JPWO2010113971A1 - フッ素系重合体の製法 - Google Patents
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Abstract
Description
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1及びR2は、水素原子又はフッ素原子であり、両者は同一であって
もよいし異なっていてもよい、
で示される単位を有する重合体に、4級アンモニウムカチオンとアニオンからなる4級アンモニウム塩構造を有し、かつ重合性官能基を有する溶融塩単量体をグラフト重合することを特徴とするフッ素系重合体の製法によって達成される。
式:−(CR1R2−CFX)−
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1及びR2は、水素原子又はフッ素原子であり、両者は同一であって
もよいし異なっていてもよい、
で示される単位を有する重合体に配合し、前記重合体に前記溶融塩単量体をグラフト重合して得たフッ素系重合体を含む、複合高分子電解質組成物によって、好適に達成される。なおここで、単量体組成物とは、前記溶融塩単量体以外に、後述する電荷移動イオン源等の支持塩、あるいはビニレンカーボネート類、ビニレンアセテート、2−シアノフラン、2−チオフェンカルボニトリル、アクリロニトリル等のSEI(固体電解質界面相:Solid Electrolyte Interphase)膜形成素材あるいは溶剤等を含む単量体組成物を包含する。
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、R1及びR2は、水素
原子又はフッ素原子であり、両者は同一であってもよいし異なってい
てもよい、
で示される単位を有する重合体を使用することは極めて重要であり、このような重合体に溶融塩単量体をグラフト重合して得たフッ素系重合体を電解質高分子組成物に使用することにより、その理由は定かではないが、イオン移動係数が著しく向上する。ここでハロゲン原子としては、塩素原子が最適であるが、臭素原子、ヨウ素原子も挙げられる。
式:−(CR3R4−CR5F)m−(CR1R2−CFX)n−
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1、R2、R3、R4及びR5は、水素原子又はフッ素原子であり、これ
らは同一であってもよいし異なっていてもよく、
mは65〜99モル%であり、
nは1〜35モル%である、
で示される共重合体が好適であり、特に、
式;−(CH2−CF2)m−(CF2−CFCl)n−
式中、mは99〜65モル%であり、
nは35〜1モル%である、
で示される共重合体が最適である。
mとnの合計を100モル%とした場合、mは65〜99モル%、nは1〜35モル%であることが好適であり、より好適にはmは80〜97モル%、nは3〜20モル%であり、最適にはmは92〜97モル%、nは3〜8モル%である。
前記共重合体は、ブロック重合体であっても、ランダム共重合体であってもよい。また、他の共重合し得る単量体を、本発明の目的が阻害されない範囲で使用することもできる。
原子移動ラジカル重合で使用される触媒は遷移金属ハロゲン化物が用いられ、特に塩化銅(I)、アセチルアセトナート銅(II)、CuBr等の銅原子を含む銅触媒が好適に用いられる。また錯体を形成するリガンドとしては4,4’−ジメチル−2,2’−ビピリジル(bpy)、トリス(ジメチルアミノエチル)アミン(Me6−TREN)、N,N,N’,N”−ペンタメチルジエチレントリアミン(PMDETA)等が使用される。中でも、塩化銅(I)(CuCl)と4,4’−ジメチル−2,2’−ビピリジル(bpy)とで形成される遷移金属ハロゲン化錯体を好適に使用することができる。
反応溶媒としては、−(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体を溶解可能な溶媒を使用することができ、フッ化ビニリデン単量体とフッ素及びフッ素以外のハロゲン原子(例えば塩素原子)を含むビニル単量体との共重合体を溶解するN−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド等を用いることができる。反応温度は使用する錯体のリガンドによって異なるが、通常、10〜110℃の範囲である。
