JPS6338135A - 基板上薄膜の分解装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、分解剤の発生蒸気により基板上薄膜を選択的
に分解する基板上薄膜の分解装置に関する。

〔従来の技術〕

電子工業分野では、技術の進展に伴い、基板上につけた
薄膜の特性を利用する技術が急速に進んでいる。半導体
製造においてもシリコン基板上にＳｉＯ□膜、５ｉ１Ｎ
４膜などの薄膜が作成され、これが保護膜あるいは絶縁
膜として利用されている。半導体の超高集積化に伴って
これらの薄膜の高品質化が要求され、Ｎａ　、　Ｆｅな
どの不純物についても濃度の低減化が要求されている。

不純物の濃度低減を図るに当っては、薄膜中のこれらの
不純物の濃度ａｔｑ定が不可欠となる。現在、不純物濃
度の測定は、基板上の薄膜を分解剤で選択的に分解後、
フレー！、レス原子吸光分析装置で行っている。不純物
ｉ！＋’ｌ定の定景下限を下げるためには、薄膜分解操
作における汚染を極力抑えなければならない６そのため
に、従来は特公昭６０−６９５３１号に記載されている
ような薄膜分解！Ａ日を用いる技術が知られている。こ
の装置の構造を第２図に示す。すなわち。

該装置は、図に示すように密閉容器１５内部の一方に薄
膜だけを選択的に分解する分解剤１６を貯留する上部開
放の分解剤貯留槽１７が配設され、他方に薄膜１８而を
貯留槽１７に向けて試料１９を載置する試料保持台２０
が配設されている。この装置によれば分解剤１６から発
生した分解剤蒸気２１は薄膜１８の表面に凝縮して薄膜
１８を分解し、試料１９の下部に設けられた分解液受器
２２に捕集される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上記装置においては、単一の密閉容器内
に分解剤貯留槽、試料保持台および分解液受器を配置し
ていたため、以下のような問題があった。すなわち、　
１）分解剤貯留槽を加熱しにくく５分解剤蒸気を効率的
に発生できないため分解に長時間を要する。２）分解剤
貯留槽と試料保持台の位置関係から、試料保持台に保持
された複数の試料に対して分解剤蒸気が均一に接触しな
いため試料毎に分解時間が異なる。３）密閉容器から試
料保持台及び分解液受器を取り出す場合、内部に分解剤
貯留槽からの有害な分解剤蒸気が充満しているため取り
扱いにくいという問題である。

本発明の目的はこのような従来技術の問題点を解決する
基板上薄１漠の分解装置を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は分解すべき薄膜と薄膜だけを選択的に分解する
分解剤蒸気を接触させて基板」；薄膜を分解する基板上
薄膜の分解装置において、底面に開口部を有し、該開口
部上に設けられたパンチング板」―に試料保持台及び分
解液受器を設置した試料分Ｍ４ｆＩと、加熱装置上に置
かれた分解剤貯留槽とを上下に気密に接続し、試料分解
槽及び分解剤貯留槽を接続した状態で密閉性構造とした
ことを特徴とする基板上薄膜の分解装置である。

〔作用〕

本発明の基板上薄ｌ悶の分解装置は、分解剤貯留槽を加
熱装置により直接加熱できるため、分解剤蒸気を効率的
に発生でき分解時間を短縮できる６分解剤蒸気はパンチ
ング板を抜けて試料分解槽内部に達し、試料保持台に保
持された複数の試料に均一に接触するため各試料共分解
時間が同じになる。また、試料分解槽と分解剤貯留槽を
分離できるため、分解剤蒸気の影響なく試料保持台及び
分解液受器がとり出せる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら詳
細に説明する。

第１図は本発明の基板上薄膜の分解装置の一実施例を示
す断面図である。図において、試料分解槽１の底面の開
口部２上に設けられたパンチング板３上に、試料保持台
４及び分解液受器５が配設されている。試料保持台４及
び分解液受器５の出し入れができるように試料分解槽１
の上面は取外しできるようになっている。試料保持台４
には基板６と薄膜７とからなる試料８が保持されている
。

分解液受器５は試料８の下部に配設される。分解剤９を
貯留した分解剤貯留槽１０は加熱装置１１の上に置かれ
、試料分解槽１の底面と、気密に接続されている。この
ように気密に接続された状態で試料分解槽１及び分解剤
貯留槽１０の内部は密閉性を有している。従って１分解
剤貯留槽ＩＯから発生した分解剤蒸気１２はパンチング
板３を抜けて試料８に達し１．青眼７０表面に凝縮して
薄膜７を分解する。分解液ｌ：３は試料８の下部に設け
られた分解液受器５に捕集される。

なお、試料分解槽１の上面から分解剤凝縮液が試料保持
台４内部に滴下するのを防ぐため試料保持台４上方には
カバー１４が設置されている。カバー１４はそれ自身に
凝縮した分解剤が試料８及び分解液受器５に滴下しない
形状例えば中高状をなしている。

実験によれば、分解剤にフッ化水素酸（５０％）を用い
、シリコン基板上の熱酸化Ｓｉｎ、膜（膜厚〜１０００
０人）を分解したところ、所要時間は１０分程度であっ
た。熱分解装置温度は１５０℃である。

〔発明の効果〕 以上述べた通り５本発明の基板上薄膜の分解装置によれ
ば、加熱により効率良く分解剤蒸気を発生させて分解時
間を短縮できる。また、複数の試料を同じ分解時間で分
解することが可能となり、分解剤蒸気の影響がない状態
で試料の出し入れが行えるため、その取扱を容易に行う
ことができる効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は従来
の装置の断面図である。 １・・・試料分解槽、２・・・開口部、３・・・パンチ
ング板。 ４・・・試料保持台、５・・・分解液受器、６・・基板
、７・・・薄膜、８・・・試料、９・・・分解剤、１０
・・・分解剤貯留槽、１１・・・加熱装首、１２・・・
分解剤蒸気、１３・・・分解液。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）分解すべき薄膜と薄膜だけを選択的に分解する分
   解剤蒸気を接触させて基板上薄膜を分解する基板上薄膜
   の分解装置において、底面に開口部を有し、該開口部上
   に設けられたパンチング板上に試料保持台及び分解液受
   器を設置した試料分解槽と、加熱装置上に置かれた分解
   剤貯留槽とを上下に気密に接続し、試料分解槽及び分解
   剤貯留槽を接続した状態で密閉性構造としたことを特徴
   とする基板上薄膜の分解装置。