JPS6357552A - 炭酸エステルの製造方法 - Google Patents
炭酸エステルの製造方法Info
- Publication number
- JPS6357552A JPS6357552A JP61201568A JP20156886A JPS6357552A JP S6357552 A JPS6357552 A JP S6357552A JP 61201568 A JP61201568 A JP 61201568A JP 20156886 A JP20156886 A JP 20156886A JP S6357552 A JPS6357552 A JP S6357552A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- alcohol
- quaternary phosphonium
- copper compound
- oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 title 1
- -1 phosphonium halide Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 11
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 18
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 7
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 abstract description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 abstract description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 abstract 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001361 White metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010969 white metal Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は炭酸エステルの製造法に関する乙のである。
炭酸エステルは、ポリマーや医農薬中間体および溶剤と
して工業的に重要な化合物である。
して工業的に重要な化合物である。
(従来技術)
炭酸エステルの製造法としては、アルコールにホスゲン
を反応させる方法が工業的に行なわれている。しかしな
がら、この方法は毒性の高いホスゲンを使用することや
、アルコールとホスゲンの反応により腐蝕性の強い塩酸
が副生ずることなどの欠点がある。
を反応させる方法が工業的に行なわれている。しかしな
がら、この方法は毒性の高いホスゲンを使用することや
、アルコールとホスゲンの反応により腐蝕性の強い塩酸
が副生ずることなどの欠点がある。
また、ホスゲンを使用しない炭酸エステルの製造法とし
ては銅化合物または銅化合物と白金族化合物及び塩基性
物質の共存下で、アルコール、一酸化炭素および酸素と
を反応さU゛る方法が提案されている。
ては銅化合物または銅化合物と白金族化合物及び塩基性
物質の共存下で、アルコール、一酸化炭素および酸素と
を反応さU゛る方法が提案されている。
(特公昭45−11129.特公昭61−8816など
)(発明が解決しようとする問題点) 上記の銅化合物または銅化合物と白金族化合物及び塩基
性物質の共存下で、アルコール、一酸化炭素および酸素
とを反応させる炭酸エステルの製法においては、一酸化
炭素の燃焼や生成した炭酸エステルの分解などによる二
酸化炭素の副生が多いという欠点がある。本発明の目的
はこのような二酸化炭素の副生を抑制し、有利に炭酸エ
ステルを製造する方法を開発することである。
)(発明が解決しようとする問題点) 上記の銅化合物または銅化合物と白金族化合物及び塩基
性物質の共存下で、アルコール、一酸化炭素および酸素
とを反応させる炭酸エステルの製法においては、一酸化
炭素の燃焼や生成した炭酸エステルの分解などによる二
酸化炭素の副生が多いという欠点がある。本発明の目的
はこのような二酸化炭素の副生を抑制し、有利に炭酸エ
ステルを製造する方法を開発することである。
(問題点を解決するための方法)
本発明は、銅化合物または銅化合物と白金族化合物及び
塩基性物質の共存下でアルコール、一酸化炭素および酸
素とを反応させることにより炭酸エステルを製造する方
法において、第四級ホスホニウムハロゲン化物を共存さ
せることを特徴とする炭酸エステルの製造方法である。
塩基性物質の共存下でアルコール、一酸化炭素および酸
素とを反応させることにより炭酸エステルを製造する方
法において、第四級ホスホニウムハロゲン化物を共存さ
せることを特徴とする炭酸エステルの製造方法である。
白金族化合物としては、ルテニウム、ロジウム。
パラジウムなどのハロゲン化物、酢・酸塩、硝酸塩など
の塩が用いられ、なかでもパラジウムの塩が好ましい。
の塩が用いられ、なかでもパラジウムの塩が好ましい。
白金族化合物は通常アルコール1eにつき、0.1〜1
000100O,好ましくは1〜100mmolの範囲
で使用される。
000100O,好ましくは1〜100mmolの範囲
で使用される。
銅化合物としては、第一銅および第二銅のハロゲン化物
、酢酸塩、硝酸塩などの塩が使用される。
、酢酸塩、硝酸塩などの塩が使用される。
これらの銅塩は、通常は、白金族化合物に対してモル比
で等モル倍以上好ましくは3モル倍以上使用される。
で等モル倍以上好ましくは3モル倍以上使用される。
