JPWO2006067974A1 - 超電導磁気浮上による非接触搬送装置 - Google Patents

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Abstract

複数の永久磁石（１６）〜（１９）が底部に設けられ、搬送対象物（１１）を運ぶ搬送台（１２）と、搬送台（１２）の各永久磁石（１６）〜（１９）の直下に配置される超電導体（２０）を備えた搬送案内手段（１３）と、搬送案内手段（１３）に設けられて、搬送台（１２）と搬送案内手段（１３）との距離を検知する距離センサ（２１）と、搬送案内手段（１３）に設けられて、通電によって搬送台（１２）を制振するための磁界を発生させる制振コイル（２５）と、距離センサ（２１）の信号によって搬送台（１２）の振動を検知し、制振コイル（２５）に流す電流を制御する制御部（２７）とを有する。これによって、超電導磁気浮上によって非接触で搬送している搬送対象物（１１）等に外乱があっても、短時間のうちにその振動が収まり、安定して搬送対象物（１１）を搬送可能な超電導磁気浮上による非接触搬送装置（１０）を提供できる。

Description

本発明は、例えば、気密室（特殊ガス雰囲気チャンバー、及び真空チャンバーを含む）や温度が外気と異なる隔離室等での半導体チップや精密部品の搬送、無菌室等での試料の搬送、その他物体（部品、完成品、液状又は固形状物、動物、及び植物を含む）を非接触（又は隔離状態）で搬送する装置に関する。
現在、半導体製造においては、ミクロンサイズでのゴミの存在も許容されないクリーンな真空室（真空槽）で行う必要がある。この真空室等でシリコンウェーハ等を移動させるには、無発塵のクリーンロボットを用いる必要があり、半導体の製造装置自体から隔離され、密閉された真空室内で全ての処理工程を完了することが望まれている。
このような真空室（又は密閉室）内にある物体を真空室外から操作して移動させるには、例えば、超電導による磁気浮上搬送装置を用いることが好ましい。このような超電導を用いた磁気浮上装置が、例えば、日本国特開昭６３−３１０３０４号公報に開示されている。
日本国特開昭６３−３１０３０４号公報に開示の技術は、磁石を配列した磁石列と超電導体とを互いに反発させ、その一方を浮上させるようにしたものであり、いずれか一方（通常、超電導体）を移動させて磁石列（搬送体）を搬送可能とするものである。しかしながら、この特許公報の技術において、超電導体に衝撃等の外乱があった場合、浮上している磁石列に振動が発生する。そして、この磁石列はピン止め効果によって自由空間に浮上状態であるので、振動が永続するという問題があった。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、超電導磁気浮上によって非接触で搬送している搬送物（具体的には搬送台）又は超電導体に外乱があっても、短時間のうちにその振動が収まり、安定して搬送物を搬送可能な超電導磁気浮上による非接触搬送装置を提供することを目的とする。
前記目的に沿う本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置は、複数の永久磁石が底部に設けられ、搬送対象物を運ぶ搬送台と、
前記搬送台の各永久磁石の直下に配置される超電導体を備えた搬送案内手段と、
前記搬送案内手段に設けられて、前記搬送台と前記搬送案内手段との距離を検知する距離センサと、
前記搬送案内手段に設けられて、通電によって前記搬送台を制振するための磁界を発生させる制振コイルと、
前記距離センサの信号によって前記搬送台の変位を検知し、前記制振コイルに流す電流を制御する制御部とを有する。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置においては、搬送案内手段を移動させることによって、搬送案内手段とは隙間を有して配置された搬送台を移動させることができる。そして、仮に搬送案内手段に振動が発生し、又は搬送台に直接振動が発生した場合であっても、距離センサによってその変位を検知し、制振コイルに電流を流して、短時間のうちにその振動を抑制することができる。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記搬送台は密閉容器（例えば、真空容器）内に配置され、前記搬送案内手段は前記密閉容器外に設けることもでき、これによって、搬送案内手段を移動させることによって、密閉容器内の搬送台及びそれに載っている搬送対象物（例えば、シリコン等）が移動する。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記超電導体は複数に分割されたリング状となって、該リング状となった超電導体の底部に前記制振コイルが実質同心状に設けられているものであってもよい。これによって、リング状の超電導体の内孔は制振コイルの磁束が有効に通過でき、更に周囲の超電導体によってこの磁束が収束又は強化されるので、制振コイルを超電導体の下部に配置しても、搬送台の永久磁石に対する制振コイルの磁気作用が減衰することがない。従って、結果として制振コイルを超電導体の下に配置できるので、超電導体から搬送台までの距離を小さくすることができる。
また、本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記搬送台の中央位置に磁性体が設けられ、前記制振コイルは前記磁性体の直下位置に配置されているものであってもよい。これによって、制振コイルが一つで済み装置自体の簡略化が可能となる。この場合、前記磁性体は第２の永久磁石であって、前記制振コイルは空心コイルからなるようにするのが、より効率的に、大きな力で短時間のうちに制振作用を発揮できる。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記距離センサは、前記搬送案内手段の上に配置されたホール素子から構成することも可能である。これによって搬送台に設けられた永久磁石の磁気を検知し、搬送台と搬送案内手段との距離を測定できる。この場合、ホール素子が制振コイルによって発生する磁気の影響を受ける場合には、制振コイルによって発生する磁場の出力を最終出力から差し引いて出力することになる。なお、ここで、前記ホール素子は前記超電導体の上に配置することも可能である。
