JP2009169335A - 光学フィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】一方の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されたTAC基材とPVA、光学薄膜との密着性を強化する光学フィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】トリアセチルセルロースを有する基材からなり、基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施され、基材の一方の面上に第1の機能層が形成され、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする光学フィルム。
【選択図】図1
【解決手段】トリアセチルセルロースを有する基材からなり、基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施され、基材の一方の面上に第1の機能層が形成され、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする光学フィルム。
【選択図】図1
Description
本発明は、光学フィルム及びその製造方法に関し、特に、TACを基材とした防眩性能、反射防止性能等の機能を発揮する光学フィルム及びその製造方法に関するものである。
液晶ディスプレイに代表される各種ディスプレイの表面には、基材フィルム上に液晶内部を保護するためのハードコート膜、又は外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するための反射防止膜等の機能を有した「光学薄膜」が設けられている。これらのハードコート膜や反射防止膜等の機能膜は、連続的に搬送されるウェブ状の支持体上に紫外線硬化性樹脂若しくは電子線硬化性樹脂等の電離放射線硬化性樹脂、又は熱硬化性樹脂等を含む塗液を塗布することにより形成される。
こうした光学フィルムの基材としては、光学異方性がないと言う特性を活かし、トリアセチルセルロース(以下、「TAC」という。)フィルムが用いられ、偏光子となるポリビニルアルコール(以下、「PVA」という。)と貼合されて偏光板を形成する。この時、TAC基材とPVA、光学薄膜との密着性を確保するため、アルカリ鹸化処理が広く用いられているが、鹸化処理はアルカリ液への浸漬、洗浄、乾燥などの工程を経ることで、異物の取り込みが多く、異物起因の塗布欠陥を発生させている。
そのため、アルカリ鹸化処理を用いずに密着性を強化させるため、多くの方法が提案されている。
特許文献1、2によれば、偏光板用保護フィルムを真空グロー放電、大気圧グロー放電及びフレームプラズマ処理により親水化することで、PVAとの密着性を改善させている。プラズマの特性も、フィルム表面に存在する有機物のC−C結合もしくはC−H結合を切断する条件や、フィルム表面に水酸基もしくはアミノ基を形成する条件でのプラズマ処理を順次もしくは同時に行うなどの技術が開示されている。
しかしながら上記の方法では、エネルギーの弱いグロー放電によるプラズマ種しか利用できず、TAC最表面の化学結合の切断や官能基による修飾はできるものの、その効果は最表層に留まり、密着性を発揮するのに十分な深さ方向の処理は実施し得ない。
特開2000−356714号公報
特開2003−255131号公報
本発明は、TAC基材とPVA、光学薄膜との密着性を強化する光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
本発明の請求項1に係る発明は、トリアセチルセルロースを有する基材からなり、基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されていることを特徴とする光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項2に係る発明は、トリアセチルセルロースを有し、第1の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第1の基材と、トリアセチルセルロースを有し、第2の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第2の基材と、第1の基材の第1の面と、第2の基材の第2の面に挟まれた偏光層とを有することを特徴とする光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項3に係る発明は、基材の一方の面上に第1の機能層が形成されたことを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項4に係る発明は、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項3に記載の光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項5に係る発明は、トリアセチルセルロースを有する基材と、基材上に形成され、基材と反対の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第1の機能層と、第1の機能層上に形成された第2の機能層と、を備えることを特徴とする光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項6に係る発明は、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであり、第2の機能層は反射防止層、防汚層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項5に記載の光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項7に係る発明は、反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行うことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項8に係る発明は、反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行う処理を複数回繰り返すことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項9に係る発明は、反応性イオンエッチングによる前処理は、その自己バイアス値が200V以上2000V以下であり、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100W・s・m−2以上10000W・s・m−2以下である低温プラズマによる処理であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の光学フィルムとしたものである。
