JP5517261B2 - ガスミスト圧浴システム - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。この図に示すように、本実施形態のガスミスト圧浴システムは、ガス供給手段11と、液体供給手段21と、内部に液体を貯留して、その貯留された液体中にガス(炭酸ガス、又は酸素、又は炭酸ガスと酸素の混合ガス)を放出させつつ超音波振動を加えることにより、ガスと液体とを粉砕溶解したガスミストを発生させて加圧供給するガスミスト供給装置31と、供給されたガスミストを内部に封入する空間を形成する生体圧浴カバー41と、ガスミストの生成及び供給制御を行う制御装置51と、から構成される。
図7は、本発明の第2の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、生体圧浴カバー内の加圧を容易にする加圧手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図10は、本発明の第3の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
12 レギュレータ
21 液体供給手段
31 ガスミスト供給装置
31A、31B プレート
32 貯留部
32A 貯留部の底面
33 超音波振動子
34 ガスミスト排出口
35 ガスミスト供給管
35A ジャバラ状の管
36 液滴除去フィルター
41、41A、41B、41C、41D、41E、41F、81、81A、81B、81C、81D 生体圧浴カバー
42、42A、42B、42C、42D、42E、42F、44A、82、82A、82B、82C、82D 止着部
43、43A、43B、43C、43D、43E、43F、83、83A、83B、83C、83D 供給口
44F 固定部
45F カバー部
51 制御装置
61 圧力計
62 温度計
71、71A、71B、71C、71D 加圧部
72、72A、72B、72C、72D 供給口
84D 固定部
85D カバー部
91 電源装置
92 電極
Claims (9)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガス(以下、「ガス」という)と液体を粉砕溶解させたミスト(以下、「ガスミスト」という)を生体の皮膚及び粘膜に接触させるためのシステムであって、
ガス供給手段と、
液体供給手段と、
天面が湾曲しているドーム型形状を有して且つ底面が曲面で構成されており、内部に前記液体供給手段からの液体を貯留するガスミスト発生槽と、
超音波振動を発生する超音波振動子と、
前記ガスミスト発生槽の液体からは遮断されており前記超音波振動子の超音波振動を前記ガスミスト発生槽の底面に伝達するための別の液体を貯留する超音波伝達槽と、
前記ガスミスト発生槽に貯留された液体中に前記ガス供給手段からのガスを放出させる第1ガス供給口と、
前記貯留された液体の液面の上方に前記ガス供給手段からのガスを放出させる第2ガス供給口と、
前記貯留された液体が前記超音波振動を受けることにより生成される前記ガスミストが対流で上昇して排出されて行くよう前記ドーム型形状の略頭頂部に形成されたガスミスト排出口と、
前記生体の皮膚及び粘膜を覆い、前記ガスミスト排出口から供給されたガスミストを内部に封入する空間を形成する生体カバー部材と、
から構成され、
前記生体カバー部材内のガスミストを所定の圧力値以上で生体の皮膚及び粘膜に接触させることを特徴とするガスミスト圧浴システム。 - 前記ガス、液体、及びガスミストの供給状態を計測するセンサと、
該センサの計測値に基づき前記ガス、液体、及びガスミストの供給制御を行う制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー部材を加圧する加圧手段をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段が、前記ガスミストを間歇的に前記生体カバー部材内に供給して、該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記加圧手段が、前記生体カバー部材を間歇的に押圧して該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項3に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト供給手段から前記生体カバー部材内に供給される前記ミストの粒径は、10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、ガスミスト圧浴時における前記生体カバー部材内の圧力を1.02乃至2.5気圧に保持することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト発生槽内に、前記ガスミストを微細化するための細孔が設けられたプレートが一又は複数配置されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れに記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、前記生体カバー部材内の圧力値が所定値以上になった際は前記ガス供給手段からのガスの供給を停止することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
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