JP2008101110A - フィルムの表面処理方法および表面処理装置 - Google Patents
フィルムの表面処理方法および表面処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008101110A JP2008101110A JP2006284801A JP2006284801A JP2008101110A JP 2008101110 A JP2008101110 A JP 2008101110A JP 2006284801 A JP2006284801 A JP 2006284801A JP 2006284801 A JP2006284801 A JP 2006284801A JP 2008101110 A JP2008101110 A JP 2008101110A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- ultraviolet
- surface treatment
- ultraviolet irradiation
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
連続で走行する長尺かつ幅広なフィルム(特にセルロースエステルフィルム)に、紫外線を照射することで、フィルムのダメージが少なく、効率良く表面洗浄および表面改質を行うことを目的とする。
【解決手段】
紫外線照射時の雰囲気が、酸素ガス濃度25〜50%、且つ、窒素と酸素を混合したガス濃度95%以上であり、490kj/mol以上のエネルギーを有する紫外線を照射することで、走行する長尺かつ幅広なフィルムと、貼り合わせあるいはコーティングする機能層との間の密着性を、より簡略化された設備で、連続して均一な表面改質を、基材にダメージなく高速で処理を行うことができる。
【選択図】 図1
Description
該紫外線照射時の雰囲気が、酸素ガス濃度25〜50%、且つ、窒素と酸素を混合したガス濃度95%以上であり、
該紫外線のエネルギーが490kj/mol以上である
ことを特徴とするフィルムの表面処理方法である。
これによると、フィルム表面の化学結合を切断でき、また、紫外線照射雰囲気下の酸素などの反応性気体をラジカルやオゾン等のより反応性の高い状態に分解して、フィルム表面に官能基を付与することができる。また、後に貼り合わせあるいはコーティングする機能層との密着性を強くすることができる。
これによると、熱収縮や浸食することのないクリーンで平滑性に優れた処理が可能である。
これによると、セルロースエステルフィルムにポリビニルアルコールからなる機能層を設ける際、または、ポリビニルアルコールを主成分とした接着層を介して、機能層を積層する際、セルロースエステルフィルムとポリビニルアルコールの密着性を向上できる。
これによると、酸素濃度の制御を簡単に行うことができる。
フィルムを加熱下で処理することにより、より表面が活性な状態で処理が行えるため処理効率が向上する。
連続で走行する該フィルムの一方の面上に紫外線ランプを備える紫外線処理室内で該フィルム面上に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
該フィルムを巻取る巻取り手段を
順次有するフィルムの表面処理装置において、
該紫外線照射室が、一つ以上のガス供給口と一つ以上のガス排気口を有し、
該紫外線照射室内の雰囲気が、酸素ガス濃度25〜50%、且つ、窒素と酸素を混合したガス濃度95%以上であり、
該紫外線ランプから照射される紫外線のエネルギーが490kj/mol以上である
ことを特徴とするフィルムの表面処理装置である。
これによると、フィルム表面の化学結合を切断でき、また、紫外線照射室内の酸素などの反応性気体をラジカルやオゾン等のより反応性の高い状態に分解して、フィルム表面に官能基を付与することができる。
これによると、熱収縮や浸食することのないクリーンで平滑性に優れた処理が可能である。
これによると、酸素濃度の制御が簡単であり、更には、装置の機密性を高める必要が少ないので装置の簡素化に繋がる。
これによると、紫外線照射室内の酸素濃度を容易に制御することができる。
且つ、前記紫外線照射室のフィルム導出部もしくは予備排気室Bのフィルム導出部の少なくとも一方にニップロールを配している
ことを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載のフィルムの表面処理装置である。
これによると、外気からのガスの混入を防ぐことができ、紫外線照射室内の雰囲気を容易に制御することができる。
フィルムを加熱下で処理することにより、より表面が活性な状態で処理が行えるため処理効率が向上する。
透明基材フィルムに厚さ80μmのトリアセチルセルロース(富士写真フィルム株式会社製:FT−TD80ULG)を用い、図1に示したような処理装置を使用して処理を行った。まず、処理空間に窒素および酸素の混合気体を酸素濃度45%となるように置換し、置換終了後、ニップロールにより、60℃にフィルムを加熱して、基材フィルムを搬送させて、エキシマ紫外線を照射させた。
酸素濃度を30%とした以外は、実施例1と同様の処理を施した。
処理室を大気雰囲気下とした以外は、実施例1と同様の処理を施した。
40℃の1.5N−NaOH溶液にフィルムを5分間浸漬し、その後、水洗し乾燥したトリアセチルセルロースフィルムに、実施例1と同様にポリビニルアルコール層をラミネートした。
トリアセチルセルロースフィルムに、コロナ放電処理を施した後に、実施例1と同様に実施例1と同様にポリビニルアルコール層をラミネートした。
未処理のトリアセチルセルロースフィルムに、実施例1と同様にポリビニルアルコール層をラミネートした。
○:見えない。
△:肉眼で、少し確認できる。
×:肉眼で、かなりの数が確認できる。
○:剥れない。もしくはフィルムごと破壊する。
△:抵抗はあるが剥れる。
×:抵抗なく剥れる。
2 紫外線照射室
3 フィルム
4 巻出し装置
5 巻取り装置
6 ガス供給口
7 ガス排気口
8 予備排気室A
9 予備排気室B
10 紫外線照射室のフィルム導入部
11 紫外線照射室のフィルム導出部
12 予備排気室Aのフィルム導入部
13 予備排気室Bのフィルム導出部
14 ニップロール
15 セルロースエステルフィルム
16 表面処理層
17 ポリビニルアルコール
18 光学フィルム
Claims (11)
- フィルム表面に紫外線を照射することにより該フィルム表面を改質する表面処理方法において、
該紫外線照射時の雰囲気が、酸素ガス濃度25〜50%、且つ、窒素と酸素を混合したガス濃度95%以上であり、
該紫外線のエネルギーが490kj/mol以上である
ことを特徴とするフィルムの表面処理方法。 - 前記紫外線が、172nmのピーク波長を有し、キセノン分子が励起した際に発生するエキシマ紫外線であることを特徴とする請求項1に記載のフィルムの表面処理方法。
- 前記フィルムがセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムの表面処理方法。
- 前記紫外線照射時の圧力が、50〜150kPaであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフィルムの表面処理方法。
