JPS63304246A - 感光性組成物及び感光性平版印刷版 - Google Patents

感光性組成物及び感光性平版印刷版

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JPS63304246A
JPS63304246A JP14017387A JP14017387A JPS63304246A JP S63304246 A JPS63304246 A JP S63304246A JP 14017387 A JP14017387 A JP 14017387A JP 14017387 A JP14017387 A JP 14017387A JP S63304246 A JPS63304246 A JP S63304246A
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JP
Japan
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photosensitive
resin
printing plate
compound
developability
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Pending
Application number
JP14017387A
Other languages
English (en)
Inventor
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Sei Goto
聖 後藤
Takeshi Yamamoto
毅 山本
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Yoshiko Kobayashi
佳子 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
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Publication of JPS63304246A publication Critical patent/JPS63304246A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はインキ看肉性、現像性及びセーフライト性に優
れたポジ型感光性平版印刷版、及びそれに適する感光性
組成物に関する。
(発明の背景) 通常、ポジ型の感光性平版印刷版の感光層には、感光成
分として0−キノンジアジド化合物、及び皮膜強度とア
ルカリ溶解性とを高めるための成分としてアルカリ可溶
性樹脂が含有されている。
0−キノンジアジド化合物を用いた感光層は、白色蛍光
燈の下で扱うと光カブリを被って、次に現像処理される
と画像部の感光層が侵食されて膜減りし、耐刷力が低下
する故障を度々引き起している。このため白色蛍光燈に
よる光カブリに対する抵抗性(以下「セーフライト性」
と呼ぶ)が改善された感光層を有する感光性平版印刷版
が望まれている。
更に、0−キノンジアジド化合物を用いた感光性平版印
刷版の現像処理は通常アルカリ水溶液の現像液中で行な
われるが、現像液の現像能力は種々の条件で変動を受け
やすく、多量処理による疲労や空気酸化による劣化で現
像能力が低下し、処理しても印刷版の非画像部の感光層
が完全に溶解されなくなる場合がある。又、これと反対
に現像液の補充量の過剰や気温の上昇に伴う浴温度の上
昇等により現像能力が規定以上になり、印刷版の画像部
が侵されたり、網点が消失したりする場合がある。この
ため、感光性平版印刷版は、処理能力が低下した現像液
でも、また処理能力が標準より増強された現像液でも、
標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す幅広い
現像許容性を有することが望まれている。(以下、適正
な現像結果が得られる現像能力低下の許容範囲をアンダ
ー現像性といい、適正な現像結果が得られる現像能力上
昇の許容範囲をオーバー現像性という。)感光性平版印
刷版において、感光成分の0−キノンジアジド化合物と
共に用いられているアルカリ可溶性樹脂としては、従来
、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂やクレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂が用いられてき
たが、西ドイツ国特許公開第2,616,992号公報
には、炭素数1〜9個のアルキル基で置換されたフェノ
ールとホルムアルデヒドとを重縮合させたノボラック樹
脂を用いて、感光性平版印刷版のアルカリ現像液に対す
る抵抗性や感光層の皮膜の耐摩耗性を改良したことが記
載されており、更に、特開昭55−127553号公報
には、炭素原子数3〜12のアルキル基又はフェニル基
で置換されたフェノールとフェノールもしくはそのメチ
ル置換体またはこれらの混合物とホルムアルデヒドとを
