JPWO2009078336A1 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2009078336A1
JPWO2009078336A1 JP2009546235A JP2009546235A JPWO2009078336A1 JP WO2009078336 A1 JPWO2009078336 A1 JP WO2009078336A1 JP 2009546235 A JP2009546235 A JP 2009546235A JP 2009546235 A JP2009546235 A JP 2009546235A JP WO2009078336 A1 JPWO2009078336 A1 JP WO2009078336A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
resin composition
group
parts
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009546235A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5525821B2 (ja
Inventor
菜採 青合
菜採 青合
小林 隆昭
隆昭 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei E Materials Corp
Original Assignee
Asahi Kasei E Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei E Materials Corp filed Critical Asahi Kasei E Materials Corp
Priority to JP2009546235A priority Critical patent/JP5525821B2/ja
Publication of JPWO2009078336A1 publication Critical patent/JPWO2009078336A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5525821B2 publication Critical patent/JP5525821B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/08Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
    • C08F290/14Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/148Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/12Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
    • C08F283/122Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes on to saturated polysiloxanes containing hydrolysable groups, e.g. alkoxy-, thio-, hydroxy-
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041Lenses
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/16Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/18Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

下記(a)下記一般式(1):{式中の基は特許請求の範囲に定義する}で表される少なくとも1種のシラノール化合物、下記一般式(2):{式中の基は特許請求の範囲に定義する}で表される少なくとも1種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られるポリオルガノシロキサン100質量部;(b)光重合開始剤1〜50質量部;(c)下記一般式(3):{式中の基は特許請求の範囲に定義する}で表されるフルオレン化合物40〜600質量部;及び(d)1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する(c)成分以外の化合物20〜300質量部;を含む感光性樹脂組成物が提供される。

