JPWO2008093422A1 - 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 - Google Patents
細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2008093422A1 JPWO2008093422A1 JP2008555991A JP2008555991A JPWO2008093422A1 JP WO2008093422 A1 JPWO2008093422 A1 JP WO2008093422A1 JP 2008555991 A JP2008555991 A JP 2008555991A JP 2008555991 A JP2008555991 A JP 2008555991A JP WO2008093422 A1 JPWO2008093422 A1 JP WO2008093422A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sio
- water
- silica sol
- mass
- colloidal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/141—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/146—After-treatment of sols
- C01B33/1465—"Build-up" of particles using only one sol and a "heel" consisting or not of the sol
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/146—After-treatment of sols
- C01B33/148—Concentration; Drying; Dehydration; Stabilisation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3045—Treatment with inorganic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】
1ないし6質量%のSiO2濃度、2ないし5のpHを有する活性珪酸のコロイド水溶液に水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含有する水溶液を上記活性珪酸のSiO2に対してCaO、MgO又はCaO及びMgO両者の質量比が1500ないし15000ppmとなる量で添加し混合する(a)工程、(a)工程で得た水溶液にアルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩をSiO2/M2Oで表される式(但し、SiO2は上記活性珪酸に由来するシリカ分と上記水溶性珪酸塩のシリカ分を合わせた総含有量を表し、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分子を表す。)に換算したモル比が20ないし200となる量で添加し混合する(b)工程、(b)工程で得た混合物を85ないし200℃で0.5ないし20時間加熱することによりコロイド溶液を得る(c)工程、(c)工程で得たコロイド溶液から、水の一部を除去し、かつ上記水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含有する水溶液に由来する陰イオンの少なくとも一部を除去する(d)工程、及び(d)工程で得たコロイド溶液を80ないし195℃の温度であって、かつ(c)工程の加熱温度より低い温度で0.5ないし20時間加熱する(e)工程を含む製造方法による。
【選択図】 なし
Description
細長い形状を有するシリカゾルは、これらの実用上の問題を改善でき、固体表面上で乾燥されると優れた被膜性を示し、顔料及びその他種々の分野に良好に用いることができる。
上記特許文献1に記載の方法により、斯かる細長い形状を有するシリカゾルが得られるが、この方法では加熱によって動的光散乱法により測定される粒子径(DLnm)と窒素吸着法により測定される粒子径(DBnm)が同時に成長してしまうため、DL粒子径とDB粒子径の両者を制御することは困難であった。
本発明では、細長い形状を有するシリカゾルの製造法において、DL粒子径とDB粒子径の両方を制御することにより、安定な、細長い形状を有するシリカゾルを効率よく製造する方法を提供しようとするものである。
(DL2/DB2)/(DL1/DB1)≧1.2 (I)
で表される関係を満たす細長い形状を有するシリカゾルの製造方法である;
(a)1ないし6質量%のSiO2濃度、2ないし5のpHを有する活性珪酸のコロイド水溶液に水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含有する水溶液を上記活性珪酸のSiO2に対してCaO、MgO又はCaO及びMgO両者の質量比が1500ないし15000ppmとなる量で添加し混合する工程、
(b)(a)工程により得られた水溶液にアルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩をSiO2/M2Oで表される式(但し、SiO2は上記活性珪酸に由来するシリカ分と上記水溶性珪酸塩のシリカ分を合わせた総含有量を表し、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分子を表す。)に換算したモル比が20ないし200となる量で添加し混合する工程、
