JPWO2009116383A1 - 制御装置及び制御方法 - Google Patents

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Abstract

基板を処理する複数の処理ユニットから選択された一の基準処理ユニットと、その他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報を記憶する記憶手段と、基板を各処理ユニットへ搬送する搬送装置に、基板を模した冶具が保持された状態で当該搬送装置を駆動させ、基準処理ユニットにおける搬送装置の冶具の受け渡し位置と、所定の第1の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第1の補正値を算出する第1の算出手段と、第1の補正値及び第1の位置情報を基に、非基準処理ユニットにおける搬送装置の冶具の受け渡し位置と、所定の第2の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第2の補正値を算出する第2の算出手段とを具備する。

Description

本発明は、例えば半導体ウエハなどの基板を処理ユニットの載置台上に受け渡す基板搬送装置の受け渡し位置の調整を制御する制御装置及び制御方法に関する。
例えば半導体ウエハの製造工程におけるフォトリソグラフィ工程は、通常塗布現像処理装置を用いて行われている。塗布現像処理装置は、例えば外部に対して基板を搬入出するための搬入出部と、レジスト塗布処理、現像処理及び熱処理などの各種処理を行う複数の処理ユニットが配置された処理部と、当該処理部と他の装置である露光装置との間で基板の受け渡しを行うためのインターフェース部とを備えている。更に、塗布現像処理装置は、例えば上記各部間や処理ユニット間において基板を搬送する複数の基板搬送装置を備えている。
基板搬送装置は基板を保持するアームを備えている。基板搬送装置においては、処理ユニット内に基板を受け渡す際、半導体ウエハの位置ずれが生じないようにアームの位置調整が重要となってくる。従来、実際に半導体ウエハを搬送するのに先立って、目標ウエハ受け渡し位置との位置ずれ量を算出し、その算出結果を基に基板搬送装置に対して基板の受け渡し位置の調整作業が行われる。ウエハの受け渡し位置の調整作業は、各処理ユニット毎に、基板搬送装置を実際に駆動させて行っている(例えば特許文献1、特許文献2)。
日本国特開2002−313872号公報(段落0050) 日本国特開2005−19963号公報(段落0035〜0052)
しかしながら、塗布現像処理装置のような複数の処理ユニットを有する処理装置においては、各処理ユニット毎に基板搬送装置を実際に逐一駆動させて位置調整作業を行うには長時間必要となり、作業効率が悪いという問題があった。更に、基板搬送装置が複数のアームを備えている場合には、アーム毎に位置調整作業を行うため、更に長時間を要する。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、位置調整作業に要する時間を大幅に削減し、作業効率を向上させる制御装置及び制御方法を提供することである。
以上の課題を解決するにあたり、本発明の主たる観点に係る制御装置は、基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットと、前記基板を保持しつつ搬送して前記各処理ユニットへ受け渡すように駆動可能な搬送装置とを有する基板処理装置における前記搬送装置の前記受け渡し位置の調整を制御する制御装置であって、前記各処理ユニットから選択された一の基準処理ユニットと、その他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報を記憶する記憶手段と、前記搬送装置に前記基板を模した冶具が保持された状態で当該搬送装置を駆動させ、前記基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第1の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第1の補正値を算出する第1の算出手段と、前記第1の補正値及び前記第1の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第2の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第2の補正値を算出する第2の算出手段とを具備する。
ここで基板処理装置とは、例えば塗布現像装置、成膜装置、エッチング装置、洗浄装置等をいう。また上記搬送装置とは、例えば搬送アーム及びその駆動機構をいう。この構成により、第1の補正値を算出することで基準ユニットにおける位置ずれを補正することが可能となるとともに、この第1の補正値と、基準処理ユニットと非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報とを用いて第2の補正値を算出することで、非基準処理ユニットに対して搬送装置を駆動させることなく、非基準処理ユニットの位置ずれを補正することが可能となる。したがって、各処理ユニットの各搬送装置を実際に逐一駆動させて各位置ずれ補正を行う場合に比べて、位置ずれ補正に要する時間を大幅に短縮させ、基板処理装置の処理効率を向上させることができる。
また、前記搬送装置は、前記基板を保持するための複数のアームを有し、前記記憶手段は、前記各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報を記憶し、前記第1の算出手段は、前記各アーム毎に前記第1の補正値を算出し、前記第2の算出手段は、前記各アームについての前記各第1の補正値、前記第1の位置情報及び前記第2の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の各アームについて前記第2の補正値を算出してもよい。
これにより、搬送装置が複数のアームを有する場合でも、基準処理ユニットについて算出した各アームの第1の補正値と、各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報を用いることで、非基準処理ユニットに対して各アームを駆動させることなく各アームの第2の補正値を算出することができ、各処理ユニットにおける各アームの位置ずれ補正に要する時間を大幅に短縮することができる。
また、前記各処理ユニットから前記基準処理ユニットを選択するための第1のユーザ操作と、前記選択された基準処理ユニットを変更するための第2のユーザ操作とを入力する操作入力部を更に具備してもよい。
これにより、選択された基準処理ユニットにおいて何らかのトラブルが発生した場合でも、基準処理ユニットを変更することで、位置ずれ補正処理をスムーズに進めることができる。
また、前記搬送装置は、前記基板を保持するための複数のアームを有し、前記記憶手段は、前記各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報を記憶し、前記第1の算出手段は、前記複数のアームから選択された一のアームにおける前記第1の補正値と、該一のアームにおける第1の補正値及び前記第2の位置情報を基に他のアームにおける前記第1の補正値を算出し、前記第2の算出手段は、前記1のアームの第1の補正値、前記第1の位置情報及び前記第2の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の各アームについて前記第2の補正値を算出してもよい。