- 前記紫外線照射時の温度が、30〜80℃であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフィルムの表面処理方法。
- 長尺であるフィルムを巻出す巻出し手段と、
連続で走行する該フィルムの一方の面上に紫外線ランプを備える紫外線処理室内で該フィルム面上に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
該フィルムを巻取る巻取り手段を
順次有するフィルムの表面処理装置において、
該紫外線照射室が一つ以上のガス供給口と一つ以上のガス排気口を有し、
該紫外線照射室内の雰囲気が、酸素ガス濃度25〜50%、且つ、窒素と酸素を混合したガス濃度95%以上であり、
該紫外線ランプから照射される紫外線のエネルギーが490kj/mol以上である
ことを特徴とするフィルムの表面処理装置。 - 前記紫外線ランプが、172nmのピーク波長を有し、キセノン分子が励起した際に発生するエキシマ紫外線を照射することを特徴とする請求項6に記載のフィルムの表面処理装置。
- 前記紫外線照射室内の圧力が、50〜150kPaであることを特徴とする請求項6または7に記載のフィルムの表面処理装置。
- 前記紫外線照射室のフィルム導入部に連結して配置されている予備排気室Aおよび前記紫外線照射室のフィルム導出部に連結して配置されている予備排気室Bを有することを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載のフィルムの表面処理装置。
- 前記紫外線照射室のフィルム導入部もしくは予備排気室Aのフィルム導入部の少なくとも一方にニップロールを配し、
且つ、前記紫外線照射室のフィルム導出部もしくは予備排気室Bのフィルム導出部の少なくとも一方にニップロールを配している
ことを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載のフィルムの表面処理装置。 - 前記ニップロールが温度調整機構を有し、該紫外線照射室内の温度が30〜80℃であることを特徴とする請求項6〜10のいずれかに記載のフィルムの表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006284801A JP5135758B2 (ja) | 2006-10-19 | 2006-10-19 | フィルムの表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006284801A JP5135758B2 (ja) | 2006-10-19 | 2006-10-19 | フィルムの表面処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008101110A true JP2008101110A (ja) | 2008-05-01 |
JP5135758B2 JP5135758B2 (ja) | 2013-02-06 |
Family
ID=39435690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006284801A Expired - Fee Related JP5135758B2 (ja) | 2006-10-19 | 2006-10-19 | フィルムの表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5135758B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2109008A1 (en) | 2008-04-09 | 2009-10-14 | Ricoh Company, Ltd. | Image formation method and image forming apparatus |
JP2010262289A (ja) * | 2009-05-06 | 2010-11-18 | Xerox Corp | Uvオゾン処理によるイメージ部材における汚染の低減 |
JP2011003670A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法及び固体撮像素子 |
JP2011190378A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Kagawa Prefecture | 包装袋用材料の製造方法、製造装置及び包装袋 |
JP2012062504A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Kazusa Dna Kenkyusho | 基材表面親水化処理方法及び被処理物の製造装置 |
WO2015002178A1 (ja) * | 2013-07-02 | 2015-01-08 | コニカミノルタ株式会社 | 防曇性フィルム、該防曇性フィルムを用いた透光性部材および電子機器、ならびに該防曇性フィルムの製造方法 |
JPWO2016063463A1 (ja) * | 2014-10-21 | 2017-06-08 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
JP2018144456A (ja) * | 2017-03-09 | 2018-09-20 | ウシオ電機株式会社 | 接合体製造装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1036536A (ja) * | 1996-05-18 | 1998-02-10 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスクの製造方法、表面処理装置及び光アッシング装置 |
JP2000246200A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Iwasaki Electric Co Ltd | 表面処理装置 |
JP2002069217A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-08 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理装置及びそれを搭載した塗工装置又はラミネート装置 |
JP2002365429A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-18 | Nitto Denko Corp | 偏光板用透明保護フイルムおよびその製造方法、偏光板、偏光板を用いた光学フイルムならびに液晶表示装置 |
JP2003053882A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Konica Corp | 光学フィルム、その製造方法、反射防止フィルム、偏光板 |
JP2004043662A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | フイルムの表面処理方法および積層フィルムの製造方法 |
-
2006