(c)(b)工程により得られた混合物を85ないし200℃で0.5ないし20時間加熱してコロイド溶液を得る工程、
(d)(c)工程によって得られたコロイド溶液から、水の一部を除去し、かつ上記水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含有する水溶液に由来する陰イオンの少なくとも一部を除去する工程、及び
(e)(d)工程によって得られたコロイド溶液を80ないし195℃の温度であって、かつ(c)工程の加熱温度より低い温度で0.5ないし20時間加熱する工程。
好ましい形態は、以下に示される。
前記(e)工程の加熱が、(c)工程の加熱温度より5ないし60℃低い温度で行われること。
前記(d)工程の陰イオン除去が、コロイド溶液に含まれるSiO2の量に対して1.0質量%以下の量となるまで行われること。
前記(d)工程の水の除去が、コロイド溶液のSiO2濃度が10ないし40質量%となるまで行われること。
DB(nm)=2720/S(m2/g) (II)
により求められる。
また、本発明の方法により、(e)工程で得られるコロイダルシリカ粒子の窒素吸着法により測定される粒子径(DB2nm)が5ないし20nmであって、かつ該粒子径(DB2nm)と上記コロイダルシリカ粒子の動的光散乱法により測定される粒子径(DL2nm)との粒子径比(DL2/DB2)が4ないし20であり、かつ(c)工程で得られるコロイダルシリカ粒子の窒素吸着法により測定される粒子径(DB1nm)及び動的光散乱法により測定される粒子径(DL1nm)と上記(e)工程で得られるコロイダルシリカ粒子の窒素吸着法により測定される粒子径(DB2nm)及び動的光散乱法により測定される粒子径(DL2nm)が、以下の式(I)
(DL2/DB2)/(DL1/DB1)≧1.2 (I)
で表される関係を満たすコロイダルシリカ粒子が液体媒体中に安定に分散する、細長い形状を有するシリカゾルを得ることができる。(DL2/DB2)及び(DL1/DB1)は細長い形状のコロイダルシリカの伸長度を表しており、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)比が大きくなるほどコロイダルシリカ粒子は細長くなる。
本発明の方法により得られる細長い形状を有するシリカゾルは、固体表面上で乾燥されると優れた被膜性を示すため、顔料及びその他種々の分野に良好に用いることができる。
(a)工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶液は、珪酸及び粒子径3nm未満の珪酸の重合体粒子が共存する水溶液であり、公知の方法により容易に得られる。好ましい活性珪酸のコロイド水溶液は、水溶性珪酸塩、例えば、SiO2/M2Oで表される式(但し、SiO2は上記活性珪酸に由来するシリカ分と上記水溶性珪酸塩のシリカ分を合わせた総含有量を表し、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分子を表す。)に換算したモル比が1ないし4.5程度の水ガラスの希釈水溶液を陽イオン交換処理することにより得られ、通常6質量%以下、好ましくは1ないし6質量%のSiO2を含有し、そしてpHが5以下、好ましくは2ないし5であるものが用いられる。そしてこの活性珪酸のコロイド水溶液のpHは、上記水ガラス水溶液を陽イオン交換処理する際、その中の陽イオンの一部を残存させることによっても、あるいは、その中の陽イオンの全部又は一部を除いた後、得られた活性珪酸のコロイド水溶液に少量のアルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基等を添加することによっても容易に調節することができる。この活性珪酸のコロイド水溶液は不安定であって、ゲル化し易い性質を有するので、ゲル化を促進するような不純物をなるべく含有しないものが好ましく、また、調製直後のものがより好ましい。更に好ましい活性珪酸のコロイド水溶液は、SiO2/Na2Oモル比が2ないし4程度の市販工業製品のナトリウム水ガラスを水で希釈した水溶液を、水素型陽イオン交換樹脂層に通過させることにより得られる。本発明の目的とするゾルが得られる限り、この活性珪酸のコロイド水溶液は、他の成分を含有していてもよく、そして微量の陽イオン、陰イオン等を含有していてもよい。
(DL2/DB2)/(DL1/DB1)≧1.2 (I)
で表される関係を満たすコロイダルシリカ粒子が液体媒体中に安定に分散する、細長い形状を有するシリカゾルを得ることができる。
1)pH
室温下、イオン電極法にて測定した。
2)SiO2濃度
質量法を用いて測定した。
3)陰イオン(Cl-、NO3 -、SO4 2-)濃度
分画分子量1万の限外ろ過器を用いて、水性シリカゾルから得られた濾水を高速液体イオンクロマトグラフィー(DIONEX社製 IC25、カラム:InoPac AS17、溶離液:0.15mM 水酸化カリウム)を用いて測定した。
4)DL1、DL2粒子径(動的光散乱法により測定される粒子径)
動的光散乱法測定装置(サブミクロン粒子アナライザー model N4 ベックマン コールター社製)により測定した。
5)DB1、DB2粒子径(窒素吸着法により測定される粒子径)
水素型強酸性陽イオン交換樹脂と水性シリカゾルを接触させ、シリカゾルの表面に吸着しているナトリウムを除去した後に、300℃で乾燥し、その後粉砕して粉末試料を調製した。調製した粉末試料は、窒素吸着法比表面積測定装置(ユアサアイオニクス社製 Monosorb MS−16)にてBET法による比表面積S(m2/g)を測定して、DB1、DB2粒子径(nm)を求めた。