縮合して得られる共重縮合ノボラック樹脂をバインダー
として用いて、前記と同様にアルカリ現像液に対する抵
抗性を高めたことが記載されている。
前記21の樹脂は、前述のセーフライト性をある程度改
良するが、一方アルカリ溶解性が悪く、これらの樹脂を
含む感光層を有する感光性平版印刷版は、現像時のアル
カリ溶解性が悪く、長時間現像処理で疲労した等、現像
能力が標準以下に低下した現像液で処理すると充分に現
像できなくなり、又感度も低下するという欠点がある。
特公昭50−5083号には、アルカリ水溶液に不溶性
のp−置換フェノール・ホルムアルデヒド樹脂と0−ナ
フトキノンジアジドスルホニルクロライドとの縮合生成
物を用いて耐アルカリ性およびインキ着肉性を改良する
技術が開示されている。しかしながらこの技術は上記生
成物の感光層中での添加量が多いため、インキ着肉性、
オーバー現像性(耐アルカリ性)及びセーフライト性に
優れるが、アルカリ不溶性樹脂に起因してアンダー現像
性及び感度がきわめて悪い。
特公昭56−35854号には、アルカリ水溶液不溶性
のフェノール・ホルムアルデヒド樹脂とO−ナフトキノ
ンジアジドスルホニルクロライドとの縮合生成物および
他の0−キノンジアジド化合物(例えばピロガロールと
アセトンの縮合により得られたポリオキシフェノールの
0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル)を併用
することにより現像性を低下させることなく親油性に冨
んだ画像を与える技術が開示されている。この技術はO
−キノンジアジド化合物の幹ポリマーとしてアルカリ可
溶性樹脂を用いているため、前述の前記特公昭50−5
083号記載の技術より現像性(現像のし易さ)及び感
度を低下させることなく、親油性に富んだ画像を形成し
ているが、その高分子量に起因して、必ずしも現像性お
よび感度は充分とは言えない。
また、特開昭61−6647号公報には、特定組成のノ
ボラック樹脂を用いてセーフライト性を改良する技術、
特開昭61−243446号公報には、ノボラック樹脂
、ビOガロールアセトン樹脂のO−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステルおよび1.5〜8.0重量%のア
ルカリ水溶液に不溶性のフェノール・ホルムアルデヒド
樹脂のO−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを
併用することにより現像性、セーフライト性を改良する
技術、特開昭61−205933号公報には、特定の分
散度を有するノボラック樹脂を用いてセーフライト性、
現像許容性を改良する技術などが開示されている。しか
しこれらの技術も感度あるいは現像性の低下を伴い、ま
たセーフライト性改良の効果も不十分であった。
(発明の目的) 本発明の目的は、感度及びアンダー現像性(疲労現像液
での現像のし易さ)を低下させることなくインキ着肉性
、オーバー現像性(耐アルカリ性)及びセーフライト性
に優れたポジ型感光性平版印刷版を提供することであり
、本発明の別の目的は、このようなポジ型感光性平版印
刷版の感光層として適する感光性組成物を提供すること
である。
(発明の構成) 本発明の上記目的は、下記特定成分を含有する感光性組
成物及び該組成物から成る感光層を有する感光性平版印
刷版により達成された。すなわち、本発明の感光性組成
物は、0−キノンジアジド化合物、(b)ノボラック樹
脂及び(c)分子構造中にポリオキシプロピレン基及び
ポリオキシエチレン基をそれぞれ少なくとも1つ有する
化合物、を含有することを特徴としており、また、本発
明の感光性平版印刷版は、親水性支持体上に (a)o
−キノンジアジド化合物、(b)ノボラック樹脂及び(
c)分子構造中にポリオキシプロピレン基及びポリオキ
シエチレン基をそれぞれ少なくとも1つ有する化合物、
を含有する感光性組成物から成る感光層を有することを
特徴としている。
(発明の具体的構成) 本発明に用いられる、1分子中にポリオキシエチレン基
及びポリオキシエチレン基をそれぞれ少なくとも1つ有
する化合物(以下、本発明の化合物と称す)はポリオキ
シプロピレン基を疎水基とし、ポリオキシエチレン基を
親水基とする界面活性剤であり、このような化合物にお
いて好ましいものとしては下記構造式[I]または[I
[]で示される化合物が挙げられる。
構造式[I] HO(ct H40)* −(cs Hs O)b −
(c* H40)c )((式中、a及びCはそれぞれ
1〜600.好ましくは5〜100の整数を表わし、b
は1〜200、好ましくは5〜100の整数を表わす。
)構造式[II] (式中、園、p、x及び2はそれぞれ1〜600、好ま
しくは5〜100の整数を表わし、n、q、r及びyは
それぞれ1〜2001好ましくは5〜100の整数を表
わす。) 本発明の化合物の具体例を下記に例示するが、本発明の
化合物はこれらに限定されるものではな0   Q  
  Q   C,1 柚 !  −〜     の        す上記のよう
な本発明の化合物の感光性組成物中に占める割合は好ま