これにより、搬送装置が複数のアームを有する場合でも、基準処理ユニットについて算出した一のアームの第1の補正値と各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報から、基準処理ユニットに対する一のアーム以外の他のアームの第1の補正値を算出することができ、各アーム毎に補正値を算出する必要がない。更に、一のアームの第1の補正値と、第2の位置情報と、基準処理ユニットと非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報とを用いることで、非基準処理ユニットに対して各アームを駆動させることなく各アームの第2の補正値を算出することができる。従って、各処理ユニットにおける各アームの位置ずれ補正に要する時間を大幅に短縮することができる。
本発明の他の観点に係る制御方法は、基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットと、前記基板を保持しつつ搬送して前記各処理ユニットへ受け渡すように駆動可能な搬送装置とを有する基板処理装置における前記搬送装置の前記受け渡し位置の調整を制御する制御方法であって、前記各処理ユニットから選択された一の基準処理ユニットと、その他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報を記憶し、前記搬送装置に前記基板を模した冶具が保持された状態で当該搬送装置を駆動させ、前記基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第1の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第1の補正値を算出し、前記第1の補正値及び前記第1の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第2の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第2の補正値を算出するものである。
以上のように、本発明によれば、位置調整作業に要する時間を大幅に削減し、作業効率を向上させる制御装置及び制御方法を提供することができる。
本発明の一実施形態に係る塗布現像処理装置の構成の概略を示す平面図。 図1の塗布現像処理装置の正面図。 図1の塗布現像処理装置の背面図。 ティーチング用PCを示す図。 搬送ユニットの斜視図。 CCDカメラディスクの平面図。 ターゲットディスクの平面図。 高さ調整ディスクの平面図。 ターゲットディスクを用いた位置調整作業の様子を示す概略斜視図。 レジスト塗布ユニットの概略断面図。 位置調整処理を説明するためのフローチャート。
符号の説明
1…塗布現像処理装置、7a…第1アーム、7b…第2アーム、7c…第3アーム、22…第3のウエハ搬送ユニット、27…第1のウエハ搬送ユニット、29…第2のウエハ搬送ユニット、200…ティーチング用パーソナルコンピュータ、201…CPU、202…ROM、401…CCDカメラディスク、403…ターゲットディスク、405…高さ調整ディスク、500…第1の位置情報、501、600、700…第1の補正値、800…第2の位置情報、900…第2の補正値、A1…第1の搬送ユニット、BAKE…高温度熱処理ユニット、BARC…反射防止膜形成ユニット、COL…クーリングユニット、COT…レジスト塗布ユニット、CHM…ケミカル室、CPL…クーリングプレートユニット、DEV…現像ユニット、PAB…プリベーキングユニット、PEB…ポストエ
クスポージャベーキングユニット、POST…ポストベーキングユニット、SBU…バッファカセットユニット、TRS…トランジションユニット、WEE…周辺露光ユニット
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態に係る制御装置を具備する基板処理装置としての塗布現像処理装置1の構成の概略を示す平面図である。図2は、塗布現像処理装置1の正面図であり、図3は塗布現像処理装置1の背面図である。
塗布現像処理装置1は、図1に示すように例えば装置全体を覆う筐体としてのケーシング1a内に例えば25枚の基板としてのウエハWをカセット単位で外部から塗布現像処理装置1に対して搬入出したり、カセットCRに対してウエハWを搬入出したりするカセットステーション10と、塗布現像工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理ユニットを多段配置してなる処理ステーション3と、この処理ステーション3に隣接して設けられている露光装置100との間でウエハWの受け渡しを行うインターフェース部14とを一体に接続した構成を有している。
カセットステーション10では、カセット載置台20上の所定の位置に複数のカセットCRをX方向(図1中の上下方向)に沿って一列に載置できる。カセットステーション10には、搬送路21上をX方向に沿って移動可能な第3のウエハ搬送ユニット22が設けられている。第3のウエハ搬送ユニット22は、上下方向にも移動可能であり、カセットCR内に上下方向に配列されたウエハWに対して選択的にアクセスできる。第3のウエハ搬送ユニット22は、鉛直方向の軸周り(θ方向)に回転可能であり、後述する処理ステーション12側の第3の処理ユニット群G3内のユニットに対してもアクセスできる。
処理ステーション12は、図1に示すように複数の処理ユニットが多段に配置された、例えば7つの処理ユニット群G1〜G7を備えている。処理ステーション12の正面側であるX方向負方向(図1中の下方向)側には、カセットステーション10側から第1の処理ユニット群G1、第2の処理ユニット群G2が順に配置されている。処理ステーション12の中央部には、カセットステーション10側から第3の処理ユニット群G3、第4の処理ユニット群G4及び第5の処理ユニット群G5が順に配置されている。処理ステーション12の背面側であるX方向正方向(図1中の上方向)側には、カセットステーション10側から第6の処理ユニット群G6、第7の処理ユニット群G7が順に配置されている。
第3の処理ユニット群G3と第4の処理ユニット群G4の間には、第1の搬送ユニットA1が設けられている。第1の搬送ユニットA1は、θ方向に回転可能で、かつ水平方向と上下方向に移動可能なアーム部16を備えている。搬送装置としての第1の搬送ユニットA1は、隣接する第1の処理ユニット群G1、第3の処理ユニット群G3、第4の処理ユニット群G4及び第6の処理ユニット群G6内の各ユニットに対しアーム16を進退させることによって、当該各処理ユニット群G1、G3、G4及びG6内の各ユニット間でウエハWを搬送できる。
第4の処理ユニット群G4と第5の処理ユニット群G5の間には、第2の搬送ユニットA2が設けられている。搬送装置としての第2の搬送ユニットA2は、第1の搬送ユニットA1と同様にアーム部17を備えており、第2の処理ユニット群G2、第4の処理ユニット群G4、第5の処理ユニット群G5及び第7の処理ユニット群G7の各ユニットに対して選択的にアクセスしてウエハWを搬送できる。
図2に示すように第1の処理ユニット群G1には、ウエハWに所定の液体を供給して処理を行う液処理ユニット、例えばウエハWにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布ユニット(COT)が3段、露光時の光の反射を防止するための反射防止膜を形成する反射防止膜形成ユニット(ボトムコーティングユニット、BARC)が2段、下から順に重ねられている。第2の処理ユニット群G2には、液処理ユニット、例えばウエハWを現像処理する現像ユニット(DEV)が下から順に5段に重ねられている。また、第1の処理ユニット群G1及び第2の処理ユニット群G2の最下段には、各処理ユニット群G1及びG2内の前記液処理ユニットに各種処理液を供給するためのケミカル室(CHM)26、28がそれぞれ設けられている。
例えば図3に示すように第3の処理ユニット群G3には、ウエハWの受け渡しを行うためのトランジションユニット(TRS)、ウエハWに対して温度処理を行う温調処理ユニット(クーリングプレートユニット、CPL)及びウエハWを高温で加熱処理する高温度熱処理ユニット(BAKE)が下から順に9段に重ねられている。