なお、計算式はコロイダルシリカ粒子を球状粒子として得られる下記の式(II)
DB(nm)=2720/S(m2/g) (II)
より求めた。
6)電子顕微鏡観察
透過型電子顕微鏡(日本電子データム社製 JEM−1010)を用いて、加速電圧100kVにて粒子の撮影を行った。
市販のナトリウム水ガラス(JIS3号ナトリウム水ガラス:SiO2濃度28.8質量%、Na2O濃度9.47質量%)に水を添加して、SiO2濃度3.8質量%の珪酸ナトリウム水溶液を得た。この珪酸ナトリウム水溶液を水素型強酸性陽イオン交換樹脂(アンバーライトIR−120B、ローム アンド ハース カンパニー社製)を充填したカラムに通すことによりSiO2濃度3.6質量%、pH2.9の活性珪酸のコロイド水溶液を得た。この活性珪酸コロイド水溶液に撹拌下、20℃で10質量%の硝酸カルシウム水溶液を、SiO2に対してCaOが5500質量ppmとなる量で添加した。30分後、更に10質量%の水酸化ナトリウム水溶液をSiO2/Na2Oのモル比が80となる量で添加した後、該コロイド溶液のSiO2濃度が3質量%となるよう純水で濃度調整を行った。濃度調整されたコロイド水溶液2800gを撹拌器と温度計が具備された内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、130℃で6時間加熱した。その後、25℃まで冷却してシリカゾルを取り出した。得られたシリカゾルの陰イオン濃度はSiO2に対して1.38質量%であった。該シリカゾルを限外ろ過装置(分画分子量5万)を用いて25℃で濃縮することにより、陰イオンと水とを、それぞれ一部を除去した。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH9.3、電導度2320μS/cm、B型粘度7.2mPa・s、SiO2濃度20質量%であり、陰イオン濃度はSiO2に対して0.16質量%であった。また、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm、DL1/DB1=3.3であった。この限外ろ過を行って得られたシリカゾル2800gを内容積3Lのステンレス製オートクレーブに入れ、撹拌下、105℃で8時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH9.6、電導度2290μS/cm、B型粘度19.8mPa・s、DL2粒子径52.8nm、DB2粒子径10.5nmであり、DL2/DB2=5.0、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.5となった。
実施例1の限外ろ過の後に得られたシリカゾル(SiO2濃度20質量%、SiO2に対して0.16質量%の陰イオン濃度、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm)800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下、100℃で8時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.3、電導度2300μS/cm、B型粘度22.5mPa・s、SiO2濃度20質量%であり、陰イオン濃度はSiO2に対して0.16質量%、DL2粒子径58.0nm、DB2粒子径10.0nmであり、DL2/DB2=5.8、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.8となった。
実施例1の限外ろ過の後に得られたシリカゾル(SiO2濃度20質量%、SiO2に対して0.16質量%の陰イオン濃度、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm)をロータリー式エバポレーターにより60mmHg、浴温60℃の条件で1時間かけて水の一部を除去してSiO2濃度30質量%まで濃縮を行った。このときのシリカゾルの温度は32℃であった。濃縮されたシリカゾル800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下、80℃で5時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.204、pH10.2、電導度3629μS/cm、B型粘度600mPa・s、SiO2濃度30質量%であり、陰イオン濃度はSiO2に対して0.16質量%、DL2粒子径50.2nm、DB2粒子径10.0nmであり、DL2/DB2=5.0、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.5となった。
実施例1の限外ろ過の後に得られたシリカゾル(SiO2濃度20質量%、SiO2に対して0.16質量%の陰イオン濃度、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm)をロータリー式エバポレーターにより60mmHg、浴温60℃の条件で1時間かけて水の一部を除去してSiO2濃度30質量%まで濃縮を行った。このときのシリカゾルの温度は32℃であった。濃縮されたシリカゾル800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下、60℃で8時間加熱を行った。得られたシリカゾルのDL2粒子径32.4nm、DB2粒子径10.0nmであり、DL2粒子径は変化しなかった。DL2/DB2=3.2であり、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.0となった。
