JP2000347403A - ビルドアップ用光硬化性組成物 - Google Patents

ビルドアップ用光硬化性組成物

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JP2000347403A
JP2000347403A JP11154677A JP15467799A JP2000347403A JP 2000347403 A JP2000347403 A JP 2000347403A JP 11154677 A JP11154677 A JP 11154677A JP 15467799 A JP15467799 A JP 15467799A JP 2000347403 A JP2000347403 A JP 2000347403A
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Seiichi Saito
誠一 斎藤
Hiroyuki Tachikawa
裕之 立川
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Adeka Corp
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Asahi Denka Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 短時間で硬化する、作業性及び生産性に優れ
たビルドアップ用光硬化性組成物を提供すること。 【解決手段】 本発明のビルドアップ用光硬化性組成物
は、(A)エポキシ化合物及び(B)特定の芳香族スル
ホニウム化合物を含有するものである。本発明の組成物
は、フェノール性水酸基又はカルボキシル基を有するア
ルカリ水溶液に可溶な樹脂を含むことが、アルカリ現像
が可能となるので好ましい。また、本発明の組成物は、
IIa 族元素、IIIa族元素及びIVa 族元素それぞれの水酸
化物、酸化物及び炭酸塩から選ばれる少なくとも1種の
無機化合物を含むことが、樹脂の電気特性及び機械強度
を向上させることができるので好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の光開始剤を
含有するビルドアップ用光硬化性組成物に関し、詳細に
は、特定の構造を有する光開始剤と多価エポキシ化合物
からなる硬化特性に優れたビルドアップ用光硬化性組成
物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】プリン
ト配線基板の高密度化方法であるフルアディティブ法に
おいては、使用されるメッキレジストが最終的に配線間
の絶縁層にもなるため多層化時の配線のズレ等を防止す
ることが可能となり、高アスペクト比の配線を有するプ
リント配線板を多層化するのに適している。
【0003】絶縁層としてプリント配線基板に残存する
上記メッキレジストは、高度に集積化された配線による
発熱や絶縁層の薄層化、導体層と絶縁層との接着強度の
低下に対応できる高いガラス転移温度、体積固有抵抗、
機械特性及び低い吸水率を有することが要求される。
【0004】絶縁層にエポキシ樹脂を用いることは広く
知られており、ドイツ特許107798号明細書には、
2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロ
パンと酸無水物による硬化が記載されている。また、特
開平2−225580号公報には、2,2−ビス(3,
4−エポキシシクロヘキシル)プロパンとカチオン系光
重合開始剤による硬化物が記載されている。
【0005】また、特開平9−87366号公報には、
光酸発生剤とエポキシ樹脂からなる多層配線板が提案さ
れている。しかし、該公報に記載されている従来の光酸
発生剤では硬化特性が不充分で硬化時に強い光源や長時
間の露光を必要とするため、工業的な量産には実用的で
はなかった。
【0006】従って、本発明の目的は、短時間で硬化す
る、作業性及び生産性に優れたビルドアップ用光硬化性
組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を行った結果、特定の構造を有する芳香族スルホニウム
化合物を多価エポキシ化合物の光硬化剤として用いるこ
とで、上記目的を達成できることを知見した。
【0008】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、(A)エポキシ化合物及び(B)下記〔化2〕(前
記〔化1〕と同じ)の一般式(I)で表される芳香族ス
ルホニウム化合物を含有するビルドアップ用光硬化性組
成物を提供するものである。
【0009】
【化2】
【0010】
【発明の実施の形態】以下に、本発明のビルドアップ用
光硬化性組成物について詳細に説明する。
【0011】本発明に用いられる(A)成分のエポキシ
化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂環族エポキ
シ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が用いられる。芳香
族エポキシ化合物としては、例えば、ハイドロキノン、
レゾルシノール、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、4,4' −ジヒドロキシビフェニル、ノボラック、
テトラブロモビスフェノールA 等の多価フェノールのグ
リシジルエーテル化合物が挙げられる。脂環族エポキシ
化合物としては、少なくとも1個以上の脂環族環を有す
る多価アルコールのポリグリシジルエーテル又はシクロ
ヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポ
キシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサ
イドやシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられ
る。例えば、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4
−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポ
キシ−1−メチルヘキサンカルボキシレート、6−メチ
ル−3,4−エポキシシクロヘキシメチル−6−メチル
−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシ
ルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサ
ンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチル)アジペート、メチレンビス(3,4−エ
ポキシシクロヘキサン)、2,2−ビス(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)プロパン、ジシクロペンタジエン
ジエポキサイド、エチレンビス(3,4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロ
フタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ
−2−エチルへキシル等が挙げられる。脂肪族エポキシ
化合物としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキ
レンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪
族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル
アクリレート又はグリシジルメタクリレートのビニル重
合により合成したホモポリマー、グリシジルアクリレー
ト又はグリシジルメタクリレートとその他のビニルモノ
マーとのビニル重合により合成したコポリマー等が挙げ
られる。代表的な化合物として、1,4−ブタンジオー
ルジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジ
グリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペン
タエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピ
レングリコールのジグリシジルエーテル等の多価アルコ
ールのグリシジルエーテル、またプロピレングリコー
ル、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多
価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイ
ドを付加することにより得られるポリエーテルポリオー
ルのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖ニ塩基酸のジ
グリシジルエステルが挙げられる。更に、脂肪族高級ア
ルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレ
ゾール、ブチルフェノール、また、これらにアルキレン
オキサイドを付加することによって得られるポリエーテ
ルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸の
グリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステ
アリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポ
キシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【0012】上記(A)成分のエポキシ化合物の含有量
は、本発明の光硬化性組成物中、好ましくは20重量%
以上、更に好ましくは30重量%以上である。20重量
%未満では、硬化物の機械強度が不足するおそれがある
ため好ましくない。
【0013】本発明に用いられる(B)成分の上記一般
式(I)で表される芳香族スルホニウム化合物(以下、
上記式(I)の化合物という)において、R2 、R3
4、R5 、R6 、R7 及びR8 で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、へプチル、オクチル、2−エチルへキシル等が挙げ
られ、アルコキシ基としては、前記アルキル基に対応す
る基が挙げられる。
【0014】上記式(I)の化合物におけるR2
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR8で表されるハロ
ゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ
る。
【0015】上記式(I)の化合物におけるX- で表さ
れる1価のアニオンとしては、PF 6 - 、SbF6 -
AsF6 - 、BF4 - 、SbCl6 - 、ClO4 - 、C
3SO3 - 、CH3 SO3 - 、FSO3 - 、F2 PO
2 - 、p−トルエンスルフォネート、カンファースルフ
ォネート、ノナフロロブタンスルフォネート、アダマン
タンカルボキシレート、テトラアリールボレート等が合
成上好ましい。
【0016】上記式(I)の化合物としては、より具体
的には、以下の化合物No.1〜6等が挙げられる。た
だし、本発明は以下の例示により何等制限されるもので
はない。
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】上記(B)成分である上記式(I)の化合
物の含有量は、上記(A)成分のエポキシ化合物100
重量部に対し、好ましくは0.01〜20重量部、更に
好ましくは0.1〜10重量部である。0.01重量部
未満では、硬化が十分に進行せず強度が得られないおそ
れがあり、20重量部を超えると、硬化物の電気特性が
低下するおそれがあるため好ましくない。
【0024】上記式(I)の化合物は、本発明の光硬化
性組成物における光開始剤として用いられる。また、上
記式(I)の化合物は、公知の方法で合成され、本発明
に用いる上で、特に製法上の制限は受けない。
【0025】本発明の光硬化性組成物には、上記エポキ
シ化合物及び光開始剤として用いる上記式(I)の化合
物とともに、必要に応じて他の硬化性化合物、他の硬化
剤、硬化促進剤、樹脂、スクリーン印刷性向上剤、難燃
剤、難燃助剤、充填剤、溶剤等が添加される。
【0026】他の硬化性化合物としては、オキセタン化
合物、環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環
状チオエーテル化合物、スピロオルトエステル化合物、
ビニル化合物等が挙げられる。
【0027】本発明の光硬化性組成物の硬化方法として
は、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ等の公知の光源を用い、紫外線、電子線、X線、放射
線、高周波等の活性エネルギー線の照射により光開始剤
としての上記式(I)の化合物からルイス酸を放出する
ことで、上記エポキシ化合物を硬化させる。これら光源
としては、400nm以下の波長を有する光源が有効で
ある。
【0028】本発明の光硬化性組成物は、物性を制御す
る目的で、熱硬化性、アルカリ現像性を有する化合物を
添加することができる。熱硬化性、アルカリ現像性を有
する化合物としては、レゾール樹脂、フェノールノボラ
ック樹脂等のフェノール性水酸基又はカルボキシル基を
有するアルカリ水溶液に可溶な樹脂が挙げられる。これ
ら化合物は、前記(A)成分のエポキシ化合物100重
量部に対して、3〜200重量部用いることが好まし
い。3重量部未満では添加効果が小さく、200重量部
より多く用いると得られる硬化物の物性が低下するおそ
れがあるため好ましくない。
【0029】本発明の光硬化性組成物は、得られる硬化
物の物性や硬化性を制御する目的で酸無水物等の光硬化
以外の硬化剤と併用することもできる。
【0030】また、本発明の光硬化性組成物に必要に応
じ用いられる上記充填剤としては、樹脂の電気特性や機
械強度を向上させる点で、IIa 族元素、IIIa族元素及び
IVa族元素それぞれの水酸化物、酸化物及び炭酸塩等の
無機化合物が好ましく、このような化合物の具体例とし
ては、シリカ、アルミナ、タルク、ゼオライト、ガラス
ビーズ等が挙げられる。これらの化合物は1種又は2種
以上の混合物として用いられる。これら充填剤のうち、
特にシリカが、樹脂の電気特性や機械強度を一層向上さ
せる点で好ましい。充填剤に用いられる無機化合物は天
然物でも合成品でもよいが、品質が安定していること、
不純物による影響が小さいことから合成品が好ましい。
合成品の製法は特に限定されるものではなく、公知のい
かなる製法により得られたものでもよい。充填剤に用い
られる無定形シリカ等の粒径は、小さい程光硬化性組成
物中での分散性や電気特性、機械強度において好まし
く、1ミクロン以下が好ましく、100ミリミクロン以
下がより好ましく、10ミリミクロン以下が特に好まし
い。
【0031】
【実施例】以下に、実施例を挙げて、本発明のビルドア
ップ用光硬化性組成物を具体的に示す。ただし、以下の
実施例により本発明は何等制限されるものではない。
