JP2605453B2 - ポリエステル酸無水物の製造法 - Google Patents
ポリエステル酸無水物の製造法Info
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- JP2605453B2 JP2605453B2 JP2136480A JP13648090A JP2605453B2 JP 2605453 B2 JP2605453 B2 JP 2605453B2 JP 2136480 A JP2136480 A JP 2136480A JP 13648090 A JP13648090 A JP 13648090A JP 2605453 B2 JP2605453 B2 JP 2605453B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性樹脂の原料あるいはポリエステル樹
脂やポリウレタン樹脂の硬化剤として有用なポリエステ
ル酸無水物の製造法に関する。
脂やポリウレタン樹脂の硬化剤として有用なポリエステ
ル酸無水物の製造法に関する。
耐熱性樹脂の原料、エポキシ樹脂やポリウレタン樹脂
の硬化剤として有用なビストリメリテート酸無水物は、
従来、ベンゼンやトルエン中、無水トリメリツト酸クロ
リドとジオールとの反応により（特公昭43-5911号公
報）、あるいは塩素化ジフエニル中、無水トリメリツト
酸とジアセテートとのエステル交換反応により（特公昭
43-18914号公報）、あるいは無水トリメリツト酸とジオ
ールとを200℃以上に加熱することにより（特公昭45-29
974号公報）、あるいはピリジン中、ｐ−トルエンスル
ホニルクロリドを用い、無水トリメリツト酸とビスフエ
ノールとの反応により（特開昭63-303976号公報）得ら
れていた。
の硬化剤として有用なビストリメリテート酸無水物は、
従来、ベンゼンやトルエン中、無水トリメリツト酸クロ
リドとジオールとの反応により（特公昭43-5911号公
報）、あるいは塩素化ジフエニル中、無水トリメリツト
酸とジアセテートとのエステル交換反応により（特公昭
43-18914号公報）、あるいは無水トリメリツト酸とジオ
ールとを200℃以上に加熱することにより（特公昭45-29
974号公報）、あるいはピリジン中、ｐ−トルエンスル
ホニルクロリドを用い、無水トリメリツト酸とビスフエ
ノールとの反応により（特開昭63-303976号公報）得ら
れていた。
しかしながら、特公昭43-5911号公報，特公昭43-1891
4号公報，特公昭45-29974号公報に示される方法では副
反応がおこり、収率が低く、また精製が困難であるとい
う問題点があつた。また、特開昭63-303976号公報に示
される方法は上記欠点はないものの、高価かつ刺激性の
弱いｐ−トルエンスルホニルクロリドが反応物と等モル
以上必要であるという問題点があった。
4号公報，特公昭45-29974号公報に示される方法では副
反応がおこり、収率が低く、また精製が困難であるとい
う問題点があつた。また、特開昭63-303976号公報に示
される方法は上記欠点はないものの、高価かつ刺激性の
弱いｐ−トルエンスルホニルクロリドが反応物と等モル
以上必要であるという問題点があった。
本発明はこのような問題点のないポリエステル酸無水
物の製造法を提供するものである。
物の製造法を提供するものである。
本発明は、一般式（Ｉ） （ただし、式中、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるハ
ロホルミルフタル酸無水物と一般式（II） ＲOH）ｎ （II） （ただし、式中、ｎは２〜４の整数、Ｒはｎ価の有機基
を示す）で表わされるポリヒドロキシ化合物とを誘電率
４以上のエーテル系溶媒中、塩基の存在下で反応させる
ことを特徴とする一般式（III） 〔ただし、式中、ｎ及びＲは一般式（II）に同じであ
る〕で表わされるポリエステル酸無水の製造法に関す
る。
ロホルミルフタル酸無水物と一般式（II） ＲOH）ｎ （II） （ただし、式中、ｎは２〜４の整数、Ｒはｎ価の有機基
を示す）で表わされるポリヒドロキシ化合物とを誘電率
４以上のエーテル系溶媒中、塩基の存在下で反応させる
ことを特徴とする一般式（III） 〔ただし、式中、ｎ及びＲは一般式（II）に同じであ
る〕で表わされるポリエステル酸無水の製造法に関す
る。
上記ハロホルミルフタル酸無水物としては４−クロロ
ホルミル無水フタル酸,3−クロロホルミル無水フタル
酸,4−ブロモホルミル無水フタル酸,3−ブロモホルミル
無水フタル酸等があり、特に４−クロロホルミル無水フ
タル酸が好ましい。
ホルミル無水フタル酸,3−クロロホルミル無水フタル
酸,4−ブロモホルミル無水フタル酸,3−ブロモホルミル
無水フタル酸等があり、特に４−クロロホルミル無水フ
タル酸が好ましい。
ポリヒドロキシ化合物としては、ジオール、トリオー
ル、テトラオール、ビスフェノール、トリフェノール等
がある。
ル、テトラオール、ビスフェノール、トリフェノール等
がある。
ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオー
ル、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、
1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオール等のア
ルキレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール等のポリアル
キレングリコール、２、２′−〔1,4−フエニレンビス
（オキシ）〕ビスエタノール、ｐ−キシリレン−α，
α′−ジオール、ｍ−キシリレン−α，α′−ジオー
ル、ｍ−キシリレン−α，α′−ジオール、2,5−ジメ
チル−ｐ−キシリレングリコール、4,6−ジメチル−ｍ
−キシリレングリコール、４−メチル−ｍ−キシレング
リコール、α，α，α′，α′−テトラメチル−1,3−
ベンゼンジメタノール、α，α，α′，α′−テトラメ
チル−1,4−ベンゼンジメタノール等の芳香環を含むグ
リコール、下記一般式（Ａ）で表わされるポリシロキサ
ングリコール等が挙げられる。
グリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオー
ル、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、
1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオール等のア
ルキレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール等のポリアル
キレングリコール、２、２′−〔1,4−フエニレンビス
（オキシ）〕ビスエタノール、ｐ−キシリレン−α，
α′−ジオール、ｍ−キシリレン−α，α′−ジオー
ル、ｍ−キシリレン−α，α′−ジオール、2,5−ジメ
チル−ｐ−キシリレングリコール、4,6−ジメチル−ｍ
−キシリレングリコール、４−メチル−ｍ−キシレング
リコール、α，α，α′，α′−テトラメチル−1,3−
ベンゼンジメタノール、α，α，α′，α′−テトラメ
チル−1,4−ベンゼンジメタノール等の芳香環を含むグ
リコール、下記一般式（Ａ）で表わされるポリシロキサ
ングリコール等が挙げられる。
（ただしｍは１〜100の整数を示す） トリオールとしては、グリセリン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン等が挙げられる。
タン、トリメチロールプロパン等が挙げられる。
ビスフエノールとしては、例えば、次の一般式（Ｂ）
で表わされるものがある。
で表わされるものがある。
（ただし、式中、Ｚは結合、−Ｏ−，−SO2−，−Ｓ
−，−CO−又は を示し、ここで、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ孤立にフツ等で
置換されていてもよいアルキル基もしくはアリール基又
は水素を示し、またベンゼン環の各水素はアルキル基、
アルコキシ基又はハロゲンで置換されてもよく、ｑは０
又は１以上の整数である）。
−，−CO−又は を示し、ここで、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ孤立にフツ等で
置換されていてもよいアルキル基もしくはアリール基又
は水素を示し、またベンゼン環の各水素はアルキル基、
アルコキシ基又はハロゲンで置換されてもよく、ｑは０
又は１以上の整数である）。
ビスフエノールの具体例としては、レゾルシノール、
カテコール、ヒドロキノン、2,5−ジメチルヒドロキノ
ン、2,6−ジメチルヒドロキノン、2,2−ビス（４−ヒド
ロキシフエニル）プロパン〔以下、ビスフエノールＡと
いう〕、2,2−ビス（４−ヒドロキシフエニル）ヘキサ
フルオロプロパン、1,1……ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフエニル）メタ
ン、ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフエニル）
メタン、4,4′−（フエニルメチレン）ビスフエノー
ル、4,4′−（１−フエニルエチリデン）ビスフエノー
ル、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフエニ
ル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジブ
ロモフエニル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ
−3,5−ジクロロフエニル）プロパン、2,2−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）ブタン、ビス（４−ヒドロキシフ
エニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフエニル）ケ
トン、4,4′−ビフエノール、2,2′−ビフエノール、4,
4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメトキシビフ
エニル、ビス（４−ヒドロキシシフエニル）スルホン、
ビス（４−ヒドロキシフエニル）スルフィド、1,1−ビ