実施例1の130℃、6時間の加熱の後に得られたシリカゾル(SiO2濃度3質量%、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm)から水と陰イオンを除去せず、SiO2濃度3質量%のシリカゾルを実施例1と同じオートクレーブに仕込み、撹拌下、105℃で8時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.012、pH9.3、電導度700μS/cm、B型粘度4.0mPa・s、DL2粒子径32.4nm、DB2粒子径10.0nmであり、DL2粒子径は変化しなかった。DL2/DB2=3.2であり、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.0となった。
実施例1の130℃、6時間の加熱の後に得られたシリカゾル(SiO2濃度3質量%、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm)をロータリー式エバポレーターにより60mmHg、浴温60℃の条件で40分かけて水の一部を除去してSiO2濃度20質量%まで濃縮を行った。このときのシリカゾルの温度は32℃であった。濃縮の際、陰イオンは除去されなかった。濃縮後のシリカゾル中の陰イオン濃度はSiO2に対して1.38質量%であった。濃縮されたシリカゾル800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下で加熱を行ったところ、シリカゾルの温度が90℃に達した時点で流動性を示さないゲル状物質となり、シリカゾルを得ることができなかった。
実施例1の限外ろ過の後に得られたシリカゾル(SiO2濃度20質量%、SiO2に対して0.16質量%の陰イオン濃度、DL1粒子径32.4nm、DB1粒子径9.8nm)2500gを実施例1と同様の3Lのオートクレーブに入れ、撹拌下130℃で1時間加熱を行ったところ、流動性を示さないゲル状物質となり、シリカゾルを得ることができなかった。
実施例1と同様に、活性珪酸コロイド水溶液に10質量%の硝酸カルシウム水溶液をSiO2に対してCaOが5500質量ppmとなる量で添加した。30分後、更に10質量%の水酸化ナトリウム水溶液をSiO2/Na2Oのモル比が80となる量で添加した後、コロイド水溶液のSiO2濃度が3質量%となるように純水を添加した。該コロイド水溶液2800gを実施例1と同じオートクレーブに仕込み、撹拌下、130℃で25時間加熱した。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH9.4、電導度2300μS/cm、B型粘度8.0mPa・s、DL2粒子径47.9nm、DB2粒子径12.5nmであった。DL2/DB2=3.8でありDL2/DB2は4以下となった。
実施例1と同様にして得られた活性珪酸コロイド水溶液に、10質量%の硝酸カルシウム水溶液をSiO2に対してCaOが6700質量ppmとなる量で添加した後、SiO2/Na2Oのモル比が60となる量で10質量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、その後、SiO2濃度が3質量%となるように純水を添加した。該コロイド水溶液2800gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、128℃で2.5時間加熱した後、室温まで冷却してシリカゾルを取り出した。得られたシリカゾルの陰イオン濃度はSiO2に対して1.71質量%であった。該シリカゾルを限外ろ過装置(分画分子量5万)を用いて25℃で濃縮することにより、陰イオンと水とを、それぞれ一部を除去した。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH9.5、電導度2420μS/cm、B型粘度8.2mPa・s、SiO2濃度20質量%、陰イオン濃度はSiO2に対して0.25質量%であり、DL1粒子径31.8nm、DB1粒子径8.7nm、DL1/DB1=3.7であった。この限外ろ過後に得られたシリカゾル800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下、98℃で8時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH9.6、電導度2290μS/cm、B型粘度19.8mPa・s、DL2粒子径52.9nm、DB2粒子径9.5nmとなり、DL2/DB2=5.6、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.5となった。
実施例4の限外ろ過後のシリカゾル(SiO2濃度20質量%、SiO2に対して0.25質量%の陰イオン濃度、DL1粒子径31.8nm、DB1粒子径8.7nm)2500gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下110℃で2時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.3、電導度2260μS/cm、B型粘度41.8mPa・s、DL2粒子径63.0nm、DB2粒子径10.3nmとなり、DL2/DB2=6.1、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.7となった。