第4の処理ユニット群G4では、例えばクーリングプレートユニット(CPL)、精度の高い温度管理化でウエハWを冷却するクーリングユニット(COL)、レジスト塗布処理後のウエハWを加熱処理するプリベーキングユニット(PAB)及び現像処理後のウエハWを加熱処理するポストベーキングユニット(POST)が下から順に10段に重ねられている。
第5の処理ユニット群G5では、例えばクーリングユニット(COL)、露光後のウエハWを加熱処理する熱処理ユニットとしてのポストエクスポージャベーキングユニット(PEB)が下から順に10段に重ねられている。ポストエクスポージャベーキングユニット(PEB)は、例えば容器内にウエハWを載置して加熱する加熱板とウエハWを載置して冷却する冷却板を有し、ウエハWの加熱と冷却の両方を行うことができる。
第6の処理ユニット群G6には、例えば図3に示すようにポストベーキングユニット(POST)が下から順に3段に重ねられている。
第7の処理ユニット群G7には、例えば図3に示すようにウエハWを疎水化処理するためのアドヒージョンユニット(AD)、ウエハWを加熱処理する加熱処理ユニット(BAKE)が下から順に4段に重ねられている。
インターフェース部14は、例えば図1に示すように処理ステーション12側から順に第1のインターフェース部140と、第2のインターフェース部141とを備えている。第1のインターフェース部140には、例えば第1のウエハ搬送ユニット27が第5の処理ユニット群G5に対応する位置に設けられている。第1のウエハ搬送ユニット27のX方向の両側には、例えば2つのユニット群H1、H2が配置されている。
例えばX方向正方向側のユニット群H1には、図3に示すように例えば収容部としてのバッファカセットユニット(SBU)、ウエハWの外周部のみを選択的に露光する周辺露光ユニット(WEE)が下から順に配置されている。X方向負方向側のユニット群H2には、図2に示すように例えばクーリングユニット(COL)、トランジションユニット(TRS)が下から順に配置されている。
図1に示すように第1のウエハ搬送ユニット27は、例えば水平方向と上下方向に移動可能で、かつθ方向に回転可能であり、第5の処理ユニット群G5、ユニット群H1及びユニット群H2内の各ユニットに対してアクセスできる。
第2のインターフェース部141には、例えばX方向に向けて設けられた搬送路28上を移動する第2のウエハ搬送ユニット29が設けられている。第2のウエハ搬送ユニット29は、Z方向に移動可能で、且つθ方向に回転可能であり、例えばユニット群H2内の各ユニットと、露光装置100内の受け渡し台との間でウエハWを搬送できる。
図1に示すように、本実施の形態における基板処理装置としての塗布現像処理装置1は、搬送装置としての第1の搬送ユニットA1、第2の搬送ユニットA2、第1のウエハ搬送ユニット27、第2のウエハ搬送ユニット29、第3のウエハ搬送ユニット22のウエハ受け渡し位置の調整を制御する制御装置としてのティーチング用パーソナルコンピュータ(以下、ティーチング用PCと略す)200及びこれに接続する画像処理装置300を具備している。
図5に示すように、第1の搬送ユニットA1(第2の搬送ユニットA2)は、アーム部16(17)と、アーム部16(17)と連結しこれをxy平面上でθ方向に回転可能とする回転軸46と、回転軸46と接続し、Z軸方向に移動可能な移動基体45を具備する。更に、第1の搬送ユニットA1(第2の搬送ユニットA2)は、案内レール33と該案内レール33と連結する複数の搬送口41を有する仕切り板34を有している。アーム部16(17)は、ウエハWを保持する複数例えば3本の第1アーム7a,第2アーム7b,第3アーム7cと、この第1アーム7a,第2アーム7b,第3アーム7cを進退自在に支持する基部54と、基部54を保持する基台55とを有する。回転軸46は、アーム部16(17)の基台55と連結している。搬送口41は直方体状の仕切り板34の4つの側面それぞれにZ軸方向に複数設けられており、この搬送口41が各処理ユニットへのウエハ受け渡し口となっている。移動基体45が、案内レール33にZ軸方向に設けられている溝33aをスライド移動することによって、第1アーム7a、第2アーム7b、第3アーム7cは上下方向(Z軸方向)に移動可能となっている。更に、回転軸46がθ方向に回転可能となっていることにより、第1アーム7a,第2アーム7b,第3アーム7cの水平面内における向きを変えることができ、所望の搬送口41を介して第1アーム7a,第2アーム7b,第3アーム7cを用いて処理ユニット内へのウエハWの受け渡しが可能となっている。第1アーム7a,第2アーム7b,第3アーム7cは、夫々がウエハWを保持し得るような構成となっている。
制御装置としてのティーチング用PC200は、塗布現像処理装置1を用いて本格的にウエハWの処理を行うのに先立って、ウエハWを模した冶具を用い、第1の搬送ユニットA1、第2の搬送ユニットA2、第1のウエハ搬送ユニット27、第2のウエハ搬送ユニット29、第3のウエハ搬送ユニット22それぞれにおいて、冶具の受け渡し位置と所定の受け渡し目標位置との位置ずれ量を求め、この位置ずれ量を基に各搬送ユニットのアームが受け渡し目標位置でウエハWの受け渡しが可能となるように、受け渡し位置の調整を行うものである。
第1の搬送ユニットA1及び第2の搬送ユニットA2は、上述したようにそれぞれ3つのアームを有している。第1のウエハ搬送ユニット27、第2のウエハ搬送ユニット29、第3のウエハ搬送ユニット22は、それぞれ1つのアームを有している。
本実施形態におけるティーチング用PC200は、図4に示すように、キーボードなどの操作入力部207と、ティーチング時の操作用画面が表示される表示部206と、CPU(Central Processing Unit、中央演算処理装置)201と、ROM(Read
Only Memory)202と、RAM(Random Access Memory)203と、HDD(Hard Disk Drive)205と、バス208と、入出力インターフェース204を有している。バス206を介して、CPU201、ROM202、RAM203、入出力インターフェース204、HDD205及び表示部206との間で情報が伝達される。操作入力部207は、操作入力部207からのユーザ操作による入力によって入出力インターフェース204を介してバス208と接続される。
ROM202は、1つの搬送ユニットがアクセスする複数の処理ユニットから選択された一の基準処理ユニットとその他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報を記憶する記憶手段である。
CPU201は、搬送ユニットにウエハWを模した冶具が保持された状態で搬送ユニットを駆動させた場合における基準処理ユニットに対する搬送ユニットの冶具の受け渡し位置と所定の第1の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第1の補正値を算出する第1の算出手段、及び、第1の補正値及び第1の位置情報を基に、非基準処理ユニットに対する搬送ユニットの冶具の受け渡し位置と、所定の第2の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第2の補正値を算出する第2の算出手段として機能する。
すなわち、CPU201において、第1の算出手段によって、基準処理ユニットに対する各アーム毎の第1の補正値が算出され、第2の算出手段によって、非基準処理ユニットに対する搬送ユニットの各アーム毎の第2の補正値が算出される。また、CPU201では、搬送ユニットが複数のアームを有する場合、基準処理ユニットに対する各アームの第1の補正値を基に各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報が算出される。
RAM203は、CPU201における演算処理のために、第1の補正値及び第2の位置情報が一時的に記憶される記憶手段である。
HDD205は、算出された第1の補正値及び第2の補正値を記憶するための記憶部である。各搬送ユニットの各アームは、この第1の補正値及び第2の補正値を基に目標受け渡し位置にウエハWが受け渡せるよう位置調整される。またHDD205には、本実施形態における位置調整処理を実行するためのソフトウェア(以下、調整ソフトウェアと称する)が格納されている。
操作入力部207では、各処理ユニットから基準ユニットを選択するための第1のユーザ操作と、選択された基準ユニットを変更するための第2のユーザ操作とを入力することが可能である。これにより、選択された処理基準ユニットにおいて何らかのトラブルが発生した場合でも、処理基準ユニットを変更することで、位置ずれ補正処理をスムーズに進めることができる。
次に、位置調整作業を行う際に用いるウエハWを模した冶具について図6〜図8を用いて説明する。本実施形態においては3種類の冶具を用いる。図6〜図8の各図は3種類の冶具それぞれの概略平面図であり、それぞれアームによって保持された状態を示している。
図6に示すように、1つめの冶具は、円形のウエハWを模した外形がほぼ円形のCCDカメラディスク401である。このCCDカメラディスク401は、中央に撮像手段であるCCDカメラ402が搭載されており、更に処理ユニット内にCCDカメラディスク401が搬送される際のCCDカメラディスク401の搬送方向先端に相当する箇所にスリットセンサ407が搭載されている。CCDカメラディスク401は、例えば図5に示す搬送ユニットA1(A2)に設けられるティーチング用アーム8(図5においては図示を省略)にて保持される。CCDカメラディスク401をティーチング用アーム8で保持した状態で、CCDカメラディスク401の下方側領域をCCDカメラ402によって撮像することができる。CCDカメラ402は画像処理装置300と接続されており、CCDカメラ402によって撮像された画像データは画像処理装置300によって処理される。またスリットセンサ407は移動先に何か物があるかどうかを検知するものであり、処理ユニット内へウエハWを搬送する仕切り板34に設けられている搬送口41の検出に用いられる。
図7に示すように、2つめの冶具は、円形のウエハWを模した外形が円形のターゲットディスク403であり、中央に円形の穴404を有している。図9に示すように、処理ユニット内にはウエハ目標受け渡し位置の中央に対応する位置にマーク421が形成されており、ターゲットディスク403を処理ユニット内の載置台420上に載置した状態では、平面的に見てターゲットディスク403の穴404の中にマーク421が位置するようになっている。このようにターゲットディスク403を処理ユニット内の載置台420上に載置した状態で、ティーチング用アーム8に保持されたCCDカメラディスク401を処理ユニット内に搬送し、CCDカメラ402でマーク421及び穴404を撮像し、画像処理装置300にて画像処理を行う。ウエハ受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置が位置ずれせず一致した状態では、穴404の中央部にマーク421が位置する。ウエハ受け渡し目標位置と実際に受け渡す位置とが位置ずれしている状態では、穴404の中央部にマークが位置しない。位置ずれが生じている場合は、画像処理装置300によって画像処理されモニターに表示された画像をユーザが見ながら、穴404の中央部にマーク421が位置するように、ターゲットディスク403を移動させて位置ずれを調整する。これにより水平面におけるxy軸方向及びθ方向の位置ずれを調整する第1の補正値を算出することができる。
図8に示すように、3つめの冶具は、円形のウエハWを模した外形がほぼ円形の高さ調整ディスク405である。高さ調整ディスク405は、リング状の外側ディスク405aと該外側ディスク405aの中央部の穴形状とほぼ同一の外形を有する内側ディスク405bを有している。外側ディスク405aと内側ディスク405bは部分的に重なり、両者は離間可能となっている。更に、外側ディスク405aには中央部の穴を挟んで対向して2つのセンサが設けられている。高さ調整ディスク405を用いることによって、ウエハ受け渡し位置の高さ方向、すなわちZ軸方向の、ウエハ受け渡し位置と第1受け渡し目標位置との位置ずれを調整する第1の補正値を算出することができる。
次に、3つのアームを有する第1の搬送ユニットA1を例にあげ、上述の3種類の冶具を用いたアームの位置調整方法について図4〜図11を用いて説明する。
図9は、CCDカメラディスク401及びターゲットディスク403を用いた場合のレジスト塗布ユニット(COT)内の概略斜視図である。図10は、レジスト塗布ユニット(COT)内の概略断面図である。図11は、位置調整処理を説明するためのフローチャート図である。
図10に示すように、レジスト塗布ユニット(COT)には、ウエハWの裏面を吸着保持する載置台420が設けられている。載置台420には、昇降可能に設けられた3本の支持ピン422が設けられている。支持ピン422は、上昇した状態で載置台420から突出し、下降した状態で載置台420に埋没可能となっている。また、レジスト塗布ユニット(COT)には、ウエハW上に膜を塗布するための塗布液供給ノズル(図示せず)等が設けられている。
本実施形態においては、第1の搬送ユニットA1がアクセスする処理ユニット群G1にある3つのレジスト塗布ユニット(COT)のうちの1つを基準処理ユニットとした。この基準処理ユニット以外の処理ユニット群G1にある処理ユニット、処理ユニット群G3、G4及びG6にある処理ユニットは、非基準処理ユニットとなる。尚、ここでは、基準処理ユニットとしてレジスト塗布ユニット(COT)を選択したが、ユーザによって適宜他の処理ユニットの選択が可能である。
以下、図11のフローチャートに従って、説明する。
ROM202には、搬送ユニットA1がアクセスする基準処理ユニットと、その他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報500が予め記憶されている。
まず、ティーチング用PCにおいて、上記調整ソフトウェアが起動される。また、ティーチング用アーム8によってCCDカメラディスク401が保持され、第1アーム7aによってターゲットディスク403が保持される。以下の各処理は、調整ソフトウェアの指示の下に実行され、その実行状況が表示部206に表示される。例えば、現在調整処理を実行中の処理ユニットや、搭載冶具、各アームの位置情報等が表示される。
続いて、図10に示すように、ティーチング用アーム8によって保持されるCCDカメラディスク401に搭載されるスリットセンサ407によって、基準処理ユニットであるレジスト塗布ユニット(COT)内へのアクセスを可能とする搬送口41が検出される(S1)。
次に、3本の支持ピン422が載置台420から突出した状態で、第1アーム7aを駆動し、矢印430方向に沿ってターゲットディスク403をレジスト塗布ユニット(COT)内に搬送する。その後、第1アーム7aを、矢印431方向に下降させ、ターゲットディスク403を3本の支持ピン422上に受け渡した後、レジスト塗布ユニット(COT)の外へ移動させる。ここで、載置台420から突出した支持ピン422によって冶具が保持される位置がウエハ受け渡し位置となる。そして、基準処理ユニットであるレジスト塗布ユニット(COT)における本来あるべき正しい受け渡し位置が第1の受け渡し目標位置となる。次に、3本の支持ピン422を下降させて載置台420に埋没させることにより、載置台420上にターゲットディスク403を載置する(S2)。
次に、図9に示すように、ターゲットディスク403が載置台420上に載置された状態で、ティーチング用アーム8を駆動して、CCDカメラディスク401をレジスト塗布ユニット(COT)内に搬送する(S3)。そして、レジスト塗布ユニット(COT)につけられたマーク421と、ターゲットディスク403の穴404との画像を、CCDカメラディスク401のCCD402で撮像し、画像処理装置300にて画像処理を行う。この画像処理結果によって、第1の受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置との水平面におけるXY軸方向及びθ方向の位置ずれが検出され(S4)、第1アーム7aのXY軸方向及びθ方向における第1の補正値501がCPU201によって算出される(S5)。算出されたXY軸方向及びθ方向における第1の補正値501はRAM203及
びHDD205に記憶される。
次に、CCDカメラディスク401を保持した状態でティーチング用アーム8を駆動し、CCDカメラディスク401をレジスト塗布ユニット(COT)の外へ搬出する(S6)。次に、3本の支持ピン422を上昇させ、第1アーム7aをレジスト塗布ユニット(COT)内に移動させる。第1アーム7aは、3本の支持ピン422によって保持されたターゲットディスク403を受け取り、保持して、ターゲットディスク403をレジスト塗布ユニット(COT)外に搬出する(S7)。
次に、ユーザは、第1アーム7aによって保持されていたターゲットディスク403を取り出し、代わりに高さ調整ディスク405を第1アーム7aに載せ替える。
次に、3本の支持ピン422が載置台420から突出した状態、すなわち受け渡し位置の状態で、第1アーム7aを駆動して、高さ調整ディスク405をレジスト塗布ユニット(COT)内に矢印430方向に沿って搬送し、載置台420の上方に搬送する(S8)。その後、第1アーム7aを駆動して矢印431方向に下降させ、第1アーム7aで高さ調整ディスク405の外側ディスク405aの周辺部を保持させた状態で、内側ディスク405bを支持ピン422上に載せる。その後、内側ディスク405bの厚み分を超える分だけ第1アーム7aを更に下降させて外側ディスク405aと内側ディスク405bとを離間させる。このときの2つの光センサ406の出力信号の出力信号の変化から、3本の支持ピン422の支持位置及び傾きを検知する。これにより、第1の受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置とのZ軸方向の位置ずれ量が検出され(S9)、第1アーム7aのZ軸方向における第1の補正値502がCPU201によって算出される(S10)。算出されたZ軸方向における第1の補正値502はRAM203及びHDD205に記憶される。
次に、第1アーム7aを上昇させ、支持ピン422によって保持されていた内側ディスク405bを受け取り、外側ディスク405aと内側ディスク405bとが再び重なって離間前の高さ調整ディスク405の状態となる。更に、第1アーム7aを上昇させて、支持ピン422と高さ調整ディスク405を離間させた後、第1アーム7aを水平方向に移動させると、高さ調整ディスク405がレジスト塗布ユニット(COT)外に搬出される。
以上により、基準ユニットに対する第1アーム7aについての第1の補正値501を算出する処理が終了する。
次に、ユーザは、第2アーム7bにターゲットディスク403を保持させる。
次に、ティーチング用アーム8によって保持されるCCDカメラディスク401に搭載されるスリットセンサ407によって、基準処理ユニットであるレジスト塗布ユニット(COT)内へのアクセスを可能とする搬送口41が検出される(S101)。
次に、3本の支持ピン422が載置台420から突出した状態で、第2アーム7bを駆動し、矢印430方向に沿ってターゲットディスク403をレジスト塗布ユニット(COT)内に搬送する。その後、第2アーム7bを、矢印431方向に下降させ、ターゲットディスク403を3本の支持ピン422上に受け渡した後、レジスト塗布ユニット(COT)の外へ移動させる。ここで、載置台420から突出した支持ピン422によって冶具が保持される位置がウエハ受け渡し位置となる。そして、基準処理ユニットであるレジスト塗布ユニット(COT)における本来あるべき正しい受け渡し位置が第1の受け渡し目標位置となる。次に、3本の支持ピン422を下降させて載置台420に埋没させることにより、載置台420上にターゲットディスク403を載置する(S102)。
次に、図9に示すように、ターゲットディスク403が載置台420上に載置された状態で、ティーチング用アーム8を駆動して、CCDカメラディスク401をレジスト塗布ユニット(COT)内に搬送する(S103)。そして、レジスト塗布ユニット(COT)につけられたマーク421と、ターゲットディスク403の穴404との画像を、CCDカメラディスク401のCCD402で撮像し、画像処理装置300にて画像処理を行う。この画像処理結果によって、第1の受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置との水平面におけるXY軸方向及びθ方向の位置ずれが検出され(S104)、第2アーム7bのXY軸方向及びθ方向における第1の補正値601がCPU201によって算出される(S105)。算出されたXY軸方向及びθ方向における第1の補正値601はRAM203及びHDD205に記憶される。
次に、CCDカメラディスク401を保持した状態でティーチング用アーム8を駆動し、CCDカメラディスク401をレジスト塗布ユニット(COT)の外へ搬出する(S106)。次に、3本の支持ピン422を上昇させ、第2アーム7bをレジスト塗布ユニット(COT)内に移動させる。当該第2アーム7bは、3本の支持ピン422によって保持されたターゲットディスク403を受け取り、保持して、ターゲットディスク403をレジスト塗布ユニット(COT)外に搬出する(S107)。
次に、ユーザは、第2アーム7bによって保持されていたターゲットディスク403を取り出し、代わりに高さ調整ディスク405を第1アーム7aに載せ替える。
次に、3本の支持ピン422が載置台420から突出した状態、すなわち受け渡し位置の状態で、第2アーム7bを駆動して、高さ調整ディスク405をレジスト塗布ユニット(COT)内に矢印430方向に沿って搬送し、載置台420の上方に搬送する(S108)。その後、第2アーム7bを駆動して矢印431方向に下降させ、第2アーム7bで高さ調整ディスク405の外側ディスク405aの周辺部を保持させた状態で、内側ディスク405bを支持ピン422上に載せる。その後、内側ディスク405bの厚み分を超える分だけ第2アーム7bを更に下降させて外側ディスク405aと内側ディスク405bとを離間させる。このときの2つの光センサ406の出力信号の出力信号の変化から、3本の支持ピン422の支持位置及び傾きが検知される。これにより、第1の受け渡し目
標位置と実際にウエハWを受け渡す位置とのZ軸方向の位置ずれ量が検出され(S109)、第2アーム7bのZ軸方向における第1の補正値602がCPU201によって算出される(S110)。算出されたZ軸方向における第1の補正値602はRAM203及びHDD205に記憶される。
次に、第2アーム7bを上昇させると、支持ピン422によって保持されていた内側ディスク405bを第2アーム7bが受け取り、外側ディスク405aと内側ディスク405bとが再び重なって離間前の高さ調整ディスク405の状態となる。更に、第2アーム7bを上昇させて、支持ピン422と高さ調整ディスク405を離間させた後、第2アーム7bを水平方向に移動させると、高さ調整ディスク405がレジスト塗布ユニット(COT)外に搬出される。
以上により、基準ユニットに対する第2アーム7bについての第1の補正値600を算出する処理が終了する。
次に、ユーザは、第3アーム7cにターゲットディスク403を保持させる。