- 2006-10-19 JP JP2006284801A patent/JP5135758B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1036536A (ja) * | 1996-05-18 | 1998-02-10 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスクの製造方法、表面処理装置及び光アッシング装置 |
JP2000246200A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Iwasaki Electric Co Ltd | 表面処理装置 |
JP2002069217A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-08 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理装置及びそれを搭載した塗工装置又はラミネート装置 |
JP2002365429A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-18 | Nitto Denko Corp | 偏光板用透明保護フイルムおよびその製造方法、偏光板、偏光板を用いた光学フイルムならびに液晶表示装置 |
JP2003053882A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Konica Corp | 光学フィルム、その製造方法、反射防止フィルム、偏光板 |
JP2004043662A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | フイルムの表面処理方法および積層フィルムの製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2109008A1 (en) | 2008-04-09 | 2009-10-14 | Ricoh Company, Ltd. | Image formation method and image forming apparatus |
JP2010262289A (ja) * | 2009-05-06 | 2010-11-18 | Xerox Corp | Uvオゾン処理によるイメージ部材における汚染の低減 |
JP2011003670A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法及び固体撮像素子 |
JP2011190378A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Kagawa Prefecture | 包装袋用材料の製造方法、製造装置及び包装袋 |
JP2012062504A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Kazusa Dna Kenkyusho | 基材表面親水化処理方法及び被処理物の製造装置 |
WO2015002178A1 (ja) * | 2013-07-02 | 2015-01-08 | コニカミノルタ株式会社 | 防曇性フィルム、該防曇性フィルムを用いた透光性部材および電子機器、ならびに該防曇性フィルムの製造方法 |
JPWO2016063463A1 (ja) * | 2014-10-21 | 2017-06-08 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
JP2018144456A (ja) * | 2017-03-09 | 2018-09-20 | ウシオ電機株式会社 | 接合体製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5135758B2 (ja) | 2013-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5135758B2 (ja) | フィルムの表面処理装置 | |
CN107861183B (zh) | 偏振膜及其制造方法以及偏振板 | |
US7952802B2 (en) | Optical device provided with polarizing plate | |
JP2008122502A (ja) | 偏光板の製造方法 | |
KR101766589B1 (ko) | 편광판의 제조 방법 | |
JP2010150372A (ja) | フィルムの表面処理方法及び装置並びに偏光板の製造方法 | |
JP5006951B2 (ja) | フィルム表面処理装置 | |
JP6798136B2 (ja) | 接合構造体の製造方法 | |
JP2010150373A (ja) | フィルムの表面処理方法及び接着方法並びに偏光板の製造方法 | |
JP4626036B2 (ja) | 偏光板用保護フィルムの製造方法 | |
JP5194381B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP6591962B2 (ja) | 偏光板の製造方法 | |
KR102587187B1 (ko) | 편광판의 제조 방법 | |
JPWO2011111558A1 (ja) | フィルム表面処理装置 | |
JP2008050429A (ja) | セルロース系フィルムの製造方法 | |
JP2007182503A (ja) | 表面改質フィルムの製造方法 | |
JP7129766B2 (ja) | 偏光フィルムの製造方法及び製造装置 | |
JP2006124631A (ja) | オゾンを利用して光学フィルムの接触角を低減する方法 | |
JP2007245454A (ja) | 積層フィルムの製造方法及び光学フィルム | |
JP2008050428A (ja) | フィルム巻取り式紫外線処理装置 | |
JP2009169335A (ja) | 光学フィルム及びその製造方法 | |
JP7005400B2 (ja) | 光学積層体の製造方法及び積層束の製造方法 | |
KR102566055B1 (ko) | 편광판의 가공 방법 | |
JP7123532B2 (ja) | 偏光フィルムの製造方法及び製造装置 | |
JP7030447B2 (ja) | 偏光フィルムの製造方法及び製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090918 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111129 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121016 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121029 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151122 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |