JPWO2010093021A1 - エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 - Google Patents
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- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 title claims abstract description 163
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 75
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 63
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 title claims description 62
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 title claims description 58
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 51
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title description 38
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 title description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 8
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 37
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 230000005606 hygroscopic expansion Effects 0.000 abstract description 13
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011888 foil Substances 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 97
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 44
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 31
- -1 that is Substances 0.000 description 25
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 23
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 21
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 21
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 18
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 11
- NJMOHBDCGXJLNJ-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 NJMOHBDCGXJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 10
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 9
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 5
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 4
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 3
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 3
- 229940064734 aminobenzoate Drugs 0.000 description 3
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 3
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 3
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075142 2,5-diaminotoluene Drugs 0.000 description 2
- ZGDMDBHLKNQPSD-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-amino-3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(O)=C1 ZGDMDBHLKNQPSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1N OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HORNXRXVQWOLPJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(Cl)=C1 HORNXRXVQWOLPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(N)=CC=2)C=C1 QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(4-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZUHQRBBQSLSHS-SSZFMOIBSA-N Isoimide Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1\N=C/1C(CCCC2)=C2C(=O)O\1 VZUHQRBBQSLSHS-SSZFMOIBSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000005224 alkoxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N gamma-caprolactone Chemical compound CCC1CCC(=O)O1 JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- XIXADJRWDQXREU-UHFFFAOYSA-M lithium acetate Chemical compound [Li+].CC([O-])=O XIXADJRWDQXREU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYTUPYMTLWOOF-UHFFFAOYSA-N 1,3,4,6-tetramethylcyclohex-4-ene-1,3-diamine Chemical compound CC1C=C(C)C(C)(N)CC1(C)N FQYTUPYMTLWOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNLFBTIJJNGBQZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC=C1N LNLFBTIJJNGBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAPXRTUPXNIVJJ-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-phenylphenyl)-6-phenylphenol Chemical group OC=1C(C(C)(C)C)=CC(C=2C=C(C(O)=C(C=3C=CC=CC=3)C=2)C(C)(C)C)=CC=1C1=CC=CC=C1 DAPXRTUPXNIVJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDSPLIQKGRTNCG-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylcyclohexa-1,5-diene-1,3-diamine Chemical group CC1C=CC(N)=CC1(C)N BDSPLIQKGRTNCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JASHGAIOBWYPBI-UHFFFAOYSA-N 3a,4a,7a,7b-tetrahydrodifuro[5,4-a:5',4'-d]furan-1,3,5,7-tetrone Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C1O2 JASHGAIOBWYPBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRSXACBAERSYHC-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-methoxy-5-phenylphenyl)-2-methoxy-6-phenylphenol Chemical group OC=1C(OC)=CC(C=2C=C(C(O)=C(OC)C=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 PRSXACBAERSYHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDXNVMRBZGMODI-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-methyl-5-phenylphenyl)-2-methyl-6-phenylphenol Chemical group OC=1C(C)=CC(C=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 WDXNVMRBZGMODI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTSCPDDAOASPMM-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)-2-phenylphenol Chemical group OC1=CC=C(C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 OTSCPDDAOASPMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEYGNNMKEPUKEI-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2-phenylphenol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 FEYGNNMKEPUKEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJYPZJZQIHNGU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1CCC(=O)CC1 SLJYPZJZQIHNGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWIVYGKSHSJHEF-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3,5-diethylphenyl)methyl]-2,6-diethylaniline Chemical compound CCC1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=C(CC)C=2)=C1 NWIVYGKSHSJHEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylaniline Chemical compound CC1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=C(C)C=2)=C1 OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLDONXPDUZAKQB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1CCC(N)CC1 FLDONXPDUZAKQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C)(C)C1CCC(N)CC1 BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPFUHAVUYRPYEF-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-hydroxy-3-phenylphenyl)phenyl]-2-phenylphenol Chemical group OC1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1C1=CC=CC=C1 HPFUHAVUYRPYEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUTKIUJZRNXIMO-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-hydroxyphenyl)phenyl]-2-methyl-6-phenylphenol Chemical group OC=1C(C)=CC(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 DUTKIUJZRNXIMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBIYZKKZPSXLKC-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-hydroxyphenyl)phenyl]-2-phenylphenol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=C(C(O)=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=C1 HBIYZKKZPSXLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 4415-87-6 