重合体を構成するモノマー単位を97〜60モル%と溶融塩単量体を3〜40モル%のモル比の範囲になるように配合、目標とする可塑物性に合わせて、グラフト化率が3〜40モル%になるようにグラフト重合する。溶融塩単量体を前記重合体にグラフト重合する場合、前記重合体は溶液、固体、成形体(フイルム、多孔フイルム等)のいずれであってもよい。
ピロリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ベンズイミダゾリウムカチオン、インドリウムカチオン、カルバゾリウムカチオン、キノリニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピペラジニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオン(但し、炭素原子数1〜30の炭化水素基、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルで置換されているものを含む)が挙げられる。いずれも、N及び/又は環に炭素原子数1〜30(例えば、炭素原子数1〜10)の炭化水素基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基が結合しているものを含む。
BF4 −、PF6 −、CnF2n+1CO2 −(nは、1〜4の整数)、CnF2n+1SO3 −(nは、1〜4の整数)、(FSO2)2N−、(CF3SO2)2N−、(C2F5SO2)2N−、(CF3SO2)3C−、CF3SO2−N−COCF3 −、R−SO2−N−SO2CF3 −(Rは、脂肪族基)、ArSO2−N−SO2CF3 −(Arは、芳香族基)、CF3COO−等のハロゲン原子を含むアニオン及びCOO−、HCOO−等の特定アニオンが挙げられる。ハロゲン原子を含有するアニオンのハロゲン原子としては、フッ素原子が好適であるが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子も例示される。
LiBF4、LiPF6、CnF2n+1CO2Li(nは、1〜4の整数)、
CnF2n+1SO3Li(nは、1〜4の整数)、(FSO2)2NLi、
(CF3SO2)2NLi、(C2F5SO2)2NLi、
(CF3SO2)3CLi、Li(CF3SO2−N−COCF3)、
Li(R−SO2−N−SO2CF3)(Rは、アルキル基等の脂肪族基)、
Li(ArSO2−N−SO2CF3)(Arは、芳香族基)等。
Et4−N+BF4 −、Et3Me−N+BF4 −
Et4−N+PF6 −、Et3Me−N+PF6 −等。
トリアルキルイミダゾリウムヨウ素、1,2−ジメチル−3−プロピルイミダゾリウムヨウ素、ヘキシルメチルイミダゾリウムヨウ素等。
HBF4、HPF6、CnF2n+1CO2H(nは、1〜4の整数)、CnF2n+1SO3H(nは、1〜4の整数)、(FSO2)NH、(CF3SO2)NH、(C2F5SO2)NH、(CF3SO2)3NH、(CF3−SO2−NH−COCF3)、及び(R−SO2−NH−SO2CF3)(Rは、脂肪族基又は芳香族基)。
これらのプロトン源、溶融塩単量体及びフッ素系重合体を、対向する負極と正極の間に配置することによりPEM燃料セル電池を得ることができる。
HBF4、HPF6、CnF2n+1CO2H(nは、1〜4の整数)、CnF2n+1SO3H(nは、1〜4の整数)、(FSO2)NH、(CF3SO2)NH、(C2F5SO2)NH、(CF3SO2)3NH、(CF3−SO2−NH−COCF3)、及び(R−SO2−NH−SO2CF3)(Rは、脂肪族基又は芳香族基)等。
これらのプロトン源及びフッ素系重合体を、対向する負極と正極の間に配置することによりPEM燃料セル電池を得ることができる。
これらのイオン源及びフッ素系重合体を、色素を吸着させた酸化物半導体膜を有する作用極と、導電性対極の間に配置することにより、色素増感太陽電池を得ることができる。更に、色素増感太陽電池の基礎技術を活用して有機ELセルにて使用される有機材料が酸素や湿気に弱いため、外部から封止する技術が高められているが、長寿命に限界があり安定な有機分子を利用する必要性から、これらのイオン源及びフッ素系重合体を電子輸送層と発光層に配置することにより、有機材料のキャリア移動を向上した有機ELセルを得ることができる。
実施例中、すべての部及び%は特記しない限り重量基準による。実施例中で合成した化合物はIRスペクトル、NMRスペクトルで同定した。
1−メチル−1−プロピルピペリジニウムビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(MPP・TFSI)化反応:
