JPWO2010087404A1 - ガスミスト圧浴システム - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。この図に示すように、本実施形態のガスミスト圧浴システムは、ガス供給手段11と、液体供給手段21と、内部に液体を貯留して、その貯留された液体中にガス(炭酸ガス、又は酸素、又は炭酸ガスと酸素の混合ガス)を放出させつつ超音波振動を加えることにより、ガスと液体とを粉砕溶解したガスミストを発生させて加圧供給するガスミスト供給装置31と、供給されたガスミストを内部に封入する空間を形成する生体圧浴カバー41と、ガスミストの生成及び供給制御を行う制御装置51と、から構成される。
図7は、本発明の第2の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、生体圧浴カバー内の加圧を容易にする加圧手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図10は、本発明の第3の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
12 レギュレータ
21 液体供給手段
31 ガスミスト供給装置
31A、31B プレート
32 貯留部
32A 貯留部の底面
33 超音波振動子
34 ガスミスト排出口
35 ガスミスト供給管
35A ジャバラ状の管
36 液滴除去フィルター
41、41A、41B、41C、41D、41E、41F、81、81A、81B、81C、81D 生体圧浴カバー
42、42A、42B、42C、42D、42E、42F、44A、82、82A、82B、82C、82D 止着部
43、43A、43B、43C、43D、43E、43F、83、83A、83B、83C、83D 供給口
44F 固定部
45F カバー部
51 制御装置
61 圧力計
62 温度計
71、71A、71B、71C、71D 加圧部
72、72A、72B、72C、72D 供給口
84D 固定部
85D カバー部
91 電源装置
92 電極
Claims (19)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガス、又は酸素、又は炭酸ガスと酸素の混合ガス(以下、「ガス」という)と液体を粉砕溶解させたミスト(以下、「ガスミスト」という)を生体の皮膚及び粘膜に接触させるためのシステムであって、
ガス供給手段と、
液体供給手段と、
液体を内部に貯留し、該貯留された液体中にガスを放出させるとともに、前記液体に超音波振動を加えることによりガスミストを生成、供給するガスミスト供給手段と、
前記生体の皮膚及び粘膜を覆い、前記ガスミスト供給手段から供給されたガスミストを内部に封入する空間を形成する生体カバー部材と、
から構成され、
前記ガスミスト供給手段は、超音波振動を発生する超音波振動子と、前記ガスミストを発生させる液体を貯留するガスミスト発生槽と該ガスミスト発生槽に前記超音波振動子の超音波振動を伝達するための液体を貯留する超音波伝達槽とを備える貯留部と、を備え、
前記生体カバー部材内のガスミストを所定の圧力値以上で生体の皮膚及び粘膜に接触させることを特徴とするガスミスト圧浴システム。 - 前記ガス、液体、及びガスミストの供給状態を計測するセンサと、
該センサの計測値に基づき前記ガス、液体、及びガスミストの供給制御を行う制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー部材を加圧する加圧手段をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段が、前記ガスミストを間歇的に前記生体カバー部材内に供給して、該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記加圧手段が、前記生体カバー部材を間歇的に押圧して該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項3に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、水、イオン水、生理食塩水、オゾン水、精製水、又は滅菌精製水の何れか一つ又は複数の組み合わせであることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、メンソール、ビタミンE、ビタミンC誘導体、レチノール、麻酔薬、シクロデキストリン、光触媒、光触媒とアパタイトの複合体、ヒアルロン酸、コエンザイムQ10、シードオイル、プロポリス、エタノール、グルコン酸クロルヘキシジン、両性界面活性剤、塩化ベンザルコニウム、酢酸アルキルジアミノエテルグリシン、次亜塩素酸ナトリウム、過酢酸、セスキ炭酸ナトリウム、シリカ、ポピドンヨード、炭酸水素ナトリウム、高濃度炭酸泉剤、抗アレルギー剤、抗炎症剤、解熱鎮痛剤、抗真菌剤、抗インフルエンザウィルス剤、抗ガン剤、血圧降下剤、化粧剤、増毛剤、発毛剤、又は育毛剤のうち、何れか一つ又は複数をさらに含有することを特徴とする請求項6に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、加熱された状態で前記ガスミスト供給手段に供給されることを特徴とする請求項6又は7に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト供給手段から前記生体カバー部材内に供給される前記ミストの粒径は、10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、ガスミスト圧浴時における前記生体カバー部材内の圧力を1.02乃至2.5気圧に保持することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト供給手段が供給するミストに電荷を付与する電荷付与手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記電荷は、マイナス電荷であることを特徴とする請求項11に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト供給手段が、前記生体カバー部材内へガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管が、管内に付着した液滴を除去するためのフィルターを備えることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト供給手段が、前記生体カバー部材内へガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管の全部又は一部がジャバラ状の管から構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト供給手段が、前記生体カバー部材内へガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー部材のガスミストの供給口に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記貯留部は、湾曲面を有する上部に向かって凸なドーム型形状であるとともに、該ドーム型の略頭頂部にガスミスト排出部が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記貯留部内に、前記ガスミストを微細化するための細孔が設けられたプレートが一又は複数配置されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れに記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、前記生体カバー部材内の圧力値が所定値以上になった際は前記ガス供給手段からのガスの供給を停止することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
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