また、本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記搬送台に設けられている永久磁石はハルバッハ配列されて、該搬送台の下方にのみ前記永久磁石の磁極が向いているのがより好ましい。これによって永久磁石の磁束をより有効に利用できると共に、搬送台の上に磁束が漏洩しないので、搬送対象物が磁場による影響を受けないことになる。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記制御部は、前記距離センサによって検知された前記搬送台と前記搬送案内手段との距離の微分制御を主体としているのがよい。超電導体の上に永久磁石を有する搬送台を配置する場合には、ピン止め効果によって永久磁石は超電導体の上に浮上し、上下した場合には超電導体から発生する磁束によって移動する方向と反対方向に磁力が発生するので、自身が所謂比例制御の要素を有している。一方、搬送台に振動が発生した場合には、この振動を超電導体と永久磁石との間の力によって抑制できるので、搬送台の位置（変位）を微分した値を制御要素とする所定の大きさの電流を、搬送台が制動する方向に制振コイルに流すと、急速に搬送台の振動を止めることができる。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、超電導体は、冷媒（例えば液体窒素、液体ヘリウム、液体アルゴン、液体水素等）で冷却することもできるが、冷凍機で冷却するのがよい。これによって、装置を連続的に使用することができる。
本発明の第１の実施例に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置の説明図である。 同非接触搬送装置の搬送台の底面部である。 （Ａ）、（Ｂ）は同非接触搬送装置の超電導体の説明図である。 本発明の第２の実施例に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置の説明図である。 （Ａ）、（Ｂ）は同非接触搬送装置の超電導体の説明図である。 実験例で使用した装置の概略構成図である。 ホール素子の出力値とギャップとの関係を示すグラフである。 制振コイルを作動させない場合の搬送台の変位と時間の関係を示すグラフである。 制振コイルを使用した場合の搬送台の変位と時間の関係を示すグラフである。
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供する。
図１に示すように、本発明の第１の実施例に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置１０は、搬送対象物の一例であるシリコンウェーハ１１を運ぶ搬送台１２と、この搬送台１２を誘導する搬送案内手段１３とを有している。搬送台１２は密閉容器の一例である真空容器（又は真空室）１４内に収納され、搬送案内手段１３は真空容器１４の外部でかつ搬送台１２の直下に設けられている。真空容器１４の底板１５は非磁性体物質、例えばオーステナイトステンレス鋼からなっている。
搬送台１２は上側が非磁性物質で下側が磁性物質からなって、図２に示すように、搬送台１２の底部４隅に永久磁石１６〜１９が設けられている。永久磁石１６〜１９の磁極は隣り合う磁極が異極となるように配置されている。なお、この実施例では搬送台１２はシリコンウェーハ１１を搬送するためのものであるが、密閉容器が例えば、特殊な環境の気密室であって、所定の温度条件が保持され、細菌や特殊な動植物を搬送する場合もある。また、この実施例では４つの永久磁石１６〜１９が設けられているが、場合によってその他の数、例えば、３又は５以上であってもよい。
搬送案内手段１３は、図示しない非磁性体からなるフレームを備え、このフレームに４つの超電導体２０が、前記した永久磁石１６〜１９に対応してその直下に設けられている。各超電導体２０の上部には距離センサの一例であるホール素子２１が設けられている。各超電導体２０は、図３（Ａ）に示すように、導体が中央で絶縁状態で２分割されたリング状となって、中央に内孔２２が形成されている。図３（Ｂ）に示すように、超電導体２０の上下には非磁性かつ絶縁体の板２３、２４が設けられ、板２３の上にホール素子２１が配置されている。超電導体２０の底部には同心状に制振コイル２５が設けられている。
更には、各超電導体２０の周囲は図示しない熱絶縁物で覆われていると共に、搬送案内手段１３に付設する冷凍機２６によって臨界温度以下（例えば、マイナス３Ｋ）に冷却されている。
搬送案内手段１３には、周知構造の図示しない上下移動機構と横移動機構（ＸＹ移動機構）が設けられ、必要によって上昇及び下降並びに所定方向への横移動ができるようになっている。
各超電導体２０の上部に設けられているホール素子２１は、その直上に設けられている永久磁石１６〜１９の磁束密度を検知しそのアナログ量を制御部２７に出力するようにしている。制御部２７ではこのホール素子２１のアナログ信号をデジタル信号に変換し、内部の制御手段（例えば、コンピュータ）に入力するようになっている。この制御手段では、このホール素子２１の信号から各超電導体２０の上方に設けられている永久磁石１６〜１９までの距離を演算し、必要な場合、制振コイル２５に電流を流して永久磁石１６〜１９に反発力又は吸引力を与えて発生する振動を抑制するようになっている。
この場合、制振コイル２５に電流を流すと、内孔２２を貫通する磁場が発生し、これによって、ホール素子２１の出力にも影響が現れるので、制御手段内部で、制振コイル２５によって発生する磁束密度の分だけホール素子２１の測定値からキャンセルして、ホール素子２１の測定値が正しい値となるように補正している。
制御手段においては、ホール素子２１に測定された超電導体２０とその上の永久磁石１６〜１９との距離Ｌを連続的に入力し、この時間微分値を増幅（即ち、比例定数：ｋ）して制振コイル２５に流して、距離Ｌの変動分を抑制している。これによって、搬送台１２が衝撃等で上方又は下方に移動すると、超電導体２０から逆方向の力が働き、これによって搬送台１２に上下振動が発生するが、制振コイル２５に流す電流によってこの振動を抑制することになる。
この場合、超電導体２０は２つ割りされており、超電導体２０内を流れる電流は図３（Ａ）の矢印方向ｅ、ｆ又はその反対方向になるので、内孔２２には制振コイル２５の磁束が通過でき、更には、超電導体２０のために収束されるので、磁束を減衰させることなく永久磁石１６〜１９に作用させることができる。
続いて、この超電導磁気浮上による非接触搬送装置１０の動作について不足する部分を説明する。