N−メチルピペリジン99.2gをアセトン300mlに溶かし、50℃でプロピルブロミド120.9gをゆっくり滴下した。8時間反応したのち冷却して1−メチル−1−プロピルピペリジンブロミド(MPP・Br)の結晶を得た。その結晶をアセトンでろ過・洗浄し、乾燥してMPP・Br113gを得た。MPP・Br110gを100mlのイオン交換水に溶解し、リチウムビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(Li・TFSI)158gをイオン交換水100mlに溶かした水溶液を滴下して反応させた。MPP・TFSIは分液し、イオン交換水100mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してMPP・TFSI 169gを得た。
ジアリルジメチルアンモニウムビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(DAA・TFSI)化反応:
ジアリルジメチルアンモニウムクロリド(ダイソー社製 商品名DADMAC 60%溶液)161.5gを攪拌しながら、Li・TFSI 316gを300mlのイオン交換水に溶解した溶液を加えた。反応で得られたジアリルジメチルアンモニウムビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(DAA・TFSI)は分液し、イオン交換水200mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してDAA・TFSI365.4gを得た。
トリメチルアミノエチルメタクリレート・ビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(TMAEMA・TFSI)化反応:
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩(QDM)187.5gをイオン交換水300mlに溶かし、攪拌しながらH・TFSI 70%水溶液367.5gをゆっくり滴下して反応させた。反応で得られたトリメチルアミノエチルメタクリレート・ビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(TMAEMA・TFSI)は分液し、イオン交換水200mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してTMAEMA・TFSI 376.5gを得た。H・TFSIの代替としてTFSIのLi塩を使用した場合にもTMAEMA・TFSIを同様に得た。
ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩のTFSI化反応(TMAPAA・TFSI):
ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩(DMAPAA−Q)75%水溶液106.7gをイオン交換水50mlで希釈し、攪拌しながらH・TFSI 70%水溶液156gをゆっくり滴下して反応させた。反応で得られたトリメチルアミノプロピルアクリルアミド{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(TMAPAA・TFSI)は分液し、イオン交換水100mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してTMAPAA・TFSI 79gを得た。H・TFSIの代替としてTFSIのLi塩を使用した場合にもTMAPAA・TFSIを同様に得た。
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩のTFSI化反応(TMAEA・TFSI):
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩(興人DMAEA−Q)50gをイオン交換水50mlに溶かし、攪拌しながらH・TFSI 70%水溶液を104gゆっくり滴下して反応させた。反応で得られたトリメチルアミノエチルアクリレート・ビス(トリフルオロメチル)スルフォニルイミド(TMAEA・TFSI)は分液し、イオン交換水60mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してTMAEA・TFSI 90gを得た。H・TFSIの代替としてTFSIのLi塩を使用した場合にもTMAEA・TFSIを同様に得た。
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩のテトラフルオロボレート(BF4)化反応(TMAEMA・BF4):
