JPWO2009025368A1 - 半導体記憶装置及び半導体記憶装置の製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 228
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 66
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 136
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 59
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 27
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 14
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 9
- 238000003491 array Methods 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 90
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 61
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 35
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 35
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 15
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 13
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 108090000699 N-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 6
- 102000004129 N-Type Calcium Channels Human genes 0.000 description 6
- LPQOADBMXVRBNX-UHFFFAOYSA-N ac1ldcw0 Chemical group Cl.C1CN(C)CCN1C1=C(F)C=C2C(=O)C(C(O)=O)=CN3CCSC1=C32 LPQOADBMXVRBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 5
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010075750 P-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 2
- 101000902425 Pinus strobus Pinosylvin synthase 2 Proteins 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 101000902411 Pinus strobus Pinosylvin synthase 1 Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- OJCDKHXKHLJDOT-UHFFFAOYSA-N fluoro hypofluorite;silicon Chemical compound [Si].FOF OJCDKHXKHLJDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005549 size reduction Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/788—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with floating gate
- H01L29/7881—Programmable transistors with only two possible levels of programmation
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66825—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a floating gate
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66833—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a charge trapping gate insulator, e.g. MNOS transistors
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- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/792—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with charge trapping gate insulator, e.g. MNOS-memory transistors
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- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
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- H01L29/792—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with charge trapping gate insulator, e.g. MNOS-memory transistors
- H01L29/7926—Vertical transistors, i.e. transistors having source and drain not in the same horizontal plane
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- H10B41/10—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the top-view layout
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- H10B41/00—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
- H10B41/20—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels
- H10B41/23—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels
- H10B41/27—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels the channels comprising vertical portions, e.g. U-shaped channels
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
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- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
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- H10B43/10—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the top-view layout
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- H10B43/27—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels the channels comprising vertical portions, e.g. U-shaped channels
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- H10B69/00—Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices
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Abstract
Description
本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置は、図1に示すような、例えばm×n(m,nは整数)個のメモリセルトランジスタMT11,MT12,・・・,MT1n,MT21,MT22,・・・,MT2n,MT31,MT32,・・・,MT3n,・・・,MTm1,MTm2,・・・,MTmnがマトリクス状に配置されたセルアレイを備える。
本発明の第1の実施の形態の第1の変形例として、半導体記憶装置の製造方法の変形例を説明する。
本発明の第1の実施の形態の第2の変形例として、半導体記憶装置の製造方法の変形例を説明する。
本発明の第1の実施の形態の第3の変形例として、半導体記憶装置の製造方法の変形例を説明する。
本発明の第1の実施の形態の第4の変形例として、半導体記憶装置の製造方法の変形例を説明する。
図1に示すように、ソース線コンタクトプラグ61,62,・・・,6m及びビット線コンタクトプラグ71,72,・・・,7mを行方向に直線的に並べると、プロセスバラツキ等により、隣り合うソース線コンタクトプラグ61,62,・・・,6m及びビット線コンタクトプラグ71,72,・・・,7m同士が短絡する可能性がある。
本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置として、メモリセルトランジスタが、金属/酸化膜/窒化膜/酸化膜/シリコン(MONOS)構造を有する場合を説明する。図1及び図29のC−C線に沿う断面を図30Aに、図1及び図29のB−B線に沿う断面を図30Bに示す。
本発明の第3の実施の形態は、第2の実施の形態の変形例である。
上記のように、本発明は第1乃至第3の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
本発明による効果について説明する。
Claims (20)
- 列方向にメモリセルトランジスタを配列した単位配列を行方向に配列した半導体記憶装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の上面の一部に配置された埋め込み絶縁膜と、
前記半導体基板の上面の他の一部に配置された半導体層とを備え、
前記メモリセルトランジスタのそれぞれは、
前記半導体層に前記列方向に規定された第1導電型のソース領域、第1導電型のドレイン領域及び第1導電型のチャネル領域と、
前記チャネル領域の前記行方向の側面に配置されたゲート部
とを備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記メモリセルトランジスタのゲート幅が前記半導体基板の上面に対して垂直方向に規定され、前記メモリセルトランジスタのゲート長が前記列方向に規定されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
- 前記ゲート部は、
前記チャネル領域の前記行方向の側面に沿って前記半導体基板の上面に対して垂直方向に設けられたゲート絶縁膜と、
前記埋め込み絶縁膜の上面に配置され、且つ前記チャネル領域の前記行方向の側面に前記ゲート絶縁膜を介して配置された浮遊ゲート電極と、
前記浮遊ゲート電極の上端面に配置された電極間絶縁膜と、
前記電極間絶縁膜の上面に配置され前記行方向に延伸する制御ゲート電極
とを備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体記憶装置。 - 前記単位配列をなす前記複数のメモリセルトランジスタのそれぞれの前記浮遊ゲート電極間に配置された第1の素子分離絶縁膜を更に備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。
- 前記浮遊ゲート電極の前記ゲート絶縁膜と隣り合う側面とは反対側の側面に配置された第2の素子分離絶縁膜を更に備えることを特徴とする請求項3又は4に記載の半導体記憶装置。
- 前記ゲート絶縁膜の前記行方向の膜厚が、前記第2の素子分離絶縁膜の前記行方向の膜厚よりも薄いことを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
- 前記制御ゲート電極及び前記電極間絶縁膜が前記半導体層の上面に配置され、
前記半導体層の上面と前記電極間絶縁膜との間に配置された補助絶縁膜を更に備える
ことを特徴とする請求項3〜6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。 - 前記半導体層の上面レベルが前記浮遊ゲート電極よりも低く、
前記浮遊ゲート電極の上端面及び行方向の側面が、前記制御ゲート電極と対向している
ことを特徴とする請求項3〜7のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。 - 前記単位配列の一端に配置された第1の選択ゲートトランジスタを更に備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
- 前記第1の選択ゲートトランジスタは、
前記半導体基板の上面にそれぞれ配置された第2導電型のチャネル領域、第1導電型のソース領域及び第1導電型のドレイン領域と、
前記埋め込み絶縁膜の上面に配置され、且つ前記第1の選択ゲートトランジスタの前記チャネル領域の側面に配置された選択ゲート電極
とを備えることを特徴とする請求項9に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1の選択ゲートトランジスタの前記ドレイン領域に側面及び底面が接するように埋め込まれたビット線コンタクトプラグを更に備えることを特徴とする請求項10に記載の半導体記憶装置。
- 前記単位配列の他端に配置された第2の選択ゲートトランジスタを更に備えることを特徴とする請求項9〜11のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
- 前記第2の選択ゲートトランジスタは、
前記半導体基板の上面にそれぞれ配置された第2導電型のチャネル領域、第1導電型のソース領域及び第1導電型のドレイン領域と、
前記埋め込み絶縁膜の上面に配置され、且つ前記第2の選択ゲートトランジスタの前記チャネル領域の側面に配置された選択ゲート電極
とを備えることを特徴とする請求項12に記載の半導体記憶装置。 - 前記第2の選択ゲートトランジスタの前記ソース領域に側面及び底面が接するように埋め込まれたソース線コンタクトプラグを更に備えることを特徴とする請求項13に記載の半導体記憶装置。
- 前記ソース線コンタクトプラグが前記単位配列毎に配置され、前記行方向に隣接する前記ソース線コンタクトプラグが列方向に互いに異なる位置に配置されていることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
- 前記ゲート部は、
前記チャネル領域の前記行方向の側面に沿って前記半導体基板の上面に対して垂直方向に積層された第1の酸化膜、前記電荷蓄積層として規定された窒化膜、及び第2の酸化膜と、
前記チャネル領域の前記行方向の側面に前記第1の酸化膜、前記窒化膜及び前記第2の酸化膜を介して配置されたゲート電極
とを備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体記憶装置。 - 半導体基板の上面に埋め込み絶縁膜を形成する工程と、
前記埋め込み絶縁膜の上面に浮遊ゲート電極層を形成する工程と、
前記浮遊ゲート電極層の一部を選択的に除去して行方向に第1の溝部を形成する工程と、
前記第1の溝部に第1の素子分離絶縁膜を埋め込む工程と、
前記浮遊ゲート電極層及び第1の素子分離絶縁膜の一部を選択的に除去して列方向に第2の溝部を形成し且つ前記浮遊ゲート電極層の残余の一部からなる浮遊ゲート電極を形成する工程と、
前記浮遊ゲート電極の行方向の第1の側面にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記浮遊ゲート電極の行方向の前記第1の側面とは反対側の第2の側面に第2の素子分離絶縁膜を形成する工程と、
前記第2の溝部に、前記ゲート絶縁膜の側面に接するように、メモリセルトランジスタのチャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を規定する第1導電型の半導体層を形成する工程と、
前記浮遊ゲート電極の上端面に電極間絶縁膜を堆積する工程と、
前記電極間絶縁膜の上面に制御ゲート電極を形成する工程
とを含むことを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜を形成する工程及び前記第2の素子分離絶縁膜を形成する工程は、
前記第2の側面に第2導電型の不純物をイオン注入し、
熱酸化により前記ゲート絶縁膜及び前記第2の素子分離絶縁膜を同時に、前記第2の素子分離絶縁膜の前記行方向の膜厚が前記ゲート絶縁膜の行方向の膜厚よりも厚くなるように形成する
ことを特徴とする請求項17に記載の半導体記憶装置の製造方法。 - 半導体基板の上面に埋め込み絶縁膜を形成する工程と、
前記埋め込み絶縁膜の上面にゲート電極層を形成する工程と、
前記ゲート電極層の一部を選択的に除去して行方向に第1の溝部を形成する工程と、
前記第1の溝部に第1の素子分離絶縁膜を埋め込む工程と、
前記ゲート電極層及び第1の素子分離絶縁膜の一部を選択的に除去して列方向に第2の溝部を形成し且つ前記ゲート電極層の残余の一部からなるゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極の行方向の第1の側面に第1の酸化膜、電荷蓄積層として規定された窒化膜、及び第2の酸化膜を行方向に積層する工程と、
前記ゲート電極層の前記第1の側面と行方向に対向する第2の側面に第2の素子分離絶縁膜を形成する工程と、
前記第2の溝部に、メモリセルトランジスタのソース領域及びドレイン領域を規定する第1導電型の半導体層を形成する工程
とを含むことを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。 - 前記第2の素子分離絶縁膜を形成する工程は、前記第2の素子分離絶縁膜の行方向の膜厚が、前記第2の酸化膜の行方向の膜厚よりも厚くなるように、前記第2の素子分離絶縁膜を形成することを特徴とする請求項19に記載の半導体記憶装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007216323 | 2007-08-22 | ||
JP2007216323 | 2007-08-22 | ||
PCT/JP2008/065039 WO2009025368A1 (ja) | 2007-08-22 | 2008-08-22 | 半導体記憶装置及び半導体記憶装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009025368A1 true JPWO2009025368A1 (ja) | 2010-11-25 |
Family
ID=40378268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009529080A Pending JPWO2009025368A1 (ja) | 2007-08-22 | 2008-08-22 | 半導体記憶装置及び半導体記憶装置の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8410545B2 (ja) |
JP (1) | JPWO2009025368A1 (ja) |
WO (1) | WO2009025368A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009107241A1 (ja) | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 株式会社 東芝 | マルチドットフラッシュメモリ |
EP2450945B1 (en) | 2010-11-08 | 2013-05-29 | Imec | Method for producing a floating gate memory structure |
US9941271B2 (en) | 2013-10-04 | 2018-04-10 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Fin-shaped field effect transistor and capacitor structures |
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JP2007201244A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000174241A (ja) | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
IT1308074B1 (it) | 1999-06-04 | 2001-11-29 | Pro Cord Srl | Sedia con sedile e schienale oscillanti in modo sincronizzato |
US6969656B2 (en) * | 2003-12-05 | 2005-11-29 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method and circuit for multiplying signals with a transistor having more than one independent gate structure |
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JP4354892B2 (ja) | 2004-09-21 | 2009-10-28 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
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WO2009107241A1 (ja) | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 株式会社 東芝 | マルチドットフラッシュメモリ |
-
2008
- 2008-08-22 JP JP2009529080A patent/JPWO2009025368A1/ja active Pending
- 2008-08-22 WO PCT/JP2008/065039 patent/WO2009025368A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-02-22 US US12/710,172 patent/US8410545B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009025368A1 (ja) | 2009-02-26 |
US20100187594A1 (en) | 2010-07-29 |
US8410545B2 (en) | 2013-04-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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