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C12 YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZJWYFFSNIRWSM-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-3a-(oxolan-2-yl)-7aH-2-benzofuran-1,3,4,5-tetrone Chemical compound O=C1OC(=O)C2C(C)=CC(=O)C(=O)C12C1CCCO1 NZJWYFFSNIRWSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015845 BBr3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- BNZLTPCWOLWBNJ-UHFFFAOYSA-M Br[Mg] Chemical group Br[Mg] BNZLTPCWOLWBNJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XSDAAAFATZMTGF-UHFFFAOYSA-N C1CCC(=O)C(C1)C2CCC=CC2 Chemical compound C1CCC(=O)C(C1)C2CCC=CC2 XSDAAAFATZMTGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC(C)(C)*N(C(c(cc1)c2cc1C(OC(C)C1=C(C*C)C=C(CCCOC(c(cc3)cc(C(C4CC(C)(C)C)=O)c3C4=O)=O)*C1)=O)=O)C2=O Chemical compound CCC(C)(C)*N(C(c(cc1)c2cc1C(OC(C)C1=C(C*C)C=C(CCCOC(c(cc3)cc(C(C4CC(C)(C)C)=O)c3C4=O)=O)*C1)=O)=O)C2=O 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLBZNZGBLRJGS-UHFFFAOYSA-N Dihydro-3-methyl-2(3H)-furanone Chemical compound CC1CCOC1=O QGLBZNZGBLRJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XIJUQXLCEVUWKO-UHFFFAOYSA-N O=C(c(cc1C(O2)=O)ccc1C2=O)OC(CC1)=CC=C1OC(c(cc1)cc(C(O2)=O)c1C2=O)=O Chemical compound O=C(c(cc1C(O2)=O)ccc1C2=O)OC(CC1)=CC=C1OC(c(cc1)cc(C(O2)=O)c1C2=O)=O XIJUQXLCEVUWKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KEUCYUPOICDBOG-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)-5-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanamine Chemical compound C1C2C(CN)CC1C(CN)C2 KEUCYUPOICDBOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUMFHKIZKYKNDE-UHFFFAOYSA-N [2-tert-butyl-4-[3-tert-butyl-4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)oxy-5-phenylphenyl]-6-phenylphenyl] 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical group C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C(=O)OC=1C(C(C)(C)C)=CC(C=2C=C(C(OC(=O)C=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=C(C=3C=CC=CC=3)C=2)C(C)(C)C)=CC=1C1=CC=CC=C1 IUMFHKIZKYKNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTKFKCIRTBTDKK-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)-5-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanamine Chemical compound C1C(CN)C2C(CN)CC1C2 OTKFKCIRTBTDKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRWRNMPJAHYGET-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)oxy-3-methoxy-5-phenylphenyl]-2-methoxy-6-phenylphenyl] 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical group C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C(=O)OC=1C(OC)=CC(C=2C=C(C(OC(=O)C=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=C(OC)C=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 YRWRNMPJAHYGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVKRZYNCRLZNRF-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)oxy-3-methyl-5-phenylphenyl]-2-methyl-6-phenylphenyl] 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical group C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C(=O)OC=1C(C)=CC(C=2C=C(C(OC(=O)C=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=C(C)C=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 LVKRZYNCRLZNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZEFMYWDINGVCZ-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)oxy-3-methylphenyl]-2-methylphenyl] 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical group C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(=O)OC2=CC=C(C=C2C)C=2C=C(C(=CC=2)OC(=O)C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)C)=C1 LZEFMYWDINGVCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNNDKAIIAPKDGO-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)oxyphenyl]phenyl] 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical group C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(OC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC(=O)C=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=CC=2)=O)=C1 HNNDKAIIAPKDGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJZWCCPAQZAWIL-UHFFFAOYSA-N [4-[4-[4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)oxy-3-methyl-5-phenylphenyl]phenyl]phenyl] 1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carboxylate Chemical group C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C(=O)OC=1C(C)=CC(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC(=O)C=3C=C4C(=O)OC(=O)C4=CC=3)=CC=2)=CC=1C1=CC=CC=C1 UJZWCCPAQZAWIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 1
- FOLJMFFBEKONJP-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-diamine Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(N)CC2(N)C3 FOLJMFFBEKONJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical class OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 125000006836 terphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- OAXARSVKYJPDPA-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-prop-2-ynylpiperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(CC#C)CC1 OAXARSVKYJPDPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
そのほか、いくつかの異なった構造のエステル基含有テトラカルボン酸二無水物からのポリイミドも報告されている(例えば特許文献1〜6参照)。
で表されるエステル基含有テトラカルボン酸二無水物である。
で表される反復単位を有するポリエステルイミド前駆体である。エステル基の結合位置について、アミド結合に対してm−位である位置は、カルボキシル基に対してp−位である位置のみを表す。
さらに、そのようなポリエステルイミド前駆体から得られる本発明のポリエステルイミドは、一般式(3)
で表される反復単位を有するポリエステルイミドである。
本発明のポリエステルイミドは、該エステル基含有テトラカルボン酸二無水物の剛直性と置換基の立体的嵩高さという分子構造上の特徴から、重合反応の際に優れた溶媒溶解性および高い重合反応性を示し、さらにポリエステルイミドフィルムとした場合には低線熱膨張係数、低吸水率、低吸湿膨張係数、高ガラス転移温度、低弾性率および/または膜靭性等の諸物性に優れ、また、このような諸物性の大部分または一部が従来のポリエステルイミドフィルムよりも改良されており、好ましくは金属箔と同等かまたはそれより低い線熱膨張係数、極めて低い吸水率、極めて低い吸湿膨張係数、高ガラス転移温度、優れた難燃性、比較的低い弾性率および十分な膜靭性を兼備し、さらに好ましくは銅箔等の金属との接着強度に優れる等の物性を同時に有する従来の材料では得ることのできなかった耐熱絶縁材料を得ることができる。従って本発明のポリエステルイミドはFPC用基板、COF用基板、TAB用基板材料、特にFPC用基板材料(ベースフィルム)として極めて有用である。
本発明のポリエステルイミドの原料となりうる本発明の新規なエステル基含有テトラカルボン酸二無水物は、下記一般式(1)で表される。
従って、一般式(1)において、Rはフェニル基であり、nは各々独立して0〜4である。好ましいnは0、1、または2であり、0または1がより好ましい。但し、フェニル基は、分子中心のp−ポリフェニレン構造に少なくとも1つ置換していることが必要であり、即ち、すべてのnが同時に0であることはない。p−ポリフェニレン基全体でのRの置換数としては、好ましくは1〜4であり、より好ましくは1〜2であり、p−ポリフェニレン基全体でのRの置換数が2以上の場合、p−ポリフェニレン基全体でのRの置換数がmよりも大きくなく、各フェニレン基でのnが0または1であることがさらに好ましい。また、本願の効果を損なわない範囲においてフェニル基Rには下記R1で例示したようなアルキル基またはアルコキシ基が置換していてもよく、フェニル基Rに置換基を有する場合、置換基としてはアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。このような置換基の数は1〜2が好ましい。しかしながら、難燃性の点ではフェニル基Rには置換基がない方が好ましい。
また、mは2〜4の整数であり、mが3以上のp−ポリフェニレン構造においては、フェニル基は末端のフェニレン核に置換していることが好ましい。
また、R1は炭素原子数1〜6のアルキル基または炭素原子数1〜6のアルコキシ基であり、好ましくは炭素原子数1〜6のアルキル基である。炭素原子数1〜6のアルキル基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、環状のシクロアルキル基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜4の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、炭素原子数5乃至6のシクロアルキル基であり、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等であり、最も好ましくはメチル基である。