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩(QDM)175.5gをイオン交換水300mlに溶かし、攪拌しながらLiBF4粉末を溶解して作製した70%水溶液124.4gをゆっくり滴下して反応させた。反応で得られたトリメチルアミノエチルメタクリレート・テトラフルオロボレート(TMAEMA・BF4)は分液し、イオン交換水200mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してTMAEMA・BF4174.0gを得た。合成例4及び5のジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩(DMAPAA−Q)及びジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩(DMAEA−Q)についても同様にテトラフルオロボレート(BF4)化反応を実施してTMAPAA・BF4及びTMAEA・BF4をそれぞれ得た。
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩のヘキサフルオロリン酸(PF6)化反応(TMAEMA・PF6):
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩(QDM)182.3gをイオン交換水300mlに溶かし、攪拌しながらLiPF6粉末を溶解して作製した70%水溶液146.8gをゆっくり滴下して反応させた。反応で得られたトリメチルアミノエチルメタクリレートヘキサフルオロホスフェート(TMAEMA・PF6)は分液し、イオン交換水200mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してTMAEMA・PF6 214.0gを得た。合成例4及び5のジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩(DMAPAA−Q)及びジメチルアミノエチルクリレート塩化メチル4級塩(DMAEA−Q)についても同様にヘキサフルオロホスフェート(PF6)化反応を実施してTMAPAA・PF6及びTMAEA・PF6をそれぞれ得た。
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩のビスフルオロスルフォニルイミド(FSI)化反応(TMAEMA・FSI):
ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩(QDM)183.6gをイオン交換水300mlに溶かし、攪拌しながらKFSI粉末を溶解して作製した70%水溶液304.5gをゆっくり滴下して反応させた。反応で得られたトリメチルアミノエチルメタクリレートビスフルオロスルフォニルイミド(TMAEMA・FSI)は分液し、イオン交換水200mlで洗浄、分離を繰り返して精製した。そして30℃で真空下脱水してTMAEMA・FSI249.1gを得た。合成例4及び5のジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩(DMAPAA−Q)及びジメチルアミノエチルクリレート塩化メチル4級塩(DMAEA−Q)についても同様にビスフルオロスルフォニルイミド(FSI)化反応を実施してTMAPAA・FSI及びTMAEA・FSIをそれぞれ得た。
合成例1及び2のメチルプロピルピペリジンブロミド(MPP・Br)及びジアリルジメチルアンモニウムクロリド(DADMAC)についても、合成例8の手順と同様にビスフルオロスルフォニルイミド(FSI)化反応を実施してMPP・FSI及びDAA・FSIをそれぞれ得た。
フッ化ビニリデン(PVdF)−トリフルオロクロロエチレン(CTFE)共重合体として−(CH2−CF2)m−(CF2−CFCl)n−{mは96モル%、nは4モル%、呉羽化学工業社製、商品名#7500、固有粘度〔η〕=2.55(オストワルド粘度計使用、溶媒DMAC、測定温度25℃)〔η〕から推算分子量120万}を使用して、これに溶融塩単量体を下記の条件により、グラフト重合した。
1L三口フラスコに凝縮機、攪拌装置及び滴下装置をつけ、PVdF−CTFE共重合体#7500 6gとN−メチルピロリドン(NMP)80gを加えて、油浴中で80℃に加温、撹拌溶解した。次いでアルゴンガスで雰囲気を十分置換したのち、表1に示された4種の量の溶融塩単量体{化合物名トリメチルアミノエチルメタクリレートビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(TMAEMA・TFSI)}(合成例3)と、あらかじめ20gのNMPに溶解したbpy 0.46gとCuCl 0.08gを加えた。更にアルゴンで置換して90℃に昇温し23時間反応させた。