【0032】実施例1 表1記載のエポキシ樹脂100重量部、レゾール樹脂5
0重量部、光開始剤5重量部、シリカ15重量部をテト
ラヒドロフラン(以下、THFという)150重量部に
分散して膜厚が50μmになるようにガラス基板上に塗
布して40〜100μmの5μm間隔で線幅を有する印
刷マスクを用いて高圧水銀灯紫外線1500mJ/cm
2 を照射した。得られた膜を30℃で1wt%炭酸ナト
リウム水溶液でスプレー現像(1.5kg/cm2 ×2
分)して印刷できた線幅の最小幅を解像度として評価し
た。また、マスクなしで紫外線照射して指で表面を触っ
たさいのベトツキの有無によりタックフリー性を○×で
評価した。また、タックフリー試験で表面が硬化したも
のについてガラス転移温度(Tg)を示差走査熱量計に
より測定した。結果を表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】上記表1中の*1〜*5のエポキシ樹脂の
化学構造を下記〔化9〕に示し、*6及び*7の比較の
光開始剤の化学構造を下記〔化10〕に示す。
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】
【発明の効果】本発明の光硬化性組成物は、優れた硬化
特性を有し、得られる硬化物の物性も優れたビルドアッ
プ用絶縁材料に適したものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA02 AA13 AB15 AC01 AD01 BD23 CA30 CB28 CB42 CB43 CB53 CC08 4J036 AA01 AD08 AF06 AJ09 FA01 FA05 FB07 GA22 HA02

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)エポキシ化合物及び(B)下記
    〔化1〕の一般式(I)で表される芳香族スルホニウム
    化合物を含有するビルドアップ用光硬化性組成物。 【化1】
  2. 【請求項2】 フェノール性水酸基又はカルボキシル基
    を有するアルカリ水溶液に可溶な樹脂を含む請求項1記
    載のビルドアップ用光硬化性組成物。
  3. 【請求項3】 IIa 族元素、IIIa族元素及びIVa 族元素
    それぞれの水酸化物、酸化物及び炭酸塩から選ばれる少
    なくとも1種の無機化合物を含む請求項1又は2記載の
    ビルドアップ用光硬化性組成物。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011052327A1 (ja) * 2009-10-26 2011-05-05 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物
WO2014061062A1 (ja) * 2012-10-18 2014-04-24 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
JP2014201555A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
WO2018043395A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 東京応化工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102471255A (zh) * 2009-10-26 2012-05-23 株式会社艾迪科 芳香族锍盐化合物
JPWO2011052327A1 (ja) * 2009-10-26 2013-03-21 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物
WO2011052327A1 (ja) * 2009-10-26 2011-05-05 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物
JP5635526B2 (ja) * 2009-10-26 2014-12-03 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物
EP2495234A4 (en) * 2009-10-26 2015-06-24 Adeka Corp AROMATIC SULFONIUM SALT COMPOUND
KR101959107B1 (ko) * 2012-10-18 2019-03-15 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물
WO2014061062A1 (ja) * 2012-10-18 2014-04-24 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
KR20150071026A (ko) * 2012-10-18 2015-06-25 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물
CN104918914A (zh) * 2012-10-18 2015-09-16 三亚普罗股份有限公司 锍盐、光产酸剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物
JP2014201555A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
JP2018036533A (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 東京応化工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法
WO2018043395A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 東京応化工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法
KR20190045178A (ko) * 2016-08-31 2019-05-02 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 네거티브형 감광성 수지 조성물, 감광성 레지스트 필름, 패턴 형성 방법, 경화막, 경화막의 제조 방법
JP7050411B2 (ja) 2016-08-31 2022-04-08 東京応化工業株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法
US11415888B2 (en) 2016-08-31 2022-08-16 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Negative type photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern forming method, cured film, and method of producing cured film
KR102466040B1 (ko) * 2016-08-31 2022-11-10 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 네거티브형 감광성 수지 조성물, 감광성 레지스트 필름, 패턴 형성 방법, 경화막, 경화막의 제조 방법

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