また、炭素原子数1〜6のアルコキシ基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基、環状のシクロアルコキシ基が挙げられる。好ましくは炭素数1〜4の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基、炭素原子数5乃至6のシクロアルコキシ基であり、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。また、aは各々独立して0〜4であり、0、1または2が好ましく、0または1がより好ましい。難燃性の点で、すべてのフェニレン基で各々のaが0または1であることが好ましく、0であることがより好ましい。aが1の場合、R1はアルキル基が好ましく、メチル基等炭素原子数の少ないほうがより好ましい。また、各フェニレン基においてnとaの和は、0≦n+a≦4である。p−ポリフェニレン基にR1が2つ以上置換している場合、R1は同一でも異なっていてもよい。
で表されるフェニル置換基を有するジヒドロキシ−p−ポリフェニレン化合物(以下、ジオールとも称呼する場合がある。)またはその誘導体とトリメリット酸無水物またはその誘導体からエステル化反応により合成することができる。
3−フェニル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、3,3'−ジフェニル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、
3,3'''−ジフェニル−4,4'''−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニル
3,3'−ジ−t−ブチル−4,4'−ジヒドロキシ−5,5'−ジフェニルビフェニル、
3,3'−ジメトキシ−4,4'−ジヒドロキシ−5,5'−ジフェニルビフェニル、
4,4''−ジヒドロキシ−3−メチル−5−フェニル−p−ターフェニル、
4,4'''−ジヒドロキシ−3,3''',5,5'''−テトラフェニル−p−クォーターフェニル等が挙げられる。
例えば、特開平2−212449号公報等に記載されているようにフェニル基にブロム基が置換したアルコキシベンゼン類とフェニル基にブロモマグネシウム基を有するアルコキシベンゼン類を反応させた後、得られた生成物のアルコキシル基のアルキル基をBBr3やHBrにより脱離させ水酸基とすることによって得ることができる。
m=3(ターフェニレン)または4(クォーターフェニレン)の場合は、特開2002−234856号公報や特開2005−247809号公報に記載されたように4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン類または4,4'−ビシクロヘキサンノン類とフェノール類とを酸触媒存在下で反応させ、得られたビスフェノール類を熱分解した後、得られた反応生成物を脱水素することによっても得ることができる。
該エステル基含有テトラカルボン酸二無水物を得る反応は、溶質濃度1〜50重量%の範囲で行われる。副反応の制御、沈殿物の濾過工程を考慮して、好ましくは5〜30重量%の範囲で行われる。
上記水洗操作の際、洗浄液に1%硝酸銀水溶液を滴下して塩化銀の白色沈殿の生成の有無をもって、塩酸塩が完全に除去されたかどうか簡便に判断することができる。
また、今ひとつの好ましい方法例としてエステル交換法によりエステル化反応を行い、本発明のエステル基含有テトラカルボン酸二無水物を合成する方法について説明する。
エステル交換法では、まず、前記一般式(9)のジオール類をカルボン酸ジエステルとする。例えば、無水酢酸等のカルボン酸無水物の過剰量を用いて酢酸等のカルボン酸エステルとする方法、硫酸、またはp−トルエンスルホン酸等のエステル化触媒の存在下にカルボン酸やハロゲン化アシルを反応させる方法等のフェノール類のカルボン酸エステルの製造方法を用いてカルボン酸ジエステル、例えば、酢酸ジエステルとし、これと無水トリメリット酸とのエステル交換反応により本発明のエステル基含有テトラカルボン酸無水物を合成する。トリメリット酸無水物の使用量は、ジオール類の酢酸ジエステルに対して好ましくは2〜10倍モルの範囲、より好ましくは2.6〜3.4倍モルの範囲である。
反応温度は好ましくは200〜230℃の範囲である。触媒は、カルボン酸リチウム塩、例えば酢酸リチウムが好ましい。触媒の使用量としては、ジオール類の酢酸ジエステルに対して0.1〜6モル%の範囲で用いることが好ましい。また反応溶媒は、ジフェニルエーテル等の高沸点の芳香族炭化水素類が挙げられ、その使用量はジオール類酢酸ジエステル1重量部に対して2〜10重量部用いることが好ましい。反応は、例えば、不活性雰囲気下に反応容器に原料の酢酸ジエステル、無水トリメリット酸類、酢酸リチウムおよび溶媒を仕込み攪拌下に昇温して、生成した酢酸を留出させながら反応を完結させる。また、反応終了後、反応溶液から目的物を分離精製する方法は、公知の方法に従い、例えば、反応液をそのまま冷却もしくは貧溶媒を加えて冷却して、析出した結晶を濾別することで粗製乃至高純度の目的物を得ることができる。さらに必要であれば、再結晶・濾過することで高純度品を得ることができる。
また、例えば、上記精製操作で結晶化させる前に、目的物が溶解した溶媒を濾過して無機塩を濾別するか、あるいは、水洗することで無機塩等の金属分をさらに低減させた高純度品を得ることもできる。
ポリエステルイミドフィルムとした場合の要求特性に対応して、且つポリエステルイミド前駆体の重合反応性を損なわない範囲であれば特に限定されないが、ポリエステルイミド前駆体の重合の際に使用可能な芳香族ジアミンとしては、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、2,4−ジアミノデュレン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−メチレンビス(2−メチルアニリン)、4,4'−メチレンビス(2−エチルアニリン)、4,4'−メチレンビス(2,6−ジメチルアニリン)、4,4'−メチレンビス(2,6−ジエチルアニリン)、4,4'−オキシジアニリン、3,4'−オキシジアニリン、3,3'−オキシジアニリン、2,4'−オキシジアニリン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンズアニリド、4−アミノフェニル−4'−アミノベンゾエート、ベンジジン、3,3'−ジヒドロキシベンジジン、3,3'−ジメトキシベンジジン、o−トリジン、m−トリジン、2,2'−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、p−ターフェニレンジアミン等が挙げられる。またこれらを2種類以上併用することもできる。
本発明のポリエステルイミド前駆体はその重合溶液を、大量の水やメタノール等の貧溶媒中に滴下・濾過・乾燥し、粉末として単離することもできる。
また、上記のように得られたポリエステルイミド粉末を200〜450℃、好ましくは250〜430℃で加熱圧縮することでポリエステルイミドの成型体を作製することもできる。
本発明のポリエステルイミド層を銅箔上に直接形成してCCLを作製する場合、CCLの密着強度の指標であるピール強度が0.8kgf/cm以上であることが好ましく、1.0kgf/cm以上であることがより好ましい。
<赤外吸収スペクトル>
フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光社製FT−IR5300またはFT−IR350)を用い、KBr法にてエステル基含有テトラカルボン酸二無水物の赤外線吸収スペクトルを測定した。また透過法にてポリエステルイミド前駆体およびポリエステルイミド薄膜(約5μm厚)の赤外線吸収スペクトルを測定した。
<1H−NMRスペクトル>
日本電子社製NMR分光光度計(ECP400)を用い、重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d6)中でエステル基含有テトラカルボン酸二無水物の1H−NMRスペクトルを測定した。
<元素分析>
ヤナコテクニカルサイエンス社製有機元素分析装置(CHN CORDER MT−6)を用いて本発明のエステル基含有テトラカルボン酸二無水物の元素分析を行い、炭素、水素、窒素の各元素含有率(重量%)を求めた。
<示差走査熱量分析>
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物の融点および融解曲線は、ブルカーエイエックスエス社製示差走査熱量分析(DSC)装置(DSC3100)を用いて、窒素雰囲気中、昇温速度5℃/分で測定した。融点が高く融解ピークがシャープであるほど、高純度であることを示す。
<固有粘度>
0.5重量%のポリエステルイミド前駆体溶液を、オストワルド粘度計を用いて30℃で測定した。得られた還元粘度を固有粘度としてみなした。
<ガラス転移温度:Tg>
ブルカーエイエックスエス社製熱機械分析装置(TMA4000)を用いて動的粘弾性測定により、周波数0.1Hz、昇温速度5℃/分における損失エネルギー曲線のピークからポリエステルイミドフィルム(20μm厚)のガラス転移温度を求めた。または試験片に静荷重0.5g/膜厚1μm当たりをかけ、5℃/分で昇温した時の試験片の伸びと温度の関係即ちTMA曲線を得た後、試験片が急激に伸びた温度付近において2つの接線を引きその交点からガラス転移温度を求めた。
<線熱膨張係数:CTE>
ブルカーエイエックス社製熱機械分析装置(TMA4000)を用いて、熱機械分析により、荷重0.5g/膜厚1μm、昇温速度5℃/分における試験片の伸びより、100〜200℃の範囲での平均値としてポリエステルイミドフィルム(20μm厚)の線熱膨張係数を求めた。
<5%重量減少温度:Td5>
ブルカーエイエックスエス社製熱重量分析装置(TG−DTA2000)を用いて、窒素中および空気中、昇温速度10℃/分での昇温過程において、ポリエステルイミドフィルム(20μm厚)の初期重量が5%減少した時の温度を測定した。これらの値が高いほど、熱安定性が高いことを表す。
<誘電率:εcal>
アタゴ社製アッベ屈折計(アッベ4T)を用いて、ポリエステルイミドフィルム(20μm厚)に平行な方向(nin)と垂直な方向(nout)の屈折率をアッベ屈折計(ナトリウムランプ使用、波長589nm)で測定し、ポリエステルイミドフィルムの平均屈折率〔nav=(2nin+nout)/3〕に基づいて次の経験式:εcal=1.1×nav2により1MHzにおけるポリエステルイミドフィルムの誘電率(εcal)を算出した。
<吸水率>
50℃で24時間真空乾燥したポリエステルイミドフィルム(膜厚20〜30μm)を24℃の水に24時間浸漬した後、余分な水分を拭き取り、重量増加分から吸水率(%)を求めた。殆どの用途においてこの値が低いほど好ましい。
<吸湿膨張係数:CHE>
ポリエステルイミドフィルム(5mm×20mm×膜厚20μm)を100℃で数時間真空乾燥後、これをブルカーエイエックスエス社製熱機械分析装置(TMA4000)に速やかにセット(チャック間:15mm)して膜厚1μm当たり0.5gの静荷重を試験片にかけ、室温で乾燥窒素を1時間流した後、神栄社製精密湿度供給装置(SRG−1R−1)を用いて相対湿度(RH)80%のウエットガスをTMA4000装置内に導入して、室温における試験片の伸びより、ポリエステルイミドフィルムの吸湿膨張係数を求めた。この値が低いほど吸湿寸法安定性が高いことを意味する。
<弾性率、破断伸び、破断強度>
東洋ボールドウィン社製引張試験機(テンシロンUTM−2)を用いて、ポリエステルイミド試験片(3mm×30mm×20μm厚)について引張試験(延伸速度:8mm/分)を実施し、応力−歪曲線の初期の勾配から弾性率を、フィルムが破断した時の伸び率から破断伸び(%)を求めた。破断伸びが高いほどフィルムの靭性が高いことを意味する。
<難燃性評価>
UL−94V規格に従ってポリエステルイミド試験片(125mm×13mm×20μm厚)の難燃性を評価した。
<剥離試験:ピール強度>
CCLを以下のように作製した。本発明のポリエステルイミド前駆体のNMP溶液を電解銅箔(古河電工社製F3−WS:18μm厚)のマット面に塗付、80℃で3時間空気中で乾燥し、真空中所定の温度で1時間熱イミド化して試験片を得た。これらの試験片について、上記の引張試験と同様な条件で180°剥離試験を実施し、ピール強度を測定した。
<エステル基含有テトラカルボン酸二無水物(TAOPP−BP)の合成>
式(6):
式(6−1):
DSC: 融点236.9℃
<エステル基含有テトラカルボン酸二無水物(TADHTP−Ph)の合成>
式(7):
DSC: 融点250.0℃
元素分析結果 理論値 C:77.47%、H:3.23%
分析値 C:77.49%,H:3.38%
<エステル基含有テトラカルボン酸二無水物(TADHQP−DP)の合成>
式(8):
DSC: 融点278.3℃
元素分析結果 理論値 C:77.32%、H:3.60%
分析値 C:77.26%、H:3.66%
<ポリエステルイミド前駆体の重合、イミド化およびポリエステルイミドフィルム特性の評価>
よく乾燥した攪拌機付密閉反応容器中にp−フェニレンジアミン5mmolを入れ、モレキュラーシーブス4Aで十分に脱水したN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に溶解した後、この溶液に実施例1に記載の式(6)で表されるエステル基含有テトラカルボン酸二無水物(TAOPP−BP)粉末5mmolを徐々に加えた(全モノマー濃度:22.7重量%)。反応溶液の粘度が増加して攪拌しにくくなったため、同一の溶媒を徐々に加え最終的に全モノマー濃度15.2重量%まで希釈した。72時間撹拌し均一で粘稠なポリエステルイミド前駆体溶液を得た。このポリエステルイミド前駆体溶液は室温および−20℃で一ヶ月間放置しても沈澱、ゲル化は全く起こらず、高い溶液貯蔵安定を示した。NMP中、30℃、0.5重量%の濃度でオストワルド粘度計にて測定したポリエステルイミド前駆体の固有粘度は1.84dL/gであり、高重合体であった。このポリエステルイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、80℃、2時間で乾燥して得たポリエステルイミド前駆体フィルムを基板上、減圧下250℃で1時間、さらに300℃で1時間、熱イミド化を行った後、残留応力を除去するために基板から剥がして340℃で1時間、熱処理を行い、膜厚19μmの淡黄色の透明なポリエステルイミドフィルムを得た。このポリエステルイミドフィルムは180°折曲げ試験によっても破断せず、可撓性を示した。また如何なる有機溶媒に対しても全く溶解性を示さなかった。このポリエステルイミドフィルムについて動的粘弾性測定を行った結果、389℃にガラス転移点(動的粘弾性曲線における損失ピークより決定)が観測された。
このようにこのポリエステルイミドは極めて低い線熱膨張係数、非常に低い吸水率、非常に低い吸湿膨張係数、高い熱安定性、比較的低い弾性率および比較的低い誘電率を示した。またUL−94、V−0レベルの難燃性を示した。表1に物性値をまとめる。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図1に示す。
ジアミン成分としてp−フェニレンジアミンの代わりに4−アミノフェニル−4'−アミノベンゾエート(以下APABと称する)を使用し、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図2に示す。
ジアミン成分としてp−フェニレンジアミンの代わりにm−トリジンを使用し、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図3に示す。
ジアミン成分としてp−フェニレンジアミンの代わりにo−トリジンを使用し、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図4に示す。
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物としてTAOPP−BPの代わりにTADHTP−Phを使用し、ジアミン成分としてp−フェニレンジアミンを用いて、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図5に示す。
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物としてTADHTP−Ph、ジアミン成分としてo−トリジンを用いて、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図6に示す。
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物としてTADHQP−DPを使用し、ジアミン成分としてp−フェニレンジアミンを用いて、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図7に示す。
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物としてTADHQP−DP、ジアミン成分としてAPABを用いて、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図8に示す。
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物としてTADHQP−DP、ジアミン成分としてm−トリジンを用いて、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図9に示す。
エステル基含有テトラカルボン酸二無水物としてTADHQP−DP、ジアミン成分としてo−トリジンを用いて、実施例4に記載した方法に準じてポリエステルイミド前駆体を重合し、製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。ポリエステルイミド薄膜の赤外線吸収スペクトルを図10に示す。
p−フェニレンジアミン(5mmol)のNMP溶液にTADHQP−DP(2.5mmol)と後述の式(13)で表されるTA44BP(2.5mmol)の粉末を一度に加えてポリエステルイミド前駆体をランダム共重合し、実施例4に記載した方法に準じて製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。
p−フェニレンジアミン(5mmol)のNMP溶液にTADHQP−DP(3.5mmol)とTA44BP(1.5mmol)の粉末を一度に加えてポリエステルイミド前駆体をランダム共重合し、実施例4に記載した方法に準じて製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。
p−フェニレンジアミン(5mmol)のNMP溶液にTA44BP(1.5mmol)の粉末を加えて室温で2時間反応後、TADHQP−DP(3.5mmol)粉末を加えることで、ランダム共重合体とは異なる連鎖を有する連鎖制御ポリエステルイミド前駆体共重合体を重合し、実施例4に記載した方法に準じて製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。
p−フェニレンジアミン(2.5mmol)および4,4'−オキシジアニリン(2.5mmol)を含むNMP溶液にTADHQP−DP(2.5mmol)とTA44BP(2.5mmol)の粉末を一度に加えてポリエステルイミド前駆体をランダム共重合し、実施例4に記載した方法に準じて製膜、イミド化してポリエステルイミドフィルムを作製し、同様に物性評価した。物性値を表1に示す。
ジアミンとしてp−フェニレンジアミンを用い、テトラカルボン酸二無水物として下記式(13):
ジアミンとしてp−フェニレンジアミンを用い、テトラカルボン酸二無水物として下記式(14):
Claims (5)
- 固有粘度が0.1〜20.0dL/gの範囲である、請求項2に記載のポリエステルイミド前駆体。
- 請求項2または3に記載のポリエステルイミド前駆体を、加熱または脱水環化試薬を用いてイミド化反応させることを特徴とする、請求項4に記載のポリエステルイミドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010550562A JP5727795B2 (ja) | 2009-02-12 | 2010-02-12 | エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009030494 | 2009-02-12 | ||
JP2009030494 | 2009-02-12 | ||
JP2009156229 | 2009-06-30 | ||
JP2009156229 | 2009-06-30 | ||
PCT/JP2010/052092 WO2010093021A1 (ja) | 2009-02-12 | 2010-02-12 | エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 |
JP2010550562A JP5727795B2 (ja) | 2009-02-12 | 2010-02-12 | エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010093021A1 true JPWO2010093021A1 (ja) | 2012-08-16 |
JP5727795B2 JP5727795B2 (ja) | 2015-06-03 |
Family
ID=42561861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010550562A Active JP5727795B2 (ja) | 2009-02-12 | 2010-02-12 | エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9096566B2 (ja) |
JP (1) | JP5727795B2 (ja) |
CN (2) | CN102317352B (ja) |
WO (1) | WO2010093021A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9023974B2 (en) | 2007-01-26 | 2015-05-05 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Ester group-containing tetracarboxylic acid dianhydride, novel polyesterimide precursor derived therefrom, and polyesterimide |
WO2011158928A1 (ja) * | 2010-06-18 | 2011-12-22 | 本州化学工業株式会社 | 無水トリメリット酸フェニルエステル類の製造方法 |
JP5648904B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2015-01-07 | 住友ベークライト株式会社 | ポリエステルイミド樹脂組成物、ならびにそれを含浸させたプリプレグ、積層板および半導体装置 |