本発明の請求項10に係る発明は、トリアセチルセルロースを有する基材を準備し、基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理を施すことを特徴とする光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項11に係る発明は、トリアセチルセルロースを有し、第1の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第1の基材を準備し、トリアセチルセルロースを有し、第2の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第2の基材を準備し、第1の基材の第1の面と、第2の基材の第2の面とで偏光層を挟むことを特徴とする光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項12に係る発明は、基材の一方の面上に第1の機能層を形成することを特徴とする請求項10に記載の光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項13に係る発明は、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項12に記載の光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項14に係る発明は、トリアセチルセルロースを有する基材を準備し、基材上に基材と反対の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理を施す第1の機能層を形成し、第1の機能層上に第2の機能層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項15に係る発明は、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであり、第2の機能層は反射防止層、防汚層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項14に記載の光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項16に係る発明は、反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行うことを特徴とする請求項10乃至15のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項17に係る発明は、反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行う処理を複数回繰り返すことを特徴とする請求項10乃至15のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明の請求項18に係る発明は、反応性イオンエッチングによる前処理は、その自己バイアス値が200V以上2000V以下であり、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100W・s・m−2以上10000W・s・m−2以下である低温プラズマによる処理であることを特徴とする請求項10乃至17のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法としたものである。
本発明によれば、TAC基材とPVA、光学薄膜との密着性を強化する光学フィルム及びその製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。なお、実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、実施の形態の間において重複する説明は省略する。
図1に示すように、本発明の実施の形態に係る光学フィルム10は、TAC(トリアセチルセルロース)基材1の一方の面に、反応性イオンエッチング(リアクティブイオンエッチング、以下「RIE」という場合がある。)処理を施して、TAC基材1上に機能層2を形成した構造である。機能層2はTAC基材1の両面に形成することができる。機能層2は第1の機能層として、ハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層等を用いることができる。機能層2上に第2の機能層として、反射防止層、防汚層、帯電防止層及び赤外線吸収層等を用いることができる。ここで、機能層2と第2の機能層とを光学薄膜という。
本発明の実施の形態に係るTAC基材1は、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤などを使用することができる。また、本発明の実施の形態において、TAC基材1はロール上であり、ロール・ツー・ロール方式により連続的に反応性イオンエッチンッグ処理されることが生産効率上好ましい。
TAC基材1の厚さはとくに制限を受けるものではないが、実用的には40μm以上80μm以下の範囲が好ましい。
図示しないが、本発明の実施の形態に係るTAC基材1の間に偏光子となるポリビニルアルコール(以下、「PVA」という。)に貼合されて偏光板を形成することができる。
本発明の別の実施の形態において、図示しないが、TAC基材1上に機能層2を形成して、機能層2のTAC基材1が密着していない面に反応性イオンエッチング処理(後述する)をして、機能層2上に第2の機能層を形成することができる。
次に反応性イオンエッチング(以下、「RIE」という。)処理について説明する。RIE処理とは、被処理基材上に発生させたプラズマから取り出したイオンによって、被処理基材を強力に処理する方法である。すなわち、発生したイオンを被処理基材に打ち込むことにより、被処理基材の表面改質を大きくすることができる。
本発明の実施の形態においては、TACフィルム上にRIE処理をおこなうことにより、TAC基材1と偏光子との密着性を強化させることができる。RIE処理にあっては、自己バイアスと呼ばれる高周波プラズマ特有の電位を、プラズマ電位とTAC基材1との間でいかに高く保つかがポイントとなる。通常モードのプラズマでは、自己バイアスは掛かるものの、プラズマと電極間での電位差となって現れてしまい、プラズマとTAC基材1間には大きな電位差は生まれない。これをTAC基材1側に電極を設置するなどしてRIEモードに維持し、強い処理が実現できる。
