JP4473827B2 - 基板処理装置及び基板の受け渡し位置の調整方法 - Google Patents
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Description
前記棚ユニットに設けられる最上段のモジュールから最下段のモジュールに亘って、各基板載置部の対応する位置を通るように、前記棚ユニットに上下方向に貫通して形成された光軸形成用の孔部と、
前記基板載置部の孔部内に光軸を形成するための光軸形成手段と、
前記基板搬送手段により前記モジュールの基板載置部の上方側に搬送される位置調整プレートと、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段により位置調整プレートが搬送され、この位置調整プレートにおける位置合わせ用の点領域が前記光軸に一致したときに、前記光軸を検出するための光軸検出部と、
前記光軸検出部により前記光軸を検出したときに、基板搬送手段の位置を取得する位置取得手段と、を備えたことを特徴とする。
前記棚ユニットは、前記モジュールの基板載置部に対する基板搬送手段の基板の受け渡しの高さ位置が夫々一致するように設けられ、
前記棚ユニットに搭載される一端側のモジュールから他端側のモジュールに亘って、前記基板の受け渡しの高さ位置を通るように、前記棚ユニットに左右方向に貫通するように形成された光軸形成用の孔部と、
前記孔部内に光軸を形成するための光軸形成手段と、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に前記基板搬送手段が進入し、当該基板搬送手段により前記光軸を遮ったときに、基板搬送手段の位置を取得する位置取得手段と、を備えたことを特徴とする。
前記孔部内に光軸を形成するための光軸形成手段と、
前記基板搬送手段によりモジュールの基板載置部の上方側に搬送され、前記光軸を検出するための光軸検出部が設けられた位置調整プレートと、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段により位置調整プレートが搬送され、前記位置調整プレートの光軸検出部が前記光軸に一致したときに、前記基板搬送手段の位置を取得する位置取得手段と、を備えるように構成してもよい。
基板が水平に載置された基板載置部を備えた複数のモジュールを、前記基板載置部の中心が一致するように上下方向に設けた棚ユニットと、この棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を備えた基板処理装置において、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板の受け渡し位置の調整方法において、
前記棚ユニットに設けられる最上段のモジュールから最下段のモジュールに亘って、各基板載置部の対応する位置を通るように、棚ユニットの上下方向に貫通する光軸を形成する工程と、
位置調整プレートを前記基板搬送手段に保持させて、受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に搬送する工程と、
位置調整プレートにおける位置合わせ用の点領域が前記光軸に一致して前記光軸を検出したときに、基板搬送手段の位置を取得する工程と、を含むことを特徴とする。
基板が水平に載置される基板載置部を備えた複数のモジュールを左右方向に設けた棚ユニットと、棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を含み、前記モジュールの基板載置部に対する基板搬送手段の基板の受け渡しの高さ位置が夫々一致するように設けられた基板処理装置において、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板の受け渡し位置の調整方法において、
前記棚ユニットに設けられる一端側のモジュールから他端側のモジュールに亘って、前記基板の受け渡しの高さ位置を通るように、前記棚ユニットに左右方向に貫通するように光軸を形成する工程と、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段を進入する工程と、
前記基板搬送手段が前記光軸を遮ったときに、前記基板搬送手段の位置を取得する工程と、を含むことを特徴とする。
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段により、前記光軸を検出するための光軸検出部が設けられた位置調整プレートを搬送する工程と、
前記位置調整プレートの光軸検出部が前記光軸に一致したときに、前記基板搬送手段の位置を取得する工程と、を含むものであってもよい。
20 キャリア
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
S3 インターフェイスブロック
S4 露光装置
A1〜A4 メインアーム
B インターフェイスアーム
C トランファーアーム
D 受け渡しアーム
CHP 加熱モジュール
COL 冷却モジュール
31 現像ユニット
32 塗布ユニット
33 第1の反射防止膜形成ユニット
34 第2の反射防止膜形成ユニット
42,45 冷却プレート(基板載置部)
51 光軸形成用の孔部
52 発光素子
53 受光素子
54 反射部
7 位置調整プレート
71 孔部
72 反射部
73 受光素子
74 発光素子
100 制御部
Claims (17)
- 基板を水平に載置する基板載置部を備えた複数のモジュールを、前記基板載置部の中心が一致するように上下方向に設けた棚ユニットと、この棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を備え、予め基板搬送手段による前記モジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板処理装置において、
前記棚ユニットに設けられる最上段のモジュールから最下段のモジュールに亘って、各基板載置部の対応する位置を通るように、前記棚ユニットに上下方向に貫通して形成された光軸形成用の孔部と、
前記基板載置部の孔部内に光軸を形成するための光軸形成手段と、
前記基板搬送手段により前記モジュールの基板載置部の上方側に搬送される位置調整プレートと、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段により位置調整プレートが搬送され、この位置調整プレートにおける位置合わせ用の点領域が前記光軸に一致したときに、前記光軸を検出するための光軸検出部と、
