JP2013521534A - ナノ構造化表面を有するコーティングされた偏光子、及びこれを作製する方法 - Google Patents
ナノ構造化表面を有するコーティングされた偏光子、及びこれを作製する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013521534A JP2013521534A JP2012556134A JP2012556134A JP2013521534A JP 2013521534 A JP2013521534 A JP 2013521534A JP 2012556134 A JP2012556134 A JP 2012556134A JP 2012556134 A JP2012556134 A JP 2012556134A JP 2013521534 A JP2013521534 A JP 2013521534A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarizer
- article
- nanostructured
- composite
- matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
Abstract
Description
対向する第1及び第2主表面を有する偏光子(例えば、吸収性又は反射性偏光子)と、
偏光子の第1表面上に配置されたナノ構造化物品であって、ナノ構造化物品はマトリックス及びナノスケール分散相を含み、ランダムなナノ構造化異方性表面を有する、ナノ構造化物品とを含む、複合物を提供する。いくつかの実施形態において、ナノ構造化物品は、全ての方向において0.05未満の反射率の差を有する。いくつかの実施形態において、ナノ構造化異方性表面は、0.5%未満(又は更に0.25%未満)のパーセント反射率を有する。
対向する第1及び第2主表面を有する偏光子(例えば、吸収性又は反射性偏光子)を提供する工程と、
偏光子の第1主表面上に、マトリックス材料及びマトリックス材料内のナノスケール分散相を含むコーティング可能な組成物をコーティングする工程と、
任意によりコーティングを乾燥させて(及び任意により乾燥したコーティングを硬化させて)、マトリックス及びマトリックス内のナノスケール分散相を含む物品を提供する工程と、
物品の主表面を反応性イオンエッチングに暴露する工程とを含み、このイオンエッチングは、
真空容器内の円筒形電極上に物品を配置する工程、
所定の圧力(例えば、1ミリトール〜20ミリトール(0.13〜2.67パスカル)の範囲で)でエッチング用ガスを真空容器に導入する工程、
円筒形電極と対向電極との間にプラズマ(例えば、酸素プラズマ)を生成する工程、
円筒形電極を回転させて偏光子を移動させる工程、及び
コーティングを異方性エッチングしてランダムなナノ構造化異方性表面を提供する工程を含む。
ナノ構造化物品の「全ての方向における屈折率の差」は、本明細書において使用するとき、バルクナノ構造化物品の全ての方向における屈折率を指す。
様々な電源が可能であるが、RF電力が好ましい。これは、自己バイアスを、適切に構成された通電された電極上に形成するのに、周波数は十分高いが、得られるプラズマに定在波を作るには十分高くないためである。RF電力は、高出力(幅の広いウェブ又は基材、急速なウェブ速度)に対して測定可能である。RF電力が使用されるとき、電極上の負バイアスは、負自己バイアスであり、すなわち電極上に負バイアスを誘発するために使用される、別個の電源は必要ない。RF電力が好ましいため、本記載の残りはそのことについてのみ焦点を当てる。
1.対向する第1及び第2主表面を有する偏光子と、
基材の第1主表面上に配置されたナノ構造化物品であって、ナノ構造化物品はマトリックス及びナノスケール分散相を含み、ランダムなナノ構造化異方性表面を有する、ナノ構造化物品とを含む、複合物。
任意によりコーティングを乾燥させて、マトリックス及びマトリックス内のナノスケール分散相を含む物品を提供する工程と、
物品の主表面を反応性イオンエッチングに暴露する工程とを含み、このイオンエッチングは、
真空容器内の円筒形電極上に物品を配置する工程、
所定の圧力においてエッチング用ガスを真空容器内に導入する工程、
円筒形電極と対向電極との間にプラズマを生成する工程、
円筒形電極を回転させて偏光子を移動させる工程、及び
コーティングを異方性エッチングしてランダムナノ構造化異方性主表面を提供する工程を含む、実施形態1〜18のいずれか1つに記載の複合物を作製する方法。
以下の実施例において、手順1への言及は以下の操作を表す。処理されるポリマーフィルムは、図1に表される円筒形RIE装置内に配置された。より具体的に、ドラム電極の幅は14.5インチ(36.8cm)であり、ポンピングは、ターボ分子ポンプによって実行された。当業者は、このことが、プラズマ加工において従来的に行なわれるよりも遥かに低い操作圧で、本装置が動作したことを意味するものと認識する。
以下の実施例において、手順2への言及は手順1と同様の手順を表すが、ポリマーフィルムのシートサンプルがドラム電極の縁部の周囲にテープで留められた。ドラムは一定速度で回転させられ、その後、特定の実施例において記載されるように、異なる時間の長さでプラズマ処理が行われた。
以下の実施例において、手順3への言及は以下の操作を表す。手順の結果は、フィルムのプラズマ処理された表面の平均パーセント反射率(%R)の測定値である。フィルムの1つのサンプルは、サンプルの裏側に黒いビニルテープ(Yamato International Corporation(Woodhaven,MI)から商標名「200〜38」として得られる)を適用することによって調整された。この黒いテープは、ブラックテープとサンプルとの間に捕らえられた気泡がないことを確実にするためにローラーを用いて適用された。同じの黒いビニルテープを、似通った方法で透明のガラススライドに適用した。この透明のガラススライドの両面の反射率は、対照サンプルに単独で黒色ビニルテープのパーセント反射率を確率させるよう予め設定されていた。光学的に透明な接着剤を含む複合物品を測定するために、この手順が使用されたとき、複合物品が透明がガラススライドに最初に予め積層され、その後、黒いテープでガラス表面上に更に積層された。
以下の実施例において、手順4への言及は以下の操作を表す。サンプルの屈折率が、632.8の波長を使用して、プリズム結合器(Metricon Corporation(Pennington,NJ)から、商標名「2010/M」において得られる)を使用して測定された。各サンプルについて、フィルムが作製された機械方向(MD)、ウェブが作製されたクロスウェブ又は横方向(TD)、及びフィルム表面と垂直な方向(TM)において、3つの反射率がとられた。MD、TD及びTMの反射率は、以下の実施例において、それぞれnx、ny、及びnzとして標識される。
以下の実施例において、手順5への言及は以下の操作を表す。所与のサンプルの平均%透過率は、本サンプルを光源とサンプルとの間に配置して測定され、100%透過率の対照として使用するべくサンプルを配置せずに測定が行なわれ、D/0形状を使用した。光源は、安定化させた電源で駆動させた、カスタム4インチ(10.2cm)スフェア(Labsphere(North Sutton,NH)から、商標名「SPECTRALON」として得られる)を備える、石英タングステンハロゲン(QTH)ランプであった。2つの検出器が使用された:近赤外線(NIR)についてはシリコンCCD検出器が使用され、NIRの残部についてはInGaAsダイオードアレイが使用された。Czerny−Turner光学レイアウト及び単一のグレーティングを備える、単純な分光写真器を、それぞれの検出器上の光分散に使用した。これは、偏光子において、波長範囲380nm〜1700nmにわたって、0°から60°の間で変化する入射測定角度で、フィルムサンプルの光学透過率測定を可能にする。垂直の入射角で透過率が測定され、平均%透過率は、以下のサンプルにおいて、400〜800nmの波長範囲で算出され、報告された。
10〜20重量%の官能化シリカナノ粒子を含むアクリルハードコート(Momentive Performance Materials(Albany,NY)から、商標名「UVHC1101」として得られる)が、イソプロピルアルコール(IPA)で希釈されて、35重量%の固溶体を形成した。この溶液は、その後、コーティング第を通じて1.6見る(40マイクロメートル)厚さのトリアセテートセルロース(TAC)フィルム(富士フィルム株式会社(東京、日本)から商標名「FUJITAC SH−40」として得られた)へと注射器でポンプ移送された。コーティングは80℃で乾燥され、Hバルブを備えたUVプロセッサを使用して、窒素雰囲気下で硬化され、同時に50fpm(15.25m/分)のライン速度で運搬されて、およそ2マイクロメートルの乾燥したコーティング層を形成した。2.0ミル(50マイクロメートル)ポリエステル剥離ライナー(3M Company(St.Paul,MN)から、商標名「3M OPTICALLY CLEAR ADHESIVE 8171」として得られる)上に供給された光学的に透明なアクリル接着剤の1.0ミル(25マイクロメートル)の層が、TACフィルムの第2表面上(すなわち、複合物品を生成するために、ハードコートの反対側に)に積層された。複合物品のコーティングされた側は、手順1に記載されるように、ロールツーロールO2プラズマエッチ(RIE)に、78秒間供された。
剥離ライナーは、実施例1の製品の光学的に透明な接着剤から取り除かれ、その後光学的に透明な接着剤が偏光子フィルム(3M Companyから、商標名「VIKUITI ADVANCED POLARING FILM」として得られる)に積層され、複合物品を生成する。
剥離ライナーは、実施例1の製品の光学的に透明な接着剤から取り除かれ、その後、光学的に透明な接着剤が偏光子フィルム(3M Companyから、商標名「VIKUITI DIFFUSE REFLECTIVE POLARIZER」として得られる)に積層され、複合物品を生成する。
400グラムのコロイド状20nmシリカ粒子(Nalco Chemical Co.(Naperville,IL)から、商標名「NALCO 2326」として得られる)が、1クオート(0.95リットル)ジャーに充填された。阻害物質5重量%にて、水に450グラムの1−メトキシ−2−プロパノール、27.82グラムの3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、及び0.23グラムのヒンダードアミンニトロオキシド阻害物質(Ciba Specialty Chemical,Inc.(Tarrytown,NY)から、商標名「PROSTAB 5128」として得られる)が一緒に混合されて、撹拌しながらジャーに添加された。ジャーは封止されて、80℃まで16時間にわたり加熱され、表面改質シリカ分散体を形成した。1166グラムの表面改質シリカ分散体が、70グラムのペンタエリスリトールトリアクリレート(Sartomer(Exton,PA)から商標名「SR444」として得られる)、及び0.58グラムのヒンダードアミンニトロオキシド阻害物質(「PROSTAB 5128」)(水中5重量%の阻害物質)と、更に混合及び結合された。水及び1−メトキシ−2−プロパノールが回転蒸発によって混合物から取り除かれて、37.6重量%の20nmのSiO2、56.43重量%のペンタエリスリトールトリアクリレート、及び5.97重量%の1−メトキシ−2−プロパノールの溶液を形成した。次に、ペンタエリスリトールトリアクリレート(「SR444」)によりシリカナノ粒子溶液を希釈してコーティング溶液を調製することで、9.6重量%の20nm SiO2(4.6体積%)を生成した。希釈された濃縮コーティングはその後更に、イソプロパノール(IPA)により、固形分50重量%のコーティング溶液へと希釈された。その後、1重量%光開始剤(BASF(Florham Park,NJ)から、商標名「LUCIRIN TPO−L」として得られる)(ペンタエリスリトール(「SR444」)に対する比率)が溶液に添加されて、手で振盪することによって少なくとも5分間、よく混合された。コーティング溶液は、メイヤーロッド(#8バー)コーティング装置を使用して、偏光フィルム(3M Companyから、商標名「VIKUITI ADVANCED POLARING FILM」として得られる)上に適用された。コーティングされた偏光フィルムは、通気フード内で室温において15分間乾燥され、その後、Hバルブを備えたUVプロセッサを使用して、窒素雰囲気下で硬化され、同時に50fpm(15.2m/分)で運搬された。コーティングされた偏光フィルムの反射率は、手順3によって測定され、48.8であった。コーティングされた偏光フィルムはその後、手順2によって、60秒間エッチングされた。エッチングされた、コーティングされた偏光フィルムの反射率はまた、手順3により測定されて、今度は46.8であった。エッチングは反射率を約2%低減し、これは商業的に有意である。この変化は第1透過光透過率の2%の有意な向上を示し、これはバックライト式用途における効率性を有意に改善する。
実施例5は、一般的に実施例4に記載されるように行なわれたが、ただしコーティング溶液は代わりに異なる偏光フィルムに適用された(特に3M Companyから、商標名「VIKUITI.DIFFUSE REFLECTIVE POLARIZER FILM」で得られるもの)。コーティングされた、エッチングされていない偏光フィルムの反射率が、手順3により測定され、46.7であった。エッチングの後、反射率が再び測定され、44.8であることが見出され、効率性の改善において同様の意味合いを有した。