このRIE処理を、TAC基材1とアンカーコート層(図示せず)との密着を強化するために施すことが有効である。この処理を行うことで、発生したイオンをTAC基材1に打ち込み、従来プラズマでは処理できない、TAC基材1の表層から深さ方向(<1μm)に巾を持った改質が実現できる。具体的には、TAC基材1内部のC−C結合を切断し、その後のPVA、光学薄膜を積層した際に、3次元的にダングリング・ボンド(懸垂結合)が形成されて、TAC基材1とPVA、光学薄膜との密着性を強化させることができる。
RIEによる前処理を行うためのガス種としては、アルゴン、酸素、窒素、水素、炭酸ガスを使用することができる。これらのガスは単独で用いても、2種類以上のガスを混合して用いてもよい。
このRIEによる処理を巻き取り式装置で行う方法としては、図2に示すように、基材6の設置されている冷却ドラムに電圧を印加してプレーナ型にする方法、もしくは図3に示すように、ホロアノード・プラズマ処理器を用いて処理を行う方法がある。
図2に示すように、プレーナ型は、電極3、ガイドロール5、基材6を備えて、プラズマ4を電極3の方向(図2のプラズマ4の矢印方向)に発生させている。プレーナ型で処理を行えば、基材6は陰極(カソード)側に設置することができ、高い自己バイアスを得ることによってRIEによる処理が行える。
図3に示すように、ホロアノード・プラズマ処理器は、電極3、ガイドロール5、基材6、ガス導入管7、プラズマ遮蔽板8及びマッチングボックス9を備えて、プラズマ4を基材6の方向(図3のプラズマ4の矢印方向)に発生させている。ホロアノード・プラズマ処理器は、中空状の陽極を有し、その陽極の面積(Sa)が、対極となる基板面積(Sc)に比べ、Sa>Scとなるような処理器である。陽極の面積を大きくすることで、対極となる陰極(基材6)上に大きな自己バイアスを発生することができる。この大きな自己バイアスにより、安定で強力な表面処理ができる。さらに好ましくは、ホロアノード電極中に磁石を組み込み、磁気アシスト・ホロアノードとすることで、より強力且つ安定したプラズマ表面処理を高速で行うことである。磁気電極から発生される磁界により、プラズマ閉じ込め効果を更に高め、大きな自己バイアスで高いイオン電流密度を得ることができる。
図4に示すように、従来のプラズマ処理で行うような、ドラムもしくはガイドロール5の対面側に印加電極3を設置した場合には、基材6は陽極(アノード)側に設置されることになる。この時、基材6は高い自己バイアスが得られず、ラジカルが基材6の表面に作用し化学反応するだけの、いわゆるプラズマエッチングしか行われないため、無機酸化物蒸着層(機能層2)と基材6との密着性は低いままである。
RIEによる前処理を行うためのガス種としては、アルゴン、酸素、窒素、水素を使用することができる。これらのガスは単独で用いても、2種類以上のガスを混合して用いてもよい。また、2基の処理器を用いて、連続して処理を行ってもよい。この時2基の処理器は同じものを使用する必要はなく、プレーナ型で処理を行った後に連続してホロアノード・プラズマ処理器を用いて処理を行っても構わない。
加工速度、エネルギーレベルなどで示される処理条件は、基材種類、用途、放電装置特性などに応じ、適宜設定するができる。ただし、プラズマの自己バイアス値は200V以上2000V以下、Ed=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100W・s・m−2以上10000W・s・m−2以下にすることが必要である。上記の条件より若干低い値でも、ある程度の密着性を発揮するが、未処理品に比べて優位性が低い。また、上記の条件より高い値であると、強い処理になり基材6の表面が劣化し、逆に密着性が低下する原因になる。プラズマ用の気体及びその混合比などに関してはポンプ性能や取り付け位置などによって、導入分と実効分とでは流量が異なるので、用途、装置特性に応じて適宜設定するべきである。
本発明の実施の形態に係る光学フィルム10によれば、TAC基材1または機能層2に反応性イオンエッチング処理を行うことにより、TAC基材1または機能層2上に形成されるPVAまたは光学薄膜との密着性を強化することができる。
以下のようにして、TAC基材1上に機能層2を設け、光学フィルム10を形成した。
TAC基材1として厚さ80μmのTACフィルムの両面に、リアクティブイオンエッチング(反応性イオンエッチング)による前処理を施した。この時、電極には周波数13.56MHzの高周波電源を用い、処理ガスにはアルゴンを用いた。この時の自己バイアス値を700Vとし、処理強度(Ed値)は1000V・s・m−2とした。
まず、この両面処理されたTAC基材1の一方の面に、光学薄膜を以下の方法で形成した。
光学薄膜を形成する紫外線硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート(共栄社化学社製、PE−3A)を100重量部、溶剤としてトルエンを100.5重量部、光重合開始剤としてイルガキュア184(チバスペシャリティケミカルズ社製)を5重量部、混合させて塗液を調製し、エクストルージョン方式のダイヘッドを用いて上記組成の塗液を塗布した。
塗布した塗膜は、乾燥装置において50℃の熱風により乾燥した後、紫外線照射装置に設置した高圧水銀ランプ(80W/cm)により硬化し、TACフィルム上に光学薄膜(ハードコート層)を形成した。
次に、TAC基材1のもう一方の面に、PVA層を以下の方法で形成した。
ポリビニルアルコールフィルム(クラレ株式会社製)を一軸延伸(延伸倍率:4.5倍)し、この一方の面に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてTACフィルムと貼合した。
[比較例1]
TAC基材1へのRIEによる前処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の方法で光学フィルム10を作製した。
TAC基材1へのRIEによる前処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の方法で光学フィルム10を作製した。
[評価方法]
得られた光学フィルムのTAC/光学薄膜間の密着性を以下の密着性評価方法にて実施した。
得られた光学フィルムのTAC/光学薄膜間の密着性を以下の密着性評価方法にて実施した。
碁盤目テープ(クロスカット)法により評価した。TACフィルム上の機能層2に碁盤目状のマスをカッターナイフで作り、その上からセロハンテープを貼り付け、剥がしたときの100マスのうち剥離しなかった数(残存数)を数えた。
TAC/PVA層間の密着性を以下の密着性評価方法にて実施した。
TAC/PVAフィルムを180°剥離させ、その剥離界面を観察した。
表1から明らかなように、RIE処理によりTACフィルムの密着性を改善し、光学薄膜、PVAとの密着性を維持する光学フィルム10を作製することができた。
1 TAC基材
2 機能層
3 電極
4 プラズマ
5 ガイドロール
6 基材
7 ガス導入管
8 プラズマ遮蔽板
9 マッチングボックス
10 光学フィルム
2 機能層
3 電極
4 プラズマ
5 ガイドロール
6 基材
7 ガス導入管
8 プラズマ遮蔽板
9 マッチングボックス
10 光学フィルム
Claims (18)
- トリアセチルセルロースを有する基材からなり、
前記基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されていることを特徴とする光学フィルム。 - トリアセチルセルロースを有し、第1の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第1の基材と、
トリアセチルセルロースを有し、第2の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第2の基材と、
前記第1の基材の前記第1の面と、前記第2の基材の前記第2の面に挟まれた偏光層とを有することを特徴とする光学フィルム。 - 前記基材の前記一方の面上に第1の機能層が形成されたことを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。
- 前記第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項3に記載の光学フィルム。
- トリアセチルセルロースを有する基材と、
前記基材上に形成され、前記基材と反対の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第1の機能層と、
前記第1の機能層上に形成された第2の機能層と、
を備えることを特徴とする光学フィルム。 - 前記第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであり、前記第2の機能層は反射防止層、防汚層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項5に記載の光学フィルム。
- 前記反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行うことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光学フィルム。
- 前記反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行う処理を複数回繰り返すことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光学フィルム。
- 前記反応性イオンエッチングによる前処理は、その自己バイアス値が200V以上2000V以下であり、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100W・s・m−2以上10000W・s・m−2以下である低温プラズマによる処理であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の光学フィルム。
- トリアセチルセルロースを有する基材を準備し、
前記基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理を施すことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - トリアセチルセルロースを有し、第1の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第1の基材を準備し、
トリアセチルセルロースを有し、第2の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されている第2の基材を準備し、
前記第1の基材の前記第1の面と、前記第2の基材の前記第2の面とで偏光層を挟むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 前記基材の前記一方の面上に第1の機能層を形成することを特徴とする請求項10に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項12に記載の光学フィルムの製造方法。
- トリアセチルセルロースを有する基材を準備し、
前記基材上に前記基材と反対の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理を施す第1の機能層を形成し、
前記第1の機能層上に第2の機能層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 前記第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであり、前記第2の機能層は反射防止層、防汚層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする請求項14に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行うことを特徴とする請求項10乃至15のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記反応性イオンエッチングによる前処理は、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いて行う処理を複数回繰り返すことを特徴とする請求項10乃至15のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記反応性イオンエッチングによる前処理は、その自己バイアス値が200V以上2000V以下であり、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100W・s・m−2以上10000W・s・m−2以下である低温プラズマによる処理であることを特徴とする請求項10乃至17のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
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