ス（４−ヒドロキシフエニル）シクロヘキサン、4,4′
−〔1,4−フエニレンビス（１−メチルチリデン）〕ビ
スフエノール〔以下、ビスフエノールＰという〕、4,
4′−〔1,3−フエニレンビス（１−メチルエチリデ
ン）〕ビスフエノール〔以下、ビスフエノールＭとい
う〕、4,4′−〔1,4−フエニレンビス（１−メチルエチ
リデン）〕ビス（2,6−ジメチルフエノール）、α，
α′−ビス〔３−メチル−４−ヒドロキシフエニル）−
ｍ−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
カテコール、ヒドロキノン、2,5−ジメチルヒドロキノ
ン、2,6−ジメチルヒドロキノン、2,2−ビス（４−ヒド
ロキシフエニル）プロパン〔以下、ビスフエノールＡと
いう〕、2,2−ビス（４−ヒドロキシフエニル）ヘキサ
フルオロプロパン、1,1……ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフエニル）メタ
ン、ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフエニル）
メタン、4,4′−（フエニルメチレン）ビスフエノー
ル、4,4′−（１−フエニルエチリデン）ビスフエノー
ル、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフエニ
ル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジブ
ロモフエニル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ
−3,5−ジクロロフエニル）プロパン、2,2−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）ブタン、ビス（４−ヒドロキシフ
エニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフエニル）ケ
トン、4,4′−ビフエノール、2,2′−ビフエノール、4,
4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,5′−テトラメトキシビフ
エニル、ビス（４−ヒドロキシシフエニル）スルホン、
ビス（４−ヒドロキシフエニル）スルフィド、1,1−ビ
ス（４−ヒドロキシフエニル）シクロヘキサン、4,4′
−〔1,4−フエニレンビス（１−メチルチリデン）〕ビ
スフエノール〔以下、ビスフエノールＰという〕、4,
4′−〔1,3−フエニレンビス（１−メチルエチリデ
ン）〕ビスフエノール〔以下、ビスフエノールＭとい
う〕、4,4′−〔1,4−フエニレンビス（１−メチルエチ
リデン）〕ビス（2,6−ジメチルフエノール）、α，
α′−ビス〔３−メチル−４−ヒドロキシフエニル）−
ｍ−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
トリフエノールとしては、1,3,5−ベンゼントリオー
ル、α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフエニ
ル）−1,3,5−リイソプロピルベンゼン、2,6−ビス
〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフエニル）メチル〕−
４−メチルフエノール等が挙げられる。
ル、α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフエニ
ル）−1,3,5−リイソプロピルベンゼン、2,6−ビス
〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフエニル）メチル〕−
４−メチルフエノール等が挙げられる。
その他のポリヒドロキシ化合物としては、ペンタエリ
スリトール、1,5−ジヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒド
ロナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジ
ヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
スリトール、1,5−ジヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒド
ロナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジ
ヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
誘電率（ε）４以上のエーテル系溶媒としては、テト
ラヒドロフラン（ε＝7.58）、エチレングリコールジメ
チルエーテル（ε＝5.50）、ジエチルエーテル（ε＝4.
20）等があるが、特にテトラヒドロフランが好ましい。
溶媒の誘電率が４より小さいと原料の溶解性が悪く、反
応が十分に進行しない場合がある。
ラヒドロフラン（ε＝7.58）、エチレングリコールジメ
チルエーテル（ε＝5.50）、ジエチルエーテル（ε＝4.