シリカを充填したコーティング溶液は、実施例4に記載される方法により調整される、ペンタエリスリトールトリアクリレート(triacylate)(「SR444」)内で、40重量%のメタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン(Crompton Corp.(Middlebury,CT)から商標名「A−174」として得られる)で処理した20nmシリカ粒子(Crompton Corp.(Middlebury,CT)から、商標名「NALCO 2327」として得られる)から調整された。固形分50重量%のコーティング溶液はその後、3:2の1−メトキシ−2−プロパノールとIPAの混合物中に調整された。光開始剤(BASF Specialty Chemicalsから、商標名「IRGACURE 184」として得られる)がコーティング溶液の固体含有量を基準として1重量%で溶液に添加された。コーティング溶液はその後吸収性偏光子(株式会社サンリッツ(東京、日本)から商標名「LLC2−5518SF」として得られる)上にコーティングされた。コーティングは、メイヤーロッド(#8バー)コーティング装置を使用して適用された。コーティングされた基材は、通気フード内で室温において15分間乾燥され、その後、Hバルブを備えたUVプロセッサを使用して、窒素雰囲気下で硬化され、同時に50fpm(15.25m/分)で運搬された。
実施例7は、一般的に実施例6に記載されるように行なわれたが、ただし硬化したコーティングされた基材は、手順2に従って90秒間エッチングされた。ここでも、硬化、及びコーティングした基材の%透過率は、手順5に従って測定され、コーティングされていない偏光子がその隣に、最初は光透過配置で、その後光遮蔽配置で位置付けられた。透過位置において、%透過率は83.1であり、遮蔽配置において%透過率は1.6であった。コントラスト比は、52であり、エッチングがコントラスト比において35%の向上を生じたことを示している。
Claims (10)
- 対向する第1及び第2主表面を有する偏光子と、
基材の前記第1主表面上に配置されたナノ構造化物品であって、前記ナノ構造化物品はマトリックス及びナノスケール分散相を含み、ランダムなナノ構造化異方性表面を有する、ナノ構造化物品とを含む、複合物。 - 前記偏光子は反射性偏光子又は吸収性偏光子である、請求項1に記載の複合物。
- 前記ランダムなナノ構造化異方性表面は、0.5%未満の反射パーセントを有する、請求項1又は2に記載の複合物。
- 前記ナノ構造化物品は、前記ナノ構造化物品の合計体積を基準として、0.5〜41体積%の範囲の前記ナノスケール分散相を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の複合物。
- 前記偏光子の前記第2表面上に配置される光学的に透明な接着剤を更に含み、前記光学的に透明な接着剤は、可視光において少なくとも90%の透過率、及び5%未満のヘーズを有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の複合物。
- ガラス基材、偏光子基材又はタッチセンサーの主表面を更に含む、請求項5に記載の複合物。
- 前記光学的に透明な接着剤の前記第2主表面上に配置された剥離ライナーを更に含む、請求項6に記載の複合物。
- 前記ランダムなナノ構造化異方性主表面上に配置されたプレマスクフィルムを更に含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の複合物。
- 対向する第1及び第2主表面を有する偏光子を提供する工程と、
前記偏光子の前記第1主表面上に、マトリックス材料及び前記マトリックス材料内のナノスケール分散相を含むコーティング可能な組成物をコーティングする工程と、
任意により前記コーティングを乾燥させて、マトリックス及び前記マトリックス内のナノスケール分散相を含む物品を提供する工程と、
前記物品の主表面を反応性イオンエッチングに暴露する工程とを含み、前記イオンエッチングが、
真空容器内の円筒形電極上に前記物品を配置する工程、
所定の圧力においてエッチング用ガスを前記真空容器内に導入する工程、
前記円筒形電極と対向電極との間にプラズマを生成する工程、
前記円筒形電極を回転させて前記偏光子を移動させる工程、及び
前記コーティングを異方性エッチングして前記ランダムなナノ構造化異方性主表面を提供する工程を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の複合物を作製する方法。 - 前記プラズマが酸素プラズマを含む、請求項9に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US31015710P | 2010-03-03 | 2010-03-03 | |
US61/310,157 | 2010-03-03 | ||
PCT/US2011/026457 WO2011109287A1 (en) | 2010-03-03 | 2011-02-28 | Coated polarizer with nanostructured surface and method for making the same. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013521534A true JP2013521534A (ja) | 2013-06-10 |
JP2013521534A5 JP2013521534A5 (ja) | 2014-04-17 |
Family
ID=44064812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012556134A Pending JP2013521534A (ja) | 2010-03-03 | 2011-02-28 | ナノ構造化表面を有するコーティングされた偏光子、及びこれを作製する方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130003179A1 (ja) |
EP (1) | EP2542617A1 (ja) |
JP (1) | JP2013521534A (ja) |
KR (1) | KR20130014525A (ja) |
CN (1) | CN102782026A (ja) |
BR (1) | BR112012022082A2 (ja) |
SG (1) | SG183550A1 (ja) |
WO (1) | WO2011109287A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6110319B2 (ja) | 2011-03-14 | 2017-04-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品 |
JP6199864B2 (ja) | 2011-08-17 | 2017-09-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造物品及びそれを製造するための方法 |
EP2831648B1 (en) | 2012-03-26 | 2016-09-14 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured material and method of making the same |
JP6298042B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2018-03-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 物品及びその作製方法 |
US9249014B2 (en) * | 2012-11-06 | 2016-02-02 | Infineon Technologies Austria Ag | Packaged nano-structured component and method of making a packaged nano-structured component |
JP6695685B2 (ja) * | 2015-12-02 | 2020-05-20 | 日東電工株式会社 | 光学積層体および画像表示装置 |
US11220605B2 (en) * | 2018-11-28 | 2022-01-11 | Ut-Battelle, Llc | Fused anti-soiling and anti-reflective coatings |
CN116324536A (zh) * | 2020-10-29 | 2023-06-23 | 华为技术有限公司 | 用于显示器堆叠的多功能膜和包括这种显示器堆叠的装置 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03150501A (ja) * | 1989-11-08 | 1991-06-26 | Hitachi Ltd | 反射防止膜とその製法並びに画像表示面板 |
JPH07104103A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Nitto Denko Corp | 反射防止部材の製造方法及び偏光板 |
JPH07256087A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2004327394A (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-18 | Sekisui Chem Co Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2005514238A (ja) * | 2001-12-21 | 2005-05-19 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良された着用性をもつエラストマー性手袋 |
WO2005088363A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Teijin Dupont Films Japan Limited | 反射防止多層積層フィルム |
WO2008064663A1 (de) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur herstellung einer nanostruktur an einer kunststoffoberfläche |
JP2009139796A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Toyota Central R&D Labs Inc | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜用鋳型、反射防止膜用鋳型を用いて得られた反射防止膜及びレプリカ膜を用いて得られた反射防止膜 |
JP2009169335A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルム及びその製造方法 |
JP2009540391A (ja) * | 2006-06-13 | 2009-11-19 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 耐久性の高い反射防止フィルム |
JP2011507717A (ja) * | 2007-12-31 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | プラズマ処理された研磨物品及び同物品の作製方法 |
JP2012514242A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化表面を製造する方法 |
JP2012514238A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反射防止物品及びこれを作製する方法 |
JP2012514239A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法 |
JP2013521533A (ja) * | 2010-03-03 | 2013-06-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化表面を有する複合多層構造 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1590694A (ja) | 1968-09-20 | 1970-04-20 | ||
AU1434795A (en) | 1993-12-21 | 1995-07-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reflective polarizer display |
US5882774A (en) | 1993-12-21 | 1999-03-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical film |
MY121195A (en) | 1993-12-21 | 2006-01-28 | Minnesota Mining & Mfg | Reflective polarizer with brightness enhancement |
JP3621415B2 (ja) | 1993-12-21 | 2005-02-16 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 光透過性液晶表示器 |
DE69435174D1 (de) | 1993-12-21 | 2009-01-15 | Minnesota Mining & Mfg | Mehrschichtiger optischer Film |
US5909314A (en) * | 1994-02-15 | 1999-06-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical functional materials and process for producing the same |
CA2222511A1 (en) | 1995-06-26 | 1997-01-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayer polymer film with additional coatings or layers |
US5825543A (en) | 1996-02-29 | 1998-10-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Diffusely reflecting polarizing element including a first birefringent phase and a second phase |
US5867316A (en) | 1996-02-29 | 1999-02-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayer film having a continuous and disperse phase |
JP4274696B2 (ja) | 1998-01-13 | 2009-06-10 | スリーエム カンパニー | 変性コポリエステルおよび改善された多層反射フィルム |
EP2147771B1 (en) | 1998-01-13 | 2018-07-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for making multilayer optical films |
US6808658B2 (en) | 1998-01-13 | 2004-10-26 | 3M Innovative Properties Company | Method for making texture multilayer optical films |
US6372829B1 (en) | 1999-10-06 | 2002-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic composition |
US6811867B1 (en) | 2000-02-10 | 2004-11-02 | 3M Innovative Properties Company | Color stable pigmented polymeric films |
CN1249464C (zh) | 2001-01-15 | 2006-04-05 | 3M创新有限公司 | 在可见光波长区域具有高且平滑透射率的多层红外反射薄膜及由该薄膜制造的层压制品 |
WO2003011958A1 (en) | 2001-08-02 | 2003-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Optically clear and antistatic pressure sensitive adhesives |
US7108819B2 (en) * | 2001-08-27 | 2006-09-19 | The Boeing Company | Process for fabricating high aspect ratio embossing tool and microstructures |
JP4197100B2 (ja) * | 2002-02-20 | 2008-12-17 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品 |
US7378136B2 (en) | 2004-07-09 | 2008-05-27 | 3M Innovative Properties Company | Optical film coating |
US7345137B2 (en) | 2004-10-18 | 2008-03-18 | 3M Innovative Properties Company | Modified copolyesters and optical films including modified copolyesters |
WO2007139209A1 (en) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and electronic device |
TW200909549A (en) | 2007-04-13 | 2009-03-01 | 3M Innovative Properties Co | Antistatic optically clear pressure sensitive adhesive |
US7604381B2 (en) | 2007-04-16 | 2009-10-20 | 3M Innovative Properties Company | Optical article and method of making |
US20090087629A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Everaerts Albert I | Indium-tin-oxide compatible optically clear adhesive |
NZ622428A (en) | 2008-03-14 | 2015-09-25 | 3M Innovative Properties Co | Assembly comprising a stretch releasable adhesive article |
DE102008018866A1 (de) * | 2008-04-15 | 2009-10-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung |
US20090316060A1 (en) * | 2008-06-18 | 2009-12-24 | 3M Innovative Properties Company | Conducting film or electrode with improved optical and electrical performance |
-
2011
- 2011-02-28 JP JP2012556134A patent/JP2013521534A/ja active Pending
- 2011-02-28 SG SG2012064390A patent/SG183550A1/en unknown
- 2011-02-28 US US13/581,598 patent/US20130003179A1/en not_active Abandoned
- 2011-02-28 BR BR112012022082A patent/BR112012022082A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-02-28 EP EP11707054A patent/EP2542617A1/en not_active Withdrawn
- 2011-02-28 WO PCT/US2011/026457 patent/WO2011109287A1/en active Application Filing
- 2011-02-28 KR KR1020127025203A patent/KR20130014525A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-02-28 CN CN2011800121068A patent/CN102782026A/zh active Pending
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03150501A (ja) * | 1989-11-08 | 1991-06-26 | Hitachi Ltd | 反射防止膜とその製法並びに画像表示面板 |
JPH07104103A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Nitto Denko Corp | 反射防止部材の製造方法及び偏光板 |
JPH07256087A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2005514238A (ja) * | 2001-12-21 | 2005-05-19 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良された着用性をもつエラストマー性手袋 |
JP2004327394A (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-18 | Sekisui Chem Co Ltd | プラズマ処理装置 |
WO2005088363A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Teijin Dupont Films Japan Limited | 反射防止多層積層フィルム |
JP2009540391A (ja) * | 2006-06-13 | 2009-11-19 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 耐久性の高い反射防止フィルム |
WO2008064663A1 (de) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur herstellung einer nanostruktur an einer kunststoffoberfläche |
JP2010511079A (ja) * | 2006-11-30 | 2010-04-08 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | プラスチック表面にナノ構造を製造する方法 |
JP2009139796A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Toyota Central R&D Labs Inc | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜用鋳型、反射防止膜用鋳型を用いて得られた反射防止膜及びレプリカ膜を用いて得られた反射防止膜 |
JP2011507717A (ja) * | 2007-12-31 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | プラズマ処理された研磨物品及び同物品の作製方法 |
JP2009169335A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Toppan Printing Co Ltd | 光学フィルム及びその製造方法 |
JP2012514242A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化表面を製造する方法 |
JP2012514238A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反射防止物品及びこれを作製する方法 |
JP2012514239A (ja) * | 2008-12-30 | 2012-06-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法 |
JP2013521533A (ja) * | 2010-03-03 | 2013-06-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化表面を有する複合多層構造 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG183550A1 (en) | 2012-10-30 |
EP2542617A1 (en) | 2013-01-09 |
KR20130014525A (ko) | 2013-02-07 |
US20130003179A1 (en) | 2013-01-03 |
BR112012022082A2 (pt) | 2016-06-14 |
CN102782026A (zh) | 2012-11-14 |
WO2011109287A1 (en) | 2011-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5940809B2 (ja) | ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法 | |
US9939557B2 (en) | Antireflective articles and methods of making the same | |
EP2686389B1 (en) | Nanostructured articles | |
EP2686716B1 (en) | Multilayer nanostructured articles | |
JP6199864B2 (ja) | ナノ構造物品及びそれを製造するための方法 | |
US20120328829A1 (en) | Composite with nano-structured layer | |
JP2013521534A (ja) | ナノ構造化表面を有するコーティングされた偏光子、及びこれを作製する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140227 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150106 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150602 |