JPS6330351U - - Google Patents

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JPS6330351U
JPS6330351U JP12251386U JP12251386U JPS6330351U JP S6330351 U JPS6330351 U JP S6330351U JP 12251386 U JP12251386 U JP 12251386U JP 12251386 U JP12251386 U JP 12251386U JP S6330351 U JPS6330351 U JP S6330351U
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JP
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target
beam sputtering
substrate
sputtered
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JP12251386U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るイオンビ
ームスパツタリング装置を示す概略図である。第
2図は、従来のイオンビームスパツタリング装置
の一例を示す概略図である。 2……真空容器、6……イオン源、8,8a〜
8d……イオンビーム、10……ターゲツト、1
4……基板、18〜20……遮蔽板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器内でターゲツトにイオンビームを照射
    してターゲツトからスパツタされる粒子を基板上
    に堆積されるイオンビームスパツタリング装置に
    おいて、ターゲツトの周辺部に、ターゲツトに当
    たらないイオンビームを受け止める遮蔽板を、そ
    れからスパツタされる粒子が基板の方に直接向か
    わないような角度で設けていることを特徴とする
    イオンビームスパツタリング装置。
JP12251386U 1986-08-09 1986-08-09 イオンビ−ムスパツタリング装置 Expired - Lifetime JPH0734925Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP12251386U JPH0734925Y2 (ja) 1986-08-09 1986-08-09 イオンビ−ムスパツタリング装置

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JP12251386U JPH0734925Y2 (ja) 1986-08-09 1986-08-09 イオンビ−ムスパツタリング装置

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Publication Number Publication Date
JPS6330351U true JPS6330351U (ja) 1988-02-27
JPH0734925Y2 JPH0734925Y2 (ja) 1995-08-09

Family

ID=31012769

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12251386U Expired - Lifetime JPH0734925Y2 (ja) 1986-08-09 1986-08-09 イオンビ−ムスパツタリング装置

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JP (1) JPH0734925Y2 (ja)

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Publication number Publication date
JPH0734925Y2 (ja) 1995-08-09

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