反応後40℃まで冷却しアセトンで希釈して、50%メタノール水溶液中に攪拌しながら注入して析出させた。反応生成物は更にメタノール溶液で洗浄したのち乾燥して、粗製重合体を得た。
次いで粗製重合体を粉砕してアセトン40%、メタノール60%の混合溶剤を加えて攪拌した。グラフトしていないイオン性液体重合体及び未反応溶融塩単量体は溶解し、グラフト重合体は膨潤し沈降するので、遠心分離器で分離した。この抽出操作を繰り返してホモポリマーを含まないグラフト重合体を得た。更に30℃、真空乾燥機で乾燥して収量を測定、また赤外スペクトルを測定しグラフト化率(モル%)を算出した。結果を表1に示す。
TMAEMA・TFSI 1molのときの使用量=452.2/66.1×6=41.0g
0.7molでは41×0.7=28.7gとなる。
注2)グラフト化率(モル%)
PVdF-CTFE共重合体とTMAEMA・TFSIの配合割合を変えて、赤外スペクト
ルを測定して検量線(図3)を作成した。横軸はTMAEMA・TFSIの配合割合
(モル%)、縦軸はスペクトルの吸光度強度比を示す。
この検量線を用いて、試料のTMAEMA・TFSIのグラフト化率(モル%)
を求めた。
PVdF-CTFE 881cm-1、TMAEMA・TFSI 1729cm-1 (C=O)を使用。
図1の各ピーク番号に対応する周波数(cm−1)及び透過率(%)は、表2のとおりである。
*1350−1352cm-1はアニオンの吸収ピークである。
*PVdF−CTFE共重合体(#7500)の吸収ピークは878−882cm-1付近にあり、グラフトPVdF(実施例3)ではこのピークが減少している。
以上の結果、PVdF−CTFE共重合体(#7500)及び実施例3のTMAEMA・TFSIグラフト重合体の二つのIRチャート(図1及び2)には前記の通り吸収ピークが示されており、これらの比較から、TMAEMA・TFSIが明確にグラフト化されていることが確認できた。
実施例3においてCTFE4モル%の共重合体の代わりにCTFE7モル%の共重合体である−(CH2−CF2)m−(CF2−CFCl)n−{mは93モル%、nは7モル%、呉羽化学工業社製、商品名 FD3145、固有粘度[η]=2.42(オストワルド粘度計使用、溶媒ジメチルアセトアミド(DMAC)、測定温度25℃)、[η]から推算分子量111万}を使用したこと、また、グラフト重合の条件として触媒CuClの代わりにCuBrを使用したこと以外は同様にしてグラフト重合した。結果を表4に示す。
実施例3において、TMAEMA・TFSIの代わりに、化合物名トリメチルアミノエチルメタクリレート・ヘキサフルオロホスフェート(TMAEMA・PF6)(合成例7)8943gを使用した以外は同様にしてグラフト重合した。結果を表5に示す。
実施例3において、TMAEMA・TFSIの代わりに、トリメチルアミノプロピルアクリルアミド{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(TMAPAA・TFSI)(合成例4)を61.5g使用する以外は同様にしてグラフト重合した。結果を表6に示す。
実施例3において、TMAEMA・TFSIの代わりに、トリメチルアミノエチルメタクリレート・ビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(TMAEA・TFSI)(合成例5)を39.8g使用する以外は同様にしてグラフト重合反応した。結果を表7に示す。
実施例3において、溶融塩単量体としてTMAEMA・TFSIの代わりにトリメチルアミノエチルメタクリレートビスフルオロスルフォニルイミド(TMAEMA・FSI)(合成例8)を34.7g使用する以外は同様にしてグラフト重合反応した。結果を表8に示す。
[比較例1−3]
実施例3のPVdF-CTFE共重合体(#7500)の代わりに、塩素を含まないフッ化ビニリデン重合体−(CH2−CF2)−{呉羽化学者製、商品名#1700(比較例1)、ソルベイ社製、商品名Kynar461(比較例2)}及びフッ化ビニリデン(PVdF)−ヘキサフロロプロピレン(HFP)共重合体(ソルベイ社製Kynar2801)(比較例3)を使用した。
〔η〕=2.01×10-4×Mw0.675
この式より Mw=(η/2.01×10-4)1/0.675