前記光軸検出部により前記光軸を検出したときに、基板搬送手段の位置を取得する位置取得手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、棚ユニットに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は、前記位置調整プレートの点領域に設けられた前記光軸を通す孔部と、前記光軸がこの位置調整プレートに形成された孔部を通ったときに、前記発光素子からの光を受光するように棚ユニットに設けられた受光素子と、を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記光軸検出部は、棚ユニットに設けられ、前記発光素子からの光を前記基板載置部の孔部を通るように反射するための反射部を備え、
前記受光素子は、前記光軸が位置調整プレートに形成された孔部を通ったときに、前記発光素子から発光され、反射部より反射された光を受光するように設けられていることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、棚ユニットに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は、前記位置調整プレートの点領域に設けられ、前記発光素子からの光を反射するための反射部と、前記発光素子から発光され、位置調整プレートに形成された反射部により反射された光を受光するように棚ユニットに設けられた受光素子と、を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、棚ユニットに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は、前記位置調整プレートの点領域に設けられた受光素子であることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、前記位置調整プレートの点領域に設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は、前記光軸の光を受光するように棚ユニットに設けられた受光素子であることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記基板載置部の孔部は当該基板載置部の中心に形成され、前記位置調整プレートの点領域は当該位置調整プレートの中心に形成されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一に記載の基板処理装置。
- 基板が水平に載置される基板載置部を備えた複数のモジュールを左右方向に設けた棚ユニットと、この棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を備え、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板処理装置において、
前記棚ユニットは、前記モジュールの基板載置部に対する基板搬送手段の基板の受け渡しの高さ位置が夫々一致するように設けられ、
前記棚ユニットに搭載される一端側のモジュールから他端側のモジュールに亘って、前記基板の受け渡しの高さ位置を通るように、前記棚ユニットに左右方向に貫通するように形成された光軸形成用の孔部と、
前記孔部内に光軸を形成するための光軸形成手段と、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に前記基板搬送手段が進入し、当該基板搬送手段により前記光軸を遮ったときに、基板搬送手段の位置を取得する位置取得手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 基板が水平に載置される基板載置部を備えた複数のモジュールを左右方向に設けた棚ユニットと、棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を含み、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板処理装置において、
前記棚ユニットは、前記モジュールの基板載置部に対する基板搬送手段の基板の受け渡しの高さ位置が夫々一致するように設けられ、
前記棚ユニットに搭載される一端側のモジュールから他端側のモジュールに亘って、基板載置部の上方側の同じ高さ位置を通るように、前記棚ユニットに左右方向に貫通して形成された光軸形成用の孔部と、
前記孔部内に光軸を形成するための光軸形成手段と、
前記基板搬送手段によりモジュールの基板載置部の上方側に搬送され、前記光軸を検出するための光軸検出部が設けられた位置調整プレートと、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段により位置調整プレートが搬送され、前記位置調整プレートの光軸検出部が前記光軸に一致したときに、前記基板搬送手段の位置を取得する位置取得手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、棚ユニットに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は前記光軸を通す孔部であり、
前記光軸が前記位置調整プレートに形成された孔部を通過したときに、前記発光素子からの光を受光するように棚ユニットに設けられた受光素子を備えることを特徴とする請求項9記載の基板処理装置。 - 棚ユニットに設けられ、発光素子からの光を前記光軸形成用の孔部を通るように反射するための反射部を備え、
前記受光素子は、前記光軸が前記位置調整プレートに形成された孔部を通過したときに、前記発光素子から発光され、反射部より反射された光を受光するように設けられていることを特徴とする請求項10記載の基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、棚ユニットに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は前記発光素子からの光を反射するための反射部であり、
前記発光素子から発光され、位置調整プレートに設けられた反射部により反射された光を受光するように棚ユニットに設けられた受光素子を備えることを特徴とする請求項9記載の基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、棚ユニットに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は、位置調整プレートに設けられた受光素子であることを特徴とする請求項9記載の基板処理装置。 - 前記光軸形成手段は、位置調整プレートに設けられた発光素子であり、
