び水200mlを混合しておき、これに反応液を投入して、1時間撹拌した。上層を取り除き、下層に塩化メチレン150ml及びトリフルオロメタンスルホン酸リチウム9.08g(0.0582モル)を加え、1時間撹拌した。塩化メチレン層を水200mlで4回水洗し、溶媒を留去することにより、中間体No.5を得た(収量34.25g、収率99.7%、及びHPLC純度93.8%)。
50ml四つ口フラスコに、ステップ3で得られた中間体No.5の15.31g(0.0216モル)、テトラクロロエタン35.00g及び塩化アルミニウム14.12g(0.106モル)を投入して撹拌し、窒素置換した。更にオクタンチオール0.775g(0.0106モル)を添加し、内温30℃で10時間撹拌した。次に、500mlビーカーに塩化メチレン80ml及び水80mlを混合しておき、これに反応液を投入して1時間撹拌した。上層を取り除き、塩化メチレン層に水70ml及びNaOH水溶液を加えpH=7〜8とし、塩化メチレン層を水80mlで3回水洗後濃縮し、得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラム(塩化メチレン/アセトン=7/3)を用いて精製することにより、化合物No.5のトリフルオロメタンスルホン酸塩を得た(収量4.79g、収率31.9%、及びHPLC純度97.3%)。
50ml四つ口フラスコに、中間体No.4の3.40g(5.01×10-3モル)及びDMF8.00gを入れ攪拌、溶解した。更にK2CO31.73g(0.0125モル)を加えて攪拌し、窒素置換し、2−メルカプトエタノール0.978g(0.0125モル)を滴下後、室温で2時間攪拌した。反応液を塩化メチレン30mlに加え、更に水60mlを加え、塩化メチレン層を水60mlで4回水洗し、溶媒を留去して、得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラム(塩化メチレン/アセトン/メタノール=6/3/1)を用いて精製することにより、化合物No.6のトリフルオロメタンスルホン酸塩を得た(収量2.11g、収率53.0%、及びHPLC純度92.9%)。
<測定条件>
装置名:Voyager-DE STR
Matrix:Dithranol(mw:226.2)
Instrument Mode:Reflector
Positive測定及びNegative測定
尚、測定する試料及びMatrixは、何れもTHF1%溶液とし、該試料溶液:Matrix溶液=2μl:20μlとして調製した。
スクリュー管に、ポリビニルフェノール(丸善石油化学製S−2P、Mw5800)0.36g及び3%TMAH水溶液10.00gを量りとり加熱、溶解した。別のスクリュー管に、この溶液2.00gと、化合物No.1及びNo.5のトリフルオロメタンスルホン酸塩、並びに比較化合物No.1(実施例1−4のステップ1で得られた中間体No.4)とをそれぞれ少量ずつ量りとり加熱し、溶解するか否かを目視で確認するという操作を繰り返し、飽和する濃度を確認した。飽和する濃度を確認した後、飽和溶液を一昼夜静置し、飽和溶液から固体が析出していないことを確認した。このときのポリビニルフェノールに対する各化合物の重量比を溶解度とし、算出した。結果を[表3]に示す。
実施例1−2と同様にして、化合物No.3、No.4及びNo.5の六フッ化アンチモン塩を別途合成した。日本化薬製EPPN−201の100gをメチルエチルケトン(MEK)100gに溶解させることにより樹脂溶液を調製し、この樹脂溶液8.00gに、化合物No.1、化合物No.3、No.4及びNo.5の六フッ化アンチモン塩の0.05gをそれぞれ溶解させてレジスト液を調製した。これらのレジスト液をそれぞれアルミ板上に#9のバーコーターで塗布し、80℃で10分乾燥した後、365nmの光を65mW/cm2で9秒間露光した。80℃で10分間ベークした後、MEKに30秒間浸漬し、塗膜の状態を目視により確認したところ、何れの塗膜にも、はがれがないことが確認された。
Claims (9)
- 下記一般式(I)で表されることを特徴とする芳香族スルホニウム塩化合物。
R11〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基又は水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基を表し、
R15〜R19は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜12のエステル基、水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基又は水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基を表し、
An-は、1価の陰イオンを表す。
上記R1〜R19のうち少なくとも一つは、水酸基、水酸基で置換された炭素原子数1〜12のエステル基、水酸基で置換された炭素原子数1〜18のアルコキシ基及び水酸基で置換された炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基の群より選択される置換基であり、
上記R1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルキル基、R1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のアルコキシ基及びR1〜R19で表される水酸基で置換されてもよい炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基のメチレン基は、−O−で中断されていても良い。) - 上記一般式(I)中、R11〜R14のうち少なくとも一つが、ハロゲン原子である請求項1記載の芳香族スルホニウム塩化合物。
- 上記一般式(I)中、R11〜R14のうち少なくとも一つが、フッ素原子である請求項1又は2記載の芳香族スルホニウム塩化合物。
- 上記一般式(I)中、R1〜R19のうち少なくとも一つが、水酸基、水酸基で置換された炭素原子数1〜18のアルコキシ基又は水酸基で置換された炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基である請求項2又は3記載の芳香族スルホニウム塩化合物。
- 上記一般式(I)中、R1〜R19のうち少なくとも一つが、水酸基又は水酸基で置換された炭素原子数1〜18のチオアルコキシ基である請求項4記載の芳香族スルホニウム塩化合物。
- 請求項1〜5の何れかに記載の芳香族スルホニウム塩化合物からなることを特徴とする光酸発生剤。
- 請求項6記載の光酸発生剤を含有してなることを特徴とするレジスト組成物。
- 請求項1〜5の何れかに記載の芳香族スルホニウム塩化合物からなることを特徴とするカチオン重合開始剤。
- 請求項8記載のカチオン重合開始剤を含有してなることを特徴とするカチオン重合性組成物。
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