出典:Solubility Parameter of Polyvinylidenfluoride, Journal of
Polymer Science Part B Polymer Physics Vol26,785-794
新規複合電解質プリカーサー液の調製:
合成例1の通り、1−メチル−1−プロピルピペリジニウムビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド(MPP・TFSI)を合成した。また、合成例2の通り、ジアリルジメチルアンモニウムビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミド〔DAA・TFSI〕を合成した。グラフト重合体として、実施例3の通り、トリメチルアミノエチルメタクリレートがグラフト重合したポリフッ素系重合体(TMAEMA−グラフト重合体)を合成した。
前記MPP・TFSI 2.4gにLi・TFSI(1.3mol相当)をドーピングした溶液を、前記TMAEMA−グラフト重合体5.0gをNMP295gに溶解したプレカーサーに溶解し、ホモジナイザーにて均一分散溶液となる様に攪拌して不燃性の新規複合電解質プリカーサー液を作製した。その後、反応基を保有する溶融塩単量体DAA・TFSI 1.6gを均一分散溶液に加えて、ホモジナイザー攪拌して不燃性の新規複合電解質プリカーサー液を作製した。
正極活物質であるLiCoO290重量%と導電剤であるアセチレンブラック5重量%とを、前記複合高分子電解質プリカーサー溶液5重量%に混合した正極合剤液を作製し、NMP溶剤を加えて50重量%固形分正極塗料にし、集電体であるアルミニウム箔に塗布し、70℃から100℃まで昇温し、更に130℃まで昇温し、合計45分間加熱して乾燥させて正電極を作製する。更に、正極片面層厚みが15μmになるようにプレスした。
負極活物質である天然グラファイト95重量%と導電剤であるケッチェンブラック2重量%とを前記複合高分子電解質プリカーサー溶液3重量%に混合した負極合剤液を作製し、NMP溶剤を加えて50重量%固形分負極塗料にし、集電体である銅箔に塗布し80℃から110℃まで昇温し、更に130℃まで昇温し、合計45分間加熱し乾燥させて負電極を作製した。更に、正極片面層厚みが20μmになるようにプレスした。
不燃性である前記複合高分子電解質プリカーサー溶液を100μmのポリエステルフィルム(東レ社製Tタイプ)にコーティングし、130で30分間加熱し乾燥させ、膜厚20μmの複合高分子電解質膜をポリエステルフィルム上に形成した。
充放電サイクル試験条件:充電は電流1mA、終止電圧4.0Vで定電流充電とした。放電は電流1mA、終止電圧2.5Vで定電流放電とした。
前記実施例10(実施例3のグラフト重合体を使用)において、実施例3のグラフト重合体の代わりに、実施例1〜9(実施例3を除く)で作製されたグラフト重合体を使用して、同様に複合電解質膜及びセルを得た。このセルの試験結果(膜導電性能、イオン伝導性、不燃性、力学的強度:引っ張り強度等)を表11に示す。
前記実施例10(実施例3のグラフト重合体を使用)において、実施例3のグラフト重合体の代わりに、比較例1〜3で作製されたグラフト重合体を使用して、同様に複合電解質膜及びセルを得た。このセルの試験結果も併せて表11に示す。
実施例11(実施例1のグラフト重合体を使用)
実施例12(実施例2のグラフト重合体を使用)
実施例13(実施例4のグラフト重合体を使用)
実施例14(実施例5のグラフト重合体を使用)
実施例15(実施例6のグラフト重合体を使用)
実施例16(実施例7のグラフト重合体を使用)
実施例17(実施例8のグラフト重合体を使用)
実施例18(実施例9のグラフト重合体を使用)
比較例4(比較例1のグラフト重合体を使用)
比較例5(比較例2のグラフト重合体を使用)
比較例6(比較例3のグラフト重合体を使用)
注2) 輸率(transport number):液間電位の輸率は、電池電位法により算出した。
注3) 膜導電性能: 電極面積0.95cm2の白金電極間に試料を挟み、20℃、65%RHで、交流インピーダンス法(0.1V、周波数1Hz〜10MHz)により膜抵抗を測定し、膜導電性能を算出した。
注4) 引張強度:A&D社製、引張り試験機テンシロンRT1350を用い、23℃、5cm/min.で測定した。
試験装置: 電池安全性試験装置(株式会社美和製作所製)
(釘・針刺し試験、加熱圧壊試験等用装置)
針の仕様: 0.8mm径木綿針使用
刺込み速度: 1mm/秒
試験結果として、実施例及び比較例とも、発火・発煙は、認められず、不燃性を確認された。
Claims (20)
- 式:−(CR1R2−CFX)−