前記光軸検出部は位置調整プレートに設けられる代わりに棚ユニットに設けられ、前記光軸の光を受光する受光素子であることを特徴とする請求項9記載の基板処理装置。 - 基板が水平に載置された基板載置部を備えた複数のモジュールを、前記基板載置部の中心が一致するように上下方向に設けた棚ユニットと、この棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を備えた基板処理装置において、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板の受け渡し位置の調整方法において、
前記棚ユニットに設けられる最上段のモジュールから最下段のモジュールに亘って、各基板載置部の対応する位置を通るように、棚ユニットの上下方向に貫通する光軸を形成する工程と、
位置調整プレートを前記基板搬送手段に保持させて、受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に搬送する工程と、
位置調整プレートにおける位置合わせ用の点領域が前記光軸に一致して前記光軸を検出したときに、基板搬送手段の位置を取得する工程と、を含むことを特徴とする基板の受け渡し位置の調整方法。 - 基板が水平に載置される基板載置部を備えた複数のモジュールを左右方向に設けた棚ユニットと、棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を含み、前記モジュールの基板載置部に対する基板搬送手段の基板の受け渡しの高さ位置が夫々一致するように設けられた基板処理装置において、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板の受け渡し位置の調整方法において、
前記棚ユニットに設けられる一端側のモジュールから他端側のモジュールに亘って、前記基板の受け渡しの高さ位置を通るように、前記棚ユニットに左右方向に貫通するように光軸を形成する工程と、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段を進入する工程と、
前記基板搬送手段が前記光軸を遮ったときに、前記基板搬送手段の位置を取得する工程と、を含むことを特徴とする基板の受け渡し位置の調整方法。 - 基板が水平に載置される基板載置部を備えた複数のモジュールを左右方向に設けた棚ユニットと、棚ユニットの各々のモジュールに対して基板の受け渡しを行うための進退及び昇降自在な基板搬送手段と、を含み、前記モジュールの基板載置部に対する基板搬送手段の基板の受け渡しの高さ位置が夫々一致するように設けられた基板処理装置において、予め基板搬送手段によるモジュール内の基板載置部に対する基板の受け渡し位置のデータを取得しておく基板の受け渡し位置の調整方法において、
前記棚ユニットに設けられる一端側のモジュールから他端側のモジュールに亘って、基板載置部の上方側の同じ高さ位置を通るように、前記棚ユニットに左右方向に貫通して光軸を形成する工程と、
受け渡し位置のデータを得ようとするモジュールの基板載置部の上方側に、前記基板搬送手段により、前記光軸を検出するための光軸検出部が設けられた位置調整プレートを搬送する工程と、
前記位置調整プレートの光軸検出部が前記光軸に一致したときに、前記基板搬送手段の位置を取得する工程と、を含むことを特徴とする基板の受け渡し位置の調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006046697A JP4473827B2 (ja) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | 基板処理装置及び基板の受け渡し位置の調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006046697A JP4473827B2 (ja) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | 基板処理装置及び基板の受け渡し位置の調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007227627A JP2007227627A (ja) | 2007-09-06 |
JP4473827B2 true JP4473827B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=38549141
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006046697A Expired - Fee Related JP4473827B2 (ja) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | 基板処理装置及び基板の受け渡し位置の調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4473827B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2308657B1 (en) * | 2008-07-10 | 2019-09-04 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Robot and its teaching method |
JP5401748B2 (ja) * | 2012-08-30 | 2014-01-29 | 川崎重工業株式会社 | ロボット及びその教示方法 |
JP5793527B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2015-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置制御システム及び搬送装置のアクセス位置を調整する方法 |
CN112848496B (zh) * | 2021-01-27 | 2023-03-31 | 浙江新发现机械制造有限公司 | 一种纸片输送装置 |
KR102666739B1 (ko) * | 2022-12-07 | 2024-05-20 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 반송 장치 및 기판 처리 장치 |
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2006
- 2006-02-23 JP JP2006046697A patent/JP4473827B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007227627A (ja) | 2007-09-06 |
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