しくは0.05〜10重量%であり、更に好ましくは0
.1〜5重山%である。
また、本発明においては上記本発明の化合物を単独で用
いてもよいし、2種以上組合わせて用いてもよい。
本発明の化合物は、界面活性剤として公知ではあるが、
感光性平版印刷版において本発明の効果を有することは
、本発明者等が鋭意研究の結果、本発明において初めて
見出したものである。
本発明に用いられる0−キノンジアジド化合物は、少な
くとも1つの0−キノンジアジド基好ましくは0−ベン
ゾキノンジアジド基又は0−ナフトキノンジアジド基を
有する化合物で、公知の種々の構造の化合物、例えば、
ジエイ・コサール(J、 Kosar)著「ライト・セ
ンシティブ システムズ(Liaht−3ensiti
ve  Systems) J  (ジョン・ウィリー
 アンド サンズ(J ohn W 1ley&5on
s)社、 1965年発行)第339〜353頁に詳細
に記載されている化合物を包含する。特に種々のヒドロ
キシ化合物又はアミノ化合物とO−ナフトキノンジアジ
ドスルフォン酸とのエステル又はアミドが好適である。
好ましいヒドロキシ化合物としては、ポリヒドロキシベ
ンゾフェノン、フェノール類とカルボニル基含有化合物
との縮合樹脂などが挙げられ、特に酸性触媒存在下での
縮合により得られる樹脂が挙げられる。該フェノール類
としてはフェノール、レゾルシン、クレゾール、ピロガ
ロール等が挙げられ、該カルボニル基含有化合物として
はホルムアルデヒド、ベンズアルデヒドの如きアルデヒ
ド類、アセトンの如きケトン類が挙げられる。
このようなフェノール類とカルボニル基含有化合物との
縮合樹脂としては特にフェノール・ホルムアルデヒド樹
脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、ピロガロール
・アセトン樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂が
好ましい。
0−キノンジアジド化合物の代表的な具体例としては、
ベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸又はナ
フトキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸とフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂とのエステル、朱印特許第3,635,7
09号明細書に記載されているナフトキノン−(1,2
)−ジアジドスルホン酸ピロガロール・アセトン樹脂の
スルホン酸エステル、特開昭56−1044号公報に記
載されているナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(
2)−5−スルホン酸とレゾルシン−ベンズアルデヒド
樹脂との縮合物、特開昭55−76346号公報に記載
されているナフトキノン−(1,2)−ジアジド−<2
)−5−スルホン酸とレゾルシン・ピロガロール・アセ
トン共重縮合物とのエステル化合物、その他有用な0−
キノンジアジド化合物としては、特開昭50−1175
03号公報に記載されている、末端にヒドロキシ基を有
するポリエステルと0−ナフトキノンジアジドスルホン
酸とのエステル、特開昭55−113305号公報に記
載されているような、p−ヒドロキシスチレンのホモポ
リマー又はこれと他の共重合し得るモノマーとの共重合
体と0−ナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル
等が挙げられる。
本発明の感光性組成物中に占める0−キノンジアジド化
合物の量は5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは
10〜50重量%である。0−キノンジアジド化合物は
好ましくは、数平均分子量が4.OX 102〜2.O
x 103、III平均分子量が5.OX i Q 2
〜4.0XiQ3のポリヒドロキシフェノールとケトン
又はアルデヒドとの重縮合樹脂のO−キノンジアジドス
ルホン酸エステルである。更に好ましくは数平均分子量
5.OX 102〜1.5X 1Q3 、重量平均分子
】が7.0X1Q2〜4.0XiQ3のピロガロールと
アセトンとの重縮合樹脂の0−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステルである。
又、前記エステル化合物のOH基に対する0 −ナフト
キノンジアジドスルホン酸クロライドの縮合率(OH基
1個に対する%)は20〜80%が好ましく、より好ま
しくは25〜70%である。
前記0−キノンジアジドスルホン酸エステルは、前記フ
ェノール類とカルボニル基含有化合物との縮合樹脂を適
当な溶媒、例えばジオキサン等に溶解させてこれに0−
キノンジアジドスルホン酸クロライドを投入し、炭酸ア
ルカリを当m点まで滴下することによりエステル化させ
て得られる。
本発明におけるノボラック樹脂は、フェノール類とホル
ムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮合して得られる樹脂
であり、該フェノール類としては、例えばフェノール、
0−クレゾール、l−クレゾール、p−クレゾール、3
.5−キシレノール、2.4−キシレノール、2.−5
−キシレノール、カルバクロール シン、ヒドロキノン、ピロガロール、フロログルシン、
p−アルキル基(炭素数1〜8個)置換フェノール等が
挙げられる。該フェノールは単独で又は2種以上組み合
わせてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができ
る。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノー
ル、−一クレゾール(又はO−クレゾール)及びp−ク
レゾールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒ
ドとを共重縮合して得られる樹脂である。例えば、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、0−クレゾール。
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・p−クレゾール・
ホルムアルデヒド共重合体樹脂、l−クレゾール・p−
クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、O−ク
レゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合
体樹脂、フェノール・−一タレゾール・p−クレゾール
・ホルムアルデヒド ル・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂
が挙げられる。更に上記−のノボラック樹脂のうち、フ
ェノール・1−クレゾール・p−クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂が好ましい本発明のノボラック樹脂の分子
層(ポリスチレン標準)は、重量平均分子iMwが2.
Ox103〜2.OX 1 0 4であり、好ましくは
、4.0×103〜1.5X 1 0斗である。
本発明のノボラック樹脂は、例えばピー・ダブリュー・
コブフ(P. W. Kopf )及びイー・アール・
ワグナ−(E. R. Waaner >著” ホIJ
 ?ーサイエンス、ポリマーケミストリー( P ol
ym。
3ci. Polym. Chet) ”第11巻、9
39頁〜( 1973年)等に記載の方法で合成するこ
とができる。
本発明におけるノボラック樹脂の感光性組成物中に占め
る割合としては25〜95重量%が好ましく、より好ま
しくは50〜90重量%である。
更に上記ノボラック樹脂は、単独でも2種以上組合わせ
て使用することもでき、また他のアルカリ可溶性樹脂と
共に用いてもよい。
本発明の感光性組成物は上記のような素材、特に本発明
の化合物を含有することにより、本発明の目的を達成し
得るものであるが、本発明の感光性組成物には、以上説
明した各素材のほか、必要に応じて他の添加剤も含むこ
とができる。このような添加剤としては、例えば可塑剤
としてフタル酸エステル類、トリフェニルホスフェート
類、マレイン酸エステル類等の各種低分子化合物類、塗
布性向上剤としてフッ素系界面活性剤、エチルセルロー
スポリアルキレンエーテル等に代表されるノニオン活性
剤等の界面活性剤、さらに露光により可視画像を形成さ
せるためのプリントアウト材料等が挙げられる。プリン
トアウト材料は露光により酸若しくは遊離基を生成する
化合物と、これと相互作用することによりその色調を変
える有機染料よりなるもので、露光により酸もしくは遊
離基を生成する化合物としては、例えば特開昭50−3
6209号公報に記載されている0−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−362
23号公報に記載されているトリへロメチル2ービOン
やトリハロメチル−トリアジン、特開昭55−6244
号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸のクロライドと電子吸引性置換基を有する
フェノール類、又はアニリン類とのエステル化合物、特
開昭55−77742号公報に記載されているハロメチ
ル−ビニル−オキサジアゾール化合物及びジアゾニウム
塩等が挙げられる。
又、前記の有機染料としては、例えばビクトリアピュア
ーブルーBOH [保土ケ谷化学]、オイルブルー#6
03[オリエント化学]、パテントピュアーブルー[住
友三国化学製]、クリスタルバイオレット、ブリリアン
トグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、エ
リスロシンB1ベイシックツクシン、マラカイトグリー
ン、オイルレッド、l−クレゾールパープル、ローダミ
ンB1オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイ
ミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニ
ルアセトアニリド、等に代表されるトリフェニルメタン
系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンチン系
、イミノナフトキノン系、アゾメチン系又はアントラキ
ノン系の色素が挙げられる。
更に、感脂性を向上するために、親油性のフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂及びp−置換フェノールホルムアル
デヒド樹脂と0−キノンジアジドのスルホン酸クロライ
ドを縮合させて得られる感光性樹脂を添加することが好
ましい。これらの感脂化剤は全感光性組成物の0.1〜
1.5重量%含まれることが好ましい。
又、感度を向上させるための増感剤も本発明の感光性組
成物に添加することができる。増感剤としては、特開昭
57−118237号公報に記載されている没食子酸誘
導体、特開昭52−80022号公報に記載されている
ような5員環状酸無水物例えば無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マ
レイン酸、無水コハク酸、ピロメリット酸、イタコン酸
等、及び特開昭58−11932号公報に記載されてい
るような6員環状酸無水物例えば無水グルタル酸及びそ
の誘導体等が挙げられる。このうち、好ましい功は環状
酸無水物であり、特に6員環状酸無水物が特に好ましい
本発明の感光性組成物を、上記各成分を溶解する溶媒に
溶解させ、これを適当な支持体表面に塗布乾燥させるこ
とにより感光性平版印刷版を形成することができる。使
用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロ
ソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソル
ブアセテート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シク
ロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケト
ン等が挙げられる。これら溶媒は、単独であるいは2種
以上混合して使用する。
塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
本発明の感光性組成物を用いた感光層を設ける親水性支
持体は、アルミニウム、亜鉛、銅、鋼等の金属板、及び
クロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び鉄等が
めっき又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィル
ム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等
の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフ
ィルム等が挙げられる。このうち好ましいのはアルミニ
ウム板である。感光性平版印刷版の支持体としてアルミ
ニウム板を使用する場合、砂目立て処理、陽極酸化処理
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されている
ことがより好ましい。これらの処理には公知の方法を適
用することができる。
すなわち、砂目立て処理の方法としては、例えば機械的
方法、電解によりエツチングする方法が挙げられる。機
械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨法
、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げら
れる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法
を単独あるいは組み合せて用いることができる。好まし
いのは電解エツチングする方法である。
電解エツチングは、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行なわれる。砂
目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。
陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロム酸、シュ
ウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶
液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行われ
る。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50IIMdfが
適当であり、好ましくは10〜40mg/dfである。
封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
以下に本発明を実施例をあげて更に具体的に説明するが
、本発明は以下の実施例により何等制限されるものでは
ない。
(実施例) アルミニウム板の作製 厚さ0.2411のアルミニウム板(材質1050、調
質H16)を5%水酸化ナトリウム水溶液中で、60℃
で1分間脱脂処理をした後、30℃の0.3モル/fの
硝酸水溶液中で交流下、iI流密度50A/dt”で3
0秒間電解研磨処理を行なった。次い゛で、60℃の5
%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処
理をした後、20℃の20%硫酸溶液中において電流密
度2A/dfで2分間陽極酸化処理を行なった。つづい
て80℃の温水で20秒間、熱水封孔処理を行い、感光
性平版印刷版用支持体のアルミニウム板を得た。
オルトキノンジアジド化合物の合成 (0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル樹脂I
 (QD−I)の合成) ピロガロール100g、アセトン1400(lをウォー
タバス中にセットした3頭コルベン中に投入し、窒素ガ
スを吹き込み、窒素置換を行なった後、オキシ塩化リン
10gを一度に投入し、重縮合反応を行なった。なお、
反応温度は高い方が好ましく、オキシ塩化リン投入と同
時に還流状態になるように、ウォータバスの温度を設定
する。約5時間反応後、反応液をV温まで冷却させた後
、水152中に強力に撹拌しながら徐々に投入し、生成
した重合物を沈澱させる。
析出した樹脂を濾取し、水にてpHがほぼ7の中性にな
るまで洗浄を行なう。濾取物は40℃以下にて乾燥を行
なう。このようにして淡かつ色状の樹m13hfl?た
。(FM点175〜183℃)この樹脂の分子層をGP
C(ポリスチレン標準)によって測定を行なった結果、
Mnは1.10 Xl 03、Mw は1.73 x1
Q3であった。
次にこの樹脂601Jをジオキサン720−112に溶
解させ、0−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルク
ロライド97.2Qを投入し、溶解後、炭酸カリ水溶液
(13重1%) 115gを滴下し、40〜50℃で約
1時開綿合反応を行なわせた後、反応液を大量の希塩酸
水中(濃塩酸13戴、水1i)に投入し、沈澱した樹脂
を濾取し、乾燥した。ピロガロール・アセトン樹脂の0
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル43Qの黄
色粉末樹脂(QD−I)が得られた。分析の結果、OH
基の縮合率は、28モル%であった。
(0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル樹脂I
[(QD−n)の合成) p−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂40gと
O−ナフトキノンジアジド−5−・スルホニルクロライ
ド24(Jをジオキサン5001Qに溶解し、撹拌しな
がら40℃にて1N−炭酸ナトリウム溶液9o11をp
H8以下に保ちながら徐々に加え、滴下後、更に30分
間撹拌する。反応液を希塩酸中に注ぎ、沈澱した油状物
を傾斜にて分離し、多量の水と共に撹拌するとやがて固
化する。これを濾別し、メタノールで洗った後、45℃
以下で乾燥した後、再びメチルセロソルブ3001(l
に溶解し、濾過したものを撹拌しながら多量の水中に注
ぐとやがて粉末状となって沈澱する。
これを濾別し、45℃以下で乾燥すると 100℃より
徐々に分解し、300℃以上でも溶融しない黄褐色粉末
状の樹脂(QD−II)が得られる。
収量 5.5(+。
実施例1 上記作製したアルミニウム板に下記組成の感光液をホイ
ラーによって塗布し、乾燥して感光性平版印刷版試料N
011を得た。
(感光性塗布液組成) O−ナフトキノンジアジドスルホン酸 エステル樹脂(Q[)−I)1重a部 フェノールとm−1p−混合クレゾー ルとホルムアルデヒド共重縮合樹脂 (Mn =  1.25 x103 、 Mw −1,
03x104 。
フェノールとクレゾールのモル比4:6)3.5重通部 2−トリクロロメチル−5−[β− (2′−ベンゾフリル)ごニル]− 1,3,4−オキサジアゾール 0.03重量部ビクト
リアピュアブルーBOH (保土ケ谷化学−社製)      O,OS重量部0
−ナフトキノンジアジドスルホン酸 エステル樹脂(QD−n)     0.05重」部本
発明の化合物(例示化合物1)   0.1重量部メチ
ルセロソルブ         50重量部感光性平版
印刷版試料1°の作製に用いた感光性塗布液の組成にお
いて本発明の化合物(例示化合物1)のかわりに第1表
に示されるような本発明の化合物を用いた以外は感光性
平版印刷版試料1と同様の方法で感光性平版印刷版試料
NO12〜4を作成し、また、上記感光性塗布液組成に
おいて本発明の化合物を添加しないこと以外は上記試料
1と同様の方法で感光性平版印刷版試料N015及びN
 0.6を作成した。
かくして得られた感光性平版印刷版試料N011〜6上
に感度測定用ステップタブレット(イーストマン・コダ
ック社製N o、 2、濃度差0.15づつで21段階
のグレースケール)を密着して、2KWメタルハライド
ランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000)を光源
として8.0 mW/ (、jの条件で露光し、次いで
5DR−1(小西六写真工業(掬社製)を水で6倍に希
釈した現像液で27℃にて20秒間現像し、水洗した後
の版上に焼き付けられたグレースケールのクリアーステ
ップ段数が4段である露光時間を調べた。
次にアンダー現像性を調べるために、上記の“5DR−
1”の6倍希釈の現象液に全面露光したポジ型感光性平
版印刷版を現像液12当たり、2、Ofの割合で現像処
理し、現象液を疲労させ、再度ポジ原稿を密着露光した
ポジ型感光性平版印刷版を上記と同様の条件で現像処理
をし、現像不良による汚れの有無を調べた。
また、オーバー現像による耐性を調べるため、上記“5
DR−1”現像液の6倍希釈液で30℃、90秒間現像
処理を行ない、網点の小点部を含めて画像部のヤラレ(
Il傷)等を観察した。27℃20秒間現像処理でのベ
タステップ段数に比べてベタ段数の上昇を求めた。この
ベタ段数の上昇が小さいほどオーバー現像耐性は良好で
あることを示す。
また、セーフライト性を調べるために、ポジ型感光性平
版印刷版に、白色蛍光灯(PS版面で3004jx)で
、露光時間5分、10分、15分、20分、25分およ
び30分間の6種について露光を行なった。次に、前記
5DR−1の6倍希釈液で現像処理を行ない、現像後の
感光層の膜減り率を調べ、膜減り率10%の露光時間(
安全時間)を算出した。
また、現像後の感光層の印刷インキ着肉性を調べるため
、現像処理した印刷版に5GQ−3ガム液(小西六写真
工業■社製)を塗布し乾燥した後、印81機(ハイデル
GTO52)にかけ、上質紙に印刷し、インキ着肉が良
好になるまでの印刷枚数を調べた。
上記の結果を第1表に示す。
第1表より明らかなように、本発明の化合物を含む感光
性平版印刷版試料N011〜4は感度、アンダー現像性
を良好に保ちながら、優れたオーバー現象性、セーフラ
イト性、インキ着肉性を示した。これに対し、本発明の
化合物を添加しない試料No、5及び6はオーバー現像
性、セーフライト性、インキ着肉性に劣っている。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明により感度及びアン
ダー現像性を低下させることなく、インキ着肉性、オー
バー現像性及びセーフライト性に優れたポジ型感光性平
版印劉版及び該印刷版の感光層として適する感光性組成
物を得ることができた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)o−キノンジアジド化合物、(b)ノボラ
    ック樹脂及び(c)分子構造中にポリオキシプロピレン
    基及びポリオキシエチレン基をそれぞれ少なくとも1つ
    有する化合物、を含有することを特徴とする感光性組成
    物。
  2. (2)親水性支持体上に、(a)o−キノンジアジド化
    合物、(b)ノボラック樹脂及び(c)分子構造中にポ
    リオキシプロピレン基及びポリオキシエチレン基をそれ
    ぞれ少なくとも1つ有する化合物、を含有する感光性組
    成物から成る感光層を有することを特徴とする感光性平
    版印刷版。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0345016A2 (en) * 1988-05-31 1989-12-06 Konica Corporation Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
JPH0229750A (ja) * 1988-07-20 1990-01-31 Mitsubishi Kasei Corp 感光性組成物および感光性平版印刷版
US5238771A (en) * 1988-05-31 1993-08-24 Konica Corporation Lithographic printing plate utilizing aluminum substrate with photosensitive layer containing o-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester, alkali soluble resin and select additive
KR100702403B1 (ko) * 2000-05-01 2007-04-02 후지 필름 일렉트로닉 머트리얼즈 가부시키가이샤 감방사선성 컬러필터용 조성물

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