20）等があるが、特にテトラヒドロフランが好ましい。
溶媒の誘電率が４より小さいと原料の溶解性が悪く、反
応が十分に進行しない場合がある。
塩基は、反応中に生じるハロゲン化水素を補足するた
めに反応溶媒中に加えられる。塩基としてはピリジン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン等の三級アミンな
どが挙げられるが特にピリジンが好ましい。
めに反応溶媒中に加えられる。塩基としてはピリジン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン等の三級アミンな
どが挙げられるが特にピリジンが好ましい。
反応温度は、エーテル系溶媒の還流温度以下が好まし
く、特に50℃以下が好ましい。反応温度が高くなると副
反応が生じ、収率が低下する傾向にあり、また、生成物
の精製が困難になる傾向がある。本発明において各反応
物の添加順序は任意であり、例えば、ポリヒドロキシ化
合物のエーテル系溶媒溶液に、ハロホルミルフタル酸無
水物をそのまま又はエーテル系溶媒に溶解して添加する
方法、ハロホルミルフタル酸無水物のエーテル系溶媒溶
液中にポリヒドロキシ化合物をそのまま又はエーテル系
溶媒に溶解して添加する方法等がある。好ましくはハロ
ホルミルフタル酸無水物のエーテル系溶媒溶液中にポリ
ヒドロキシ化合物をエーテル系溶媒に溶解して添加され
るが、この場合、反応系の温度を添加終了まで10℃以
下、特に５℃以下に保つのが好ましい。また、反応時間
は、使用する原料、反応温度等により異なるが、適宜決
定すればよく、通常、0.1〜24時間反応させれば十分で
ある。
く、特に50℃以下が好ましい。反応温度が高くなると副
反応が生じ、収率が低下する傾向にあり、また、生成物
の精製が困難になる傾向がある。本発明において各反応
物の添加順序は任意であり、例えば、ポリヒドロキシ化
合物のエーテル系溶媒溶液に、ハロホルミルフタル酸無
水物をそのまま又はエーテル系溶媒に溶解して添加する
方法、ハロホルミルフタル酸無水物のエーテル系溶媒溶
液中にポリヒドロキシ化合物をそのまま又はエーテル系
溶媒に溶解して添加する方法等がある。好ましくはハロ
ホルミルフタル酸無水物のエーテル系溶媒溶液中にポリ
ヒドロキシ化合物をエーテル系溶媒に溶解して添加され
るが、この場合、反応系の温度を添加終了まで10℃以
下、特に５℃以下に保つのが好ましい。また、反応時間
は、使用する原料、反応温度等により異なるが、適宜決
定すればよく、通常、0.1〜24時間反応させれば十分で
ある。
ハロホルミルフタル酸無水物はポリヒドロキシ化合物
（ヒドロキシ基の数ｎ個）に対してほぼｎモルを用いる
ことが好ましいが、ハロホルミル酸無水物を該モル数に
対して10％、好ましくは５％以内の量で過剰に用いても
よい。
（ヒドロキシ基の数ｎ個）に対してほぼｎモルを用いる
ことが好ましいが、ハロホルミル酸無水物を該モル数に
対して10％、好ましくは５％以内の量で過剰に用いても
よい。
反応終了後、反応溶液からハロゲン化水素塩を除いた
後、生成物を無水酢酸等で再結晶することによつてポリ
エステル酸無水物を高純度，高収率で得ることができ
る。
後、生成物を無水酢酸等で再結晶することによつてポリ
エステル酸無水物を高純度，高収率で得ることができ
る。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発
明はこれらの範囲に限定されるものではない。
明はこれらの範囲に限定されるものではない。
実施例１ 攪拌装置，温度計，塩化カルシウム管付冷却管を備え
た１の４つ口フラスコに無水トリメリツト酸クロリド
84.2g、テトラヒドロフラン（THFと略す）600mlを加
え、溶解した後５℃以下に冷却した。この溶液に、ビス
フエノールA45.6g（0.2モル）とピリジン31.6gをTHF130
mlに溶解した溶液を反応溶液の温度が５℃を越えないよ
うに滴下した。滴下終了後、室温で１時間、40℃で１時
間反応した後、放冷した。析出したピリジン塩酸塩を濾
過によつて除いた後、THFを留去し、得られた生成物を
無水酢酸で再結晶して2,2−ビス（ｐ−トリメリットキ