実施例1と同様にして得られた活性珪酸コロイド水溶液に、10質量%の硝酸カルシウム水溶液をSiO2に対してCaOが5700質量ppmとなる量で添加した後、SiO2/Na2Oのモル比が70となる量で10質量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、その後、SiO2濃度が3質量%となるように純水を添加した。該コロイド水溶液2800gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、128℃で4.5時間加熱し、シリカゾルを得た。得られたシリカゾルの陰イオン濃度はSiO2に対して1.46質量%であった。該シリカゾルを限外ろ過装置(分画分子量5万)を用いて25℃で濃縮することにより、陰イオンと水とを、それぞれ一部を除去した。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.2、電導度2320μS/cm、B型粘度9.8mPa・s、SiO2濃度20質量%、陰イオン濃度はSiO2に対して0.24質量%であり、DL1粒子径38.8nm、DB2粒子径10.2nm、DL1/DB1=3.8であった。この限外ろ過後に得られたシリカゾル2500gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下105℃で7時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.3、電導度2260μS/cm、B型粘度41.8mPa・s、DL2粒子径63.3nm、DB2粒子径10.5nmとなり、DL2/DB2=6.0、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.6となった。
実施例1と同様にして得られた活性珪酸コロイド水溶液に、10質量%の硝酸カルシウム水溶液をSiO2に対してCaOが5700質量ppmとなる量で添加した後、SiO2/Na2Oのモル比が70となる量で10質量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、その後、SiO2濃度が3質量%となる量で純水を添加した。該コロイド水溶液2800gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、128℃で5.6時間加熱し、シリカゾルを得た。得られたシリカゾルの陰イオン濃度はSiO2に対して1.46質量であった。該シリカゾルを限外ろ過装置を用いて25℃で濃縮することにより、陰イオンと水とを、それぞれ一部を除去した。得られたシリカゾルの物性は比重1.092、pH10.9、電導度2450μS/cm、B型粘度8.0mPa・s、SiO2濃度15質量%、陰イオン濃度は0.39質量%であり、DL1粒子径48.0nm、DB1粒子径9.6nm、DL1/DB1=5であった。この限外ろ過後に得られたゾル800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下、98℃で7時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.092、pH10.4、電導度2420μS/cm、B型粘度23.5mPa・s、DL2粒子径75.8nm、DB2粒子径9.7nmとなり、DL2/DB2=7.8、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.6となった。
実施例1と同様にして得られた活性珪酸コロイド水溶液に、10質量%の硝酸カルシウム水溶液をSiO2に対してCaOが6000質量ppmとなる量で添加した後、SiO2/Na2Oのモル比が50となる量で10質量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、その後、SiO2濃度が3質量%となる量で純水を加えた。該コロイド水溶液2800gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、140℃で12時間加熱し、シリカゾルを得た。得られたシリカゾルの陰イオン濃度はSiO2に対して1.54質量%であった。該シリカゾルを限外ろ過装置を用いて25℃で濃縮することにより、陰イオンと水とを、それぞれ一部を除去した。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.3、電導度2450μS/cm、B型粘度8.6mPa・s、SiO2濃度20質量%、陰イオン濃度はSiO2に対して0.30質量%であり、DL1粒子径47nm、DB1粒子径12.2nm、DL1/DB1=3.9であった。この限外ろ過後に得られたシリカゾル2500gを内容積3Lオートクレーブに入れ、撹拌下、103℃で3.5時間加熱を行った。ここで得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.3、電導度2400μS/cm、B型粘度11.3mPa・s、DL2粒子径61.7nm、DB2粒子径12.2nmとなり、DL2/DB2=5.1、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.3となった。
実施例8の限外ろ過後に得られたシリカゾル(SiO2濃度20質量%、SiO2に対して0.30質量%の陰イオン濃度、DL1粒子径47nm、DB1粒子径12.2nm)2800gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、103℃で9時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.130、pH10.3、電導度2400μS/cm、B型粘度14.4mPa・s、DL2粒子径71.1nm、DB2粒子径12.2nmとなり、DL2/DB2=5.8、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.5となった。