まず、搬送台１２の上に所定の搬送対象物（シリコンウェーハ１１）を載置した状態で、搬送案内手段１３をその直下に配置し、各永久磁石１６〜１９の直下に各超電導体２０（なお、詳細にはこの状態では、超電導体２０は冷却していないので通常の導体である）を位置させる。この状態で、搬送案内手段１３を上昇させて、搬送台１２との間で所定の距離を保つようにする。この所定の距離は、４つの超電導体２０で、搬送台１２を持ち上げることが可能な距離とする。次に、超電導体２０を冷凍機２６で冷却して、各超電導体２０が超電導性を発揮する温度にする。この状態で、搬送案内手段１３を所定の長さ上昇させると、これに伴い搬送台１２が真空容器１４内で浮上し、搬送案内手段１３を横移動させると、これに伴い搬送台１２も横移動し、結果として搬送台１２に搭載されている搬送対象物を搬送できる。
この状態で、搬送台１２又は搬送案内手段１３に上下方向の衝撃が加わると、搬送台１２は上下方向に振動を始めるが、この振動の変位をホール素子２１で検知し、この変位の微分成分に比例する電流を制振コイル２５に流す。なお、制振コイル２５の時定数は十分に小さい。制振コイル２５によって発生する制動力Ｆは、搬送台１２の振動時の速度又は加速度αに搬送台１２と搬送対象物の合計重量ｍを掛けた値Ｂの０．１〜１．０倍程度がよい。この値Ｂが小さいと制動力Ｆが小さくなって、制動が掛からず搬送台１２を制動させるのに時間がかかり、値Ｂが大きいと大電流を必要とし、過制動になる。これによって比較的短時間に、搬送台１２の振動を止めることができる。
続いて、図４、図５を参照しながら、本発明の第２の実施例に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置３０について説明する。なお、第１の実施例に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置１０と同一の構成要素については同一の符号を付してその詳しい説明を省略する。
図４に示すように、本発明の第２の実施例に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置３０は、搬送台３１と搬送案内手段３２とを有している。搬送台３１は搬送台１２と同じように底部周囲に永久磁石１６〜１９を有しているが、搬送台３１の底部中央にも磁性体の一例である第２の永久磁石３３を備えている。一方、搬送案内手段３２は、永久磁石１６〜１９に符合する位置に超電導体３４をそれぞれ備え、第２の永久磁石３３に符合する位置には空心コイルからなる制振コイル３５を備えている。
なお、ここで示す永久磁石１６〜１９、３３及び、更に不足する分を追加した永久磁石を、ハルバッハ配列にすることもできる。これによって、搬送台３１の上側は磁束が無くなるか、著しく減少する。
超電導体３４は、図５（Ａ）、（Ｂ）に示すように円形の板からなって、必要な場合、周囲を冷凍機によって冷却され、超電導性を示すようになっている。また、搬送案内手段３２の上部中央には、距離センサの一例であるホール素子３６が設けられ、搬送台３１に設けられている第２の永久磁石３３の磁気を検知し、その強さから搬送台３１と搬送案内手段３２との距離を検知している。なお、制振コイル３５から発生する磁場は制振コイル３５に流す電流で決定されるので、制御部３７内で制振コイル３５によって発生する磁場に対応する値を、ホール素子３６の出力から差し引いて、搬送台３１と搬送案内手段３２との距離を測定している。
この実施例においても同様、制御部３７には所定のプログラムが記載された制御手段が設けられ、通常はピン止め効果によって搬送台３１を搬送案内手段３２の上に浮上させ、搬送案内手段３２を動かすことによって搬送台３１を移動させる。この場合、ホール素子３６は搬送案内手段３２に一つしか設けられていないので、全体の回路が簡略化するという利点がある。
また、搬送案内手段３２又は搬送台３１の動作異常又は負荷異変（例えば、搬送台３１の搬送対象物を取り除く又は載置する）等で、搬送台３１に振動が発生した場合、ホール素子３６で検知された搬送台３１と搬送案内手段３２との距離信号を微分し、この微分した信号を増幅して制振コイル３５に流す。これによって、搬送台３１の振動に急激にブレーキが掛かり、振動が抑制される。
 実験例
次に、本発明の作用、効果を確認するために行った実験例について説明する。
図６に示すように、実験例に使用した装置４０は、図３に示す２分割型の超電導体２０を使用し、この超電導体２０の底部に制振コイル２５を配置している。距離センサの一例であるホール素子４１は、超電導体２０の上に載せて、模擬搬送台を構成する円板状の永久磁石４２の上下方向の変位（即ち、永久磁石４２と超電導体２０とのギャップ）を検知している。図７にはこのホール素子４１の出力値とギャップとの関係を示すが、永久磁石４２が所定の位置にある場合を基準としてギャップを変えた場合、ホール素子４１の出力とギャップとは比例することが分かる。
ホール素子４１の信号はＡＤ変換器４３、微分回路４４、ＤＡ変換器４５及び増幅回路４６を介して制振コイル２５にフィードバックされ、ホール素子４１が検知した変位が減少方向、即ち、永久磁石４２が下降した場合には、永久磁石４２を上昇させるように制振コイル２５に電流を流している。増幅回路４６にはその増幅を変えるボリウム（可変抵抗器）が設けられて、ＤＡ変換されたアナログ信号を任意の大きさに増幅することができ、実際は永久磁石４２の振動が最小限になるように予め調整しておくことになるが、具体的には、永久磁石４２の発生する速度又は加速度Ｐに対応する大きさの負の速度又は加速度Ｑ（Ｑ＝０．１Ｐ〜Ｐ）を加えている。
図８は制振コイル２５に電流が流れないようにして、永久磁石４２の上に所定重量の搬送対象物を載せた場合の、変位と時間の関係を測定したものであるが、相当長期の時間にわたって永久磁石４２が上下に振動していることが分かる。図９は制振コイル２５にホール素子４１で検知した信号を微分した信号を加えた場合の永久磁石４２の変位を測定しているが、短時間のうちに永久磁石４２の振動が収束している。
以上の実験例から、超電導磁気浮上による非接触搬送においては、制振コイルに距離センサで測定した信号を微分する信号をフィードバックする制御（即ち、微分制御）が有効であることが分かる。
前記実施例及び実験例においては、距離センサとしてホール素子を用いたが、例えば、渦電流センサ、超音波センサ、静電容量センサ、又は光センサ等を用いることもできる。
搬送台はこの実施例では平板状としたが、用途に合わせて例えば容器状のものを採用することもできる。
また、前記実施例において、搬送案内手段内に配置された超電導体と制振コイルとを別々に設けているが、これらを兼用させることもできる。即ち、制振コイルを超電導物質によって構成すると、装置自体を更にコンパクトに構成できる。
更には、超電導体の冷却を冷凍機で行っているが、所定温度以下の冷媒を使用することもできる。