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1及びR2は、水素原子又はフッ素原子であり、両者は同一
であってもよいし異なっていてもよい、
で示される単位を有する重合体に、4級アンモニウムカチオンとアニオンからなる4級アンモニウム塩構造を有し、かつ重合性官能基を有する溶融塩単量体をグラフト重合することを特徴とするフッ素系重合体の製法。 - −(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体が、
式:−(CR3R4−CR5F)m−(CR1R2−CFX)n
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1、R2、R3、R4及びR5は、水素原子又はフッ素原子であ
り、これらは同一であってもよいし異なっていてもよく、
mは99〜65モル%であり、
nは1〜35モル%である、
で示される共重合体である請求項1記載のフッ素系重合体の製法。 - −(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体が、
式:−(CH2−CF2)m−(CF2−CFCl)n−
式中、mは99〜65モル%であり、
nは1〜35モル%である、
で示される共重合体である請求項2記載のフッ素系重合体の製法。 - 原子移動ラジカル重合で、−(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体のフッ素以外のハロゲン原子を引き抜き、溶融塩単量体をグラフト重合する請求項1〜3のいずれか1項記載のフッ素系重合体の製法。
- 溶融塩単量体が、−(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体に3〜40モル%グラフト重合している請求項1〜4のいずれか1項記載のフッ素系重合体の製法。
- 溶融塩単量体が、(A)トリアルキルアミノエチルメタクリレートアンモニウムカチオン、トリアルキルアミノエチルアクリレートアンモニウムカチオン、トリアルキルアミノプロピルアクリルアミドアンモニウムカチオン、1−アルキル−3−ビニルイミダゾリウムカチオン、4−ビニル−1−アルキルピリジニウムカチオン、1−(4−ビニルベンジル)−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−(ビニルオキシエチル)−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−ビニルイミダゾリウムカチオン、1−アリルイミダゾリウムカチオン、N−アルキル−N−アリルアンモニウムカチオン、1−ビニル−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−ビニル−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−グリシジル−3−アルキル−イミダゾリウムカチオン、N−アリル−N−アルキルピロリジニウムカチオン及び4級ジアリルジアルキルアンモニウムカチオンからなる群から選ばれた4級アンモニウムカチオンと、(B)ビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミドアニオン、2,2,2−トリフルオロ−N−{(トリフルオロメチル)スルフォニル)}アセトイミドアニオン、ビス{(ペンタフルオロエチル)スルフォニル}イミドアニオン、ビス{(フルオロ)スルフォニル}イミドアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフロオロフォスヘートアニオン及びトリフルオロメタンスルフォニルイミドアニオンからなる群から選ばれたアニオンとの塩である請求項1〜5のいずれか1項記載のフッ素系重合体の製法。
- 4級アンモニウムカチオンとアニオンからなる4級アンモニウム塩構造を有し、かつ重合性官能基を有する溶融塩単量体を含む単量体組成物を、
式:−(CR1R2−CFX)−
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1及びR2は、水素原子又はフッ素原子であり、両者は同一であってもよいし
異なっていてもよい、
で示される単位を有する重合体に配合し、前記溶融塩単量体を前記重合体にグラフト重合して得られたフッ素系重合体を含む、複合高分子電解質組成物。 - −(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体が、
式:−(CR3R4−CR5F)m−(CR1R2−CFX)n
式中、Xは、フッ素以外のハロゲン原子であり、
R1、R2、R3、R4及びR5は、水素原子又はフッ素原子であ
り、これらは同一であってもよいし異なっていてもよく、
mは99〜65モル%であり、
nは1〜35モル%である、
で示される共重合体である請求項7記載の複合高分子電解質組成物。 - 溶融塩単量体、−(CR1R2−CFX)−単位を有する重合体に3〜40モル%グラフト重合している請求項7又は8記載の複合高分子電解質組成物。
- フッ素系重合体とグラフト重合体が、分子レベルで積層された重層構造体(ラメラ構造)を形成している請求項7記載の複合高分子電解質組成物。
- 溶融塩単量体が、(A)トリアルキルアミノエチルメタクリレートアンモニウムカチオン、トリアルキルアミノエチルアクリレートアンモニウムカチオン、トリアルキルアミノプロピルアクリルアミドアンモニウムカチオン、1−アルキル−3−ビニルイミダゾリウムカチオン、4−ビニル−1−アルキルピリジニウムカチオン、1−(4−ビニルベンジル)−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−(ビニルオキシエチル)−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−ビニルイミダゾリウムカチオン、1−アリルイミダゾリウムカチオン、N−アルキル−N−アリルアンモニウムカチオン、1−ビニル−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−ビニル−3−アルキルイミダゾリウムカチオン、1−グリシジル−3−アルキル−イミダゾリウムカチオン、N−アリル−N−アルキルピロリジニウムカチオン及び4級ジアリルジアルキルアンモニウムカチオンからなる群から選ばれた4級アンモニウムカチオンと(B)ビス{(トリフルオロメチル)スルフォニル}イミドアニオン、2,2,2−トリフルオロ−N−{(トリフルオロメチル)スルフォニル)}アセトイミドアニオン、ビス{(ペンタフルオロエチル)スルフォニル}イミドアニオン、ビス{(フルオロ)スルフォニル}イミドアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフロオロフォスヘートアニオン、トリフルオロメタンスルフォニルイミドアニオンからなる群から選ばれたアニオンとの塩である請求項7〜10のいずれか1項記載の複合高分子電解質組成物。
- 単量体組成物が電荷移動イオン源を含んでいる請求項7〜11のいずれか1項記載の複合高分子電解質組成物。
- イオン源が、LiBF4、LiPF6、CnF2n+1CO2Li(但しnは1〜4の整数)、CnF2n+1SO3Li(但しnは1〜4の整数)、(FSO2)2NLi、(CF3SO2)2NLi、(C2F5SO2)2NLi、(CF3SO2)3CLi、(CF3−SO2−N−COCF3)Li、及び(R−SO2−N−SO2CF3)Li(Rは脂肪族基又は芳香族基)からなる群から選ばれたリチウム塩である請求項12記載の複合高分子電解質組成物。
- 対向する負極と正極の間に配置されている請求項13記載の複合高分子電解質組成物を備えているリチウムイオン電池又はリチウムイオンキャパシタ。
- イオン源が、HBF4、HPF6、CnF2n+1CO2H(nは1〜4の整数)、CnF2n+1SO3H(nは1〜4の整数)、(FSO2)NH、(CF3SO2)NH、(C2F5SO2)NH、(CF3SO2)3NH、(CF3−SO2−NH−COCF3)、及び(R−SO2−NH−SO2CF3)(Rは脂肪族基又は芳香族基)からなる群から選ばれたプロトン供与体である請求項12記載の複合高分子電解質組成物。
- 対向する負極と正極の間に配置された請求項15記載の複合高分子電解質組成物を備えているPEM燃料セル電池。
- イオン源が、I3 −/I−又はBr3 −/Br−レドックスイオン対である請求項12記載の複合高分子電解質組成物。
- 色素を吸着させた酸化物半導体膜を有する作用極と、導電性対極の間に配置された請求項17記載の複合高分子電解質組成物を備えている色素増感太陽電池。
- 対抗する導電性電極間に配置された電子輸送層と有機材料を含む発光層に請求項13又は17記載の複合高分子電解質組成物を備えている有機ELセル。
- 対向する導電性電極間に配置された電荷移動イオン源を含まない請求項7記載の複合高分子電解質組成物を備えている電解コンデンサ・キャパシタ。
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