シフエニル）プロパン（以下、ビスフエノールＡビスト
リメリテート酸無水物という）を得た。融点192℃、収
率85％であつた。
た１の４つ口フラスコに無水トリメリツト酸クロリド
84.2g、テトラヒドロフラン（THFと略す）600mlを加
え、溶解した後５℃以下に冷却した。この溶液に、ビス
フエノールA45.6g（0.2モル）とピリジン31.6gをTHF130
mlに溶解した溶液を反応溶液の温度が５℃を越えないよ
うに滴下した。滴下終了後、室温で１時間、40℃で１時
間反応した後、放冷した。析出したピリジン塩酸塩を濾
過によつて除いた後、THFを留去し、得られた生成物を
無水酢酸で再結晶して2,2−ビス（ｐ−トリメリットキ
シフエニル）プロパン（以下、ビスフエノールＡビスト
リメリテート酸無水物という）を得た。融点192℃、収
率85％であつた。
実施例２〜８ ビスフエノールA0.2モルのかわりに表１に示す水酸基
含有物0.2モルを用い、実施例１に準じて、反応するビ
ストリメリテート酸無水物を得た。結果を表１に示す。
含有物0.2モルを用い、実施例１に準じて、反応するビ
ストリメリテート酸無水物を得た。結果を表１に示す。
比較例１ 攪拌装置，温度計，冷却管を備えたフラスコにビスフ
エノールA45.6g、ジメチルアセトアミド300mlを加えて5
0℃に加熱する。この溶液に無水トリメリツト酸クロリ
ド84.2gを400mlのベンゼンに溶解した溶液を滴下した。
滴下終了後50℃で２時間反応を続けた後、放冷した沈殿
を濾過した後、無水酢酸で再結晶しようとしたところ、
不純物が多いため精製できなかった。
エノールA45.6g、ジメチルアセトアミド300mlを加えて5
0℃に加熱する。この溶液に無水トリメリツト酸クロリ
ド84.2gを400mlのベンゼンに溶解した溶液を滴下した。
滴下終了後50℃で２時間反応を続けた後、放冷した沈殿
を濾過した後、無水酢酸で再結晶しようとしたところ、
不純物が多いため精製できなかった。
比較例２ 溶媒をジオキサン（ε＝2.21）にし、反応温度をそれ
ぞれ50℃とする以外は実施例１と同様にしてビスフエノ
ールＡビストリメリテート酸無水物を得た。得られたビ
スフエノールＡビストリメリテート酸無水物は融点が19
0℃で収率は52％であつた。
ぞれ50℃とする以外は実施例１と同様にしてビスフエノ
ールＡビストリメリテート酸無水物を得た。得られたビ
スフエノールＡビストリメリテート酸無水物は融点が19
0℃で収率は52％であつた。
比較例３ 反応温度を80℃とする以外は比較例２に準じて行なつ
た。得られたビスフエノールＡビストリメリテート酸無
水物は融点が188℃で収率は35％であつた。
た。得られたビスフエノールＡビストリメリテート酸無
水物は融点が188℃で収率は35％であつた。
実施例９〜11 反応温度及び反応時間をそれぞれ０℃及び４時間（実
施例９）、50℃及び１時間（実施例10）並びに60℃及び
１時間（実施例11）とすること以外は実施例１に準じて
ビスフエノールＡビストリメリテート酸無水物を得た。
これの収率はそれぞれ87％,81％および68％であつた。
施例９）、50℃及び１時間（実施例10）並びに60℃及び
１時間（実施例11）とすること以外は実施例１に準じて
ビスフエノールＡビストリメリテート酸無水物を得た。
これの収率はそれぞれ87％,81％および68％であつた。
比較例５ 攪拌装置，温度計，冷却管を備えたフラスコに無水ト
リメリツト酸クロリド42.1g、ピリジン22.5g、ベンゼン
（ε＝2.28）130gを入れ溶解した。攪拌下、ビスフエノ
ールA22.8gを数回に分けて添加した後、50℃で１時間反
応させた。室温まで冷却した後、沈殿を濾過し、濾液を
ヘキサンに加えた。析出した沈殿を乾燥後、無水酢酸よ
り再結晶してビスフエノールＡトリメリテート二無水物
を得た。これは融点が185℃では収率は36％であつた。
リメリツト酸クロリド42.1g、ピリジン22.5g、ベンゼン
（ε＝2.28）130gを入れ溶解した。攪拌下、ビスフエノ
ールA22.8gを数回に分けて添加した後、50℃で１時間反
応させた。室温まで冷却した後、沈殿を濾過し、濾液を
ヘキサンに加えた。析出した沈殿を乾燥後、無水酢酸よ
り再結晶してビスフエノールＡトリメリテート二無水物
を得た。これは融点が185℃では収率は36％であつた。
実施例12 ビスフエノールA45.6gのかわりにトリメチロールエタ
ン15.6gを用い、実施例１に準じて、対応するビストリ
メリテート酸無水物である1,1,1−トリス（トリメリッ
トキシメチル）エタン三無水物を得た。これは融点が20
3℃で収率は71％であつた。
ン15.6gを用い、実施例１に準じて、対応するビストリ
メリテート酸無水物である1,1,1−トリス（トリメリッ
トキシメチル）エタン三無水物を得た。これは融点が20
3℃で収率は71％であつた。
実施例13 ビスフエノールA45.6gのかわりにトリメチロールプロ
パン17.8gを用い、実施例１に準じて、対応するビスト
リメリテート酸無水物である,1,1,1−トリス（トリメリ
ットキシメチル）プロパン三無水物を得た。これは融点
が238℃で収率は68％であつた。
パン17.8gを用い、実施例１に準じて、対応するビスト
リメリテート酸無水物である,1,1,1−トリス（トリメリ
ットキシメチル）プロパン三無水物を得た。これは融点
が238℃で収率は68％であつた。
請求項１の製造法によつて、耐熱性樹脂の原料、エポ
キシ樹脂やポリウレタン樹脂の硬化剤等として有用なプ
リントエステル酸無水物を温和な条件で純度よく高収率
で得ることができる。
キシ樹脂やポリウレタン樹脂の硬化剤等として有用なプ
リントエステル酸無水物を温和な条件で純度よく高収率
で得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−254631（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−85105（ＪＰ，Ａ) 特公 昭43−5911（ＪＰ，Ｂ１) 特表 平４−502369（ＪＰ，Ａ) 米国特許4649189（ＵＳ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】無水トリメリット酸クロリドと、 ビスフェノールＡ、エチレングリコール、１、10−デカ
ンジオール、4,4′−ジヒドロキシフェニルスルホン、
2,2′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン、4,4′−ビフェノール、ビスフェノールＰ
及びビスフェノールＭから選ばれる少なくとも一種のポ
リヒドロキシ化合物 とを誘電率４以上のエーテル系溶剤中、塩基の存在下で
反応させるものであり、前記ポリヒドロキシ化合物を反
応系に添加終了まで反応系を10℃以下に保ち、反応終了
まで反応系を前記エーテル系溶剤の環流温度以下保つこ
とを特徴とするポリエステル酸無水物の製造法。
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| JP2136480A JP2605453B2 (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | ポリエステル酸無水物の製造法 |
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| JP2136480A JP2605453B2 (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | ポリエステル酸無水物の製造法 |
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Family
ID=15176124
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-
1990
- 1990-05-25 JP JP2136480A patent/JP2605453B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
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