本発明に係る超電導磁気浮上による非接触搬送装置は、非接触状態で物体を搬送可能であるので、例えば、異なる雰囲気及び／又は温度条件にあるチャンバー内にある物体や物質を外部から動かすことができ、チャンバー内にある半導体素子やその部品等の移動や搬送、又は無菌室等での試料や細菌の搬送に特に有効に利用できる。
また、搬送台に載った搬送対象物が浮いているので、外部からの振動に対して影響を受けることが少なく、搬送途中に外部から振動があっても、搬送対象物に伝わる振動を抑制しながら搬送できる。
更に、制振コイルに流す電流を制御することによって搬送台に載った搬送対象物を上下動させることもでき、従って、搬送台の水平移動と合成すると、搬送対象物の三次元空間移動が可能となる。
特に、搬送台をロボットハンドの先に取付けて前後左右させた場合には、搬送対象物を搬送台から隔離状態で遠隔操作できる。従って、例えば、搬送対象物が高電位を有する場合、アース状態にある搬送台から絶縁状態で搬送対象物を移動させることができる。

Claims (10)

  1. 複数の永久磁石が底部に設けられ、搬送対象物を運ぶ搬送台と、
    前記搬送台の各永久磁石の直下に配置される超電導体を備えた搬送案内手段と、
    前記搬送案内手段に設けられて、前記搬送台と前記搬送案内手段との距離を検知する距離センサと、
    前記搬送案内手段に設けられて、通電によって前記搬送台を制振するための磁界を発生させる制振コイルと、
    前記距離センサの信号によって前記搬送台の変位を検知し、前記制振コイルに流す電流を制御する制御部とを有することを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  2. 請求項１記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記搬送台は密閉容器内に配置され、前記搬送案内手段は前記密閉容器外に設けられていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  3. 請求項１及び２のいずれか１項に記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記超電導体は複数に分割されたリング状となって、該リング状となった超電導体の底部に前記制振コイルが実質同心状に設けられていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  4. 請求項１及び２のいずれか１項に記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記搬送台の中央位置に磁性体が設けられ、前記制振コイルは前記磁性体の直下位置に配置されていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  5. 請求項４記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記磁性体は第２の永久磁石であって、前記制振コイルは空心コイルからなることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記距離センサは、前記搬送案内手段の上に配置されたホール素子からなることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  7. 請求項６記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記ホール素子は前記超電導体の上に配置されていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記搬送台に設けられている永久磁石はハルバッハ配列されて、該搬送台の下方にのみ前記永久磁石の磁極が向いていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記制御部は、前記距離センサによって検知された前記搬送台と前記搬送案内手段との距離の微分制御を主体としていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
  10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の超電導磁気浮上による非接触搬送装置において、前記超電導体は冷媒又は冷凍機によって冷却されていることを特徴とする超電導磁気浮上による非接触搬送装置。
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Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1917447B1 (en) * 2005-08-23 2013-07-10 Korea Institute Of Machinery & Materials Static bearing apparatus having magnetically preloading and motional error correcting functions
JP4940428B2 (ja) * 2006-08-02 2012-05-30 国立大学法人九州工業大学 磁性体を用いた非接触磁気浮上方法及びこれを用いた非接触磁気浮上装置
US9033156B2 (en) * 2006-12-21 2015-05-19 M-I L.L.C. Electromagnetic separation for shakers
US7830495B2 (en) * 2007-07-10 2010-11-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and position sensor
JP5306371B2 (ja) * 2007-12-28 2013-10-02 ラム リサーチ コーポレーション ウエハキャリア駆動装置およびそれを動作させるための方法
KR101009465B1 (ko) * 2008-12-18 2011-01-19 한국기계연구원 할바흐 배열을 이용한 자기 부상 시스템 및 자기 부상 방법
JP5677785B2 (ja) 2009-08-27 2015-02-25 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法
DE102010028769A1 (de) 2010-05-07 2011-11-10 Pvt Probenverteiltechnik Gmbh System zum Transportieren von Behältern zwischen unterschiedlichen Stationen und Behälterträger
US8715518B2 (en) 2011-10-12 2014-05-06 Intermolecular, Inc. Gas barrier with vent ring for protecting a surface region from liquid
KR101230045B1 (ko) * 2011-04-19 2013-02-05 주식회사 에스에프에너지 영구자석모듈을 갖는 자기부상 크래프트
KR20130004830A (ko) 2011-07-04 2013-01-14 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
JP2013062316A (ja) * 2011-09-12 2013-04-04 Tokyo Electron Ltd 搬送装置及びプラズマ処理システム
EP2589968A1 (en) 2011-11-04 2013-05-08 Roche Diagnostics GmbH Laboratory sample distribution system, laboratory system and method of operating
EP2589967A1 (en) 2011-11-04 2013-05-08 Roche Diagnostics GmbH Laboratory sample distribution system and corresponding method of operation
EP2589966A1 (en) 2011-11-04 2013-05-08 Roche Diagnostics GmbH Laboratory sample distribution system and corresponding method of operation
US8617409B2 (en) 2011-11-22 2013-12-31 Intermolecular, Inc. Magnetically levitated gas cell for touchless site-isolated wet processing
US9016289B2 (en) 2011-11-28 2015-04-28 Intermolecular, Inc. System and method for reducing particles and marks on wafer surface following reactor processing
KR102081284B1 (ko) * 2013-04-18 2020-02-26 삼성디스플레이 주식회사 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치
JP6256982B2 (ja) * 2014-02-27 2018-01-10 高知県公立大学法人 鋼板の非接触型位置決め装置
EP2927168A1 (de) 2014-03-31 2015-10-07 Roche Diagniostics GmbH Transportvorrichtung, Probenverteilungssystem und Laborautomatisierungssystem
EP2927625A1 (de) 2014-03-31 2015-10-07 Roche Diagniostics GmbH Probenverteilungssystem und Laborautomatisierungssystem
EP2927163B1 (de) 2014-03-31 2018-02-28 Roche Diagnostics GmbH Vertikalfördervorrichtung, Probenverteilungssystem und Laborautomatisierungssystem
EP2927167B1 (de) 2014-03-31 2018-04-18 F. Hoffmann-La Roche AG Versandvorrichtung, Probenverteilungssystem und Laborautomatisierungssystem
CN107074453B (zh) * 2014-07-02 2020-07-14 费斯托股份两合公司 具有带有超导的磁性轴承的滚筒的输送系统
EP2977766A1 (en) * 2014-07-24 2016-01-27 Roche Diagniostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
DE112014006558B4 (de) * 2014-08-07 2018-05-03 Festo Ag & Co. Kg Fördereinrichtung
EP2995960B1 (en) 2014-09-09 2020-07-15 Roche Diagniostics GmbH Laboratory sample distribution system and method for calibrating magnetic sensors
EP2995580A1 (en) * 2014-09-09 2016-03-16 Roche Diagniostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
US9952242B2 (en) 2014-09-12 2018-04-24 Roche Diagnostics Operations, Inc. Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP2995958A1 (en) 2014-09-15 2016-03-16 Roche Diagniostics GmbH Method of operating a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3006943B1 (en) 2014-10-07 2020-04-22 Roche Diagniostics GmbH Module for a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
WO2016068363A1 (ko) 2014-10-31 2016-05-06 연세대학교 산학협력단 초전도 코일을 사용한 고속 물체 부상 장치 및 그 방법
EP3016116A1 (en) 2014-11-03 2016-05-04 Roche Diagniostics GmbH Printed circuit board arrangement, coil for a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3070479B1 (en) 2015-03-16 2019-07-03 Roche Diagniostics GmbH Transport carrier, laboratory cargo distribution system and laboratory automation system
EP3073270B1 (en) 2015-03-23 2019-05-29 Roche Diagniostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3096146A1 (en) 2015-05-22 2016-11-23 Roche Diagniostics GmbH Method of operating a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3095739A1 (en) 2015-05-22 2016-11-23 Roche Diagniostics GmbH Method of operating a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3112874A1 (en) 2015-07-02 2017-01-04 Roche Diagnostics GmbH Storage module, method of operating a laboratory automation system and laboratory automation system
EP3121603A1 (en) 2015-07-22 2017-01-25 Roche Diagnostics GmbH Sample container carrier, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
CN105128693B (zh) * 2015-08-24 2017-08-29 中国人民解放军国防科学技术大学 一种中低速磁浮列车气隙检测系统及方法
EP3139175B1 (en) 2015-09-01 2021-12-15 Roche Diagnostics GmbH Laboratory cargo distribution system, laboratory automation system and method of operating a laboratory cargo distribution system
EP3153866A1 (en) 2015-10-06 2017-04-12 Roche Diagnostics GmbH Method of determining a handover position and laboratory automation system
EP3153867B1 (en) 2015-10-06 2018-11-14 Roche Diagniostics GmbH Method of configuring a laboratory automation system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3156352B1 (en) 2015-10-13 2019-02-27 Roche Diagniostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3156353B1 (en) 2015-10-14 2019-04-03 Roche Diagniostics GmbH Method of rotating a sample container carrier, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
US9862006B2 (en) 2015-12-29 2018-01-09 Solarcity Corporation Systems for levitating a metallic tray
EP3211429A1 (en) 2016-02-26 2017-08-30 Roche Diagnostics GmbH Transport device having a tiled driving surface
EP3211430A1 (en) 2016-02-26 2017-08-30 Roche Diagnostics GmbH Transport device with base plate modules
EP3211428A1 (en) 2016-02-26 2017-08-30 Roche Diagnostics GmbH Transport device unit for a laboratory sample distribution system
US9469395B1 (en) * 2016-03-14 2016-10-18 Arnav Simha Multi-layer body with active mitigation for turbulence reduction
JP6708787B2 (ja) 2016-06-03 2020-06-10 エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲーＦ． Ｈｏｆｆｍａｎｎ−Ｌａ Ｒｏｃｈｅ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ラボラトリ試料分配システム及びラボラトリ自動化システム
EP3255519B1 (en) 2016-06-09 2019-02-20 Roche Diagniostics GmbH Laboratory sample distribution system and method of operating a laboratory sample distribution system
EP3260867A1 (en) 2016-06-21 2017-12-27 Roche Diagnostics GmbH Method of setting a handover position and laboratory automation system
CN109564232B (zh) 2016-08-04 2022-08-02 豪夫迈·罗氏有限公司 实验室样品分配系统和实验室自动化系统
EP3330717B1 (en) 2016-12-01 2022-04-06 Roche Diagnostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3343232B1 (en) 2016-12-29 2021-09-15 Roche Diagnostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3355065B1 (en) 2017-01-31 2021-08-18 Roche Diagnostics GmbH Laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3357842B1 (en) 2017-02-03 2022-03-23 Roche Diagnostics GmbH Laboratory automation system
DE102017002542A1 (de) * 2017-03-16 2018-09-20 Applied Materials, Inc. (N.D.Ges.D. Staates Delaware) Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objekts
EP3410123B1 (en) 2017-06-02 2023-09-20 Roche Diagnostics GmbH Method of operating a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3428653B1 (en) 2017-07-13 2021-09-15 Roche Diagnostics GmbH Method of operating a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
US11508595B2 (en) * 2017-08-24 2022-11-22 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for contactless transportation of a device in a vacuum processing system
EP3457144B1 (en) 2017-09-13 2021-10-20 Roche Diagnostics GmbH Sample container carrier, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3456415B1 (en) 2017-09-13 2021-10-20 Roche Diagnostics GmbH Sample container carrier, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
CN109791905A (zh) * 2017-09-15 2019-05-21 应用材料公司 用于确定载体悬浮系统的对准的方法
KR20200106964A (ko) * 2018-01-25 2020-09-15 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 진공 환경 내에서 캐리어를 비접촉식으로 운송하는 자기 부상 시스템 및 방법
EP3537159B1 (en) 2018-03-07 2022-08-31 Roche Diagnostics GmbH Method of operating a laboratory sample distribution system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
EP3540443B1 (en) 2018-03-16 2023-08-30 Roche Diagnostics GmbH Laboratory system, laboratory sample distribution system and laboratory automation system
US10748389B2 (en) * 2018-06-15 2020-08-18 Immersion Corporation Damping for a haptic actuator
KR102324106B1 (ko) * 2018-06-26 2021-11-08 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 강자성 엘리먼트까지의 거리를 측정하기 위한 거리 센서, 자기 부상 시스템, 및 강자성 엘리먼트까지의 거리를 측정하기 위한 방법
CN109019023B (zh) * 2018-06-29 2020-07-31 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 基板传送装置及系统
DE102018211839A1 (de) * 2018-07-17 2020-01-23 Bausch + Ströbel Maschinenfabrik Ilshofen GmbH + Co. KG Transportsystem
WO2020057739A1 (en) * 2018-09-19 2020-03-26 Applied Materials, Inc. Magnetic levitation system, base of a magnetic levitation system, vacuum system, and method of contactlessly holding and moving a carrier in a vacuum chamber
JP7231721B2 (ja) 2018-10-04 2023-03-01 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 搬送システム
DE102019202486B4 (de) * 2019-02-25 2022-01-20 Festo Se & Co. Kg Handhabungssystem für Werkstücke
US11451169B2 (en) 2019-11-25 2022-09-20 Remanence Technology Group, Llc Multi-dimensional magnetic levitation and translation system and methods
CN115210551A (zh) * 2020-03-17 2022-10-18 美国西门子医学诊断股份有限公司 平面样本运输的紧凑型临床诊断系统
US11521870B2 (en) * 2020-07-08 2022-12-06 Applied Materials, Inc. Annealing chamber
CN112448617A (zh) * 2020-11-13 2021-03-05 东莞市弘名电子科技有限公司 多点式悬浮装置及控制方法
US11747356B2 (en) 2020-12-21 2023-09-05 Roche Diagnostics Operations, Inc. Support element for a modular transport plane, modular transport plane, and laboratory distribution system
JP2023069602A (ja) * 2021-11-08 2023-05-18 株式会社日立ハイテク ステージ装置及びステージ装置を備える荷電粒子線装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63310304A (ja) * 1987-06-09 1988-12-19 Mitsubishi Electric Corp 磁気浮上装置
JPH03103086A (ja) * 1989-09-16 1991-04-30 Res Dev Corp Of Japan 磁気浮上装置
JPH05236610A (ja) * 1991-07-12 1993-09-10 Ebara Corp 磁気浮上搬送装置
JP2003007533A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Japan Science & Technology Corp 超電導磁気浮上装置及びそのシステム
JP2003209963A (ja) * 2002-01-10 2003-07-25 Yaskawa Electric Corp リニアモータ

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2522480B2 (ja) 1987-06-15 1996-08-07 株式会社リコー 屈折率測定方法
JP3112508B2 (ja) 1991-07-25 2000-11-27 コニカ株式会社 廃液の処理方法
US5360470A (en) * 1992-07-06 1994-11-01 Fujitsu Limited Magnetic levitating transporting apparatus with a movable magnetic unit
DE69316214T2 (de) * 1992-07-07 1998-08-13 Ebara Corp Durch magnetische wirkung schwebende transportvorrichtung
US5647477A (en) * 1994-09-19 1997-07-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic non-contact transport system
JPH09330975A (ja) * 1996-06-11 1997-12-22 Nikon Corp 搬送装置
EP0866375A3 (en) * 1997-03-17 2000-05-24 Nikon Corporation Article positioning apparatus and exposing apparatus having the same
US6279728B1 (en) * 1998-07-20 2001-08-28 Norbert G Jung Electro-magnetic conveyor
JP4619594B2 (ja) * 1999-06-21 2011-01-26 エスアールアイ インターナショナル 摩擦のない輸送装置および方法
JP3094104B1 (ja) * 1999-08-31 2000-10-03 工業技術院長 超電導磁気浮上輸送システム
US6271606B1 (en) * 1999-12-23 2001-08-07 Nikon Corporation Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber
JP3956605B2 (ja) * 2000-10-25 2007-08-08 株式会社豊田自動織機 物体の浮揚状態での荷取り方法
KR100391000B1 (ko) * 2001-06-30 2003-07-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체 노광 장치
DE102004037622A1 (de) * 2004-08-02 2006-02-23 Leybold Optics Gmbh Prozesssystem sowie Vorrichtung zum Transport von Substraten

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63310304A (ja) * 1987-06-09 1988-12-19 Mitsubishi Electric Corp 磁気浮上装置
JPH03103086A (ja) * 1989-09-16 1991-04-30 Res Dev Corp Of Japan 磁気浮上装置
JPH05236610A (ja) * 1991-07-12 1993-09-10 Ebara Corp 磁気浮上搬送装置
JP2003007533A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Japan Science & Technology Corp 超電導磁気浮上装置及びそのシステム
JP2003209963A (ja) * 2002-01-10 2003-07-25 Yaskawa Electric Corp リニアモータ

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