Description

本発明は、主に光学用途を目的とした半導体デバイス、マイクロプラスチックレンズ、液晶偏光板、光導波路などの電気部品として有用な感光性樹脂組成物に、及び半導体デバイス、多層配線基板などの電気・電子材料に用いられる樹脂絶縁膜に関する。さらに詳しくいえば、本発明は、光通信用及び携帯電話のカメラモジュール用マイクロプラスチックレンズ、CCD、もしくはCMOSイメージセンサーなどの固体撮像素子用の材料、LEDの封止剤、LED高輝度化のためのフォトニック結晶、ディスプレイ分野における薄膜トランジスタアレイ又は反射防止膜形成のための材料、液晶プロジェクター用の偏光板用光学素子の材料、あるいはLSIチップのバッファコート又は層間絶縁膜を作製するための材料に関する。
プラスチックレンズは、ガラスに比べて成形が容易で安価であることから、各種の光学製品に広く用いられている。例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンなどの熱可塑性プラスチックやポリジエチレングリコールビスアリルカーボネートなどの熱硬化性プラスチックなどが使用されている。近年、UV硬化性を有する樹脂を光学材料として使用することが増えてきているが、レンズとして使用されるUV硬化性を有する樹脂には、粘度、速硬化性、耐熱性、低収縮率、及び透明性といった一般的な光学材料に求められる性質に加え、高屈折率化の需要が大きい。プラスチックレンズの高屈折率化は、レンズの薄型化及び軽量化を実現するために必要とされるだけでなく、CCD及びCMOSイメージセンサーにおいては、高屈折率を有するインナーマイクロレンズを配置することよって、微細化に伴う1画素あたりの集光量の低下、すなわち、感度の低下を防ぐことができる。また、携帯電話のカメラモジュールにおいてプラスチックレンズを用いる場合、複数のレンズの組み合わせが設計され、この際に用いられるレンズにおいては、一枚目のレンズは高屈折率及び高アッベ数を保持するもの、二枚目のレンズは色消し用の補正レンズとして高屈折率及び低アッベ数を保持するものが求められている。
高屈折率を有する多種多様な材料が存在するが、光学材料に要求される高透明性、耐熱性等の基本的性質を維持しながら、高屈折率化を実現するのは非常に難しい。例えば、光学材料として使用される高屈折材料に関する先行文献として、特許文献1及び特許文献2があるが、いずれの技術においても機械的物性が不十分であると考えられる。
特許文献3は、コーティング材料として、貯蔵安定性が良く、紫外線でキュアでき、高透明性を有し、1〜150μmの膜厚で製膜することができる感光性ポリオルガノシロキサン組成物を開示する。特許文献3に開示される硬化物は、300℃以上の耐熱性、高透明性など、光学材料として優れた特性を有している。また、特許文献4は、光特性、耐熱性、透明性、絶縁性及び耐磨耗性に優れる無機/有機混成オリゴマーを開示する。しかしながら、特許文献3又は4に開示されている技術だけでは、高屈折率とレンズ材料として十分な機械的物性とを同時に付与することは難しい。特許文献5に開示されるフェニルスルフィド構造を有する化合物は、高屈折率を保持するけれども、レンズ材料として十分な耐熱性を保持していないため、リフロー実装の工程で黄変劣化が起こり、透明性を維持することができない。したがって、レンズなどの永久材料として使用する際に要求される高透明性、高屈折率、耐熱性、対クラック性等を併せて有する光学材料についての開示する先行文献はない。
一方、特許文献6は、多官能性(メタ)アクリレートとを含む重合性組成物を開示するが、ここに開示されるポリシランは、本発明に係る(a)ポリオルガノシロキサンとは構造が異なる。
[特許文献1]特開昭63−309509号公報
[特許文献2]特開平04−045401号公報
[特許文献3]ヨーロッパ特許第1196478号公報
[特許文献4]特開2005−298800号公報
[特許文献5]特開2004−35857号公報
[特許文献6]国際公開WO2005/033061号パンフレット
本発明が解決しようとする課題は、高屈折率を有しながら、ハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造に際して有用な耐クラック性に優れる特性を有する感光性樹脂組成物を提供することである。
本発明者らは、前記課題を解決するために、シロキサンを含む感光性樹脂に関する研究を重ね、特定の少なくとも2種類のシラン化合物を混合し、特定の触媒を用いて重合させたポリオルガノシロキサンに、光重合開始剤を添加し、さらに、特定構造のフルオレン含有化合物及び1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する成分以外の化合物を用いることで、高屈折率化及び耐クラック性を両立した感光性樹脂組成物が得られることを発見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[19]に記載の通りである:
[1].下記(a)〜(d)成分:
(a)下記一般式(1):
Figure 2009078336
{式中、複数のRは、それぞれ独立に、芳香族基を少なくとも1つ含む炭素数6〜18の有機基である。}で表される少なくとも1種のシラノール化合物、下記一般式(2):
Figure 2009078336
{式中、Rは、エポキシ基及び炭素−炭素二重結合基からなる群より選択される1つの基を少なくとも1つ含む炭素数2〜17の有機基であり、複数存在する場合のRは同一であっても異なっていてもよく、R及び複数のRは、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であり、aは、1又は2の整数であり、bは0又は1の整数であり、そしてa+bは2以下である。}で表される少なくとも1種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン100質量部;
(b)光重合開始剤1〜50質量部;
(c)下記一般式(3):
Figure 2009078336
{式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数2〜4のアルキレン基であり、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、c及びdは整数であり、c+d=0〜24であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、そしてフルオレン骨格は、炭素数1〜28の置換基を有していてもよい。}で表されるフルオレン化合物40〜600質量部;及び
(d)1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する(c)成分以外の化合物20〜300質量部;
を含む感光性樹脂組成物。
[2]上記(a)ポリオルガノシロキサンが、上記一般式(1)で示されるシラノール化合物としてジフェニルシランジオールを用い、上記一般式(2)で示されるアルコキシシラン化合物としてaが1であり、bが0である化合物を用いて重合したものであることを特徴とする前記1に記載の感光性樹脂組成物。
[3]上記(a)ポリオルガノシロキサンが、下記一般式(4):
Figure 2009078336
{式中、Mは、ケイ素、ゲルマニウム、チタニウム又はジルコニウムのいずれかであり、そして複数のRは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基である。}で表される金属アルコキシド、及び下記一般式(5):
Figure 2009078336
{式中、Mは、ホウ素又はアルミニウムであり、そして複数のR10は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基である。}で表される金属アルコキシドの内の少なくとも1つの触媒を用いて重合したものである、前記[1]又は[2]に記載の感光性樹脂組成物。
[4]上記(a)ポリオルガノシロキサンが、上記一般式(1)で示されるシラノール化合物としてジフェニルシランジオールを用い、上記一般式(2)で示されるアルコキシシラン化合物として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、及びp−スチリルトリエトキシシランからなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物を用いて重合したものである、前記[1]〜[3]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[5]上記(c)成分が、下記一般式(6):
Figure 2009078336
{式中、e及びfは、それぞれ独立に、1又は2である。}で表されるフルオレン化合物である、前記[1]〜[4]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[6]上記(d)成分として、芳香族基含有(メタ)アクリレート化合物を含む、前記[1]〜[5]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[7]上記(d)成分が、フェノキシエチルアクリレート、パラフェニルフェノキシエチルアクリレート、及びパラフェニルフェニルアクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物である、前記[1]〜[5]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[8]上記(b)光重合開始剤が、下記一般式(7):
Figure 2009078336
で表される化合物、及び下記一般式(8):
Figure 2009078336
で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物を含む、前記[1]〜[7]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[9](e)分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物6〜250質量部をさらに含む、前記[1]〜[8]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[10](f)紫外線吸収剤、及びヒンダードアミンを含む光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物0.2〜50質量部をさらに含む、前記[1]〜[9]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[11](g)シランカップリング剤1〜100質量部をさらに含む、前記[1]〜[10]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[12]前記[1]〜[11]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を光硬化して得られうる硬化物。
[13]前記[1]〜[11]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を成型用の型に充填するステップ、該成型用の型の開口部を基板に押し付けるステップ、露光するステップ、該型を剥離するステップ、及び基材ごと加熱するステップを含む成型物の製造方法。
[14]前記型の開口部を基板に押し付けるステップの前に、前記基板上に、シランカップリング剤を塗布するステップを含み、該型の開口部を基板に押し付けるステップにおいては、該型の開口部を基板の該シランカップリング剤を塗布した面に押し付ける、前記[13]に記載の成型物の製造方法。
[15]前記露光するステップの前に、前記型の開口部を基板に押し付けたまま、該基板ごと50〜150℃で1分間〜30分間加熱するステップを含む、前記[13]又は[14]に記載の成型物の製造方法。
[16]前記[13]〜[15]のいずれかに記載の方法によって得られうる成型物。
[17]基材上に前記[1]〜[11]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を得るステップ、該塗布膜に活性光線を照射し露光部を光硬化させるステップ、現像液を用いて該膜の未硬化の部分を除去するステップ、及び該基材ごと加熱するステップを含む硬化レリーフパターンの形成方法。
[18]前記[17]に記載の方法によって得られうる硬化レリーフパターン。
[19]前記[18]に記載の硬化レリーフパターンを含む半導体装置。
本発明に係る感光性樹脂組成物は、高屈折率を有しながら、ハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造の際に有用な耐クラック性に優れる。さらに、本発明に係る感光性樹脂組成物は、特定の光重合開始剤を含む場合、前述の特性に加え、透明性の高い感光性樹脂組成物となる。
本発明に係る感光性樹脂組成物を構成する各成分について、以下に具体的に説明する。
<感光性樹脂組成物>
(a)ポリオルガノシロキサン
本発明に係る感光性樹脂組成物に用いられるポリオルガノシロキサンは、下記一般式(1):
Figure 2009078336
{式中、複数のRは、それぞれ独立に、芳香族基を少なくとも1つ含む炭素数6〜18の有機基である。}で表される少なくとも1種のシラノール化合物、下記一般式(2):
Figure 2009078336
{式中、Rは、エポキシ基及び炭素−炭素二重結合基からなる群より選択される1つの基を少なくとも1つ含む炭素数2〜17の有機基であり、複数存在する場合のRは同一であっても異なっていてもよく、R及び複数のRは、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であり、aは、1又は2の整数であり、bは0又は1の整数であり、そしてa+bは2以下である。}で表される少なくとも1種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる。
上記一般式(1)で示されるシラノール化合物(以下、単に「シラノール化合物」ということがある。)において、Rは芳香族基を少なくとも1つ含む炭素数6〜18の有機基であるが、具体的には、以下の構造:
Figure 2009078336
{式中、Aは炭素原子数1〜4のアルキル基、−CH=CH、−CH=CH−CH、及び−CH−CH=CHからなる群から選ばれる一種の基であり、yは0、1又は2の整数であり、そしてAは、複数存在する場合、同一であっても異なっていてもよい。}で表される基の中から選ばれる少なくとも1つの基であることが好ましい。
好適なシラノール化合物としては、ジフェニルシランジオール、ジ−p−トルイルシランジオール、ジ−p−スチリルシランジオール、ジナフチルシランジオールなどが挙げられるが、共重合、耐熱性の観点などを考慮すると、ジフェニルシランジオール(以下、「DPD」ともいう。)が特に好適である。
上記一般式(2)で示されるアルコキシシラン化合物(以下、単に「アルコキシシラン化合物」ともいう。)において、Rは、エポキシ基、及び炭素−炭素二重結合基からなる群より選択される少なくとも1つの基を含む炭素数2〜17の有機基である。Rの具体例としては、以下の構造:
Figure 2009078336
{式中、Bは、炭素原子数1〜4のアルキル基であり、zは、0、1又は2の整数であり、そしてAは、複数存在する場合、同一であっても異なっていてもよい。}で表される基の中から選ばれることが好ましい。
好適なアルコキシシラン化合物としては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、ビニルメチルトリエトキシシラン、ビニルエチルトリエトキシシラン、1−プロペニルトリメトキシシラン、1−プロペニルトリエトキシシラン、2−プロペニルトリメトキシシラン、2−プロペニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシラン、p−(1−プロペニルフェニル)トリメトキシシラン、p−(1−プロペニルフェニル)トリエトキシシラン、p−(2−プロペニルフェニル)トリメトキシシラン、p−(2−プロペニルフェニル)トリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、p−スチリルメチルジメトキシシラン、p−スチリルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。
中でも、上記一般式(2)で示されるアルコキシシラン化合物としては、aが1であり、かつ、bが0である化合物が好ましい。
さらに、優れたUV−i線感光特性を得るためには、光重合性の炭素−炭素二重結合を有する化合物、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシランがより好ましく、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシランがさらに好ましく、屈折率向上の観点からp−スチリルトリメトキシシランが特に好ましい。
前記触媒としては、シラノール化合物のシラノール基と、アルコキシシラン化合物のアルコキシシリル基との脱アルコール縮合反応を促進する化合物を使用できる。
好適な触媒としては、下記一般式(4):
Figure 2009078336
{式中、Mは、ケイ素、ゲルマニウム、チタニウム又はジルコニウムのいずれかであり、そして複数のRは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基である。}で表される金属アルコキシド、及び下記一般式(5):
Figure 2009078336
{式中、Mは、ホウ素又はアルミニウムであり、そして複数のR10は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基である。}で表される金属アルコキシド(以下、単に「金属アルコキシド」とも略称する)の内の少なくとも1つの触媒、又はアルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。
中でも、上記一般式(4)及び上記一般式(5)からなる群より選択される少なくとも1つの金属アルコキシドであることが好ましい。上記一般式(4)又は上記一般式(5)で示される金属アルコキシドは、シラノール化合物(シラノール基)とアルコキシシラン化合物(アルコキシシリル基)の脱アルコール縮合反応を触媒しつつ、自身もアルコキシ基含有化合物として振る舞って脱アルコール縮合反応に関与し、分子内に取り込まれる形でポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン構造を形成する。
その混合比率は、シラノール化合物とアルコキシシラン化合物をモル比1:1で混合するのを基本とし、シラノール化合物50モルに対して、アルコキシシラン化合物を30〜70モルの割合で混合できる。ここに金属アルコキシドを混合するに際して、上記アルコキシシラン化合物の一部を置き換える(アルコキシシラン化合物混合量を一定の比率で減じる)形で全体の混合比を調整するのが好ましい。
具体的には、金属アルコキシドとして、上記一般式(4)で表される4価の金属アルコキシドを用いる場合には、該4価の金属アルコキシドと上記アルコキシシラン化合物を、それぞれ1:2のモル比で換算して、置き換える(該4価の金属アルコキシド混合量を1モル増やす毎に、上記アルコキシシラン化合物を2モル減じる)のが好ましい。また、上記一般式(5)で示される3価の金属アルコキシドを用いる場合には、該3価の金属アルコキシドと上記アルコキシシラン化合物を、それぞれ2:3のモル比で換算して、置き換えるのが好ましい。
上記シラノール化合物と上記アルコキシシラン化合物の総モル%に対する触媒添加量は、0.05〜10モル%が好ましく、0.1〜3モル%がより好ましい。
また、好適な上記3価又は4価の金属アルコキシドとしては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−n−プロポキシアルミニウム、トリ−iso−プロポキシアルミニウム、トリ−n−ブトキシアルミニウム、トリ−iso−ブトキシアルミニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ−tert−ブトキシアルミニウム、トリメトキシボロン、トリエトキシボロン、トリ−n−プロポキシボロン、トリ−iso−プロポキシボロン、トリ−n−ブトキシボロン、トリ−iso−ブトキシボロン、トリ−sec−ブトキシボロン、トリ−tert−ブトキシボロンテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−iso−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラメトキシゲルマニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトラ−n−プロポキシゲルマニウム、テトラ−iso−プロポキシゲルマニウム、テトラ−n−ブトキシゲルマニウム、テトラ−iso−ブトキシゲルマニウム、テトラ−sec−ブキシゲルマニウム、テトラ−tert−ブトキシゲルマニウム、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−iso−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシタン、テトラ−tert−ブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−nブトキシジルコニウム、テトラ−iso−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。
中でも、得られる液体樹脂の透明性の観点、及び迅速かつ均一な重合反応を達成する観点から、触媒は、反応温度領域で液状であることが好ましく、また、触媒としての活性の高さや入手性等も考慮すると、触媒としてテトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタンが好ましく用いられる。
好適なアルカリ金属水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。また、好適なアルカリ土類金属水酸化物としては、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物及びその水和物が挙げられる。
好適に用いられるシラノール化合物、アルコキシシラン化合物、及び触媒を適宜混合し、加熱することにより、ポリオルガノシロキサンを重合生成させることができる。この際の加熱温度は、生成するポリオルガノシロキサンの重合度を制御する上で重要なパラメーターである。目的の重合度にもよるが、上記原料混合物を70℃〜150℃で加熱し、重合させるのが好ましい。
屈折率向上のために好適に用いられるp−スチリルトリメトキシシランをアルコキシシラン化合物として用いる場合、より透明性の高いポリオルガノシロキサンを得る観点から、触媒の重合時添加量は0.05モル%以上1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以上0.5モル%以下である。
金属アルコキシドの重合添加量の上限は、目的とするポリオルガノシロキサンの性能に依存する。その最低必要量から計算して、金属アルコキシドの重合添加量の上限は、好適に用いられるシラノール化合物の総モル%に対して、40モル%以下が好ましく、より好ましくは30モル%以下である。
重合の反応条件は、40℃〜150℃で0.1〜10時間であることが好ましい。
上記シラノール化合物と上記アルコキシシラン化合物を、積極的に水を添加することなく75〜85℃の温度で30〜1時間加水分解するステップを経たものとしては、ドイツ国 Fraunhofer ISC社から「ORMOCER」ONE(登録商標)として入手することができる。
(b)光重合開始剤
本発明に係る感光性樹脂組成物には、感光性を付与する目的で、光重合開始剤を添加する。好ましい光重合開始剤としては、365nmに吸収を持つ以下の化合物が挙げられる。
(1)ベンゾフェノン誘導体:例えば、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン;
(2)アセトフェノン誘導体:例えば、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン、フェニルグリオキシル酸メチル、(2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン)(チバ・ジャパン株式会社製IRGACURE127);
(3)チオキサントン誘導体:例えば、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン;
(4)ベンジル誘導体:例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール;
(5)ベンゾイン誘導体:例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、2−ヒドロキシ−2−メチル−1フェニルプロパン−1−オン;
(6)オキシム系化合物:例えば、1−フェニル−1,2−ブタンジオン−2−(O−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−ベンゾイル)オキシム、1,3−ジフェニルプロパントリオン−2−(O−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシプロパントリオン−2−(O−ベンゾイル)オキシム、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)](チバ・ジャパン株式会社製OXE−01)、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)(チバ・ジャパン株式会社製IRGACURE OXE02);
(7)α−ヒドロキシケトン系化合物:例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン;
(8)α−アミノアルキルフェノン系化合物:例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(チバ・ジャパン株式会社製IRGACURE369)、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチルベンジル)−1−(4−モルフォリン−4−イル−フェニル)ブタン−1−オン;
(9)フォスフィンオキサイド系化合物:例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(チバ・ジャパン株式会社製DAOCURE TPO);
(10)チタノセン化合物:例えば、ビス(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム;
(11)ベンゾエイト誘導体:例えば、エチル−p−(N,N−ジメチルアミノベンゾエイト);及び
(12)アクリジン誘導体;例えば、9−フェニルアクリジン。
これらの光重合開始剤の使用にあたっては、単独でも2種以上の混合物でもかまわない。
上記した光重合開始剤の中では、高感度の点で、上記(2)アセトフェノン誘導体、上記(8)α−アミノアルキルフェノン系化合物、又は上記(9)フォスフィンオキサイド系化合物が好ましい。さらに、成形物の高透明性及び高感度の点で、上記(9)フォスフィンオキサイド系化合物、中でも、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(チバ・ジャパン株式会社製DAOCURE TPO(登録商標)、以下「DAROCURE TPO」ともいい、下記式(7):
Figure 2009078336
で表される化合物。)、又は上記(2)アセトフェノン誘導体、中でも、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(チバ・ジャパン株式会社製IRGACURE127(登録商標)、以下、「IRGACURE127」ともいい、下記式(8):
Figure 2009078336
で表される化合物。)が好ましく、さらにDAOCURE TPOとIRGACURE127の両者を用いることがより好ましい。
(b)光重合開始剤の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、1〜50質量部とするのが好ましく、2〜30質量部とするのがより好ましい。添加量が1質量部以上であれば、露光に際して、光ラジカル重合が充分に進行するだけのラジカルが供給され、露光部の硬化が十分に進行するので、実用的な硬化成形物を得ることができる。光重合開始剤の添加量が50質量部以下であれば、塗膜表面付近での露光吸収が大きくなりすぎることはなく、基板面付近まで露光光線が到達し、光ラジカル重合が膜厚方向で均一となるため、実用的な硬化成形物を得ることができる。
(c)フルオレン化合物
本発明に係る感光性樹脂組成物には、下記一般式(3)で表されるフルオレン化合物が用いられる。
Figure 2009078336
{式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数2〜4のアルキレン基であり、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、c及びdは整数であり、c+d=0〜24であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、そしてフルオレン骨格は、炭素数1〜28の置換基を有していてもよい。}。
中でも下記一般式(6)で表されるフルオレン化合物であることが好ましい。
Figure 2009078336
{式中、e及びfは、それぞれ独立に、1又は2である。}。とりわけ、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(以下、「A−BPEF」ともいう。)が好ましい。
(c)フルオレン化合物の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、40〜600質量部であることが好ましいが、75〜300質量部であることがより好ましい。添加量が40質量部以上であれば、硬化により高屈折率を有するレリーフパターンを得ることができる。また、耐熱性及び耐温度衝撃性の観点から、フルオレン化合物の添加量は600質量部以下になることが好ましい。
(d)1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する(c)成分以外の化合物
本発明に係る感光性樹脂組成物には、屈折率の向上、硬化性の向上、密着性の向上、硬化成形物の柔軟性の向上、及び感光性樹脂組成物の低粘度化によるハンドリング性向上を含む優れた特性を有する感光性樹脂組成物を提供する目的のために、各目的に適した(d)1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する(c)成分以外の化合物を、添加することが好ましい。これらの化合物は、単独で又は2種以上の混合物として使用されうる。本明細書中、用語「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイル及び/又はメタクリロイルを意味する。
感光性樹脂組成物に、上記(d)成分として、芳香族基含有(メタ)アクリレート化合物をさらに含むことは、高屈折率の維持、硬化性の向上、密着性の向上、及び硬化成形物の柔軟性向上等の観点から好ましい。芳香族基含有(メタ)アクリレート化合物は、構造内にケイ素を含有せず、芳香族基を含有する(メタ)アクリレート化合物である。例として、フェノキシエチルアクリレート(以下、「PEA」ともいう。)、パラフェニルフェノキシエチルアクリレート(東亞合成株式会社製アロニックスTO−1463)、パラフェニルフェニルアクリレート(東亞合成株式会社製アロニックスTO−2344)、フェニルグリシジルエーテルアクリレート(以下、「PGEA」ともいう。)、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、3〜15モルのエチレンオキサイドで変性させたフェノール(メタ)アクリレート、1〜15モルのエチレンオキサイドで変性させたクレゾール(メタ)アクリレート、1〜20モルのエチレンオキサイドで変性させたノニルフェノール(メタ)アクリレート、1〜15モルのプロピレンオキサイドで変性させたノニルフェノール(メタ)アクリレート、1〜30モルのエチレングリコール鎖を含むジ(メタ)アクリレート、1〜30モルのプロピレングリコール鎖を含むジ(メタ)アクリレート、1〜30モルのエチレンオキサイドで変性させたビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、1〜30モルのプロピレンオキサイドで変性させたビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、1〜30モルのエチレンオキサイドで変性させたビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、及び1〜30モルのプロピレンオキサイドで変性させたビスフェノールFジ(メタ)アクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上の混合物で使用されうる。
中でも、高屈折化の観点から、芳香族基含有(メタ)アクリレート化合物としては、フェノキシエチルアクリレート、パラフェニルフェノキシエチルアクリレート、及びパラフェニルフェニルアクリレートからなる群より選択される少なくとも1つの化合物であることが好ましい。また、価格、毒性などの入手性の観点からはPEAを用いることが好ましく、基板との密着性を向上させるためにはPGEAを用いることが好ましい。PEAとPGEAの両者を用いることがより好ましい。
(d)成分の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して20〜300質量部であることが好ましく、50〜250質量部であることがより好ましい。また、(d)成分は、硬化時の収縮や温度衝撃によるクラックをさらに防ぐ観点から(c)フルオレン化合物100質量部に対して、25〜100質量部であることが好ましく、30〜50質量部でありことがより好ましい。(d)成分の添加量が、それぞれ、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して20質量部以上、(c)フルオレン化合物100質量部に対して25質量部以上であれば、より優れた硬化時の収縮を防ぎ、温度衝撃によるクラックを防ぐことができる。該添加量が、それぞれ、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して300質量部以下、(c)フルオレン化合物100質量部に対して100質量部以下であれば、硬化成形物は、より優れた高屈折率、高透過性、及び高耐熱性を有することができる。
(e)分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物
本発明に係る感光性樹脂組成物には、成型性に優れた特性を有する感光性樹脂組成物を提供する目的で分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物をさらに添加してもかまわない。添加する際に好ましいものとしては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1〜15モルのプロピレンオキサイドで変性させたトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1〜20モルのエチレンオキサイドで変性させたトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1〜20モルのエチレンオキサイドで変性させたペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、1〜20モルのエチレンオキサイドで変性させたグリセリルトリ(メタ)アクリレート、1〜20モルのプロピレンオキサイドで変性させたグリセリルトリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチル化ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、1モルのアルキル基で変性させたジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、2モルのアルキル基で変性させたジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、3モルのアルキル基で変性させたジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上の混合物として使用されうる。
上記した(メタ)アクリレート化合物の中では、硬化性の観点からアクリレート化合物が好ましく、価格や有害性の点で、特に、下記式(9):
Figure 2009078336
で表されるジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが好ましい。
(メタ)アクリレート化合物の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、6〜250質量部とするのが好ましく、20〜100質量部とするのがより好ましい。添加量が6質量部以上であれば、露光時の光ラジカル重合が促進され表面硬化性が向上することにより、成型性に優れた特性を持つ実用的な硬化成形物を得ることができる。添加量が250質量部以下であれば、屈折率の著しい低下がなく、かつ、高屈折を維持することができるため、耐候性及び耐熱性の低下が生じない実用的な硬化成形物を得ることができる。
(f)紫外線吸収剤、及びヒンダードアミンを含む光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物
本発明に係る感光性樹脂組成物には、硬化後成形物の耐光性に優れた特性を有する感光性樹脂組成物を提供する目的のために、紫外線吸収剤、及びヒンダードアミンを含む光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物をさらに添加してもかまわない。この際、好ましい化合物としては下記一般式(10)、下記一般式(11)又は下記一般式(12)で表される紫外線吸収剤、あるいは下記一般式(13)で示されるヒンダードアミンを含む光安定剤が挙げられる。
Figure 2009078336
{式中、R11及びR12は、それぞれ独立に、炭素数が6〜25の有機基である。}
上記一般式(10)で示される紫外線吸収剤において、R11及びR12は、炭素数が6〜25の有機基であるが、具体的には、以下の構造:
Figure 2009078336
で表される基の中から選ばれる基であることが好ましい。
Figure 2009078336
{式中、R13及びR14は、それぞれ独立に、炭素数が0〜35の有機基である。}
Figure 2009078336
{式中、R15及びR16は、それぞれ独立に、炭素数が0〜35の有機基である。}
上記一般式(11)又は上記一般式(12)で示される紫外線吸収剤において、R13、R14、R15、及びR16は、炭素数が0〜35の有機基であるが、具体的には、以下の構造:
Figure 2009078336
で表される基の中から選ばれる基であることが好ましい。
Figure 2009078336
{式中、R17及びR18は、それぞれ独立に、炭素数が6〜30の有機基であり、そしてnは1又は2である。}
上記一般式(13)で示されるヒンダードアミンを含む光安定剤において、R17及びR18は、炭素数が6〜30の有機基であるが、具体的には、以下の構造:
Figure 2009078336
で表される基の中から選ばれる基であることが好ましい。
また、上記一般式(13)で示されるヒンダードアミンを含む光安定剤において、n=2であるときのR18としては、以下の構造:
Figure 2009078336
からなる群から選ばれる基であることが好ましい。
また、本発明に係る感光性樹脂組成物においては、前記した紫外線吸収剤及びヒンダードアミンを含む光安定剤は、単独で又は2種以上の混合物として使用されうる。
前記した紫外線吸収剤の中では、硬化成形物の初期の高透過性を維持しつつ耐光性及び耐候性を向上させることが可能なものとして特に、2−(2ヒドロキシ−4−[1−オクチルオキシカルボニルエトキシ]フェニル)−4,6−ビス(4−フェニルフェニル)−1,3,5−トリアジン(チバ・ジャパン株式会社製TINUVIN479(登録商標)、以下「TINUVIN479」ともいい、下記式(14):
Figure 2009078336
で表される化合物。)、ヒンダードアミンを含む光安定剤の中では添加後の高透過性を維持しつつ耐光性及び耐候性を向上させる可能なものとして特に、2,4−ビス[N−ブチル−N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ]−6−(2−ヒドロキシエチルアミン)(チバ・ジャパン株式会社製TINUVIN152(登録商標)、以下「TINUVIN152」ともいい、下記式(15):
Figure 2009078336
で表される化合物。)、又はビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニ)セバシン酸とメチル(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバシン酸の混合物(チバ・ジャパン株式会社製TINUVIN292(登録商標)、以下「TINUVIN292」ともいい、それぞれ、下記式(16)と下記式(17):
Figure 2009078336
Figure 2009078336
で表される化合物。)が好ましく、さらにTINUVIN479と、TINUVIN152及びTINUVIN292のいずれかを組み合わせて用いることがより好ましい。
紫外線吸収剤又はヒンダードアミンを含む光安定剤を含有する場合の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、0.2〜50質量部とするのが好ましく、1〜10質量部とするのがより好ましい。添加量が0.2質量部以上であれば、硬化成形物の耐候性及び耐光性を向上させるのに有効である。添加量が50質量部以下であれば、添加後の感光性樹脂組成物及び硬化成形物の高透過性を維持しつつ耐光性及び耐候性を向上させることが可能である。
(g)シランカップリング剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物
本発明に係る感光性樹脂組成物には、ガラス、金属等の無機材料基板への高い密着性を保持した感光性樹脂組成物を提供する目的のために、シランカップリング剤をさらに添加してもかまわない。添加する際に好ましいシランカップリング剤としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−オクタノイルチオ−1−プロピルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1、3ジメチル−ブチリデン)、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(p−ビニルベンジル)−N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン塩酸塩、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]ジスルフィド、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上の混合物として使用されうる。
前記したシランカップリング剤の中では、特に価格や有害性の観点から、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株KBM−403)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株KBM−503)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株KBE−903)が好ましい。
(g)シランカップリング剤を含有する場合の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、1〜100質量部とするのが好ましく、10〜50質量部とするのがより好ましい。添加量が1質量部以上であれば、ガラス、金属等の無機材料基板に対して優れた密着性を持つ硬化成形物を得ることができる。添加量が250質量部以下であれば、高屈折、成型性を維持したまま実用的な硬化成形物を得ることができる。
(h)溶媒
本発明に係る感光性樹脂組成物においては、溶媒を添加して粘度を調整することもできる。好適な溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン(以下、「NMP」ともいう。)、N−エチル−2−ピロリドン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルアセトアミド(以下、「DMAc」ともいう。)、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、ピリジン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン(以下、「GBL」ともいう。)、α−アセチル−γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、1,3−ジメチル−2−イミダゾリノン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アニソール、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどが挙げられ、これらは単独で又は二種以上の組合せで用いることができる。これらの中でも、N−メチル−2−ピロリドンやγ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが、特に好ましい。これらの溶媒は、塗布膜厚、粘度に応じて、感光性樹脂組成物に適宜加えることができるが、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、0〜200質量部の範囲で用いることが好ましい。
(i)その他の添加剤
本発明に係る感光性樹脂組成物には、所望に応じ、光感度向上のための増感剤を添加することができる。このような増感剤としては、例えば、ミヒラーズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,5−ビス(4’−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン、2,6−ビス(4’−ジエチルアミノベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビス(4’−ジメチルアミノベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2,6−ビス(4’−ジエチルアミノベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)カルコン、2−(4’−ジメチルアミノシンナミリデン)インダノン、2−(4’−ジメチルアミノベンジリデン)インダノン、2−(p−4’−ジメチルアミノビフェニル)ベンゾチアゾール、1,3−ビス(4−ジメチルアミノベンジリデン)アセトン、1,3−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)アセトン、3,3’−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、3−アセチル−7−ジメチルアミノクマリン、3−エトキシカルボニル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンジロキシカルボニル−7−ジメチルアミノクマリン、3−メトキシカルボニル−7−ジエチルアミノクマリン、3−エトキシカルボニル−7−ジエチルアミノクマリン、N−フェニル−N−エチルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン、N−p−トリルジエタノールアミン、N−フェニルエタノールアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリン、4−モルホリノベンゾフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、ベンズトリアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、1−フェニル−5−メルカプト−1,2,3,4−テトラゾール、1−シクロヘキシル−5−メルカプト−1,2,3,4−テトラゾール、1−(tert−ブチル)−5−メルカプト−1,2,3,4−テトラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズチアゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ナフト(1,2−p)チアゾール、2−(p−ジメチルアミノベンゾイル)スチレンなどが挙げられる。また、これらの化合物は、単独で又は2種以上の混合物として使用されうる。増感剤の添加量は、他の添加剤成分量に依存するが、(a)ポリオルガノシロキサンに対して0〜10質量部であることが好ましく、1〜5質量部であることがより好ましい。
本発明に係る感光性樹脂組成物には、所望により、保存時の粘度や光感度の安定性を向上させる目的で、重合禁止剤を添加することができる。このような重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、N−ニトロソジフェニルアミン、p−tert−ブチルカテコール、フェノチアジン、N−フェニルナフチルアミン、エチレンジアミン四酢酸、1,2−シクロヘキサンジアミン四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、2,6−ジ−tert−ブチル−p−メチルフェノール、5−ニトロソ−8−ヒドロキシキノリン、1−ニトロソ−2−ナフトール、2−ニトロソ−1−ナフトール、2−ニトロソ−5−(N−エチル−N−スルフォプロピルアミノ)フェノール、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシアミンアンモニウム塩、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、N−ニトロソ−N−(1−ナフチル)ヒドロキシルアミンアンモニウム塩、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチル)フェニルメタンなどを用いることができる。重合禁止剤の添加量は、(a)ポリオルガノシロキサン100質量部に対して、0〜5質量部であることが好ましく、0.01〜1質量部であることがより好ましい。
本発明に係る感光性樹脂組成物には、本発明に係る感光性樹脂組成物に要求される諸特性を阻害するものでない限り、必要に応じて、塗膜平滑性付与剤などの種々の添加剤を適宜配合することができる。
<成型物の製造方法>
以下、本発明に係る感光性樹脂組成物を用いた成型物の製造方法を述べる。
成型物としては、例えば、マイクロプラスチックレンズや液晶偏光板用光学素子が挙げられる。
ここで、マイクロプラスチックレンズとは、一般に直径数mm以下の微小なプラスチック製のレンズのことを示しており、CCD撮像素子やLCDプロジェクターでは光利用効率向上のため直径数十μm程度のマイクロレンズを多数配置したマイクロレンズアレイが、光通信用のコネクタや携帯電話のカメラモジュールなどでは直径数百μm程度のマイクロレンズが、利用されている。
また、液晶偏光板用光学素子とは、液晶プロジェクターや液晶ディスプレイ部材のひとつである偏光フィルタ(偏光板)上の構造体をさす。一般に、液晶パネルには、液晶を封入した透明基板の表裏に、一組の偏光フィルタ(偏光板)を設けられ、一定の振動方向の偏光のみを通過させる。液晶偏光板はフィルムを延伸し、組成物を配向させることなどにより作製することができるが、基板上に0.2〜0.3μmピッチで特定の構造体を形成させることによっても、偏光フィルタとしての特性を持つ材料が作製可能である。
マイクロプラスチックレンズと液晶偏光板用光学素子は、型の大きさ、種類が異なるだけであり、両者の製造方法は同じである。
1)感光性樹脂組成物を成型用の型に充填するステップ:成型用の型の開口部から、感光性樹脂組成物を成型用の型に充填させるか、又は基板側のどちらか一方に感光性樹脂組成物からなる溶液を塗布し、溶媒を乾燥させて感光性樹脂組成物の薄膜を形成させ、該薄膜に型を押し当て、感光性樹脂組成物を成型用の型に充填する。
成型用の型の開口部に塗布する場合には、スポイトやディスペンサーを用いて感光性樹脂組成物を成型用の型の開口部に滴下すればよい。また、基板側に塗布する場合、スポイトやディスペンサーを用いて滴下するか、スピンコーター、バーコーター、ブレードコーター、カーテンコーター、スクリーン印刷機等で塗布するか、スプレーコーター等で噴霧塗布する方法により、必要に応じて前処理を施した基板上にコートし、感光性樹脂組成物の膜を形成する。
感光性樹脂組成物の厚みは0.01〜10mmが好ましく、より好ましくは0.05〜1mm、さらに好ましくは100〜500μmである。感光性樹脂組成物を塗布する際、NMPなどの溶剤を用いて希釈してもかまわないが、この場合、加熱により用いた溶媒を除去する工程が必要となる。加熱は、コートした基板の感光性樹脂組成物の薄膜形成面を上にして行い、用いる装置としては、オーブン、遠赤外線炉、ホットプレートなど、加熱できる装置であれば公知のものを用いることができる。加熱条件は、50℃〜150℃、好ましくは100℃〜140℃の範囲で1分〜30分間、好ましくは5分〜10分間である。なお、溶剤を用いて感光性樹脂組成物を希釈していない場合でも、ガラス基板と感光性樹脂組成物の密着性を高める観点から、基板ごと加熱する工程を任意に加えることができ、この場合に用いる装置としてはホットプレートが好ましい。
また、基板の前処理として、基板との密着性を付与させる目的のために、場合によりシランカップリング剤を基板に塗布してもよい。シランカップリング剤を塗布する場合には、NMPなどの有機溶剤を用いて希釈をし、スピンコーター、バーコーター、ブレードコーター、カーテンコーター及びスクリーン印刷機等を用いて塗布した後、加熱により用いた溶媒を除去する。加熱は、オーブン、遠赤外線炉、ホットプレートなど、公知のものを用いることができる。シランカップリング剤の化学種としては価格や有害性の点で、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株KBM−403)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株KBM−503)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株KBE−903)が好ましい。
基板としては、例えば、ガラス基板、石英基板、シリコン基板、銅張積層板などの銅基板を用いることができる。成型用の型が光を通さない材質である場合は、ガラス基板又は石英基板が好ましい。
2)成型用の型の開口部を基板に押し付けるステップ:成型用の型、例えば、マイクロプラスチックレンズの型又は液晶偏光板用光学素子の型の開口部を、基板の薄膜形成面に押し付ける。この際、必要に応じて加圧を行ってもよい。成型用の型の材質としては、ゴム、ガラス、ポリジメチルシロキサン等のプラスチック、Ni等の金属が挙げられ、特に、ポリジメチルシロキサンが好ましい。
型の開口部を基板に押し付けるステップの前に、基板上に、シランカップリング剤を塗布するステップを行う場合には、型の開口部を基板の上記シランカップリング剤を塗布した面に押し付ける。
3)露光するステップ:基板と成型用の型で感光性樹脂組成物を挟んだ状態で、成型用の型又は基板のうち、露光光が透過する材質の側から紫外線を照射する。光硬化型樹脂としてのパターンの解像度及び取扱い性の観点から、露光光源の波長としては、i線が好ましく、装置としては近接露光タイプのプロジェクションアライナーが好ましい。さらに、必要に応じて、150℃〜260℃で1分間〜2時間加熱する工程を加えてもよい。
4)型を剥離するステップ:紫外線硬化後、成型用の型を基板から剥離する。
5)基板ごと加熱するステップ(PEB処理):150℃〜270℃の温度で5秒〜5時間加熱することで、残存する反応基を結合させ、耐熱性に優れた成型物、例えば、マイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子を得ることができる。加熱は、ホットプレート、オーブン、温度プログラム設定できる昇温式オーブンを用いて行うことができる。加熱する際の雰囲気気体としては、空気であることができるが、窒素、アルゴン等の不活性ガスを用いることが好ましい。なお、この加熱工程は、成型物、例えば、マイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の硬度を高めるために任意に加えることができる工程である。
また、前記した3)露光するステップの前に、型の開口部を基板に押し付けたまま、基板ごと50〜150℃で1分間〜30分間加熱するステップ、又は前記した3)露光するステップの後、かつ、4)型を剥離するステップの前に、基板ごと150℃〜260℃で1分間〜5時間加熱するステップをさらに行ってもよい。
<硬化レリーフパターン及びポリオルガノシロキサン膜の形成方法>
以下、本発明に係る感光性樹脂組成物を用いて硬化レリーフパターンを形成する方法の一例を説明する。
1)感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を得るステップ:まず、感光性樹脂組成物をシリコンウェハー、セラミック基板、アルミ基板、その他所望の各種基材上に塗布する。塗布装置又は塗布方法としては、スピンコーター、ダイコーター、スプレーコーター、浸漬、印刷、ブレードコーター、ロールコーティング等が利用できる。塗布された基材を80〜200℃で時間10秒〜1時間ソフトベークする。
2)塗布膜に活性光線を照射し露光部を光硬化させるステップ:コンタクトアライナー、ミラープロジェクション、ステッパー等の露光投影装置を用いて、所望のフォトマスクを介して活性光線を照射する。
活性光線として、X線、電子線、紫外線、可視光線などが利用できるが、本発明においては、200〜500nmの波長のものを用いるのが好ましい。パターンの解像度及び取扱い性の観点から、その光源波長は、特にUV−i線(365nm)が好ましく、露光投影装置としてはステッパーが特に好ましい。
この後、光感度の向上などの目的のために、必要に応じて、任意の温度と時間との組み合わせで(好ましくは、温度40℃〜200℃、時間10秒〜30分間)、露光後ベーク(PEB)や現像前ベークを施してもよい。
3)現像液を用いて膜の未硬化の部分を除去するステップ:当該ステップは、浸漬法、パドル法、又は回転スプレー法等の方法により行うことができる。現像液としては、本発明に係る感光性樹脂組成物の良溶媒を、単独で又は良溶媒と貧溶媒を適宜混合して用いることができる。良溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N−アセチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ガンマブチロラクトン、α−アセチル−ガンマブチロラクトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが、貧溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、水などが挙げられる。
現像終了後、リンス液により洗浄を行い、現像液を除去することにより、レリーフパターン付き塗膜が得られる。リンス液として、蒸留水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を、単独又は適宜混合して用いたり、段階的に組み合わせて用いることができる。
5)基材ごと加熱するステップ((最終)加熱ステップ、PEB処理):上述のようにして得られたレリーフパターンは、150〜260℃で硬化レリーフパターンに変換される。この加熱硬化は、ホットプレート、イナートオーブン、温度プログラム設定できる昇温式オーブンなどを用いて行うことができる。加熱硬化させる際の雰囲気気体としては、空気を用いてもよく、必要に応じて窒素、アルゴン等の不活性ガスを用いてもよい。
得られた硬化レリーフパターンを、シリコンウェハー等の基材上に形成された半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜、マイクロレンズアレイなどのミクロ構造体とそのパッケージ材との間の支持体(隔壁)からなる群から選択されるいずれかとして使用し、さらに、周知の半導体装置の製造方法における他の工程を適用することで、CMOSイメージセンサーなどの光学素子を含む各種半導体装置を製造することができる。また、感光性樹脂組成物を硬化させて得られた樹脂からなる塗膜を有する電子部品や半導体装置を得ることができる。
以下の合成例、及び実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
[合成例1]ポリオルガノシロキサンの合成
1Lのナス型フラスコ中に、シラノール化合物としてDPD(ジフェニルシランジオール)1.337モル(289.3g)、アルコキシシラン化合物としてp−スチリルトリメトキシシラン1.337モル(300.0g)、及び触媒としてテトラターシャルブトキシチタン0.003モル(1.140g)を、仕込み、冷却器をナスフラスコに取り付け、攪拌子により攪拌しながら、オイルバス内で、反応混合物を、室温から95℃まで、徐々に昇温させた。縮合反応により生成されたメタノールが還流していることを確認した後、1時間、同温度で、反応混合物を、加熱した。反応終了後、冷却器を取り外し、突沸が起こらないように徐々に真空度を1〜3torr程度まで高め、70℃で攪拌しながら真空引きを継続し、生成したメタノールを減圧留去して、ポリオルガノシロキサン(a−1)を得た。
[実施例1]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤として前記した(8)の化合物IRGACURE127(登録商標)(チバ・ジャパン株式会社製)3.03重量部、及び前記した(7)の化合物DAOCURE TPO(登録商標)(チバ・ジャパン株式会社製)8.66重量部を、添加した。さらに(c)成分としてA−BPEF(新中村工業化学製)196重量部、(d)成分として芳香族基含有アクリレート化合物PEA(株式会社共栄社製ライトアクリレートPOA)103重量部、及びPGEA(東亞合成株式会社製アロニックス5700)21.6重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で、各化合物が溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物(P−1)を調製した。
[実施例2]マイクロプラスチックレンズの製造方法
1)感光性樹脂組成物を成型用の型に充填するステップ:コーニング製無アルカリガラス基板(10cm正方形、厚み0.7mm)上に、P−1を適量、滴下した。
2)成形用の型の開口部を基板に押し付けるステップ:P−1を滴下したガラス基板にポリジメチルシロキサン(以下、「PDMS」ともいう。)製のマイクロプラスチックレンズの型を押し当て密着させ、マイクロプラスチックレンズの型の開口部にP−1を満たした。
3)露光ステップ:ガラス基板とマイクロプラスチックレンズの型で感光性樹脂を挟んだ状態で、ガラス基板側から高圧水銀ランプ((株)オーク製作所製 16mW HMW−40−1)を用いて、紫外線を、全面マスク無しで、照射した。i線波長(365nm)での照射量は1000mJ/cmであった。
4)型剥離ステップ:紫外線硬化後、PDMS型をガラス基板から剥離した。
5)(最終)加熱ステップ(PEB処理):キュアオーブン(光洋サーモシステム株式会社、CLH−21CD−S)を用いて、窒素雰囲気下220℃の温度で30分間、加熱した。
[比較例1]
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)0.933重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)2.67重量部を、添加した。さらに(d)成分としてPEA29.7重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で、溶解するまでウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[比較例2]
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤として上記(6)の化合物IRGACURE127(登録商標)1.40重量部、及び上記(5)の化合物DAOCURE TPO(登録商標)4.00重量部を、添加した。さらに(c)成分としてA−BPEF94.6重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例3]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)7.00重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)20.0重量部を、添加した。さらに(c)成分としてA−BPEF600重量部、(d)成分としてPEA223重量部、及びPGEA50.0重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例4]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)1.40重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)4.00重量部を、添加した。さらに(c)成分としてA−BPEF40重量部、(d)成分としてPEA44.6重量部、及びPGEA10.0重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例5]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)3.03重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)8.66重量部を、添加した。さらに(c)成分としてA−BPEF161重量部、及び(d)成分としてPEA161重量部((c)成分に対して100質量部)を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例6]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)3.56重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)10.2重量部、(c)成分としてA−BPEF207重量部、さらに(d)成分としてPEA92.3重量部、及び10モルのエチレンオキサイドで変性させたビスフェノールAジアクリレート95.9重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌し、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例7]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)3.03重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)8.66重量部を、添加した。さらに(c)成分としてA−BPEF257重量部、及び(d)成分としてPEA64.2重量部((c)成分に対して25質量部)を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例8]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)3.89重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)11.1重量部、(c)成分としてA−BPEF231重量部、(d)成分としてPEA98.9重量部、及びPGEA27.8重量部、さらに(e)成分として前記(9)のジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(日本化薬株式会社性 KARAYAD T1420(T)(登録商標))83.3重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例9]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)3.04重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)8.70重量部、(c)成分としてA−BPEF196重量部、(d)成分としてPEA103重量部、及びPGEA21.7重量部、さらに(f)成分として前記(14)の化合物TINUVIN479(登録商標)(チバ・ジャパン株式会社製)0.435重量部、及び前記(15)の化合物TINUVIN152(登録商標)(チバ・ジャパン株式会社製)2.17重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例10]感光性樹脂組成物の調製
合成例1で合成した(a−1)ポリオルガノシロキサン100重量部に対し、(b)光重合開始剤としてIRGACURE127(登録商標)3.03重量部、及びDAOCURE TPO(登録商標)8.66重量部、(c)成分としてA−BPEF196重量部、(d)成分としてPEA103重量部、さらに(g)成分としてKBM−503(信越化学工業株式会社製)21.7重量部を、添加した。以上の化合物を全て調合したものを、70℃の加熱下で溶解するまで、ウェブローターで攪拌して、感光性樹脂組成物を調製した。
[硬化膜の透明性評価:透過率測定]
実施例1、3〜10、並びに比較例1及び2で得た感光性樹脂組成物をそれぞれ用いて、無アルカリガラス(厚み0.7mm、縦横5cm×10cm、コーニング製)上にスポイトを用いて5滴滴下した。このとき、感光性樹脂組成物を滴下した後、無アルカリガラス上に、ポリエチレンテレフタレート製フィルム膜を敷き、感光性樹脂組成物を無アルカリガラスとポリエチレンテレフタレート製フィルム膜の間に挟み、酸素硬化阻害が無視できる嫌気下とした。その後、マスク無しで前面より、高圧水銀ランプ((株)オーク製作所製 16mW HMW−40−1)を用いて1000mJ/cmの光量で紫外線照射し、実施例2に記載した5)(最終)加熱ステップ(PEB)を行い、膜厚130μmの硬化膜を作製した。
硬化膜の透過率は、SHIMADZU製、UV3101PCを用いて、スリット幅5.0nm、波長400nmにて測定した。結果を以下の表1に示す。実施例1、及び3〜10で得た感光性樹脂組成物から得られた硬化膜は、すべて90%以上の透過率があり、高透明性が維持されることを確認した。
一方、比較例1及び2で得た感光性樹脂組成物を用いて作製した硬化膜は、PEB処理によりクラックが発生したため、透過率の測定は不可能であった。
[硬化膜の屈折率測定]
実施例1、及び3〜10並びに比較例1及び2で得られた感光性樹脂組成物をそれぞれ用いて、無アルカリガラス(厚み0.7mm、縦横5cm×5cm、コーニング製)上にスポイトを用いて1滴、滴下した。予め無アルカリガラス上に、ポリエチレンテレフタレート製フィルム膜を敷き、感光性樹脂組成物を無アルカリガラスとポリエチレンテレフタレート製フィルム膜の間に挟み、酸素硬化阻害が無視できる嫌気下として、マスク無しで前面より、高圧水銀ランプ((株)オーク製作所製 16mW HMW−40−1)を用いて1000mJ/cmの光量で紫外線照射し、実施例2に記載した5)(最終)加熱ステップ(PEB)を行いて、膜厚130μmの硬化膜を作製した。この硬化膜をカッターの刃先を用いて無アルカリガラスの基板から剥がし、多波長アッベ屈折計(株式会社アタゴ製DR−M2)を用いて589nmの波長における屈折率を測定した。測定は作製した硬化膜をプリズムと採光ガラスに挟んで行い、プリズムとの界面、採光ガラスとの界面に中間液としてモノブロモナフタレンを滴下して使用した。比較例1と2で得た感光性樹脂を用いて作製した硬化膜のPEB前の屈折率は、それぞれ、1.589と1.610であったが、は、PEB処理によりクラックが発生したため、PEB処理後の硬化膜の屈折率は測定不能であった。
表1に示すように実施例1、及び3〜10で得られた感光性樹脂組成物から作製した硬化膜の屈折率はいずれも1.58を超えており、高屈折率が維持されることが確認された。
[耐クラック性評価]
実施例1、及び3〜10並びに比較例1及び2で得た感光性樹脂組成物をそれぞれ用いて、無アルカリガラス(厚み0.7mm、縦横5cm×10cm、コーニング製)上にスポイトを用いて5滴、滴下した。このとき、感光性樹脂組成物を滴下した後、無アルカリガラス上に、ポリエチレンテレフタレート製フィルム膜を敷き、感光性樹脂組成物を無アルカリガラスとポリエチレンテレフタレート製フィルム膜の間に挟み、酸素硬化阻害が無視できる嫌気下とした。その後、マスク無しで前面より、高圧水銀ランプ((株)オーク製作所製 16mW HMW−40−1)を用いて1000mJ/cmの光量で紫外線照射し、実施例2に記載した5)(最終)加熱ステップ(PEB)を行い、膜厚130μmの硬化膜を作製した。これらの硬化膜をリフロー試験機(光洋サーモシステム株式会社、810−2−5Z)にかけ耐クラック性について比較した。リフロー試験機は窒素雰囲気下においてステップ1を140℃、ステップ2を195℃、ステップ3を0℃、ステップ4を0℃、ステップ5を390℃、コンベアーの駆動速度を200mm/minに設定した。この際、内部最高温度は258℃で20秒間であった。リフロー試験の結果、実施例1、及び実施例3〜10で得た感光性樹脂組成物から作製した硬化膜はクラックの発生が確認されなかった。一方、比較例1及び2で得た感光性樹脂を用いて作製した硬化膜はPEB処理の時点でクラックが発生した。
さらに、リフロー試験後の硬化膜の透過率をSHIMADZU製、UV3101PCを用いて、スリット幅5.0nmで測定した。結果を表1に示す。実施例1、3〜8、及び10で得た感光性樹脂組成物で得た感光性樹脂組成物からなる硬化膜はすべて90%以上の透過率(実施例9で得たものの透過率は89%)であり、リフロー試験後も高透明性が維持されることが確認できた。
Figure 2009078336
本発明により、ハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の材料として有用な高屈折率を有し、耐クラック性に優れた感光性透明樹脂組成物を得ることができる。

Claims (19)

  1. 下記(a)〜(d)成分:
    (a)下記一般式(1):
    Figure 2009078336
    {式中、複数のRは、それぞれ独立に、芳香族基を少なくとも1つ含む炭素数6〜18の有機基である。}で表される少なくとも1種のシラノール化合物、下記一般式(2):
    Figure 2009078336
    {式中、Rは、エポキシ基及び炭素−炭素二重結合基からなる群より選択される1つの基を少なくとも1つ含む炭素数2〜17の有機基であり、複数存在する場合のRは同一であっても異なっていてもよく、R及び複数のRは、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であり、aは、1又は2の整数であり、bは0又は1の整数であり、そしてa+bは2以下である。}で表される少なくとも1種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン100質量部;
    (b)光重合開始剤1〜50質量部;
    (c)下記一般式(3):
    Figure 2009078336
    {式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数2〜4のアルキレン基であり、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、c及びdは整数であり、c+d=0〜24であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、そしてフルオレン骨格は、炭素数1〜28の置換基を有していてもよい。}で表されるフルオレン化合物40〜600質量部;及び
    (d)1分子内に1つ又は2つの(メタ)アクリロイル基を有する(c)成分以外の化合物20〜300質量部;
    を含む感光性樹脂組成物。
  2. 前記(a)ポリオルガノシロキサンが、上記一般式(1)で示されるシラノール化合物としてジフェニルシランジオールを用い、上記一般式(2)で示されるアルコキシシラン化合物としてaが1であり、bが0である化合物を用いて重合したものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 前記(a)ポリオルガノシロキサンが、下記一般式(4):
    Figure 2009078336
    {式中、Mは、ケイ素、ゲルマニウム、チタニウム又はジルコニウムのいずれかであり、そして複数のRは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基である。}で表される金属アルコキシド、及び下記一般式(5):
    Figure 2009078336
    {式中、Mは、ホウ素又はアルミニウムであり、そして複数のR10は、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基である。}で表される金属アルコキシドの内の少なくとも1つの触媒を用いて重合したものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 前記(a)ポリオルガノシロキサンが、上記一般式(1)で示されるシラノール化合物としてジフェニルシランジオールを用い、上記一般式(2)で示されるアルコキシシラン化合物として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、及びp−スチリルトリエトキシシランからなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物を用いて重合したものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 前記(c)成分が、下記一般式(6):
    Figure 2009078336
    {式中、e及びfは、それぞれ独立に、1又は2である。}で表されるフルオレン化合物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  6. 前記(d)成分として、芳香族基含有(メタ)アクリレート化合物を含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  7. 前記(d)成分が、フェノキシエチルアクリレート、パラフェニルフェノキシエチルアクリレート、及びパラフェニルフェニルアクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  8. 前記(b)光重合開始剤が、下記一般式(7):
    Figure 2009078336
    で表される化合物、及び下記一般式(8):
    Figure 2009078336
    で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物を含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  9. (e)分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物6〜250質量部をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  10. (f)紫外線吸収剤、及びヒンダードアミンを含む光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物0.2〜50質量部をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  11. (g)シランカップリング剤1〜100質量部をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を光硬化して得られうる硬化物。
  13. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を成型用の型に充填するステップ、該成型用の型の開口部を基板に押し付けるステップ、露光するステップ、該型を剥離するステップ、及び基材ごと加熱するステップを含む成型物の製造方法。
  14. 前記型の開口部を基板に押し付けるステップの前に、前記基板上に、シランカップリング剤を塗布するステップを含み、該型の開口部を基板に押し付けるステップにおいては、該型の開口部を基板の該シランカップリング剤を塗布した面に押し付ける、請求項13に記載の成型物の製造方法。
  15. 前記露光するステップの前に、前記型の開口部を基板に押し付けたまま、該基板ごと50〜150℃で1分間〜30分間加熱するステップを含む、請求項13に記載の成型物の製造方法。
  16. 請求項13に記載の方法によって得られうる成型物。
  17. 基材上に請求項1〜11のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を塗布して塗布膜を得るステップ、該塗布膜に活性光線を照射し露光部を光硬化させるステップ、現像液を用いて該膜の未硬化の部分を除去するステップ、及び該基材ごと加熱するステップを含む硬化レリーフパターンの形成方法。
  18. 請求項17に記載の方法によって得られうる硬化レリーフパターン。
  19. 請求項18に記載の硬化レリーフパターンを含む半導体装置。
JP2009546235A 2007-12-14 2008-12-11 感光性樹脂組成物 Expired - Fee Related JP5525821B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009546235A JP5525821B2 (ja) 2007-12-14 2008-12-11 感光性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007323311 2007-12-14
JP2007323311 2007-12-14
JP2008172451 2008-07-01
JP2008172463 2008-07-01
JP2008172451 2008-07-01
JP2008172463 2008-07-01
PCT/JP2008/072537 WO2009078336A1 (ja) 2007-12-14 2008-12-11 感光性樹脂組成物
JP2009546235A JP5525821B2 (ja) 2007-12-14 2008-12-11 感光性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009078336A1 true JPWO2009078336A1 (ja) 2011-04-28
JP5525821B2 JP5525821B2 (ja) 2014-06-18

Family

ID=40795452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009546235A Expired - Fee Related JP5525821B2 (ja) 2007-12-14 2008-12-11 感光性樹脂組成物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8475996B2 (ja)
EP (1) EP2221326A4 (ja)
JP (1) JP5525821B2 (ja)
KR (1) KR101408573B1 (ja)
CN (2) CN101802033B (ja)
TW (1) TWI390354B (ja)
WO (1) WO2009078336A1 (ja)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101408573B1 (ko) * 2007-12-14 2014-06-17 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물
JP5406605B2 (ja) * 2009-06-25 2014-02-05 新日鉄住金化学株式会社 耐熱性樹脂及びこれを含んだ樹脂組成物
JP2011202127A (ja) * 2010-03-26 2011-10-13 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及び硬化物
WO2011121166A1 (en) * 2010-03-29 2011-10-06 Silecs Oy Etch resistant alumina based coatings
JP5659561B2 (ja) * 2010-06-02 2015-01-28 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR101822042B1 (ko) * 2011-01-21 2018-01-25 프라운호퍼-게젤샤프트 츄어 푀르더룽 데어 안게반텐 포르슝에.파우. 중합가능한 조성물, 이에 의해 수득된 경화물, 및 그 물질의 용도
EP2734589A1 (en) * 2011-07-21 2014-05-28 Dow Corning Corporation Germanium containing complex and condensation reaction curable compositions and methods for the preparation and use of the compositions
JP6158084B2 (ja) * 2011-08-11 2017-07-05 大阪ガスケミカル株式会社 フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートおよびその硬化性組成物
CN102955360A (zh) * 2011-08-23 2013-03-06 Jsr株式会社 感光性组成物、成形物的制造方法、成形物及半导体装置
JP6012055B2 (ja) 2011-09-07 2016-10-25 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation チタン含有錯体及び縮合反応触媒、該触媒の調製方法、及び該触媒を含有する組成物
JP6066355B2 (ja) 2011-09-07 2017-01-25 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation ジルコニウム含有錯体及び縮合反応触媒、該触媒の調製方法、及び該触媒を含有する組成物
US9490148B2 (en) * 2012-09-27 2016-11-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Adhesion promoter apparatus and method
JP6163726B2 (ja) 2012-09-28 2017-07-19 株式会社リコー 非水系光重合性組成物、インクジェットインク、及びインクカートリッジ
KR102326277B1 (ko) 2014-02-28 2021-11-15 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 중합성 조성물
JP6744576B2 (ja) * 2014-03-31 2020-08-19 日産化学株式会社 反応性含フッ素シリコーン化合物を含む重合性組成物
WO2015159972A1 (ja) * 2014-04-18 2015-10-22 日産化学工業株式会社 反応性シリコーン化合物を含む重合性樹脂組成物
CN106414525B (zh) * 2014-05-30 2021-09-21 电化株式会社 光固化性树脂组合物
TWI514073B (zh) * 2014-06-11 2015-12-21 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition and its application
EP3157984A1 (en) 2014-06-19 2017-04-26 Inkron Oy Transparent siloxane encapsulant and adhesive
TWI561920B (en) * 2014-12-22 2016-12-11 Chi Mei Corp Photosensitive polysiloxane composition, protecting film, and element having the protecting film
KR20170135906A (ko) * 2015-04-10 2017-12-08 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 중합성 수지 조성물
US10280318B2 (en) * 2015-04-23 2019-05-07 Electronics For Imaging, Inc. Monomers and oligomers with application in energy curing chemistry
WO2017030090A1 (ja) * 2015-08-18 2017-02-23 日産化学工業株式会社 反応性シルセスキオキサン化合物及び芳香族ビニル化合物を含む重合性組成物
JP6879469B2 (ja) * 2015-09-02 2021-06-02 日産化学株式会社 アクリル基を有するシルセスキオキサン化合物を含む重合性組成物
KR101979980B1 (ko) * 2016-03-23 2019-05-17 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물
KR102134675B1 (ko) * 2016-04-11 2020-07-16 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 페난트렌환함유 반응성 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 중합성 조성물
JP7027886B2 (ja) * 2016-04-25 2022-03-02 東レ株式会社 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子
WO2017208936A1 (ja) * 2016-05-30 2017-12-07 日産化学工業株式会社 反応性ポリシロキサン及びそれを含む重合性組成物
JP6734571B2 (ja) * 2016-05-30 2020-08-05 日産化学株式会社 重合性シラン化合物
KR101922300B1 (ko) * 2016-08-09 2018-11-26 삼성에스디아이 주식회사 유기발광소자 봉지용 조성물, 이로부터 형성된 유기발광소자 봉지층 및 이를 포함하는 유기발광소자 표시장치
JP2018080309A (ja) * 2016-11-18 2018-05-24 株式会社ダイセル レプリカモールド形成用樹脂組成物、レプリカモールド、及び前記レプリカモールドを用いたパターン形成方法
KR102071112B1 (ko) * 2017-10-11 2020-01-29 타코마테크놀러지 주식회사 바인더 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 또는 코팅 용액
CN108102046A (zh) * 2017-12-08 2018-06-01 华南师范大学 一种二次固化的有机硅封装材料及其制备方法
TW202140702A (zh) * 2020-03-17 2021-11-01 日商信越化學工業股份有限公司 聚矽氧塗佈劑組成物及物品
CN116116687B (zh) * 2022-12-19 2023-08-29 东莞光群雷射科技有限公司 一种镭射模压版辊的制备方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59168014A (ja) * 1983-03-15 1984-09-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 硬化性弾性組成物
JPS63309509A (ja) 1987-06-12 1988-12-16 Showa Denko Kk 高屈折率樹脂用組成物
JPH0445401A (ja) 1990-06-13 1992-02-14 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 高アッベ数レンズ
JPH10176141A (ja) 1996-12-17 1998-06-30 Toagosei Co Ltd シラン系水性エマルション組成物及びその製造方法
DE19932629A1 (de) 1999-07-13 2001-01-18 Fraunhofer Ges Forschung Organisch modifizierte, lagerstabile, UV-härtbare, NIR-durchlässige und in Schichtdicken von 1 bis 150 mum fotostrukturierbare Kieselsäurepolykondensate, deren Herstellung und deren Verwendung
US6730767B2 (en) * 2001-11-02 2004-05-04 Bausch & Lomb Incorporated High refractive index aromatic-based siloxane monofunctional macromonomers
JP2004035857A (ja) 2002-07-08 2004-02-05 Ricoh Co Ltd 光硬化型光学用接着剤組成物
JP5091407B2 (ja) 2003-10-01 2012-12-05 大阪瓦斯株式会社 多官能性(メタ)アクリレートおよびその製造方法
KR100614976B1 (ko) * 2004-04-12 2006-08-25 한국과학기술원 광소자 또는 디스플레이에 이용되는 무기/유기혼성올리고머, 나노혼성고분자 및 그 제조방법
WO2006112234A1 (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Jsr Corporation 樹脂組成物、硬化膜及び積層体
JP5241241B2 (ja) * 2006-01-24 2013-07-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
JP2007291321A (ja) * 2006-03-27 2007-11-08 Sanyo Electric Co Ltd 硬化型有機金属組成物及び有機金属ポリマー材料並びに光学部品
CN101045788A (zh) * 2006-03-27 2007-10-03 三洋电机株式会社 固化型有机金属组合物、有机金属聚合物材料以及光学部件
JP4915523B2 (ja) * 2006-06-29 2012-04-11 Jnc株式会社 重合性液晶組成物
US20100019399A1 (en) * 2006-09-29 2010-01-28 Masashi Kimura Polyorganosiloxane composition
JP4800179B2 (ja) 2006-11-02 2011-10-26 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
JP4932527B2 (ja) * 2007-02-21 2012-05-16 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ポリオルガノシロキサン組成物
JP4932528B2 (ja) 2007-02-21 2012-05-16 旭化成イーマテリアルズ株式会社 硬化レリーフパターン付き基材の製造方法
JP2008203613A (ja) 2007-02-21 2008-09-04 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ポリオルガノシロキサン組成物
JP4987521B2 (ja) 2007-03-14 2012-07-25 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
JP2008222892A (ja) 2007-03-14 2008-09-25 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物
US8026035B2 (en) * 2007-03-30 2011-09-27 Cheil Industries, Inc. Etch-resistant disilane and saturated hydrocarbon bridged silicon-containing polymers, method of making the same, and method of using the same
JP4850770B2 (ja) 2007-04-04 2012-01-11 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
ATE516519T1 (de) 2007-04-04 2011-07-15 Asahi Kasei E Materials Corp Lichtempfindliche harzzusammensetzung
US8043899B2 (en) * 2007-04-04 2011-10-25 Asahi Kasei E-Materials Corporation Photosensitive resin composition
JP4938571B2 (ja) 2007-07-11 2012-05-23 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
KR101408573B1 (ko) * 2007-12-14 2014-06-17 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물
JP5136777B2 (ja) * 2008-04-25 2013-02-06 信越化学工業株式会社 ポリオルガノシロキサン化合物、これを含む樹脂組成物及びこれらのパターン形成方法
JP5336306B2 (ja) * 2008-10-20 2013-11-06 信越化学工業株式会社 レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料

Also Published As

Publication number Publication date
JP5525821B2 (ja) 2014-06-18
TWI390354B (zh) 2013-03-21
US8475996B2 (en) 2013-07-02
EP2221326A4 (en) 2011-04-13
US20100209669A1 (en) 2010-08-19
CN101802033B (zh) 2013-03-13
KR20100039454A (ko) 2010-04-15
CN102902162A (zh) 2013-01-30
TW200947131A (en) 2009-11-16
WO2009078336A1 (ja) 2009-06-25
KR101408573B1 (ko) 2014-06-17
CN101802033A (zh) 2010-08-11
EP2221326A1 (en) 2010-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5525821B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP5576622B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP5388331B2 (ja) ポリオルガノシロキサン組成物
JP5589387B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜
JP5867083B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた保護膜
JP4938571B2 (ja) 感光性樹脂組成物
KR101121936B1 (ko) 감광성 수지 조성물
JP2011202127A (ja) 感光性樹脂組成物及び硬化物
JP5607898B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP4932527B2 (ja) ポリオルガノシロキサン組成物
WO2012050201A1 (ja) 感光性樹脂組成物及びその製造方法
JP4987521B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2008222892A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2008203613A (ja) ポリオルガノシロキサン組成物
JP5411919B2 (ja) ポリオルガノシロキサン組成物
KR101808757B1 (ko) 임프린트 리소그래피용 광경화형 수지 조성물
JP2008141137A (ja) 半導体装置用絶縁膜
JPWO2008001706A1 (ja) プラスチックレンズの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111003

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111003

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130917

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140408

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140414

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5525821

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees