JPWO2006049051A1 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents

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Abstract

試料封入容器8は、X線が透過する材質でできた複数の壁面を有しており、壁面11に一次X線が照射されるようにX線源1が配置されると共に、一次X線が照射される面とは異なる面12がX線検出器10に対向するように配置され、またX線源1からの1次X線はX線検出器10を対向させた試料封入容器の壁面12を照射できるように配置する。

Description

本発明は、測定試料に1次X線を照射して、測定試料からの蛍光X線を誘発し、その蛍光X線のエネルギとX線強度を測定することにより、試料の元素分析・組成分析を行う蛍光X線分析装置に関する。
従来の一般的な蛍光X線分析装置について図2を用いて説明する。水平な測定試料ベース23をはさんで、前記測定試料ベース23上方に測定試料25が配置され、前記測定試料ベース23下方にX線源21、1次フィルタ22、X線検出器27が配置され、1次X線24の照射位置と、蛍光X線26を検出するX線検出器27の向いている位置は同一のポイントであった。また、前記X線検出器や前記X線源21を可能な限り測定試料に近づけることにより、着目する重金属からの蛍光X線の感度を向上させる事が一般的であった。また、その着目元素の蛍光X線26のピーク強度と主に散乱線によるバックグランド強度の比(以下ピークバック比)を向上させるために1次フィルタ22を入れるものや、2次ターゲットを使用するもの、X線を単色化させる光学素子、X線を集光させる光学素子を使用した装置も存在しているが、全て1次X線を照射しているポイントに前記X線検出器が向いている構造をとっていた(たとえば特開2004-150990号公報(第3頁、図1)参照)。
従来の蛍光X線分析装置においては、C、O、H等で構成された軽元素主成分に含まれるカドミウム等の微量重金属の存在や濃度を確認する際、前記1次フィルタを使用し、ピークバック比を向上させることが一般的であった。本手法は非常に有効ではあるが、前記1次フィルタを挿入することによって1次X線が減衰し、結果として測定試料で励起された微量重金属の蛍光X線がX線検出器に入射する強度は小さいものとなっていた。前記X線検出器に入射するX線強度を大きくするために、前記X線源及び前記X線検出器を測定試料に近づけるような配置をとっているが、両者が同一のポイントを向いて配置されているため近づけていくと両者の構造物の干渉により、近づける距離に限度があった。このため軽元素中の微量重金属を測定する際、検出下限は数100秒測定で数wt ppmというのが一般的であった。
微量重金属の検出限界を向上させるためにはピークバック比も重要なファクターではあるが、取得できるX線強度の大きさ、言い換えれば感度も重要なファクターとなっている。以下に検出限界の一般的な式を記述する。X線強度を増加すると、それに比例してBG強度(バックグランド強度)と感度が増加する。つまり以下の式より検出下限は取得できたX線強度のルートに反比例し、検出下限を改善させる。

検出下限=3*(BG強度/測定時間)1/2/感度

本発明では、蛍光X線分析装置において、検出器で取得できるX線強度を落とさないまま、効果的にピークバック比を改善させることにより検出下限を改善することを課題とする。
上記の課題を解決するために、本発明の蛍光X線分析装置においては、流動性のある固体あるいは液体試料を封入する試料封入容器と、前記試料に一次X線を照射するX線源と、前記一次X線を受けた試料から発生する蛍光X線を検出する検出器とからなり、前記検出された蛍光X線のスペクトルから試料の元素分析を行う蛍光X線分析装置において、前記試料封入容器は、X線が透過する材質でできた複数の壁面を有しており、該壁面のある面に一次X線が照射されるように配置されると共に、前記一次X線が照射される面とは異なる面が前記X線検出器に対向するように配置され、また前記X線源からの1次X線は前記X線検出器を対向させた前記試料封入容器の壁面を照射できるように配置されているようにした。
これによって、前記X線源と前記X線検出器とを前記試料封入容器表面に密着するくらいまでに近づける事が可能となり、前記X線源からの1次X線を試料封入容器に対して高密度に広く照射でき、また測定試料の注目元素から放射状に発生する蛍光X線を効率よく検出器に入射する。つまり前記X線検出器で取得できる注目元素のX線の強度を増大させる事が可能となり、軽元素に含まれる重金属を好感度に検出できる。
従来の蛍光X線分析装置の前記X線源と前記X線検出器が測定試料表面の同一ポイントを向いていた理由は、測定対象としてCu合金やFe合金など重元素を主成分とする測定試料も含んでいることが上げられる。主成分が重元素であると前記1次X線の励起によって発生した蛍光X線のうち極表面で発生したもののみ試料の外に脱出することができる。重元素の主成分に吸収されるからである。よって本発明のように試料封入容器側面外壁から前記1次X線を照射し、試料封入容器の底面外壁にX線検出器を配置しても、X線検出器には測定試料からの蛍光X線が全く入ってこない。本発明では有機材料やアルミ、シリコン、マグネシウム等の軽元素中の重金属の分析を対象としているため、測定試料に対して側面に配置されたX線源からの1次X線が試料内部まで浸透し、試料内部に含まれる重金属を励起し蛍光X線を発生することができ、試料内部で発生した蛍光X線は試料を通過し、測定試料に対して底面に配置されたX線検出器に入射することが可能となる。
一方、X線管球と測定試料の間に注目する重金属を選択的に励起しかつバックグランドを下げるための1次フィルタを搭載するようにした。これにより、前記X線検出器でスペクトルを取得したときのピークバック比を改善させる事も可能となる。
さらに、上記測定試料の外側において、一次X線の通過する領域及び測定試料から発生する蛍光X線が検出器に入射する際に通過する領域以外の領域を、着目重金属を励起するのに最適な蛍光X線を発生する金属で囲う。これにより、着目元素の励起効率が高まり、前記X線検出器でスペクトルを取得したときのピークバック比の改善および着目元素の蛍光X線の強度を増大させることが可能となる。
またさらに、測定試料と前記X線検出器の間に、注目元素からの蛍光X線のみ選択的に透過させる2次フィルタを搭載する。これにより、前記X線検出器でスペクトルを取得したときのピークバック比の改善および、大量のX線の入射による前記X線検出器の飽和状態を防ぐ事が可能となる。
また、前記試料封入容器は同様な形状をした測定試料室に置き換えることによって、前記測定試料室にサンプルを直接充填することにより、同様な構造をとることができる。
蛍光X線分析装置の一部の模式図である。 従来の一般的な蛍光分析装置の模式図である。 複数のフィルタを有した1次・2次フィルタブロックの模式図である。 試料封入容器が1次フィルタ・2次励起用壁・2次フィルタで構成された場合の蛍光X線分析装置の一部の模式図である。 測定試料である穀物を試料封入容器に充填する模式図である。 X線源からのX線の線質が1次フィルタによって変化する模式図である。 測定試料からのX線の線質が2次フィルタによって変化する模式図である。 蛍光X線分析装置のブロック図である。 複数のX線源を有する蛍光X線分析装置の模式図である。 複数のX線検出器を有する蛍光X線分析装置の模式図である。 複数の2次フィルタを試料容器に有し、その切り替えは試料容器の回転駆動によって行う蛍光X線分析装置の模式図である。 複数の1次フィルタを試料容器に有し、その切り替えは試料容器の回転駆動によって行う蛍光X線分析装置の模式図である。 複数の1次フィルタもしくは2次フィルタを試料容器に有し、その切り替えは試料容器の直線駆動によって行う蛍光X線分析装置の模式図である。 試料容器に2軸の回転機構有した蛍光X線分析装置の模式図である。
符号の説明
1 X線源
2 1次フィルタ
3 2次励起用壁
4 1次X線
5 2次励起用蛍光X線
6 重金属を含む粒状の測定試料
7 注目元素からの蛍光X線
8 試料封入容器
9 2次フィルタ
10 X線検出器
21 X線源
31 フィルタ
32 フィルタベース
51 穀物
61 特性X線
62 連続X線
63 CdのKa線のエネルギ位置
71 Cdの蛍光X線のピーク
72 連続X線の散乱X線のブロードな山
73 2次フィルタを通過した後のCdの蛍光X線のピーク
74 2次フィルタを通過した後の連続X線の散乱X線のブロードな山
75 Agの吸収曲線
81 増幅器・波形成形器部
82 制御部・計算機部
83 モニター
91、92 X線源
101、102 X線検出器
111 試料容器
112、113、114、115 2次フィルタ
121 試料容器
122、123、124 1次フィルタ
131 試料容器
132、133、134 1次フィルタ
135、136、137 2次フィルタ
141 試料容器
142、143 回転機構
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図8は本発明である蛍光X線分析装置のブロック図である。制御部・計算機部82にて、X線源1を制御し、試料封入容器8へ、1次X線を照射し、試料封入容器8からの2次X線をX線検出器10で取得する。X線検出器10に入射したX線は増幅器・波形成形器部81にて電気信号に変換され、制御部・計算機部82にて、各エネルギ毎の強度スペクトルに変換され、モニター83に表示される。また制御部・計算機部82ではスペクトル情報より、濃度計算も行いその情報もモニター83に表示される。