次に、ティーチング用アーム8によって保持されるCCDカメラディスク401に搭載されるスリットセンサ407によって、基準処理ユニットであるレジスト塗布ユニット(COT)内へのアクセスを可能とする搬送口41が検出される(S201)。
次に、3本の支持ピン422が載置台420から突出した状態で、第3アーム7cを駆動し、矢印430方向に沿ってターゲットディスク403をレジスト塗布ユニット(COT)内に搬送する。その後、第3アーム7cを、矢印431方向に下降させ、ターゲットディスク403を3本の支持ピン422上に受け渡した後、レジスト塗布ユニット(COT)の外へ移動させる。ここで、載置台420から突出した支持ピン422によって冶具が保持される位置がウエハ受け渡し位置となる。そして、基準処理ユニットであるレジスト塗布ユニット(COT)における本来あるべき正しい受け渡し位置が第1の受け渡し目標位置となる。次に、3本の支持ピン422を下降させて載置台420に埋没させることにより、載置台420上にターゲットディスク403を載置する(S202)。
次に、図9に示すように、ターゲットディスク403が載置台420上に載置された状態で、ティーチング用アーム8を駆動して、CCDカメラディスク401をレジスト塗布ユニット(COT)内に搬送する(S203)。そして、レジスト塗布ユニット(COT)につけられたマーク421と、ターゲットディスク403の穴404との画像を、CCDカメラディスク401のCCD402で撮像し、画像処理装置300にて画像処理を行う。この画像処理結果によって、第1の受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置との水平面におけるXY軸方向及びθ方向の位置ずれが検出され(S204)、第3アーム7cのXY軸方向及びθ方向における第1の補正値701がCPU201によって算出される(S205)。算出されたXY軸方向及びθ方向における第1の補正値701はRAM203及びHDD205に記憶される。
次に、CCDカメラディスク401を保持した状態でティーチング用アーム8を駆動し、CCDカメラディスク401をレジスト塗布ユニット(COT)の外へ搬出する(S206)。次に、3本の支持ピン422を上昇させ、第3アーム7cをレジスト塗布ユニット(COT)内に移動させる。第3アーム7cは、3本の支持ピン422によって保持されたターゲットディスク403を受け取り、保持して、ターゲットディスク403をレジスト塗布ユニット(COT)外に搬出する(S207)。
次に、ユーザは、第3アーム7cによって保持されていたターゲットディスク403を取り出し、代わりに高さ調整ディスク405を第3アーム7cに載せ替える。
次に、3本の支持ピン422が載置台420から突出した状態、すなわち受け渡し位置の状態で、第2アーム7bを駆動して、高さ調整ディスク405をレジスト塗布ユニット(COT)内に矢印430方向に沿って搬送し、載置台420の上方に搬送する(S208)。その後、第3アーム7cを駆動して矢印431方向に下降させ、第3アーム7cで高さ調整ディスク405の外側ディスク405aの周辺部を保持させた状態で、内側ディスク405bを支持ピン422上に載せる。その後、内側ディスク405bの厚み分を超える分だけ第3アーム7cを更に下降させて外側ディスク405aと内側ディスク405bとを離間させる。このときの2つの光センサ406の出力信号の出力信号の変化から、3本の支持ピン422の支持位置及び傾きを検知する。これにより、第1の受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置とのZ軸方向の位置ずれ量が検出され(S209)、第3アーム7cのZ軸方向における第1の補正値702がCPU201によって算出される(S210)。算出されたZ軸方向における第1の補正値702はRAM203及びHDD205に記憶される。
次に、第3アーム7cを上昇させると、支持ピン422によって保持されていた内側ディスク405bを第3アーム7cが受け取り、外側ディスク405aと内側ディスク405bとが再び重なって離間前の高さ調整ディスク405の状態となる。更に、第3アーム7cを上昇させて、支持ピン422と高さ調整ディスク405を離間させた後、第3アーム7cを水平方向に移動させると、高さ調整ディスク405がレジスト塗布ユニット(COT)外に搬出される。
以上により、基準ユニットに対する第3アーム7cについての第1の補正値700を算出する処理が終了する。
CPU201では、RAM203に一時的に記憶された3つの各アーム7a,7b,7cそれぞれの第1の補正値501、600、700から各アームの相対的な位置を示す第2の位置情報800が算出される。この第2の位置情報800は一時的にRAM203に記憶される。更に、RAM203に一時的に記憶された第1の補正値501、600、700及び第2の位置情報800、ROM202に記憶された第1の位置情報500を基に、非基準処理ユニット毎に、非基準処理ユニットに対する各アームにおける第2の補正値900がCPU201によって算出される。算出された第2の補正値900はHDD205に記憶される。
HDD205に記憶された第1の補正値501、600、700及び第2の補正値900を基に、各処理ユニット毎、各アーム毎に受け渡し位置調整を行うことができる。この位置調整処理は、上記調整ソフトウェアにより自動的に実行される。当該調整処理の実行中には、調整ソフトウェアにより、現在調整中の処理ユニット及びアーム、調整が正常終了した処理ユニット及びアーム、調整が異常終了した処理ユニット及びアーム等の情報が、表示部206に表示される(図示せず)。
以上のように、本実施形態においては、基準処理ユニットと搬送ユニットとの間におけるウエハ受け渡し位置と第1のウエハ受け渡し目標位置との位置ずれ量と、同一の搬送ユニットとアクセスする非基準処理ユニットと搬送ユニットとの間におけるウエハ受け渡し位置と第2のウエハ受け渡し目標位置との位置ずれ量とは同じであるとみなしている。そして、基準処理ユニットと搬送ユニットとの間のウエハ受け渡し位置と第1のウエハ受け渡し目標位置との位置ずれを補正するための第1の補正値を各アーム毎に算出し、この第1の補正値と、基準処理ユニットと非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報と、アーム間の相対位置を示す第2の位置情報とから、非基準処理ユニットと搬送ユニット間におけるウエハ受け渡し位置と第2のウエハ受け渡し目標位置との位置ずれを補正するための第2の補正値を各アーム毎に算出することができる。従って、各処理ユニット毎、更に各アーム毎に、ウエハ受け渡し位置とウエハ受け渡し目標位置との位置ずれを検出する必要がなく、アームの位置調整作業に要する時間を大幅に短縮することができる。例えば、搬送ユニットが3つのアームを有し、この搬送ユニットが10の処理ユニットにアクセスする場合、従来は、各処理ユニット毎、各アーム毎に位置調整作業をすると30回の処理が必要であった。しかし、本実施形態においては、3回の位置調整作業(第1の補正値算出処理)を行うだけで、他の27回分の位置調整処理は、位置ずれ量を算出することなく、第1の補正値を用いて、調整ソフトウェアにより自動的に実行することができる。
上述のように、本実施形態においては、基準処理ユニットと搬送ユニットとの間におけるウエハ受け渡し位置と第1のウエハ受け渡し目標位置との位置ずれ量と、同一の搬送ユニットとアクセスする非基準処理ユニットと搬送ユニットとの間におけるウエハ受け渡し位置と第2のウエハ受け渡し目標位置との位置ずれ量とは同じであるとみなしている。これに加え、同一の搬送ユニットに設けられる複数のアームそれぞれにおけるウエハ受け渡し位置とウエハ受け渡し目標位置との位置ずれ量が同じであるとみなした場合、複数のアームから選択された一のアームについてのみ上述の位置調整作業のように冶具を用いて第1の補正値を算出し、他のアームについては、一のアームについての第1の補正値とアーム間の相対位置を示す第2の位置情報とから第1の補正値を算出することができる。従っ
て、各アーム毎に位置調整作業を行う必要がなく、アームの位置調整作業に要する時間を大幅に短縮することができる。
この場合、搬送ユニットが3つのアームを有し、この搬送ユニットが10の処理ユニットにアクセスする場合、基準処理ユニットの一のアームに対する1回の位置調整作業(第1の補正値算出処理)を行うだけで、他の29回分の位置調整処理を、第1の補正値を用いて自動的に実行することができる。また、この場合においては、各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報は予めROM202に記憶される。
また、上述の実施形態においては、CCDカメラディスク401を保持するために、ティーチング専用のアーム8を用いた。しかし、このようなティーチング用アームを有さない3本のアーム7a,7b,7cを備えた搬送ユニットにおいて位置調整作業を行う場合には、例えば、アーム7aにCCDカメラディスク401を保持させて、他のアーム7b、7cの位置調整作業を行った後、CCDカメラディスク401を他のアーム例えばアーム7bに載せ替えて、アーム7aの位置調整作業を行うようにしてもよい。
更に、ティーチング用アームを有さない3本のアーム7a,7b,7cを備えた搬送ユニットにおいて位置調整作業を行う場合、以下のような作業手順としてもよい。例えば、まず始めにアーム7aにCCDカメラディスクを保持させて、アーム7bにターゲットディスク、アーム7cに高さ調整ディスクを保持させて、アーム7bの水平面における第1の補正値及びアーム7cのZ軸方向における第1の補正値を算出する。次に、アーム7b及びアーム7cそれぞれに保持されているディスクを交換して、アーム7bのZ軸方向における第1の補正値及びアーム7cの水平面における第1の補正値を算出する。次に、アーム7aにターゲットディスク、アーム7bにCCDカメラディスクをそれぞれ保持させて、アーム7aの水平面における第1の補正値を算出する。次に、アーム7aに保持されるディスクを高さ調整ディスクに置き換えて、アーム7aの水平面における第1の補正値を算出する。このような作業手順とすることにより、ディスク交換することなく複数のアームそれぞれの第1の補正値を算出することができるため、作業時間を短縮することができる。
また、1つのアームを有する第1のウエハ搬送ユニット27、第2のウエハ搬送ユニット29、第3のウエハ搬送ユニット22においても、上述と同様に、同一の搬送ユニットにアクセスする複数の処理ユニットから選択される一の基準処理ユニットに対するアームの位置ずれ量を検出して第1の補正値を算出することができる。そして、この第1の補正値及び第1の位置情報を基に、非基準処理ユニットに対する第2の補正値を算出することができる。従って、各処理ユニット毎に位置調整作業を行う必要がなく、アームの位置調整作業に要する時間を短縮することができる。
なお、本発明の上述の実施の形態では、CCDカメラ402が搭載された治具としてのCCDカメラディスク401を用いて位置調整作業を行っているが、位置認識を行う治具はこれに限られるものではない。例えばウエハWを模した治具の上に、対向する物体との距離を測定することができる静電容量センサを搭載してもよい。具体的には、例えば図6に示したCCDカメラ402に代えて静電容量センサを搭載してもよい。
また、この場合には、各処理ユニット内において、第1の搬送ユニットA1等の搬送装置に保持されたウエハWに対向する位置に、ターゲットとなる、窪みや突起を予め設けておく。具体的には、例えばターゲットとして窪みを設ける場合、例えば図9に示したマーク421が形成された位置に窪みを形成する。
かかる場合、前記静電容量センサがターゲットとの間の距離を認識するので、第1の受け渡し目標位置と実際にウエハWを受け渡す位置との水平面におけるXY軸方向及びθ方向の位置ずれを検出することができる。そして、上述した実施の形態と同様の方法を用いて、アームの位置調整を行うことができる。
さらに、基準処理ユニット内のターゲットと、その他の非処理処理ユニット内のターゲットとの相対位置を、基準処理ユニットとその他の非処理処理ユニットとの相対位置情報、すなわち第1の位置情報500としてROM202に記憶することもできる。これによって、例えば基準処理ユニットとその他の非基準処理ユニットとで仕様などが異なっていても、夫々の処理ユニットのターゲットを同一の構成にすれば、相対位置情報の把握が容易になるという効果も得られる。
本発明は、例えば半導体ウエハなどの基板を処理ユニットの載置台上に受け渡す基板搬送装置の受け渡し位置の調整を制御する際に有用である。

Claims (7)

  1. 基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットと、前記基板を保持しつつ搬送して前記各処理ユニットへ受け渡すように駆動可能な搬送装置とを有する基板処理装置における前記搬送装置の前記受け渡し位置の調整を制御する制御装置であって、
    前記各処理ユニットから選択された一の基準処理ユニットと、その他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報を記憶する記憶手段と、
    前記搬送装置に前記基板を模した冶具が保持された状態で当該搬送装置を駆動させ、前記基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第1の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第1の補正値を算出する第1の算出手段と、
    前記第1の補正値及び前記第1の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第2の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第2の補正値を算出する第2の算出手段と
    を具備する。
  2. 請求項1に記載の制御装置であって、
    前記搬送装置は、前記基板を保持するための複数のアームを有し、
    前記記憶手段は、前記各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報を記憶し、
    前記第1の算出手段は、前記各アーム毎に前記第1の補正値を算出し、
    前記第2の算出手段は、前記各アームについての前記各第1の補正値、前記第1の位置情報及び前記第2の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の各アームについて前記第2の補正値を算出する。
  3. 請求項2に記載の制御装置であって、
    前記各処理ユニットから前記基準処理ユニットを選択するための第1のユーザ操作と、
    前記選択された基準処理ユニットを変更するための第2のユーザ操作とを入力する操作入力部
    を更に具備する。
  4. 請求項1に記載の制御装置であって、
    前記搬送装置は、前記基板を保持するための複数のアームを有し、
    前記記憶手段は、前記各アーム間の相対位置を示す第2の位置情報を記憶し、
    前記第1の算出手段は、前記複数のアームから選択された一のアームにおける前記第1の補正値と、該一のアームにおける第1の補正値及び前記第2の位置情報を基に他のアームにおける前記第1の補正値を算出し、
    前記第2の算出手段は、前記1のアームの第1の補正値、前記第1の位置情報及び前記
    第2の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の各アームについて前記第2の補正値を算出する。
  5. 請求項1に記載の制御装置であって、
    前記各処理ユニット内において、前記搬送装置に保持された基板に対向する位置にターゲットが設けられ、
    前記第1の位置情報は、前記基準処理ユニット内のターゲットと、前記非基準処理ユニット内のターゲットとの相対位置を示す。
  6. 基板に対して所定の処理を行う複数の処理ユニットと、前記基板を保持しつつ搬送して前記各処理ユニットへ受け渡すように駆動可能な搬送装置とを有する基板処理装置における前記搬送装置の前記受け渡し位置の調整を制御する制御方法であって、
    前記各処理ユニットから選択された一の基準処理ユニットと、その他の非基準処理ユニットとの相対位置を示す第1の位置情報を記憶し、
    前記搬送装置に前記基板を模した冶具が保持された状態で当該搬送装置を駆動させ、前記基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第1の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第1の補正値を算出し、
    前記第1の補正値及び前記第1の位置情報を基に、前記非基準処理ユニットに対する前記搬送装置の前記冶具の受け渡し位置と、所定の第2の受け渡し目標位置との間の位置ずれを補正するための第2の補正値を算出する。
  7. 請求項6に記載の制御方法であって、
    前記各処理ユニット内において、前記搬送装置に保持された基板に対向する位置にターゲットが設けられ、
    前記第1の位置情報は、前記基準処理ユニット内のターゲットと、前記非基準処理ユニット内のターゲットとの相対位置を示す。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5449239B2 (ja) * 2010-05-12 2014-03-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及びプログラムを記録した記憶媒体
CN104752268B (zh) * 2013-12-31 2017-09-01 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 半导体工艺设备中物料移动控制的方法及系统
CN106945034B (zh) * 2016-01-07 2021-09-03 鸿富锦精密电子(郑州)有限公司 机器人点位调节方法与系统
JP6671993B2 (ja) * 2016-02-01 2020-03-25 東京エレクトロン株式会社 基板受け渡し位置の教示方法及び基板処理システム
US11468590B2 (en) * 2018-04-24 2022-10-11 Cyberoptics Corporation Wireless substrate-like teaching sensor for semiconductor processing
KR102319196B1 (ko) * 2020-01-08 2021-10-29 세메스 주식회사 컨베이어 시스템 및 컨베이어 시스템에서의 정렬 방법
JP7365924B2 (ja) * 2020-02-13 2023-10-20 東京エレクトロン株式会社 ティーチング方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001117064A (ja) * 1999-10-19 2001-04-27 Tokyo Electron Ltd 搬送装置の位置合わせ機構および位置合わせ方法、ならびに基板処理装置
JP2005019963A (ja) * 2003-06-03 2005-01-20 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板受け渡し位置の調整方法
JP2006123157A (ja) * 2004-09-28 2006-05-18 Nidec Sankyo Corp ロボットを教示するロボット教示用プログラム、及びこれに使用するカセット、位置測定器具並びにこれらを利用したロボット作動方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6244121B1 (en) 1998-03-06 2001-06-12 Applied Materials, Inc. Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system
US6553277B1 (en) 1999-05-07 2003-04-22 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for vacuum treatment
US6732004B2 (en) * 2001-02-26 2004-05-04 Asml Netherlands B.V. Computer program for determining a corrected position of a measured alignment mark, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP3920587B2 (ja) 2001-04-16 2007-05-30 東京エレクトロン株式会社 基板搬送手段のティーチング方法
CN100337089C (zh) * 2002-09-20 2007-09-12 Asml荷兰有限公司 器件检验
JP2004282002A (ja) * 2003-02-27 2004-10-07 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
KR101015778B1 (ko) * 2003-06-03 2011-02-22 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 처리장치 및 기판 수수 위치의 조정 방법
US6944517B2 (en) * 2003-07-03 2005-09-13 Brooks Automation, Inc. Substrate apparatus calibration and synchronization procedure
US8135485B2 (en) * 2007-09-28 2012-03-13 Lam Research Corporation Offset correction techniques for positioning substrates within a processing chamber
US8185242B2 (en) * 2008-05-07 2012-05-22 Lam Research Corporation Dynamic alignment of wafers using compensation values obtained through a series of wafer movements

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001117064A (ja) * 1999-10-19 2001-04-27 Tokyo Electron Ltd 搬送装置の位置合わせ機構および位置合わせ方法、ならびに基板処理装置
JP2005019963A (ja) * 2003-06-03 2005-01-20 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板受け渡し位置の調整方法
JP2006123157A (ja) * 2004-09-28 2006-05-18 Nidec Sankyo Corp ロボットを教示するロボット教示用プログラム、及びこれに使用するカセット、位置測定器具並びにこれらを利用したロボット作動方法

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