本発明における反応基質であるアルコールとしては、メ
タノール、エタノール等の飽和脂肪族アルコール、アリ
ルアルコール等の不飽和脂肪族アルコール、フェノール
等の芳香族アルコール、さらにはジオール、ポリオール
があり、通常炭素原子数1〜20のアルコールが用いら
れる。
タノール、エタノール等の飽和脂肪族アルコール、アリ
ルアルコール等の不飽和脂肪族アルコール、フェノール
等の芳香族アルコール、さらにはジオール、ポリオール
があり、通常炭素原子数1〜20のアルコールが用いら
れる。
第四級ホスホニウムハロゲン化物は一般式(1)で示さ
れ、R3からR4は、メチル、′エチル、ブチル等のア
ルキル基及びアルコキシ基、フェニル等のアリール基、
アリールオキシ基、各種置換基の入った置換アルキル基
、置換アルコキシ基、置換アリール基、置換アリールオ
キシ基であり、R1からR4は同一でも異なっても良い
。
れ、R3からR4は、メチル、′エチル、ブチル等のア
ルキル基及びアルコキシ基、フェニル等のアリール基、
アリールオキシ基、各種置換基の入った置換アルキル基
、置換アルコキシ基、置換アリール基、置換アリールオ
キシ基であり、R1からR4は同一でも異なっても良い
。
またXは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンである。
第四級ホスホニウムハロゲン化物の具体例としては
[(rr−Bu)4P]C,/ 、[(n−Bu)3c
HsPEcl 、[(n−Pr)、PEC/[(n−B
u)、P]Br、 [(n−Pr)、P]Brなどが
挙げられる。なお上式中Buはブチル基をPrはプロピ
ル基を表す。
HsPEcl 、[(n−Pr)、PEC/[(n−B
u)、P]Br、 [(n−Pr)、P]Brなどが
挙げられる。なお上式中Buはブチル基をPrはプロピ
ル基を表す。
また、第四級ホスホニウムハロゲン化物の使用量につい
ては、炭酸エステル及び二酸化炭素の生成速度の2点か
ら最も工業的に有利となるように、適宜選択することが
できるが、一般に、第四級ホスホニウム化合物が固体の
場合には反応液に対して0.05重量%から飽和溶解量
まで、液体の場合には反応的に対して0.05重量%か
ら溶媒量までの範囲で使用することができる。
ては、炭酸エステル及び二酸化炭素の生成速度の2点か
ら最も工業的に有利となるように、適宜選択することが
できるが、一般に、第四級ホスホニウム化合物が固体の
場合には反応液に対して0.05重量%から飽和溶解量
まで、液体の場合には反応的に対して0.05重量%か
ら溶媒量までの範囲で使用することができる。
また、塩基性物質は、特公昭61−8816号公報に記
載のトリアルキルアミン(トリエチルアミンなど)、複
素架橋式第三アミン(1−8−シアサビシクロ〔5・4
・0〕ウンデセンなど)、ジ置換カルボジイミド(ジシ
クロヘキシルカルボジイミドなど)、アルカリ金属塩(
塩化カリウム、酢酸カリウムなど)及びアルカリ金属ア
ルコキシド(カリウムメトキシドなど)などのことであ
り、白金属化合物に対し0.5〜100重量倍の範囲で
使用できる。
載のトリアルキルアミン(トリエチルアミンなど)、複
素架橋式第三アミン(1−8−シアサビシクロ〔5・4
・0〕ウンデセンなど)、ジ置換カルボジイミド(ジシ
クロヘキシルカルボジイミドなど)、アルカリ金属塩(
塩化カリウム、酢酸カリウムなど)及びアルカリ金属ア
ルコキシド(カリウムメトキシドなど)などのことであ
り、白金属化合物に対し0.5〜100重量倍の範囲で
使用できる。
一酸化炭素及び酸素は純粋な状態で用いても、窒素、ア
ルゴン、二酸化炭素等の反応に不活性なガスで稀釈して
用いてもよいし、酸素源としては空気を用いてもよい。
ルゴン、二酸化炭素等の反応に不活性なガスで稀釈して
用いてもよいし、酸素源としては空気を用いてもよい。
反応は常圧または加圧下で行なわれ、反応に不活性なガ
スで稀釈することにより、反応系内の一酸化炭素分圧は
0.1〜30気圧。
スで稀釈することにより、反応系内の一酸化炭素分圧は
0.1〜30気圧。
酸素分圧は0.05〜10気圧の範囲に調節されろ。
本発明の反応は、20〜250℃、好ましくは50〜2
00℃の温度範囲内で通常常圧以上100気圧以下の反
応圧で回分的または連続的に行なわれる。
00℃の温度範囲内で通常常圧以上100気圧以下の反
応圧で回分的または連続的に行なわれる。
(発明の効果)
本発明の方法により、二酸化炭素の副生か大巾に抑制さ
れる。
れる。
なお、主反応の反応速度か゛若干低下するが、未反応物
は再使用できるので工業的には副反応を抑制し、炭酸エ
ステルへの選択率を高めた方が有利である。
は再使用できるので工業的には副反応を抑制し、炭酸エ
ステルへの選択率を高めた方が有利である。
又、主反応の反応速度の向上のためには、反応温度や酸
素分圧を高めたり、反応溶媒を用いる事等により補うこ
とができる。
素分圧を高めたり、反応溶媒を用いる事等により補うこ
とができる。
比較例1
撹拌機とコンデンサーを備えた内容積500m /のジ
ャケット式フラスコにメタノール221m/ 、塩化パ
ラジウム188mmo/ 、塩化カリウム3.76mm
o/ 。
ャケット式フラスコにメタノール221m/ 、塩化パ
ラジウム188mmo/ 、塩化カリウム3.76mm
o/ 。
塩化第一銅8.18mmo/ 、酢酸カリウム11.3
mmo/を仕込み、一酸化炭素8.0e/h、酸素4.
07/h(7)常圧ガス流通下60℃で1時間反応させ
た。
mmo/を仕込み、一酸化炭素8.0e/h、酸素4.
07/h(7)常圧ガス流通下60℃で1時間反応させ
た。
反応終了液及びオフガスをガスクロマトグラフにより分
析した結果を表1に示した。ここで、νDMC及びνC
0ffはそれぞれ炭酸ジメチル及び二酸化炭素の生成速
度であり、5cotは、・式(2)で定義されるCO7