図1は本発明の蛍光X線分析装置のX線光学系の模式図である。図1において微量な重金属を含む粒状の測定試料6は、比較的X線が透過しやすい有機材料やアルミ、シリコン、マグネシウム等の材質でできた試料封入容器8に充填されている。その粒状の測定試料が試料封入容器8ごと分析装置にセットされている状態である。本発明ではX線源1からの1次X線4の測定試料表面での照射ポイントの中心と、X線検出器10の向いている試料表面でのポイントが異なっているため、X線源1とX線検出器10を試料封入容器8に密着させることが可能となる。X線源1は試料封入容器8の壁面に密着しており、X線検出器10は試料封入容器8の底面に密着している。また両者はX線検出器10が密着している試料封入容器8の底面付近に、X線源1からの1次X線4が照射される配置となっている。X線源1から発生した1次X線4は着目元素の励起とピークバック比の改善に適した1次フィルタ2を通過し、試料封入容器8の側面外壁から入射して、測定試料6に照射される。測定試料6から非常に近いポイントから発生された1次X線4は、X線源1から測定試料6に対して、大きな立体角をなしているため効率よく測定試料6内の微量重金属を励起することが可能となる。微量重金属より放射状に発生した、注目元素からの蛍光X線7の一部は軽元素を主成分とする測定試料6通過し、X線検出器10に入射する。X線検出器10は試料封入容器8に密着しているため測定試料6からX線検出器10に対してなす立体角が大きいため、着目元素からの蛍光X線7は効率よく、X線検出器10に入射され、感度を向上させることが可能となる。
一方、試料封入容器8の器壁において、1次X線4の通過領域、及び蛍光X線7のうちX線検出器10へ向かう通過領域以外は、微量重金属を励起するのに最適な蛍光X線を発生する元素で構成された2次励起用壁3で構成されている。1次X線4のうち多くは比較的軽い測定試料6とは相互作用することなく通過する。通過した1次X線4は2次励起用壁3を励起し、微量重金属を励起するのに最適な2次励起蛍光X線5が発生する。この2次励起蛍光X線5は測定試料6中の微量有害金属を効率よく励起し、X線検出器10で取得した際の、微量重金属スペクトルのピークバック比を改善させる。
また試料封入容器8とX線検出器10の間には、注目元素からの前記蛍光X線7を選択的に透過させる2次フィルタ9を搭載することにより、X線検出器10で取得した際の、微量重金属スペクトルのピークバック比を改善させとともにX線検出器10での膨大なX線検出による飽和状態を防ぐことが可能となる。
図3は複数のフィルタを有した1次フィルタブロックあるいは2次フィルタブロックの模式図である。図1の1次フィルタ2は、図3のように複数種類のフィルタ31を有するフィルタブロックとそれを駆動するシステムにより使用するフィルタを切り替える事により、着目元素が複数ある場合でも、その着目元素に最適な、励起効率を実現することが可能となる。
図1の2次フィルタ9についても、同様に図3に示されるように、複数種類のフィルタ31がフィルタベース32に装着されたフィルタブロックとそれを駆動するシステムにより使用するフィルタを切り替える事により、着目元素が複数ある場合でも、その着目元素からの蛍光X線を選択的に透過させる事が可能となる。
図1の2次励起用壁3についても、同様に複数の2次励起用壁と切り替え機構を有する事により。着目元素が複数ある場合でも、その着目元素に最適な、励起効率を実現することが可能となる。
図1の試料封入容器8を有さない場合であっても、測定試料室の形状を試料封入容器8と同様な形状とし、その測定試料室に測定試料を充填することによって本発明の効果は実現する事が可能となる。
図1の試料封入容器8の形および、試料封入容器8を使用しない場合の測定試料室の形状はあくまでも一例であって、X線検出器10及びX線源1の一方もしくは両者を密着させ、かつX線検出器10を密着させた面付近に1次X線4が照射される配置が実現できれ任意な形状でも本発明の効果を実現する事ができる。
図1の1次フィルタ2、2次励起用壁3、2次フィルタ9のうちいずれか一つもしくは複数を有していない場合でも本発明の効果の一部を実現する事ができる。
図4は、試料封入容器が1次フィルタ2・2次励起用壁3・2次フィルタ9で構成された場合の蛍光X線分析装置の一部の模式図である。図4に示すように試料封入容器8外壁のうち一部が1次フィルタ2、2次励起用壁3、2次フィルタ9のうちいずれか一つもしくは複数によって成り立っている事によって、X線源1及びX線検出器10を試料封入容器8に最も近づける事が可能となり、本発明の効果を最大限に引き出す事が可能となる。
本発明の特徴は測定試料6の表面に対してX線源1が向いているポイントとX線検出器10が向いているポイントが違う場所にあるというところにある。よって本実施例ではX線源1を試料封入容器8の側面外壁に、X線検出器10を試料封入容器8底面外壁に配置したが、試料封入容器8の壁面に対してX線源が向いているポイントと前記X線検出器が向いているポイントが違うという特徴を満足すれば、前記X線源を上記側面外壁と異なる面に配置する事、もしくは前記X線検出器を底面外壁と異なる面に配置する事も可能である。
図9は複数のX線源を有する蛍光X線分析装置の一部の模式図である。図9に示すように、複数のX線源91、92を有する事により、測定試料6の注目元素への励起効率を上げ、注目元素からの蛍光X線26強度を増加させる事により、X線検出器10に入射するX線強度を増やし、検出下限を改善させることが可能となる。