US9493614B2 (en) * | 2013-02-26 | 2016-11-15 | Toray Industries, Inc. | Polyimide precursor, polyimide, flexible substrate prepared therewith, color filter and production method thereof, and flexible display device |
CN104016870B (zh) * | 2014-06-25 | 2017-01-04 | 中山大学 | 一种含间三联苯结构二胺化合物及其合成方法和应用 |
CN105085912B (zh) * | 2015-08-07 | 2018-10-02 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种透明聚酯酰亚胺树脂及其制备方法 |
WO2017057360A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 本州化学工業株式会社 | 新規なテトラカルボン酸二無水物、及び該テトラカルボン酸二無水物から誘導されるポリイミド、及び該ポリイミドからなる成形体 |
JP6373884B2 (ja) * | 2016-01-27 | 2018-08-15 | 株式会社有沢製作所 | ポリイミド樹脂前駆体 |
WO2018139311A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-08-02 | ウィンゴーテクノロジー株式会社 | ジアミン化合物、並びにそれを用いたポリイミド化合物および成形物 |
CN109438702A (zh) * | 2018-09-29 | 2019-03-08 | 苏州市新广益电子有限公司 | 一种用于fpc行业的tpi薄膜及其制备和加工方法 |
JP7128587B2 (ja) * | 2019-02-14 | 2022-08-31 | 田岡化学工業株式会社 | テトラカルボン酸二無水物、ポリアミック酸及びポリイミド |
TWI781018B (zh) * | 2021-12-17 | 2022-10-11 | 士峰科技股份有限公司 | 二酸酐化合物及其製備方法 |
CN115386085B (zh) * | 2022-09-21 | 2024-04-26 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种聚酯酰亚胺共聚物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2605453B2 (ja) | 1990-05-25 | 1997-04-30 | 日立化成工業株式会社 | ポリエステル酸無水物の製造法 |
JP2898066B2 (ja) * | 1990-06-28 | 1999-05-31 | 日本放送協会 | 光デバイス |
JP3603460B2 (ja) * | 1996-03-25 | 2004-12-22 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤および液晶表示素子 |
JPH1070157A (ja) | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規ポリイミドフィルムをベースフィルムとするfcテープ及びtabテープ |
KR100509512B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | 비스(트리알킬트리멜리트산 무수물) 유도체 및 이로부터 형성된 광통신용 폴리에스테르이미드 |
TW531547B (en) * | 1998-08-25 | 2003-05-11 | Kaneka Corp | Polyimide film and process for producing the same |
KR20000035259A (ko) * | 1998-11-05 | 2000-06-26 | 다케다 마사토시 | 폴리이미드 필름 및 이를 사용한 전기/전자 기기용 기판 |
JP3676099B2 (ja) * | 1998-12-01 | 2005-07-27 | 株式会社カネカ | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 |
JP2004079826A (ja) | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 配線基板用積層体 |
JP4792204B2 (ja) | 2004-04-09 | 2011-10-12 | マナック株式会社 | 高い有機溶媒溶解性、高熱可塑性、高靭性および高ガラス転移温度を併せ持つポリイミド、およびその製造方法 |
JP2006013419A (ja) | 2004-05-21 | 2006-01-12 | Manac Inc | フレキシブルプリント基板およびその製造方法 |
TWI286148B (en) | 2005-05-30 | 2007-09-01 | Chang Chun Plastics Co Ltd | Novel polyimide resin and its preparation method |
JP2008001876A (ja) * | 2006-05-23 | 2008-01-10 | Asahi Kasei Corp | ポリエステルイミドおよびその製造方法 |
US9023974B2 (en) | 2007-01-26 | 2015-05-05 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Ester group-containing tetracarboxylic acid dianhydride, novel polyesterimide precursor derived therefrom, and polyesterimide |
-
2010
- 2010-02-12 JP JP2010550562A patent/JP5727795B2/ja active Active
- 2010-02-12 CN CN201080007446.7A patent/CN102317352B/zh active Active
- 2010-02-12 CN CN201310403666.7A patent/CN103524467B/zh active Active
- 2010-02-12 US US13/148,764 patent/US9096566B2/en active Active
- 2010-02-12 WO PCT/JP2010/052092 patent/WO2010093021A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103524467B (zh) | 2015-10-28 |
CN102317352A (zh) | 2012-01-11 |
CN102317352B (zh) | 2014-04-09 |
US9096566B2 (en) | 2015-08-04 |
JP5727795B2 (ja) | 2015-06-03 |
WO2010093021A1 (ja) | 2010-08-19 |
CN103524467A (zh) | 2014-01-22 |
US20120029164A1 (en) | 2012-02-02 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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