JP5088906B2 - 炭酸ガスミスト圧浴システム - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る炭酸ガスミスト圧浴システムの全体概略図である。この図に示すように、本実施形態の炭酸ガスミスト圧浴システムは、炭酸ガス供給手段11と、液体供給手段21と、炭酸ガスと液体とを粉砕溶解してミストを生成する炭酸ガスミスト生成装置31と、供給された炭酸ガスミストを内部に封入する空間を形成する生体圧浴カバー41と、炭酸ガスミスト生成装置31内に溜まった液体を再度炭酸ガスミスト生成装置31に加圧供給する液体加圧器51と、液体を循環させるための液体循環手段61と、炭酸ガスミストの生成及び供給制御を行う制御装置71と、から構成される。
図7は、本発明の第2の実施形態に係る炭酸ガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための手段をさらに備えた炭酸ガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
12 レギュレータ
21 液体供給手段
21A 第1の液体供給手段
21B 第2の液体供給手段
31 炭酸ガスミスト生成装置
32 タンク
32A プレート
32B プレート
33 流体ノズル
34 液体供給口
35 液体排出口
36 炭酸ガスミスト排出口
37 炭酸ガスミスト供給管
37A 液滴除去フィルター
37B ジャバラ状の管
41、41A、41B、41C、41D、41E、41F 生体圧浴カバー
42、42A、42B、42C、42D、42E、42F、44A 止着部
43、43A、43B、43C、43D、43E、43F 供給口
44F 固定部
45F カバー部
51 液体加圧器
52 圧力計
61 液体循環手段
62 液体循環路
62A 第1の液体管路
62B 第2の液体管路
62C 第3の液体管路
63 バルブ
71 制御装置
91 電源装置
92 電極
101 圧力計
102 温度計
Claims (17)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガスと液体を粉砕溶解したミスト(以下、「炭酸ガスミスト」という)を生体の皮膚及び粘膜に接触させるためのシステムであって、
炭酸ガス供給手段と、
1又は複数の液体供給手段と、
前記炭酸ガスと前記液体とを粉砕溶解して炭酸ガスミストを生成する炭酸ガスミスト生成手段と、
前記生体の皮膚及び粘膜を覆い、前記炭酸ガスミスト生成手段が生成した炭酸ガスミストを内部に封入する空間を形成する生体カバー部材と、
前記炭酸ガスミスト生成手段の容器内に溜まった前記炭酸ガスを溶解している液体を再度前記炭酸ガスミスト生成手段に供給するための液体循環手段と、
前記液体循環手段により循環する液体を前記炭酸ガスミスト生成手段に加圧供給する液体加圧手段と、を有し、
前記炭酸ガスミスト生成手段は、前記炭酸ガス供給手段から供給される炭酸ガスの高速流を前記液体加圧手段から送り込まれる前記液体と前記炭酸ガスミスト生成手段の容器内に貯まっていて前記液体循環手段から供給された液体とに吹き付ける流体ノズルを備えることによって、当該炭酸ガスミスト生成手段の容器内において所定の圧力値以上の前記粉砕溶解された炭酸ガスミストを生成し、
前記生体カバー部材内において炭酸ガスミストを所定の圧力値以上で生体の皮膚及び粘膜に接触させる、
ことを特徴とする炭酸ガスミスト圧浴システム。 - 前記液体供給手段は、
第1の液体を供給する第1の液体供給手段と、
前記第1の液体とは別の第2の液体を供給する第2の液体供給手段と、から構成され、
前記炭酸ガスミスト生成手段は、前記炭酸ガス供給手段から供給された炭酸ガスの高速流を利用して前記第1の液体と前記第2の液体を接触させる三流体ノズルによって粉砕溶解したガスミストを生成し、前記生体カバー部材内に供給することを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記炭酸ガス、前記液体、及び炭酸ガスミストの供給状態を計測するセンサと、
該センサの計測値に基づき前記炭酸ガス、前記液体の供給制御、及び炭酸ガスミストの生成及び供給制御を行う制御手段と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。 - 前記炭酸ガスミスト生成手段が供給するミストに電荷を付与する電荷付与手段を、さらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記電荷は、マイナス電荷であることを特徴とする請求項4に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、水、イオン水、生理食塩水、抗アレルギー剤、抗炎症剤、解熱鎮痛剤、抗真菌剤、又は抗インフルエンザウィルス剤であることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、メンソール、ビタミンE、ビタミンC誘導体、レチノール、麻酔薬、シクロデキストリン、光触媒とアパタイトの複合体、ヒアルロン酸、コエンザイムQ10、シードオイル、プロポリス、高濃度炭酸泉剤のうち、何れか一つ又は複数の薬剤が含有された水、イオン水、生理食塩水、抗アレルギー剤、抗炎症剤、解熱鎮痛剤、抗真菌剤、又は抗インフルエンザウィルス剤であることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、加熱された状態で前記炭酸ガスミスト生成手段に供給されることを特徴とする請求項6又は7に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記炭酸ガスミスト生成手段から前記生体カバー部材内に供給される前記ミストの粒径は、10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、炭酸ガスミスト圧浴時における前記生体カバー部材内の圧力を1.02乃至2.5気圧に保持することを特徴とする請求項3に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記炭酸ガスミスト生成手段が、前記生体カバー部材内へ炭酸ガスミストを供給するためのミスト供給管を有し、
該ミスト供給管が、管内に付着する液滴を除去するためのフィルターを備えることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。 - 前記炭酸ガスミスト生成手段が、前記生体カバー部材内へ炭酸ガスミストを供給するためのミスト供給管を有し、
該ミスト供給管の全部又は一部がジャバラ状の管から構成されることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。 - 前記炭酸ガスミスト生成手段が、前記生体カバー部材内へ炭酸ガスミストを供給するためのミスト供給管を有し、
該ミスト供給管に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー部材の炭酸ガスミストの供給口に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段が、前記炭酸ガスミストを間歇的に前記生体圧浴カバー内に供給して該生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項3に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記炭酸ガスミスト生成手段が、前記液体及び炭酸ガスミストを貯留するためのタンクを備え、該タンク内に、前記炭酸ガスミストを微細化するための細孔が設けられたプレートが一又は複数配置されていることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、前記生体カバー部材内の圧力値が所定値以上になった際は前記炭酸ガス供給手段からの炭酸ガスの供給を停止することを特徴とする請求項3に記載の炭酸ガスミスト圧浴システム。
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