実施例1と同様にして得られた活性珪酸コロイド水溶液に、10質量%の硝酸カルシウム水溶液をSiO2に対してCaOが8330質量ppmとなる量で添加した後、SiO2/Na2Oのモル比が60となる量で10質量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、SiO2濃度が3質量%となる量で純水を添加した。該コロイド水溶液2800gを内容積3LのSUS製オートクレーブに入れ、撹拌下、110℃で3時間加熱し、シリカゾルを得た。得られたシリカゾルの陰イオン濃度は2.11質量%であった。該シリカゾルを限外ろ過装置を用いて25℃で濃縮することにより、陰イオンと水とを、それぞれ一部を除去した。得られたシリカゾルの物性は比重1.092、pH9.3、電導度2040μS/cm、B型粘度13.3mPa・s、SiO2濃度15質量%、陰イオン濃度はSiO2に対して0.58質量%であり、DL1粒子径45.8nm、DB1粒子径7.9nm、DL1/DB1=5.8であった。この限外ろ過後に得られたシリカゾル800gを撹拌機、還流装置、温度計が具備された内容積1Lのガラス製反応容器に入れ、撹拌下、90℃で1.5時間加熱を行った。得られたシリカゾルの物性は比重1.092、pH9.3、電導度2040μS/cm、B型粘度135mPa・s、DL2粒子径73.4nm、DB2粒子径8.0nm、DL2/DB2=9.2となり、(DL2/DB2)/(DL1/DB1)=1.6となった。
Claims (4)
- 下記の(a)、(b)、(c)、(d)及び(e)工程を含む、(e)工程で得られるコロイダルシリカ粒子の窒素吸着法により測定される粒子径(DB2nm)が5ないし20nmであって、かつ該粒子径(DB2nm)と上記コロイダルシリカ粒子の動的光散乱法により測定される粒子径(DL2nm)との粒子径比(DL2/DB2)が4ないし20であり、かつ(c)工程で得られるコロイダルシリカ粒子の窒素吸着法により測定される粒子径(DB1nm)及び動的光散乱法により測定される粒子径(DL1nm)と上記(e)工程で得られるコロイダルシリカ粒子の窒素吸着法により測定される粒子径(DB2nm)及び動的光散乱法により測定される粒子径(DL2nm)が下記の式(I)
(DL2/DB2)/(DL1/DB1)≧1.2 (I)
で表される関係を満たす細長い形状を有するシリカゾルの製造方法;
(a)1ないし6質量%のSiO2濃度、2ないし5のpHを有する活性珪酸のコロイド水溶液に水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含有する水溶液を上記活性珪酸のSiO2に対してCaO、MgO又はCaO及びMgO両者の質量比が1500ないし15000ppmとなる量で添加し混合する工程、
(b)(a)工程により得られた水溶液にアルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩をSiO2/M2Oで表される式(但し、SiO2は上記活性珪酸に由来するシリカ分と上記水溶性珪酸塩のシリカ分を合わせた総含有量を表し、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分子を表す。)に換算したモル比が20ないし200となる量で添加し混合する工程、
(c)(b)工程により得られた混合物を85ないし200℃で0.5ないし20時間加熱してコロイド溶液を得る工程、
(d)(c)工程によって得られたコロイド溶液から、水の一部を除去し、かつ上記水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含有する水溶液に由来する陰イオンの少なくとも一部を除去する工程、及び
(e)(d)工程によって得られたコロイド溶液を80ないし195℃の温度であって、かつ(c)工程の加熱温度より低い温度で0.5ないし20時間加熱する工程。 - 前記(e)工程の加熱が、(c)工程の加熱温度より5ないし60℃低い温度で行われる請求項1に記載の細長い形状を有するシリカゾルの製造方法。
- 前記(d)工程の陰イオン除去が、コロイド溶液に含まれるSiO2の量に対して1.0質量%以下の量となるまで行われる請求項1に記載の細長い形状を有するシリカゾルの製造方法。
- 前記(d)工程の水の除去が、コロイド溶液のSiO2濃度が10ないし40質量%となるまで行われる請求項1に記載の細長い形状を有するシリカゾルの製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2007/051697 WO2008093422A1 (ja) | 2007-02-01 | 2007-02-01 | 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008093422A1 true JPWO2008093422A1 (ja) | 2010-05-20 |
JP5019076B2 JP5019076B2 (ja) | 2012-09-05 |
Family
ID=39673742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008555991A Active JP5019076B2 (ja) | 2007-02-01 | 2007-02-01 | 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100037801A1 (ja) |