の副生率を示している。
析した結果を表1に示した。ここで、νDMC及びνC
0ffはそれぞれ炭酸ジメチル及び二酸化炭素の生成速
度であり、5cotは、・式(2)で定義されるCO7
の副生率を示している。
ν C02
SCOt−X 100 式(2)%式%
塩化テトラ−n−プチルポスポニウム3.76mmo/
をさらに加えた以外は、比較例1の操作を操り返した。
をさらに加えた以外は、比較例1の操作を操り返した。
その結果は表1に示す。比較例1に比べると若干νDM
Cは低下しているが、νCO2,SCO,が大巾に抑制
されている。
Cは低下しているが、νCO2,SCO,が大巾に抑制
されている。
比較例2
特公昭61−8816記載の沃化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム3.76mmo/を加えた以外は、比較例1
の操作を繰り返した。その結果は表1に示す。この例は
、二酸化炭素副生の抑制剤である沃化テトラ−n−ブチ
ルアンモニウムが、炭酸ジメチルの生成速度も著しく低
下させてしまう欠点のあることを示す例である。
ンモニウム3.76mmo/を加えた以外は、比較例1
の操作を繰り返した。その結果は表1に示す。この例は
、二酸化炭素副生の抑制剤である沃化テトラ−n−ブチ
ルアンモニウムが、炭酸ジメチルの生成速度も著しく低
下させてしまう欠点のあることを示す例である。
(以下余白)
特許出願人 ダイセル化学工業株式会社代 理
人 弁理士 越 場 隆手 続
補 正 書 (自発)llr(和61年10月14
「1 1、事件の表示 昭和61年特許願第201568号 2、発明の名称 炭酸エステルの製造方法 3、補正をづる者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府堺市鉄砲町1番地 名 称 (290)ダイヒル化学工業株式会社代表者
久保田美文 4、代理人 東京都千代田区霞が関三丁目8−1 虎の門三井ビル ダイセル化学工業株式会社 特許部内 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補ILの内容 (1)明細書第7頁上から12行目のr188mmoN
jをrl、88mm0!」と補正づる。
人 弁理士 越 場 隆手 続
補 正 書 (自発)llr(和61年10月14
「1 1、事件の表示 昭和61年特許願第201568号 2、発明の名称 炭酸エステルの製造方法 3、補正をづる者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府堺市鉄砲町1番地 名 称 (290)ダイヒル化学工業株式会社代表者
久保田美文 4、代理人 東京都千代田区霞が関三丁目8−1 虎の門三井ビル ダイセル化学工業株式会社 特許部内 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補ILの内容 (1)明細書第7頁上から12行目のr188mmoN
jをrl、88mm0!」と補正づる。
、−ヘ
Claims (5)
- (1)銅化合物または、銅化合物と白金族化合物および
塩基性物質の共存下で、アルコール、一酸化炭素および
酸素とを反応させることにより、炭酸エステルを製造す
る方法において、第四級ホスホニウムハロゲン化物を共
存させることを特徴とする炭酸エステルの製造方法。 - (2)白金族化合物がパラジウム化合物である特許請求
の範囲第1項記載の方法。 - (3)アルコールが炭素原子数1〜20のアルコールで
ある特許請求の範囲第1項または、第2項記載の方法。 - (4)アルコールがメタノールである特許請求の範囲第
1項ないし、第3項のいずれかに記載の方法。 - (5)第四級ホスホニウムハロゲン化物が (n−Bu)_4PCl又は(n−Bu)_4PBr(
式中Buはブチル基を示す) である特許請求の範囲第1項ないし第4項記載の方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61201568A JPH0735355B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 炭酸エステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61201568A JPH0735355B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 炭酸エステルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6357552A true JPS6357552A (ja) | 1988-03-12 |
JPH0735355B2 JPH0735355B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=16443214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61201568A Expired - Lifetime JPH0735355B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 炭酸エステルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0735355B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0356668U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-30 | ||
JPH0356669U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-30 | ||
JPH0356670U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-30 | ||
JPH06172292A (ja) * | 1993-09-02 | 1994-06-21 | Daicel Chem Ind Ltd | ジイソシアネート化合物の製造方法 |
JPH1180095A (ja) * | 1997-09-10 | 1999-03-23 | Nkk Corp | 炭酸ジメチルの製造方法 |
US7319926B2 (en) | 2002-01-29 | 2008-01-15 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Self-diagnosis display unit |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP61201568A patent/JPH0735355B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0356668U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-30 | ||
JPH0356669U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-30 | ||
JPH0356670U (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-30 | ||
JPH06172292A (ja) * | 1993-09-02 | 1994-06-21 | Daicel Chem Ind Ltd | ジイソシアネート化合物の製造方法 |
JPH1180095A (ja) * | 1997-09-10 | 1999-03-23 | Nkk Corp | 炭酸ジメチルの製造方法 |
US7319926B2 (en) | 2002-01-29 | 2008-01-15 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Self-diagnosis display unit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0735355B2 (ja) | 1995-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6357552A (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
US5089650A (en) | Process for producing carbonic acid ester | |
JP3026114B2 (ja) | 有機カーボネートの製法 | |
JPH06509553A (ja) | 置換酸のフェニルエステルの製造方法 | |
JPS60181051A (ja) | 炭酸ジエステルの製法 | |
JP3005684B1 (ja) | 炭酸エステルを製造する方法 | |
JP3233678B2 (ja) | o−アルコキシ安息香酸の製造方法 | |
RU2169138C2 (ru) | Способ получения оптически активных эфиров эритро-3-амино-2-оксимасляных кислот и соответствующих исходных кислот | |
JPH05163224A (ja) | アミノ基含有化合物の製造方法 | |
JP2002179608A (ja) | フタルアルデヒドの製造方法 | |
JPS6372651A (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
JPH0737421B2 (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
JPH0669989B2 (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
ES2564981T3 (es) | Método para producir un compuesto de dicloruro de ftaloílo | |
JPH0616615A (ja) | 含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法 | |
JPH04356446A (ja) | 炭酸エステルの製造法 | |
JP4423494B2 (ja) | 2−ヒドロキシカルボン酸の製造法 | |
JP4350391B2 (ja) | ベンジルイソニトリルの製法 | |
WO1996022269A1 (fr) | Procede de production de quinones | |
JP2918713B2 (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
JPH04193849A (ja) | 置換芳香族カルボン酸エステルの製法 | |
JP3178877B2 (ja) | N−(ヒドロキシアリール)ハロアルカン酸アミドの製造方法 | |
JP2002322126A (ja) | カルボン酸アルケニルエステルの製造方法 | |
JPH0780817B2 (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
JP2005289835A (ja) | 5−置換−2−アミドフェノールの製造方法 |