JPWO2009110152A1 - 透明樹脂板及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 68
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 75
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 53
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 35
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 15
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 46
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 27
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 21
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 21
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 14
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000002594 fluoroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
- B05D7/04—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber to surfaces of films or sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/50—Multilayers
- B05D7/52—Two layers
- B05D7/53—Base coat plus clear coat type
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/08—Heat treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K3/36—Silica
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
- B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
- B05D3/065—After-treatment
- B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2483/04—Polysiloxanes
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
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Abstract
Description
2 プライマー層
3 ハードコート層
4 改質部
100 透明樹脂板
透明樹脂板100は、基板1と、その上に形成されたプライマー層2と、その上を被覆したハードコート層3とから構成される。ここに、プライマー層2及びハードコート層3はそれぞれディップコーティング法により形成され、該ハードコート層3の表面側の一部は改質部(硬質薄膜)4に形成されている。
以下、透明樹脂板100の構成について説明する。
(実施例1)
本実施例は、透明樹脂板100の素材として、ポリカーボネート基板、アクリル系プライマー層、シリコーン系ハードコート層を適用した一例である。以下のようにして透明樹脂板100を製造した後、ハードコート層3の表面に改質形成した改質部4とその周辺の非改質部分の性質を比較評価した。
レーザーの照射面積をワイパー(窓拭き装置)ブレードがこすれる部分に設定する以外は上記実施例1と同様にして透明樹脂板を作成した。ハードコート層3が形成されたポリカーボネート基板1をXYテーブル上に配置し、テーブルを移動させながらレーザー照射を行った。この場合、XYテーブルの動きをあらかじめ、コントローラに入力しておき、改質したいエリアのみをスキャンしながら処理する。この場合、処理面積にレーザー光が均等に照射され、改質部と非改質部に段差がなく、ワイパーブレードに対する耐擦傷性が向上するものとなった(図5参照)。また、膜厚が制御されて改質部に内部応力が緩和されているので、非改質部に亀裂が生じても、それをトリガーとした改質部の端部からの亀裂の伝播を可久的に防止することができる。
Kr2型エキシマランプの出力エネルギー強度3.2mW/cm2により、180分間N2雰囲気中で改質を行った。熱硬化型のプライマー、ハードコート層を形成するまでの工程は、先に述べたものと同様である。次にFT−IRのスペクトル図による表面分析により、二酸化ケイ素への改質を確認した。先の実施例のFT−IR試験の図の縦軸が透過率であったのに対して、今回のものは、遮蔽率を縦軸にプロットしている。改質前(ハードコート形成後)の観測結果を図6Aに示し、図6Bに146nmエキシマランプ照射後の観察結果を示す。図6Bに示すように、二股に割れたSi−Oピークが単峰に変化し、C−Hのピークが減少または消失している。このときの改質部の厚さは、約1μmである。本実施では、二酸化ケイ素への改質を確認するために、膜厚を厚くしたが、その後に行ったJISK7204に基づくテーバー摩耗試験によれば、クラックが生じた。
実施例3のKr2型エキシマランプに代えて、波長172nmのXe2型エキシマランプにより改質を行った(二酸化ケイ素への改質に使用される酸素は、樹脂が吸収した酸素を利用)。熱硬化型のプライマー、ハードコート層を形成した後、照明光強度35mW/cm2で15分、N2雰囲気中にて処理した。その結果を図6CにFT−IRによる観察結果を示す。この観察結果によれば、146nm照射と同様にSiO2への改質を確認できた。このときの改質部の厚さも、約1μmである。実施例3と同様に、その後に行ったJISK7204に基づくテーバー摩耗試験によれば、クラックが生じた。
Claims (8)
- 樹脂基板をハードコート層により被覆した透明樹脂板の製造方法であって、前記ハードコート層を湿式法によりシリコーンポリマーを用いて形成する工程と、このシリコーンポリマー層の表面に、波長200nm以下の紫外光源により真空紫外光線を照射し、露光部分のみを前記シリコーンポリマー層よりも薄い0.6μm未満の厚さの二酸化ケイ素を主成分とする硬質薄膜に改質する工程とからなることを特徴とする透明樹脂板の製造方法。
- 前記基板が、透明樹脂基板あることを特徴とする請求項1に記載の透明樹脂板の製造方法。
- 樹脂基板上にプライマー層を湿式法により形成し、その上に前記ハードコート層を形成することを特徴とする請求項1に記載の透明樹脂板の製造方法。
- 前記シリコーンポリマーがシロキサン樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の透明樹脂板の製造方法。
- 前記光源として、紫外レーザーを用いることを特徴とする請求項1に記載の透明樹脂板の製造方法
- 前記光源として、エキシマランプを用いることを特徴とする請求項1に記載の透明樹脂板の製造方法。
- 前記シリコーンポリマーに、紫外線吸収剤を添加してハードコート層を形成することを特徴とする請求6の透明基板の製造方法
- 透明樹脂基板を被覆するハードコート層を有し、該ハードコート層はシリコーンポリマーからなり、その表面側の一部が二酸化ケイ素を主成分とする膜厚0.6μm未満の硬質薄膜を構成すると共にその周辺のシリコーンポリマーと平坦面を形成していることを特徴とする透明樹脂板。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008053412 | 2008-03-04 | ||
JP2008053412 | 2008-03-04 | ||
PCT/JP2008/072386 WO2009110152A1 (ja) | 2008-03-04 | 2008-12-10 | 透明樹脂板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4536824B2 JP4536824B2 (ja) | 2010-09-01 |
JPWO2009110152A1 true JPWO2009110152A1 (ja) | 2011-07-14 |
Family
ID=41055722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009504928A Active JP4536824B2 (ja) | 2008-03-04 | 2008-12-10 | 透明樹脂板及びその製造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9533327B2 (ja) |
EP (1) | EP2266711B1 (ja) |
JP (1) | JP4536824B2 (ja) |
KR (1) | KR101201381B1 (ja) |
CN (1) | CN101965230B (ja) |
BR (1) | BRPI0822443B1 (ja) |
CA (1) | CA2715727C (ja) |
ES (1) | ES2461091T3 (ja) |
PL (1) | PL2266711T3 (ja) |
WO (1) | WO2009110152A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2008-12-10 ES ES08831276.4T patent/ES2461091T3/es active Active
- 2008-12-10 KR KR1020107018454A patent/KR101201381B1/ko active IP Right Grant
- 2008-12-10 EP EP08831276.4A patent/EP2266711B1/en active Active
- 2008-12-10 JP JP2009504928A patent/JP4536824B2/ja active Active
- 2008-12-10 CN CN200880127814.4A patent/CN101965230B/zh active Active
- 2008-12-10 PL PL08831276T patent/PL2266711T3/pl unknown
- 2008-12-10 WO PCT/JP2008/072386 patent/WO2009110152A1/ja active Application Filing
- 2008-12-10 BR BRPI0822443A patent/BRPI0822443B1/pt active IP Right Grant
- 2008-12-10 US US12/311,997 patent/US9533327B2/en active Active
- 2008-12-10 CA CA2715727A patent/CA2715727C/en active Active
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PL2266711T3 (pl) | 2014-09-30 |
ES2461091T3 (es) | 2014-05-16 |
US9533327B2 (en) | 2017-01-03 |
EP2266711B1 (en) | 2014-04-09 |
EP2266711A1 (en) | 2010-12-29 |
WO2009110152A1 (ja) | 2009-09-11 |
BRPI0822443A2 (pt) | 2017-12-12 |
KR20100102729A (ko) | 2010-09-24 |
EP2266711A4 (en) | 2011-06-22 |
CN101965230B (zh) | 2014-03-19 |
US20100304133A1 (en) | 2010-12-02 |
BRPI0822443B1 (pt) | 2019-08-13 |
CA2715727C (en) | 2014-04-29 |
CN101965230A (zh) | 2011-02-02 |
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JP4536824B2 (ja) | 2010-09-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100608 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4536824 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160625 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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