JP (1) | JP5019076B2 (ja) |
KR (1) | KR20100014355A (ja) |
CN (1) | CN101626979B (ja) |
DE (1) | DE112007003301T5 (ja) |
WO (1) | WO2008093422A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010143784A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Adeka Corp | 分鎖状シリカ粒子よりなるシリカゾル及びその製造方法 |
CN102390837A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-03-28 | 南通海迅天恒纳米科技有限公司 | 一种非球形纳米级硅溶胶的制备方法 |
WO2014171485A1 (ja) | 2013-04-17 | 2014-10-23 | 日産化学工業株式会社 | シロキサンオリゴマー及び無機微粒子を含む硬化性組成物 |
CN104877401A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-09-02 | 天津市职业大学 | 一种玻璃镀膜液的制备方法及应用 |
US11427730B2 (en) | 2017-11-16 | 2022-08-30 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Dispersion liquid of silica particles and production method therefor |
KR20200125603A (ko) * | 2018-02-26 | 2020-11-04 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 가늘고 긴 입자형상을 갖는 실리카졸의 제조방법 |
US11814295B2 (en) | 2018-02-26 | 2023-11-14 | Nissan Chemical Corporation | Method for producing silica sol having elongated particle shape |
CN110732329B (zh) * | 2018-07-20 | 2022-12-27 | 国家能源投资集团有限责任公司 | 含钾硅溶胶及其制备方法和费托合成铁基催化剂及其制备方法和费托合成方法 |
JP6718157B1 (ja) * | 2018-11-01 | 2020-07-08 | 日産化学株式会社 | 水親和性の高い研磨粒子を用いた研磨用組成物 |
CN112229824B (zh) * | 2020-10-19 | 2023-07-21 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种测定硅溶胶制备过程中硅酸消耗速度的方法 |
KR102254165B1 (ko) * | 2021-01-14 | 2021-05-20 | 주식회사 씨앤에스테크 | 콘크리트 구조물의 표면보호용 친환경 표면마감재 조성물 및 이를 이용한 콘크리트 구조물의 표면마감 시공방법 |
CN113773806B (zh) * | 2021-10-19 | 2022-09-30 | 广东惠尔特纳米科技有限公司 | 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2803134B2 (ja) * | 1988-03-16 | 1998-09-24 | 日産化学工業株式会社 | 細長い形状のシリカゾル及びその製造法 |
NO300125B1 (no) * | 1988-03-16 | 1997-04-14 | Nissan Chemical Ind Ltd | Stabil væskeformig silikasol, samt fremgangsmåte ved fremstilling derav |
US5221497A (en) * | 1988-03-16 | 1993-06-22 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Elongated-shaped silica sol and method for preparing the same |
JP2676784B2 (ja) * | 1988-05-20 | 1997-11-17 | 日産化学工業株式会社 | 結合剤 |
JP2926915B2 (ja) * | 1990-07-05 | 1999-07-28 | 日産化学工業株式会社 | 細長い形状のシリカゾル及びその製法 |
JP3517913B2 (ja) * | 1993-10-15 | 2004-04-12 | 日産化学工業株式会社 | 細長い形状のシリカゾルの製造法 |
JP3758391B2 (ja) * | 1998-12-15 | 2006-03-22 | 日本化学工業株式会社 | 高純度シリカ水性ゾル及びその製造方法 |
DE60029778T2 (de) * | 1999-05-04 | 2007-10-18 | Akzo Nobel N.V. | Sole auf der basis von kieselsäure |