図10は複数のX線検出器を有する蛍光X線分析装置の一部の模式図である。図10に示すように、複数のX線検出器101、102を有する事により、測定試料6の注目元素からの蛍光X線26を効率よく取得する事が可能となり、トータルのX線強度が増加し、検出下限を改善することが可能となる。
図11は複数の2次フィルタを試料容器に有し、その切り替えは試料容器の駆動によって行う蛍光X線分析装置の一部の模式図である。着目元素が複数ある場合、図11に示すように、試料容器111自体に複数の2次フィルタ112、113、114、115を装着し、容器自身の中心軸回りの回転の駆動により2次フィルタの変更が可能となる。通常試料容器111と検出器27は、接近している事が望ましい。試料容器以外のところに複数の2次フィルタ及び2次フィルタ駆動部を設けると、そのスペースにより、試料容器と検出器の距離が離れ検出下限の悪化を伴う。しかし図11の様に複数の2次フィルタを試料容器111自体に設けることにより、X線検出器27の距離を遠ざけることなく、複数の2次フィルタの変更が実現できる。
図12は複数の1次フィルタを試料容器に有し、その切り替えは試料容器の駆動によって行う蛍光X線分析装置の一部の模式図である。着目元素が複数ある場合、図11に示すように、試料容器121自体に複数の1次フィルタ122、123、124を装着し、容器自身の中心軸回りの回転の駆動により1次フィルタの変更が可能となる。通常試料容器121とX線源1は、接近している事が望ましい。試料容器以外のところに複数の1次フィルタ及び1次フィルタ駆動部を設けると、そのスペースにより、試料容器とX線源の距離が離れ検出下限の悪化を伴う。しかし図12の様に複数の1次フィルタを試料容器121自体に設けることにより、X線源1の距離を遠ざけることなく、複数の1次フィルタの変更が実現できる。
図11や図12で記述した内容と同じ目的で、図13に示すように、試料容器131に複数の1次フィルタ132、133、134もしくは複数の2次フィルタ135、136、137を装着し、容器自身を直線駆動させることにより、1次フィルタもしくは2次フィルタの変更を可能にする事が実現できる。
図14は試料容器に2軸の回転機構有した蛍光X線分析装置の一部の模式図である。図14に示すように、球状の試料容器141に試料を充填させ1軸もしくは2軸の回転機構142、143で回転させながら測定することにより、測定試料の濃度分布が不均一であっても、平均化された濃度情報を取得することが可能となる。またこれは試料自体が球状である場合もそれ自体を回転させることにより同じ目的を達成できる。
以下に穀物中のCdの分析を例に上げて本発明の実施の一例を記述する。図5は測定試料である穀物を試料封入容器に充填する模式図である。図5に示すようにCdが含有されている穀物51を試料封入容器8に充填する。Cdを含む穀物51で充填された試料封入容器8を図1のように1次フィルタ2、2次励起用壁3、2次フィルタ9で囲まれたスペースにセットする。X線源1としてX線管球を使用した場合、X線管球から発生したX線のエネルギと強度の関係(以下スペクトラム)は、一般的に図6のAのようになる。すなわち、このスペクトラムは、X線管球のターゲットの特性X線61と連続X線62で構成されている。CdのKα蛍光X線のエネルギは63で示される約23keV位置に存在する。特性X線61および連続X線62は穀物51でおおよそ放射状に散乱する。放射状に散乱したX線はX線検出器10にも入射し、Cdのバックグランドを大きくさせる。バックグランドがおおきいと、検出限界を悪化させ微量なCdの蛍光X線を検出できなくなる。よってX線管球と試料封入容器8の間に、前記MoやZr等でできた1次フィルタ2を配置する。1次フィルタ2により低エネルギ側が吸収され、X線管球からのX線のスペクトラムは図6のBのようになりCdのエネルギー位置63周辺の特性X線61及び連続X線が低下する。よって、これらのX線がX線検出器10に入射する強度も低下するのでCdのバックグランドが低下することになり、検出限界が向上する。
1次フィルタを通過した高エネルギの割合が大きい連続X線62は穀物51内のCdを励起し、Cdの蛍光X線7を発生させる。X線検出器10はX線管球1との干渉を考慮することなく、試料封入容器8に近づけることが可能であるため、穀物中のCdから発生した放射状に発生する蛍光X線7は、効率よくX線検出器10で検出することが可能となる。
また図1において1次フィルタを通過した高エネルギの割合が大きい連続X線62の内多くは軽元素である穀物中を通過し、2次励起用壁3に照射される。2次励起用壁3の材質を、CdのK線蛍光X線を励起するのに効率のいい、エネルギで26.7keVの吸収端より、若干大きなエネルギを発生するTe等で構成すると、2次励起用壁3より27.4keVの蛍光X線が壁面より穀物に向かって放射状に発生される。この27.4keVの蛍光X線は穀物中のCdを選択的に励起させることができ、結果としてX線検出器に入るCdの蛍光X線強度を増加させることができる。従来の蛍光X線でもこのような2次励起用壁をX線源と測定試料の間に配置しているケースは多く見受けられたが、今回の発明ではX線源と2次励起用壁の間に測定試料が配置されているところに特徴がある。
穀物から発生し、検出器で検出したCdの蛍光X線と連続X線の散乱X線はスペクトラムでは図7のCのようになる。Cdの蛍光X線のピーク71と連続X線の散乱線によるブロードな山72で構成されている。一方通常X線検出器には、単位時間当たりに計数できる数が決められていて、それ以上の数のX線が入射すると、実際に計数できる数が減少し、効率が悪くなってしまう。そこで、試料封入容器8とX線検出器10の間に、CdのKαのエネルギ約23keVより、若干大きいエネルギに吸収端のあるAg(Agの吸収曲線を75に示す)等を、2次フィルタ9として配置することにより、CdのKαは2次フィルタ9によって大きくは吸収されず、より高エネルギの散乱X線は多く吸収されることにより、図7のDのように、CdのKαのピーク73はそれほど小さくならないように、ブロードな山74に示されるように、全体の特に高エネルギのX線強度を抑える事が可能となる。
本発明は、以下に記載されるような効果を奏する。
すなわち、着目する蛍光X線の取得強度、及びピークバック比が改善されるので、着目元素の検出下限を改善することが可能となる。また従来の装置で実現できた検出下限のレベルであれば測定時間を短縮させる事が可能となる。

Claims (19)

  1. 流動性のある固体あるいは液体試料を封入する試料封入容器と、
    前記試料に一次X線を照射するX線源と、
    前記一次X線を受けた試料から発生する蛍光X線を検出する検出器とからなり、前記検出された蛍光X線のスペクトルから試料の元素分析を行う蛍光X線分析装置において、
    前記試料封入容器は、X線が透過する材質でできた複数の壁面を有しており、該壁面のある面に一次X線が照射されるように配置されると共に、前記一次X線が照射される面とは異なる面が前記X線検出器に対向するように配置され、また前記X線源からの1次X線は前記X線検出器を対向させた前記試料封入容器の壁面を照射できるように配置されている蛍光X線分析装置。
  2. 請求項1の蛍光X線分析装置において、前記X線源もしくは前記X線検出器の一方または両方が、前記試料封入容器の面に密着するように配置されている蛍光X線分析装置。
  3. 請求項1もしくは2の蛍光X線分析装置において、前記試料封入容器の複数の壁面のうち、ひとつ以上が平らな面である事とした、蛍光X線分析装置。
  4. 請求項1から3のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、前記試料封入容器を、試料室に置き換えることが可能であり、前記試料室に直接測定試料をセットする事を可能とした、蛍光X線分析装置。
  5. 請求項1から4のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、前記X線検出器を複数有した、蛍光X線分析装置。
  6. 請求項1から5のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、前記X線源を複数有した、蛍光X線分析装置。
  7. 請求項1から6のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、前記X線源と前記試料封入容器もしくは前記測定試料室の間に着目元素のみ選択的に励起するような1次フィルタを挿入することにより、前記X線検出器でみたときのスペクトル上で着目元素のピークバック比を向上させた蛍光X線分析装置。
  8. 請求項1から7のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、試料封入容器の外側に、着目元素を励起するために最適な蛍光X線を発生する元素で構成された壁を有することにより、前記X線検出器でみたときのスペクトルで着目元素のピークバック比を向上させた蛍光X線分析装置。
  9. 請求項1から8のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、測定試料と前記X線検出器の間に着目元素の蛍光X線のみ選択的に透過させる2次フィルタを有することにより、前記X線検出器でみたときのスペクトルで着目元素のピークバック比を向上させた蛍光X線分析装置。
  10. 請求項7記載の蛍光X線分析装置において、着目元素が複数ある場合、前記1次フィルタが複数の着目元素それぞれに対して、選択的に励起するような複数の前記1次フィルタを有し、それらの前記1次フィルタの切り替えが可能な蛍光X線分析装置。
  11. 請求項8記載の蛍光X線分析装置において、着目元素が複数ある場合、前記2次励起用壁が複数の着目元素それぞれに対して、選択的に励起するような複数の前記2次励起用壁を有し、それらの前記2次励起用壁の切り替えが可能な蛍光X線分析装置。
  12. 請求項7記載の蛍光X線分析装置において、着目元素が複数ある場合、前記2次フィルタが複数の着目元素それぞれに対して、選択的に透過するような複数の前記2次フィルタを有し、それらの前記2次フィルタの切り替えが可能な蛍光X線分析装置。
  13. 請求項7記載の蛍光X線分析装置において、前記1次フィルタが前記試料封入容器の一部を構成している蛍光X線分析装置。
  14. 請求項8記載の蛍光X線分析装置において、前記2次励起用壁が前記試料封入容器の一部を構成している蛍光X線分析装置。
  15. 請求項9記載の蛍光X線分析装置において、前記2次フィルタが前記試料封入容器の一部を構成している蛍光X線分析装置。
  16. 請求項10記載の蛍光X線分析装置において、着目元素が複数ある場合、前記1次フィルタが複数の着目元素それぞれに対して、選択的に励起するような複数の前記1次フィルタを試料容器に有し、それらの前記1次フィルタの切り替えは、試料容器自体の移動・駆動により実現する蛍光X線分析装置。
  17. 請求項11記載の蛍光X線分析装置において、着目元素が複数ある場合、前記2次励起用壁が複数の着目元素それぞれに対して、選択的に励起するような複数の前記2次励起用壁を試料容器に有し、それらの前記2次励起用壁の切り替えは、試料容器自体の移動・駆動により実現する蛍光X線分析装置。
  18. 請求項12記載の蛍光X線分析装置において、着目元素が複数ある場合、前記2次フィルタが複数の着目元素それぞれに対して、選択的に励起するような複数の前記2次フィルタを試料容器に有し、それらの前記2次フィルタの切り替えは、試料容器自体の移動・駆動により実現する蛍光X線分析装置。
  19. 請求項1から12のいずれか記載の蛍光X線分析装置において、測定中に試料内部の濃度の不均一を平均化するために、試料容器自体を1軸もしくは2軸で回転させる回転手段を有する蛍光X線分析装置。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4849957B2 (ja) * 2006-05-26 2012-01-11 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 蛍光x線分析装置
DE602008004079D1 (de) * 2008-02-04 2011-02-03 Orexplore Ab Vorrichtung und Verfahren zur Röntgenstrahlfluoreszenz-Analyse einer Mineralprobe
CA2713984C (en) * 2008-02-06 2016-06-07 Fei Company A method and system for spectrum data analysis
JP6096418B2 (ja) * 2012-04-12 2017-03-15 株式会社堀場製作所 X線検出装置
JP6096419B2 (ja) * 2012-04-12 2017-03-15 株式会社堀場製作所 X線検出装置
WO2014175762A1 (en) 2013-04-25 2014-10-30 Siemens Aktiengesellschaft Device and method for x-ray generation
KR101417635B1 (ko) * 2013-04-30 2014-07-21 전북대학교산학협력단 엑스선을 이용하는 형광분석의 최대값 검출 방법 및 이를 이용한 엑스선 형광분석장치
CN104502248A (zh) * 2014-12-31 2015-04-08 江苏天瑞仪器股份有限公司 气体中颗粒物质量浓度及元素成分双射线自动检测方法
CN105181726A (zh) * 2015-10-19 2015-12-23 四川新先达测控技术有限公司 一种透射式x荧光装置
CN107402196B (zh) * 2016-05-18 2020-09-25 株式会社岛津制作所 X射线荧光分析仪器及用于其的样品容器
US10359376B2 (en) * 2016-07-20 2019-07-23 Malvern Panalytical B.V. Sample holder for X-ray analysis
SE540371C2 (en) * 2017-02-06 2018-08-21 Orexplore Ab A sample holder for holding a drill core sample or drill cuttings, an apparatus and system comprising the holder
DE102017202309B3 (de) * 2017-02-14 2017-07-13 Universität Zu Lübeck Messvorrichtung für Röntgenphotonen
JP7027726B2 (ja) * 2017-08-24 2022-03-02 株式会社島津製作所 蛍光x線分析方法
JP6994755B2 (ja) * 2017-09-06 2022-01-14 株式会社日立ハイテクサイエンス 蛍光x線分析装置及び蛍光x線分析方法
AU2019268796A1 (en) * 2018-05-18 2020-12-17 Enersoft Inc. Systems, devices, and methods for analysis of geological samples
CA3151147A1 (en) * 2018-08-17 2020-02-20 Microtrace Pty Limited Apparatus for the measurement of mineral slurries
CN111398327A (zh) * 2020-03-30 2020-07-10 山东省环境保护科学研究设计院有限公司 基于x射线荧光光谱分析的土壤重金属污染原位检测装置
KR102332573B1 (ko) * 2020-05-08 2021-11-30 주식회사 아이에스피 엑스선 형광분석기
GB202106959D0 (en) 2021-05-14 2021-06-30 Malvern Panalytical Bv Apparatus and method for x-ray fluorescence analysis

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5346065Y2 (ja) * 1975-07-02 1978-11-04
JPS6275241A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Nippon Atom Ind Group Co Ltd 溶液濃度測定装置
JPH0592703U (ja) * 1992-05-22 1993-12-17 日本アイ.テイー.エス株式会社 螢光x線分析用液体試料容器
JPH06249804A (ja) * 1993-03-01 1994-09-09 Seiko Instr Inc 蛍光x線分析装置
JPH1038772A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Murata Mfg Co Ltd 液状試料の測定方法とそれに用いる試料ホルダおよびx線回折装置
JPH11201917A (ja) * 1998-01-12 1999-07-30 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2000055839A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Nippon Steel Corp 蛍光x線分析装置
JP2001083110A (ja) * 1999-09-14 2001-03-30 Ricoh Co Ltd 蛍光x線分析装置
JP2003534528A (ja) * 1999-11-19 2003-11-18 バッテル・メモリアル・インスティチュート 機械用流体分析装置
JP2004150990A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Ours Tex Kk 蛍光x線分析装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0676976B2 (ja) * 1985-06-08 1994-09-28 株式会社堀場製作所 油中ニツケル/バナジウム検出装置
DE4017002A1 (de) * 1990-05-26 1991-11-28 Philips Patentverwaltung Strahlenquelle fuer quasimonochromatische roentgenstrahlung
JP2838172B2 (ja) * 1991-05-03 1998-12-16 株式会社 堀場製作所 蛍光x線分析装置
JPH05240808A (ja) * 1992-02-29 1993-09-21 Horiba Ltd 蛍光x線定量方法
FR2741155B1 (fr) * 1995-11-15 1997-12-05 Commissariat Energie Atomique Appareil d'analyse d'une solution par fluorescence x
US5982847A (en) * 1996-10-28 1999-11-09 Utah State University Compact X-ray fluorescence spectrometer for real-time wear metal analysis of lubrucating oils
EP0877930A1 (en) * 1996-11-05 1998-11-18 PANalytical B.V. X-ray analysis apparatus provided with a double collimator mask
JP3166638B2 (ja) * 1996-11-29 2001-05-14 株式会社島津製作所 蛍光x線分析装置
JP3511826B2 (ja) * 1997-01-23 2004-03-29 株式会社島津製作所 蛍光x線分析装置
DE19729414A1 (de) * 1997-07-09 1999-02-11 Siemens Ag Strahlenblende eines medizinischen Gerätes
US6012325A (en) * 1997-11-05 2000-01-11 The Boc Group, Inc. (A Delaware Corporation) Method and apparatus for measuring metallic impurities contained within a fluid
DE19820321B4 (de) * 1998-05-07 2004-09-16 Bruker Axs Gmbh Kompaktes Röntgenspektrometer
US6130931A (en) * 1998-09-17 2000-10-10 Process Control, Inc. X-ray fluorescence elemental analyzer
US6292532B1 (en) * 1998-12-28 2001-09-18 Rigaku Industrial Corporation Fluorescent X-ray analyzer useable as wavelength dispersive type and energy dispersive type
JP2002102217A (ja) * 2000-09-28 2002-04-09 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc X線ctシステム、ガントリ装置、コンソール端末及びその制御方法及び記憶媒体
US6614878B2 (en) * 2001-01-23 2003-09-02 Fartech, Inc. X-ray filter system for medical imaging contrast enhancement
US6668039B2 (en) * 2002-01-07 2003-12-23 Battelle Memorial Institute Compact X-ray fluorescence spectrometer and method for fluid analysis
JP4219209B2 (ja) 2003-04-25 2009-02-04 Tcm株式会社 ガントリクレーンにおけるスプレッダのケーブル案内装置
FI20031753A (fi) * 2003-12-01 2005-06-02 Metorex Internat Oy Parannettu mittausjärjestely röntgenfluoresenssianalyysiä varten
JP5045999B2 (ja) * 2006-03-30 2012-10-10 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 蛍光x線分析装置
JP4849957B2 (ja) * 2006-05-26 2012-01-11 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 蛍光x線分析装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5346065Y2 (ja) * 1975-07-02 1978-11-04
JPS6275241A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Nippon Atom Ind Group Co Ltd 溶液濃度測定装置
JPH0592703U (ja) * 1992-05-22 1993-12-17 日本アイ.テイー.エス株式会社 螢光x線分析用液体試料容器
JPH06249804A (ja) * 1993-03-01 1994-09-09 Seiko Instr Inc 蛍光x線分析装置
JPH1038772A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Murata Mfg Co Ltd 液状試料の測定方法とそれに用いる試料ホルダおよびx線回折装置
JPH11201917A (ja) * 1998-01-12 1999-07-30 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2000055839A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Nippon Steel Corp 蛍光x線分析装置
JP2001083110A (ja) * 1999-09-14 2001-03-30 Ricoh Co Ltd 蛍光x線分析装置
JP2003534528A (ja) * 1999-11-19 2003-11-18 バッテル・メモリアル・インスティチュート 機械用流体分析装置
JP2004150990A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Ours Tex Kk 蛍光x線分析装置

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