JP2001048520A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-02-20 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 細長い形状のシリカゾル及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-02-01 KR KR1020097015999A patent/KR20100014355A/ko active IP Right Grant
- 2007-02-01 CN CN2007800508568A patent/CN101626979B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-01 DE DE112007003301T patent/DE112007003301T5/de not_active Withdrawn
- 2007-02-01 JP JP2008555991A patent/JP5019076B2/ja active Active
- 2007-02-01 US US12/449,214 patent/US20100037801A1/en not_active Abandoned
- 2007-02-01 WO PCT/JP2007/051697 patent/WO2008093422A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008093422A1 (ja) | 2008-08-07 |
CN101626979A (zh) | 2010-01-13 |
KR20100014355A (ko) | 2010-02-10 |
US20100037801A1 (en) | 2010-02-18 |
JP5019076B2 (ja) | 2012-09-05 |
CN101626979B (zh) | 2012-01-25 |
DE112007003301T5 (de) | 2009-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5019076B2 (ja) | 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 | |
JP3517913B2 (ja) | 細長い形状のシリカゾルの製造法 | |
JP5334385B2 (ja) | ポリシリケート粒子状材料の製造および使用 | |
JP4918880B2 (ja) | ジルコニアゾルの製造方法 | |
KR960014908B1 (ko) | 실리카 졸 및 그 제조방법 | |
WO2010052945A1 (ja) | 非球状シリカゾル、その製造方法および研磨用組成物 | |
JP4566645B2 (ja) | シリカゾル及びその製造方法 | |
WO2007000926A1 (ja) | アルカリ性ジルコニアゾルの製造方法 | |
JP7137156B2 (ja) | 細長い粒子形状を有するシリカゾルの製造方法 | |
TW200902445A (en) | Aluminum-modified colloidal silica and process for producing the same | |
JP2926915B2 (ja) | 細長い形状のシリカゾル及びその製法 | |
JP7137157B2 (ja) | 細長い粒子形状を有するシリカゾルの製造方法 | |
TWI352067B (en) | Process for producing acidic aqueous alumina sol | |
JP5622386B2 (ja) | Zr−O系粒子を分散質とするゾル及びその製造方法 | |
JP2007204293A (ja) | 多孔質粒子およびその製造方法 | |
JP4936720B2 (ja) | 異方形状アルミナ水和物ゾルおよびその製造方法 | |
JP2006176392A (ja) | 変性された酸化第二スズゾルおよび酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの製造方法 | |
JP3362793B2 (ja) | シリカゾルの製造方法 | |
JP6203625B2 (ja) | シリカ粒子の製造方法 | |
JP5905767B2 (ja) | 中性コロイダルシリカ分散液の分散安定化方法及び分散安定性に優れた中性コロイダルシリカ分散液 | |
JP5346167B2 (ja) | 粒子連結型アルミナ−シリカ複合ゾルおよびその製造方法 | |
JPH04214022A (ja) | 偏平シリカゾルの製造法 | |
JP3708985B2 (ja) | アルカリ性アルミナゾルおよびその製造方法 | |
WO2022210195A1 (ja) | 安定化された活性珪酸水溶液、それを用いたシリカゾル及び製造方法 | |
JP2022157237A (ja) | 金平糖状アルミナ-シリカ複合微粒子分散液の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120516 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120529 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5019076 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |