JPS6330300B2 - - Google Patents
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- JPS6330300B2 JPS6330300B2 JP59137491A JP13749184A JPS6330300B2 JP S6330300 B2 JPS6330300 B2 JP S6330300B2 JP 59137491 A JP59137491 A JP 59137491A JP 13749184 A JP13749184 A JP 13749184A JP S6330300 B2 JPS6330300 B2 JP S6330300B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、強誘電性スメクチツク液晶の電界へ
の応答を利用した電気光学素子に有用な新規の液
晶化合物に関する。 〔従来の技術〕 液晶は、既に種々の電気光学素子として応用さ
れ、時計や電卓等の表示に実用化されてきてい
る。 現在実用化されている液晶表示素子は、ネマテ
イツク液晶やコレステリツク液晶の誘電的配列効
果を利用したものが大部分である。しかし、期待
されている画素数の多い表示素子への応用に当つ
ては、応答性の面や、駆動マージンが取れない事
によるコントラスト・視角特性の面で問題となつ
ている。そのため、各画素毎にスイツチング素子
を形成するMOSパネルやTFTパネルが一方にお
いて研究開発がさかんになつている。 こうした中で、Clarkら(V.S.pat.4367924)
は、かかる液晶素子の欠点を除去する、スメクチ
ツク相を用いた新しい表示原理による液晶素子を
考案した。これについて若干の説明をする。 図1は、スメクチツクC*相またはH相の模式
図である。液晶は各分子層1から成つており、個
個の層の中では、分子長軸の平均的な方向が、層
に垂直な方向と角度Ψ0だけ傾いている。Meyer
らはLe Journal de Physique Vol.36(March、
1975 ppL−69 toL−71)の「強誘電性液晶」と
いうタイトルの論文において、光学活性な分子か
ら成るスメクチツクC*あるいはH相は、一般に
電気双極子密度Pを有し、強誘電的であることを
示している。この双極子密度Pは、分子の傾き方
向n^に垂直で、スメクチツクの層面に平行であ
る。彼らの示したことは、スメクチツクH相でも
適用可能であるが、H相では、層に垂直な軸のま
わりの回転に対する粘性がより大きくなる。これ
らのカイラルスメクチツク液晶における電気双極
子の存在は、誘電異方性におけるよりも、電場に
対してずつと強い結合力を与える。更に、この結
合力は、Pの好ましい方向が電場Eと平行な方向
であるという意味で極性のあるものなので、印加
した電場の方向を反転することにより、Pの方向
を反転させることになる。つまり、電場を反転さ
せることにより、図2で示したように、分子をコ
ーンに沿つた運動により(このコーンの角2Ψ0を
以下、コーン角という)、その方向を制御するこ
とが出来る。そしてこの分子の平均的な長軸方向
の変化を2枚の偏光板で検出することにより、電
気光学素子として利用し得る。 このスメクチツクC*相またはH相の電界への
応答を利用した電気光学素子は、その自発分極と
電界との結合力が、誘電異方性による結合力より
も3〜4オーダー大きい故に、TN型液晶素子に
比して、優れた高速応答性を有し、かつ適当な配
向制御を選択することにより、メモリー性をもた
すことが可能であり、高速光学シヤツターや表示
情報量の多いデイスプレイとしての応用が期待さ
れている。 ところで、この強誘電性を有するカイラルスメ
クチツク液晶材料は、種々合成され研究されてき
ている。強誘電性液晶として最初に合成されたの
は、DOBAMBCと呼称されているP−decyloxy
−benzilidene−P′−amino−2−methylbuty−
cyunamateであり、この系列の液晶は、以下の
構造式の形で、強誘電性液晶の研究対象として種
種合成されてきている。 (ここで、Xは−H、−Cl、−CNであり、Yは、
−Cl、−C2H5であり、*印は不整炭素原子であ
る。) しかし、この系列の液晶は、室温以上の比較的
高温側でカイラルスメクチツク相を呈するため、
室温では使えない事や、シツフ系であり、水分に
より分解し、安定性が悪い事などの欠点がある。 この系の発展系として、一般式 で表わされる。一方のベンゼン環に水酸基が導入
され、分子内の水素結合を有するシツフ系のカイ
ラルスメクチツク液晶化合物が、B.I.Ostrovskii
ら〔Ferroellectrics 24(1980)309〕やA.
Hallabyら〔Mol.Cryst.Liq.Cryst.、Letter82
(1982)61〕によつて発表され、室温を含む広い
温度範囲で、スメクチツクC*相を呈する化合物
として注目されている。又、分子内水素結合を有
するため、水分による分解が起りにくく、安定性
の面でも、通常のシツフ系液晶に比べ優れてい
る。しかし、実用的には、0℃以下でも、結晶化
しない事が要求されるので、いまだ、この系で合
成されている液晶材料だけでは不十分である。 他に、アゾキシ系の液晶材料がP.Kellerら
〔Amn.Phys.(1978)139〕によつて発表されてい
るが、温度範囲の面で十分でなく、又、濃い黄色
の化合物であるため実用上問題がある。 こうした中で、TN型液晶材料として広く実用
化され、安定性の面で実積のあるエステル系液晶
は注目し得る液晶材料である。公知の文献では、
B.I.Ostrovskiiらによつて、 の構造式で表わされる液晶化合物が、比較的室温
に近い温度範囲でカイラルスメクチツク液晶を呈
する材料として報告されている。又、G.W・
Grayら〔Mol・Cryst.Liq.Cryst.、37(1976)
189、(1978)37〕により、高い温度範囲でカイラ
ルスメクチツク液晶相を呈するビフエニルエステ
ル系材料が報告されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 以上見てきたように、現状では、実用に供せら
れる、室温を含む広い温度範囲でカイラルスメク
チツク相を呈する液晶材料はいまだ存在せず、
又、比較的広い温度範囲でカイラルスメクチツク
相を呈する材料でも、安定性に問題があつたりし
た。 そこで、本発明は、安定性に優れ、かつ、室温
を含む広い温度範囲のカイラルスメクチツク液晶
組成物を得ていくに当つての有力な新規液晶化合
物を提供することを目的としている。 〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するため、次の一般式で表わ
される新規化合物を合成した。
の応答を利用した電気光学素子に有用な新規の液
晶化合物に関する。 〔従来の技術〕 液晶は、既に種々の電気光学素子として応用さ
れ、時計や電卓等の表示に実用化されてきてい
る。 現在実用化されている液晶表示素子は、ネマテ
イツク液晶やコレステリツク液晶の誘電的配列効
果を利用したものが大部分である。しかし、期待
されている画素数の多い表示素子への応用に当つ
ては、応答性の面や、駆動マージンが取れない事
によるコントラスト・視角特性の面で問題となつ
ている。そのため、各画素毎にスイツチング素子
を形成するMOSパネルやTFTパネルが一方にお
いて研究開発がさかんになつている。 こうした中で、Clarkら(V.S.pat.4367924)
は、かかる液晶素子の欠点を除去する、スメクチ
ツク相を用いた新しい表示原理による液晶素子を
考案した。これについて若干の説明をする。 図1は、スメクチツクC*相またはH相の模式
図である。液晶は各分子層1から成つており、個
個の層の中では、分子長軸の平均的な方向が、層
に垂直な方向と角度Ψ0だけ傾いている。Meyer
らはLe Journal de Physique Vol.36(March、
1975 ppL−69 toL−71)の「強誘電性液晶」と
いうタイトルの論文において、光学活性な分子か
ら成るスメクチツクC*あるいはH相は、一般に
電気双極子密度Pを有し、強誘電的であることを
示している。この双極子密度Pは、分子の傾き方
向n^に垂直で、スメクチツクの層面に平行であ
る。彼らの示したことは、スメクチツクH相でも
適用可能であるが、H相では、層に垂直な軸のま
わりの回転に対する粘性がより大きくなる。これ
らのカイラルスメクチツク液晶における電気双極
子の存在は、誘電異方性におけるよりも、電場に
対してずつと強い結合力を与える。更に、この結
合力は、Pの好ましい方向が電場Eと平行な方向
であるという意味で極性のあるものなので、印加
した電場の方向を反転することにより、Pの方向
を反転させることになる。つまり、電場を反転さ
せることにより、図2で示したように、分子をコ
ーンに沿つた運動により(このコーンの角2Ψ0を
以下、コーン角という)、その方向を制御するこ
とが出来る。そしてこの分子の平均的な長軸方向
の変化を2枚の偏光板で検出することにより、電
気光学素子として利用し得る。 このスメクチツクC*相またはH相の電界への
応答を利用した電気光学素子は、その自発分極と
電界との結合力が、誘電異方性による結合力より
も3〜4オーダー大きい故に、TN型液晶素子に
比して、優れた高速応答性を有し、かつ適当な配
向制御を選択することにより、メモリー性をもた
すことが可能であり、高速光学シヤツターや表示
情報量の多いデイスプレイとしての応用が期待さ
れている。 ところで、この強誘電性を有するカイラルスメ
クチツク液晶材料は、種々合成され研究されてき
ている。強誘電性液晶として最初に合成されたの
は、DOBAMBCと呼称されているP−decyloxy
−benzilidene−P′−amino−2−methylbuty−
cyunamateであり、この系列の液晶は、以下の
構造式の形で、強誘電性液晶の研究対象として種
種合成されてきている。 (ここで、Xは−H、−Cl、−CNであり、Yは、
−Cl、−C2H5であり、*印は不整炭素原子であ
る。) しかし、この系列の液晶は、室温以上の比較的
高温側でカイラルスメクチツク相を呈するため、
室温では使えない事や、シツフ系であり、水分に
より分解し、安定性が悪い事などの欠点がある。 この系の発展系として、一般式 で表わされる。一方のベンゼン環に水酸基が導入
され、分子内の水素結合を有するシツフ系のカイ
ラルスメクチツク液晶化合物が、B.I.Ostrovskii
ら〔Ferroellectrics 24(1980)309〕やA.
Hallabyら〔Mol.Cryst.Liq.Cryst.、Letter82
(1982)61〕によつて発表され、室温を含む広い
温度範囲で、スメクチツクC*相を呈する化合物
として注目されている。又、分子内水素結合を有
するため、水分による分解が起りにくく、安定性
の面でも、通常のシツフ系液晶に比べ優れてい
る。しかし、実用的には、0℃以下でも、結晶化
しない事が要求されるので、いまだ、この系で合
成されている液晶材料だけでは不十分である。 他に、アゾキシ系の液晶材料がP.Kellerら
〔Amn.Phys.(1978)139〕によつて発表されてい
るが、温度範囲の面で十分でなく、又、濃い黄色
の化合物であるため実用上問題がある。 こうした中で、TN型液晶材料として広く実用
化され、安定性の面で実積のあるエステル系液晶
は注目し得る液晶材料である。公知の文献では、
B.I.Ostrovskiiらによつて、 の構造式で表わされる液晶化合物が、比較的室温
に近い温度範囲でカイラルスメクチツク液晶を呈
する材料として報告されている。又、G.W・
Grayら〔Mol・Cryst.Liq.Cryst.、37(1976)
189、(1978)37〕により、高い温度範囲でカイラ
ルスメクチツク液晶相を呈するビフエニルエステ
ル系材料が報告されている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 以上見てきたように、現状では、実用に供せら
れる、室温を含む広い温度範囲でカイラルスメク
チツク相を呈する液晶材料はいまだ存在せず、
又、比較的広い温度範囲でカイラルスメクチツク
相を呈する材料でも、安定性に問題があつたりし
た。 そこで、本発明は、安定性に優れ、かつ、室温
を含む広い温度範囲のカイラルスメクチツク液晶
組成物を得ていくに当つての有力な新規液晶化合
物を提供することを目的としている。 〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するため、次の一般式で表わ
される新規化合物を合成した。
【式】または
【式】
(式中Rは直鎖アルキル基であり、Aは
【式】
【式】または
これらの液晶化合物は、室温近辺でSc*相を呈
する化合物が多く、これらの液晶化合物をブレン
ドすることにより、低温領域までSc*相を呈する
液晶組成物が得られることが判明した。また、こ
れらの液晶化合物で、側鎖の短かい化合物は、
Sc*相をとらず、コレステリツク相のみを呈する
ものが多いが、他のSc*相を呈する液晶化合物と
ブレンドすることにより、低温までSc*相を有す
る液晶組成物を得ることができ、ブレンド材料と
して使用できることがわかつた。 更に、我々の実験では、一般式
する化合物が多く、これらの液晶化合物をブレン
ドすることにより、低温領域までSc*相を呈する
液晶組成物が得られることが判明した。また、こ
れらの液晶化合物で、側鎖の短かい化合物は、
Sc*相をとらず、コレステリツク相のみを呈する
ものが多いが、他のSc*相を呈する液晶化合物と
ブレンドすることにより、低温までSc*相を有す
る液晶組成物を得ることができ、ブレンド材料と
して使用できることがわかつた。 更に、我々の実験では、一般式
【式】または
【式】
(式中Rは直鎖アルキル基であり、Aは
【式】
【式】または
【式】*印は
不斉炭素であることを示す。)で表わされる両側
の側鎖に−O−または−COO−が入つた系では、
この−O−または−COO−が分子短軸方向(以
下、横方向という)の強いダイポールをもち、そ
れが2つあるため、分子間の横方向の相互作用が
強くなり、スメクチツク性が高く、室温より高い
温度領域で広い温度範囲でSc*相を呈するが、同
時に横方向の相互作用が強いため、コーンに沿つ
た分子運動が起りづらく、応答性が悪いというこ
とが明らかになつた。それに比べ、本発明の液晶
化合物のように、片側の側鎖にだけ、横方向のダ
イポールを有する液晶化合物は、分子間の横方向
の相互作用が弱くなり、スメクチツク性が弱くな
る。そのため、こうした系の液晶化合物は、常温
近辺の低い温度領域で、Sc*相を呈するものが多
いが、両側の側鎖に−O−または−COO−が入
つた液晶化合物に比較して、かなり応答速度が速
いことが明らかになつた。 更に、液晶分子の骨格がビフエニルエステルの
3環の液晶化合物は、2環の液晶化合物に比べ、
高い温度領域でSc*相を呈するため、液晶組成物
のSc*相の上限温度を上げるブレンド材として、
使用できることが明らかになつた。 以下、実施例を示す。 実施例 1 光学活性な4′−(6−メチルオクチルオキシ)
安息香酸4″−オクチルフエニルエステル まずこの合成法を記す。 第1段 50ml三ツ口フラスコに、水酸化ナトリウム2.01
g、水10ml、エタノール20mlを入れ、次に4−n
−ヒドロキシ安息香酸3.16gを加えて溶解させ
た。この混合物に、市販の活性アミルアルコール
より合成した光学活性な1−ブロモ−6−メチル
オクタン4.75gを加え、加熱還流下、19時間反応
した。反応終了後、エーテル洗浄し、水層を濾過
し、酸性にした。析出した結晶を濾取し、精製を
行ない、4−(6−メチルオクチルオキシ)安息
香酸4.75gを得た。 nujol υ max(cm-1) 2500〜2200 1675 1605 1580 1250 δCDCl3 TMS(ppm)11.54、broad、s、1H 8.08、d J=9Hz、2H 6.94、d J=9Hz、2H 3.99、t J=6Hz、2H 第二段 光学活性な4-−(6−メチルオクチルオキシ)
安息香酸2.2gに塩化チオニル11mlを加え、4時
間加熱還流下反応した後、過剰の塩化チオニルを
減圧下留去し、油状の酸塩化物を得た。 (υfilm nax1765、1740cm-1) これに、氷冷下、4−n−オクチルフエノール
1.72g、乾燥ピリジン10mlを加え、入れ、ゆつく
りと室温にもどしながら一昼夜反応した。反応終
了後、沈澱物を濾別し、エーテル抽出した。エー
テル層は、水、2NHCl、5%NaOHで順次洗浄
後、さらに中性になるまで水、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を、乾燥後、減圧下エーテルを留去
し、結晶性の化合物を得た。これを繰り返し精製
し目的のエステルを3.21gを得た。 nujol υ max(cm-1) 1740 1610 1580 δCDCl3 TMS(ppm)6.84〜8.19、m、8H、Aromatic
H 3・98、tJ=6Hz、2H、−CH2
−O− 2.59、t 2H、−CH2−Ar この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 (ここで*印は過冷却であることを示す。) この液晶化合物は、モノトロピツクのスメクチ
ツク液晶であるが、室温即ち過冷却状態で長時間
Sc*相を呈した。 この液晶化合物は、PVAラビングの一軸配向
処理を施した基板間に挾持し、液晶層厚を3μm
とし、±10Vの電圧印加で、直交ニコル下で、特
性を測定した。測定温度は30℃であつた。 Cone−44゜ コントラスト(Ton/Toff)−14.0 応答速度−1.0msec 実施例 2 光学活性な、4−n−オクチル安息香酸4′−
(6′−メチルオクチルオキシ)フエニルエステ
ル この化合物の合成法を記す。 第一段 25mlのフラスコにヒドロキノン0.637g、光学
活性なノーブロム−6−メチルオクタン1g、無
水炭酸カリウム0.667g、NN−ジメチルホルム
アミド4mlを入れ、90℃で9.5時間反応した。反
応後不溶物を濾別し、エーテル抽出した。エーテ
ル層は、水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥し、減圧
下エーテルを留去した。得られた粗生成物をシリ
カゲルクロマトグラフイーで精製し、光学活性な
4−(6′−メチルオクチルオキシ)フエノール
0.32gを得た。 film υ max(cm-1) 3350 1520 1110 δCDCl3 TMS(ppm)6.73、s、4H Aromatic H 5.42、broad s、1H −OH 3.87、tJ=6Hz、2H −CH2−
O− 第二段 n−オクチル安息香酸2.97gに塩化チオニル15
mlを加え、4時間還流下反応した。 過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、油状の酸
塩化物を得た。 (υfilm nax1775、1740、1602cm-1) 第三段 この酸塩化物に氷冷下、第一段のようにして得
た4−(6−メチルオクチルフエノール3g、乾
燥ピリジン10mlを加え入れ、ゆつくりと室温にも
どしながら一昼夜反応した。反応終了後、沈澱物
を濾別し、エーテル抽出した。エーテル層は、
水、2NHCl、5%NaOHで順次洗浄後、中性に
なるまで水、飽和食塩水で洗浄した。有機層は、
乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣
を、繰り返し精製し、目的のエステル体4.48gを
得た。 nujol υ max(cm-1) 1742 1615 1600 δCDCl3 TMS(ppm)6.85〜8.22、m、8H、Aromatic
H 3.94、tJ=6Hz、2H、−CH2−
O− 2.70、t、2H、−CH2−Ar この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 この液晶化合物は、モノトロピツクのスメクチ
ツク液晶であつた。 この液晶化合物を、PVAラビングの一軸配向
処理を処した基板間に挾持し、液晶層厚を3μm
とし、±10Vの電圧印加で、直交ニコル下で、特
性を測定した。測定温度は34℃であつた。 Cone角−40゜ コントラスト(Ton/Toff)−9.5 応答速度−1.7ms 実施例 3 光学活性な4−(6−メチルオクチルカルボキ
シ)安息香酸4′−n−オクチルフエニルエステ
ル まずこの合成法を記す。 第一段 4−ベンジルオキシ安息香酸4′−n−オクチル
フエニルエステルの合成 100mlのフラスコに4−ベンジルオキシ安息香
酸8.2g、塩化チオニル50mlを入れ、還流下2.5時
間反応した。過剰の塩化チオニルを減圧下留去
し、粗結晶を得た。これを再結晶し、酸塩化物
7.9gを得た。 (υnujol nax1770、1600cm-1)m.p 106〜108.2゜ 酸塩化物6gは、乾燥ピリジン35ml、4−n−
オクチルフエノール5.01gの混合物に氷冷下加え
た。加えた後、ゆつくりと室温にもどし、さらに
50℃で2時間反応した。反応終了後、沈澱物を濾
別し、酢酸エチルで抽出した。有機層は、水、
2NHCl、水、5%NaOH、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、乾燥後、減圧下有機溶媒を留去した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフイーで
精製し、8.13gのエステルを得た。 mp. 119.5〜120.5゜ nujol υ max(cm-1) 1715 1605 δCDCl3 TMS(ppm)6.97〜8.24、m、13H、Aromatic
H 5.11、S、2H、−O−CH2− 2.10、t、2H、−CH2−Ar 第二段 4−ヒドロキシ安息香酸4′−n−オクチルフエ
ニルエステルの合成ル 4−ベンジルオキシ安息香酸4′−n−オクチル
フエニルエステル7.3g、10%pd/C 0.73g、酢
酸エチル250mlをフラスコに入れた。 この混合物は、油浴45℃で、理論量の水素と反
応するまで撹拌を続けた。反応後触媒を濾別し、
有機溶媒を留去した。得られた粗結晶を再結晶
し、4−ヒドロキシ安息香酸4′−n−オクチルフ
エニルエステル5.43gを得た。 m.p129.5〜130.8℃ nujol υ max(cm-1) 3460 3370 1730 δCDCl3 TMS(ppm)6.60〜8.01、m、8H、Aromatic
H 2.54、t、2H、−CH2−Ar 第三段 光学活性な4−(6−メチルオクチルカルボキ
シ)安息香酸4′−n−オクチルフエニルエステ
ルの合成 光学活性な6−メチルオクタン酸2gに塩化チ
オニル15mlを加え入れ、3時間還流下反応した。
反応後過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、油状
の酸塩化物を得た。(υfilm nax、1800、1480cm-1) これに、冷却下、4−ヒドロキシ安息香酸4′−
オクチルフエニルエステル4.23g、乾燥ピリジン
30mlを加え入れ、ゆつくりと室温にもどしながら
一昼夜反応した。反応後、沈澱物を濾別し、エー
テル抽出した。エーテル層は、水、2NHCl、5
%NaCHで順次洗浄し、中性になるまで水、飽和
食塩水で洗浄した。エーテル層は、乾燥後、エー
テルを減圧下留去した。得られた残渣を繰り返し
精製し、目的のエステル化合物1.38gを得た。 nujol υ max(cm-1) 1765 1722 1605 δCDCl3 TMS(ppm)6.99〜8.30、m、8H、Aromatic
H 2.47〜2.77、m、4H、
の側鎖に−O−または−COO−が入つた系では、
この−O−または−COO−が分子短軸方向(以
下、横方向という)の強いダイポールをもち、そ
れが2つあるため、分子間の横方向の相互作用が
強くなり、スメクチツク性が高く、室温より高い
温度領域で広い温度範囲でSc*相を呈するが、同
時に横方向の相互作用が強いため、コーンに沿つ
た分子運動が起りづらく、応答性が悪いというこ
とが明らかになつた。それに比べ、本発明の液晶
化合物のように、片側の側鎖にだけ、横方向のダ
イポールを有する液晶化合物は、分子間の横方向
の相互作用が弱くなり、スメクチツク性が弱くな
る。そのため、こうした系の液晶化合物は、常温
近辺の低い温度領域で、Sc*相を呈するものが多
いが、両側の側鎖に−O−または−COO−が入
つた液晶化合物に比較して、かなり応答速度が速
いことが明らかになつた。 更に、液晶分子の骨格がビフエニルエステルの
3環の液晶化合物は、2環の液晶化合物に比べ、
高い温度領域でSc*相を呈するため、液晶組成物
のSc*相の上限温度を上げるブレンド材として、
使用できることが明らかになつた。 以下、実施例を示す。 実施例 1 光学活性な4′−(6−メチルオクチルオキシ)
安息香酸4″−オクチルフエニルエステル まずこの合成法を記す。 第1段 50ml三ツ口フラスコに、水酸化ナトリウム2.01
g、水10ml、エタノール20mlを入れ、次に4−n
−ヒドロキシ安息香酸3.16gを加えて溶解させ
た。この混合物に、市販の活性アミルアルコール
より合成した光学活性な1−ブロモ−6−メチル
オクタン4.75gを加え、加熱還流下、19時間反応
した。反応終了後、エーテル洗浄し、水層を濾過
し、酸性にした。析出した結晶を濾取し、精製を
行ない、4−(6−メチルオクチルオキシ)安息
香酸4.75gを得た。 nujol υ max(cm-1) 2500〜2200 1675 1605 1580 1250 δCDCl3 TMS(ppm)11.54、broad、s、1H 8.08、d J=9Hz、2H 6.94、d J=9Hz、2H 3.99、t J=6Hz、2H 第二段 光学活性な4-−(6−メチルオクチルオキシ)
安息香酸2.2gに塩化チオニル11mlを加え、4時
間加熱還流下反応した後、過剰の塩化チオニルを
減圧下留去し、油状の酸塩化物を得た。 (υfilm nax1765、1740cm-1) これに、氷冷下、4−n−オクチルフエノール
1.72g、乾燥ピリジン10mlを加え、入れ、ゆつく
りと室温にもどしながら一昼夜反応した。反応終
了後、沈澱物を濾別し、エーテル抽出した。エー
テル層は、水、2NHCl、5%NaOHで順次洗浄
後、さらに中性になるまで水、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を、乾燥後、減圧下エーテルを留去
し、結晶性の化合物を得た。これを繰り返し精製
し目的のエステルを3.21gを得た。 nujol υ max(cm-1) 1740 1610 1580 δCDCl3 TMS(ppm)6.84〜8.19、m、8H、Aromatic
H 3・98、tJ=6Hz、2H、−CH2
−O− 2.59、t 2H、−CH2−Ar この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 (ここで*印は過冷却であることを示す。) この液晶化合物は、モノトロピツクのスメクチ
ツク液晶であるが、室温即ち過冷却状態で長時間
Sc*相を呈した。 この液晶化合物は、PVAラビングの一軸配向
処理を施した基板間に挾持し、液晶層厚を3μm
とし、±10Vの電圧印加で、直交ニコル下で、特
性を測定した。測定温度は30℃であつた。 Cone−44゜ コントラスト(Ton/Toff)−14.0 応答速度−1.0msec 実施例 2 光学活性な、4−n−オクチル安息香酸4′−
(6′−メチルオクチルオキシ)フエニルエステ
ル この化合物の合成法を記す。 第一段 25mlのフラスコにヒドロキノン0.637g、光学
活性なノーブロム−6−メチルオクタン1g、無
水炭酸カリウム0.667g、NN−ジメチルホルム
アミド4mlを入れ、90℃で9.5時間反応した。反
応後不溶物を濾別し、エーテル抽出した。エーテ
ル層は、水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥し、減圧
下エーテルを留去した。得られた粗生成物をシリ
カゲルクロマトグラフイーで精製し、光学活性な
4−(6′−メチルオクチルオキシ)フエノール
0.32gを得た。 film υ max(cm-1) 3350 1520 1110 δCDCl3 TMS(ppm)6.73、s、4H Aromatic H 5.42、broad s、1H −OH 3.87、tJ=6Hz、2H −CH2−
O− 第二段 n−オクチル安息香酸2.97gに塩化チオニル15
mlを加え、4時間還流下反応した。 過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、油状の酸
塩化物を得た。 (υfilm nax1775、1740、1602cm-1) 第三段 この酸塩化物に氷冷下、第一段のようにして得
た4−(6−メチルオクチルフエノール3g、乾
燥ピリジン10mlを加え入れ、ゆつくりと室温にも
どしながら一昼夜反応した。反応終了後、沈澱物
を濾別し、エーテル抽出した。エーテル層は、
水、2NHCl、5%NaOHで順次洗浄後、中性に
なるまで水、飽和食塩水で洗浄した。有機層は、
乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣
を、繰り返し精製し、目的のエステル体4.48gを
得た。 nujol υ max(cm-1) 1742 1615 1600 δCDCl3 TMS(ppm)6.85〜8.22、m、8H、Aromatic
H 3.94、tJ=6Hz、2H、−CH2−
O− 2.70、t、2H、−CH2−Ar この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 この液晶化合物は、モノトロピツクのスメクチ
ツク液晶であつた。 この液晶化合物を、PVAラビングの一軸配向
処理を処した基板間に挾持し、液晶層厚を3μm
とし、±10Vの電圧印加で、直交ニコル下で、特
性を測定した。測定温度は34℃であつた。 Cone角−40゜ コントラスト(Ton/Toff)−9.5 応答速度−1.7ms 実施例 3 光学活性な4−(6−メチルオクチルカルボキ
シ)安息香酸4′−n−オクチルフエニルエステ
ル まずこの合成法を記す。 第一段 4−ベンジルオキシ安息香酸4′−n−オクチル
フエニルエステルの合成 100mlのフラスコに4−ベンジルオキシ安息香
酸8.2g、塩化チオニル50mlを入れ、還流下2.5時
間反応した。過剰の塩化チオニルを減圧下留去
し、粗結晶を得た。これを再結晶し、酸塩化物
7.9gを得た。 (υnujol nax1770、1600cm-1)m.p 106〜108.2゜ 酸塩化物6gは、乾燥ピリジン35ml、4−n−
オクチルフエノール5.01gの混合物に氷冷下加え
た。加えた後、ゆつくりと室温にもどし、さらに
50℃で2時間反応した。反応終了後、沈澱物を濾
別し、酢酸エチルで抽出した。有機層は、水、
2NHCl、水、5%NaOH、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、乾燥後、減圧下有機溶媒を留去した。
得られた粗生成物をカラムクロマトグラフイーで
精製し、8.13gのエステルを得た。 mp. 119.5〜120.5゜ nujol υ max(cm-1) 1715 1605 δCDCl3 TMS(ppm)6.97〜8.24、m、13H、Aromatic
H 5.11、S、2H、−O−CH2− 2.10、t、2H、−CH2−Ar 第二段 4−ヒドロキシ安息香酸4′−n−オクチルフエ
ニルエステルの合成ル 4−ベンジルオキシ安息香酸4′−n−オクチル
フエニルエステル7.3g、10%pd/C 0.73g、酢
酸エチル250mlをフラスコに入れた。 この混合物は、油浴45℃で、理論量の水素と反
応するまで撹拌を続けた。反応後触媒を濾別し、
有機溶媒を留去した。得られた粗結晶を再結晶
し、4−ヒドロキシ安息香酸4′−n−オクチルフ
エニルエステル5.43gを得た。 m.p129.5〜130.8℃ nujol υ max(cm-1) 3460 3370 1730 δCDCl3 TMS(ppm)6.60〜8.01、m、8H、Aromatic
H 2.54、t、2H、−CH2−Ar 第三段 光学活性な4−(6−メチルオクチルカルボキ
シ)安息香酸4′−n−オクチルフエニルエステ
ルの合成 光学活性な6−メチルオクタン酸2gに塩化チ
オニル15mlを加え入れ、3時間還流下反応した。
反応後過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、油状
の酸塩化物を得た。(υfilm nax、1800、1480cm-1) これに、冷却下、4−ヒドロキシ安息香酸4′−
オクチルフエニルエステル4.23g、乾燥ピリジン
30mlを加え入れ、ゆつくりと室温にもどしながら
一昼夜反応した。反応後、沈澱物を濾別し、エー
テル抽出した。エーテル層は、水、2NHCl、5
%NaCHで順次洗浄し、中性になるまで水、飽和
食塩水で洗浄した。エーテル層は、乾燥後、エー
テルを減圧下留去した。得られた残渣を繰り返し
精製し、目的のエステル化合物1.38gを得た。 nujol υ max(cm-1) 1765 1722 1605 δCDCl3 TMS(ppm)6.99〜8.30、m、8H、Aromatic
H 2.47〜2.77、m、4H、
【式】−CH2−Ar
この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 (ここで*印は過冷却であることを示す。) この液晶化合物を、PVAラビングの一軸配向
処理を施した基板間に挾持し、液晶層厚を3μm
とし、±10Vの電圧印加で、直交ニコル下で、特
性を測定した。測定温度は、34℃であつた。 Cone角−40゜ コントラスト(Ton/Toff)−10.5 応答速度−700μsec 実施例 4 光学活性な、4−n−ヘプチルビフエニル−
4′−カルボン酸、4″−(6″−メチルオクチルオ
キシ)フエニルエステル 合成法を以下に記す。 第一段 光学活性なベンジルオキシフエニル6−メチル
オクチルエーテルの合成 100mlの四つ口フラスコに、NaH3.74g(50%
oil含)、NN−ジメチルホルムアミド50mlを入れ
た。N2気流下、氷水浴で冷却し、N,N−ジメ
チルホルムアミド30mlに溶かしたヒドロキノンモ
ノベンジルエーテル15.46gを20分にわたつて滴
下した。20分後光学活性な1−ブロム−6−メチ
ルオクタン16gを45分にわたつて加えた後、さら
に室温で6時間反応した。反応混合物は、エーテ
ル抽出した。エーテル層は、水、5%NaOH、
水、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥し、減圧下有
機溶媒を留去し、粗生成物を得た。これを製精製
し、24.37gのエーテル化合物を得た。 film υ max(cm-1) 1590 1505 1110 δCDCl3 TMS(ppm)7.37〜7.67、m、5H、Aromatic
H 6.87、S、4H、Aromatic H 4.99、S、2H、−O−CH2 −Ar 3.87、tJ=6Hz、2H、−CH2−
CH2−O− 第二段 光学活性な4−(6′−メチルオクチルオキシ)
フエノールの合成 光学活性な4−ベンジルオキシフエニル6−メ
チルオクチルエーテル23.37g、10%Pd/C2.33g、
エタノール230mlをフラスコに入れた。これを、
理論量の水素と反応するまで室温で反応させた。
反応後、触媒を濾別し、有機溶媒を減圧下留去
し、粗生成物を得た。これを精製し、目的のフエ
ノール16.91gを得た。 film υ max(cm-1) 3350 1520 1110 δCDCl3 TMS(ppm)6.73、S、4H Aromatic H 5.42、broad s、1H −OH 3.87、t J=6Hz、2H −
CH2−O− 第三段 4−n−ヘプチルビフエニル−4′−カルボン酸
の合成 500mlの四つ口フラスコに、水酸化ナトリウム
43.26gエタノール120ml、水120mlを入れた。次
に室温で、4′−n−ヘプチル−4−シアノビフエ
ニル10gを加え入れた。この混合物を、加熱還流
下18時間反応し、反応終了後、氷水に流し込み、
濃塩酸を用い酸性にした。 析出した結晶は、濾取し、乾燥した。この粗結
晶を再結晶し、4−n−ヘプチルビフエニル−
4′−カルボン酸8.92gを得た。 nujol υ max(cm-1) 2750〜2000 1680 1605 δDMSO−d6 TMS(ppm)7.24〜8.18、m、8H、Aromatic
H 2.62、t、2H、−CH2 −Ar 第四段 光学活性な4−n−ヘプチルビフエニル−4′−
カルボン酸4″−(6″−メチルオクチルオキシ)
フエニルエステルの合成 4−n−ヘプチルビフエニル−4′−カルボン酸
3gに塩化チオニル30mlを加え、4.5時間加熱還
流下反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去
し、油状の酸塩化物を得た。 (υfilm nax、1770、1740、1600cm-1) この酸塩化物に、氷冷下、4−(6−メチルオ
クチルオキシ)フエノール2.39g、乾燥ピリジン
20mlを入れ、室温にもどした後、さらに油浴45℃
で一昼夜反応した。反応後、沈澱物を濾別し、エ
ーテル抽出した。有機層は、水、2NHCl、5%
NaOHで順次洗浄後、さらに水、飽和食塩水で
中性になるまで洗浄、乾燥し、エーテルを減圧下
留去した。得られた粗生成物を繰り返し精製し、
4.07gのエステル体を得た。 nujol υ max(−cm-1) 1735 1610 1110 δCDCl3 TMS(ppm)6.81〜8.30、m、12H、Aromatic
H 3.92、tJ=6Hz、2H、−CH2 −
O− 2.64、t、2H、−CH2 −Ar この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 この液晶化合物(LC−4とする)は、室温よ
りかなり高い温度領域でSc*相をとるため、液晶
組成物のSc*相の上限温度を上げるためのブレン
ド材として使用できる。 更に、応答速度への影響を見るために、この液
晶化合物1に対し、構造式 で表わされるMBRA8を1及び3の割合でブレン
ドした液晶組成物をつくり、応答の温度依存性の
データをとつた。比較の意味で、MBRA8単体の
データも記載した。第3図に示す。 これらのデータは、PVAラビングの一軸配向
処理を施した基板間に、液晶層厚が3μmになる
ように挾持し、±10Vの電圧を印加し、直交ニコ
ル下で採取した。 第3図が示すように、この液晶化合物は、
MBRA8と混合しても、応答速度を悪くすること
は、ほとんどないことが判明した。 実施例 5 実施例1の液晶化合物(LC−1とする)と、
実施例2の液晶化合物(LC−2とする)をブレ
ンドした時の相図を第4図に示す。 第4図において、LC−1、LC−2ともに、昇
温過程の相変化を採用したため、Sc*相を有しな
い形になつている。 第4図より明らかなように、LC−1とLC−2
をブレンドすることにより、室温近くで、Sc*相
を呈する液晶組成物が得られることが明らかにな
つた。 実施例 6 実施例1の液晶組成物(LC−1)と実施例3
の液晶組成物(LC−3とする)をブレンドした
場合の相図を第5図に示す。 第5図より明らかなように、LC−1とLC−3
をブレンドすることにより、室温近辺でSc*相を
呈する液晶組成物が得られることが明らかになつ
た。 実施例 7 実施例1の液晶化合物(LC−1)とMBRA8
とをブレンドした時の相図を第6図に示す。 第6図より明らかなように、LC−1と
MBRA8をブレンドすることにより、室温以下ま
でSc*相を呈する液晶組成物が得られることが明
らかになつた。 実施例 8 実施例3の液晶化合物(LC−3)とMBRA8
とをブレンドした場合の相図を第7図に示す。 第7図から明らかなように、LC−3と
MBRA8をブレンドすることにより、室温近辺で
Sc*相を有する液晶組成物が得られた。 以上、実施例で見てきたように、本発明による
新規の液晶化合物は、応答性が良好であり、室温
近辺の液晶組成物を得るブレンド材または、Sc*
相の上限温度を上げるブレンド材として有効であ
り、室温を含む広い温度範囲の実用的なSc*液晶
組成物を得ていく上で、画期的な材料である。強
誘電性液晶デイスプレイの実用化に大きく寄与す
るものである。
つた。 (ここで*印は過冷却であることを示す。) この液晶化合物を、PVAラビングの一軸配向
処理を施した基板間に挾持し、液晶層厚を3μm
とし、±10Vの電圧印加で、直交ニコル下で、特
性を測定した。測定温度は、34℃であつた。 Cone角−40゜ コントラスト(Ton/Toff)−10.5 応答速度−700μsec 実施例 4 光学活性な、4−n−ヘプチルビフエニル−
4′−カルボン酸、4″−(6″−メチルオクチルオ
キシ)フエニルエステル 合成法を以下に記す。 第一段 光学活性なベンジルオキシフエニル6−メチル
オクチルエーテルの合成 100mlの四つ口フラスコに、NaH3.74g(50%
oil含)、NN−ジメチルホルムアミド50mlを入れ
た。N2気流下、氷水浴で冷却し、N,N−ジメ
チルホルムアミド30mlに溶かしたヒドロキノンモ
ノベンジルエーテル15.46gを20分にわたつて滴
下した。20分後光学活性な1−ブロム−6−メチ
ルオクタン16gを45分にわたつて加えた後、さら
に室温で6時間反応した。反応混合物は、エーテ
ル抽出した。エーテル層は、水、5%NaOH、
水、飽和食塩水で順次洗浄後、乾燥し、減圧下有
機溶媒を留去し、粗生成物を得た。これを製精製
し、24.37gのエーテル化合物を得た。 film υ max(cm-1) 1590 1505 1110 δCDCl3 TMS(ppm)7.37〜7.67、m、5H、Aromatic
H 6.87、S、4H、Aromatic H 4.99、S、2H、−O−CH2 −Ar 3.87、tJ=6Hz、2H、−CH2−
CH2−O− 第二段 光学活性な4−(6′−メチルオクチルオキシ)
フエノールの合成 光学活性な4−ベンジルオキシフエニル6−メ
チルオクチルエーテル23.37g、10%Pd/C2.33g、
エタノール230mlをフラスコに入れた。これを、
理論量の水素と反応するまで室温で反応させた。
反応後、触媒を濾別し、有機溶媒を減圧下留去
し、粗生成物を得た。これを精製し、目的のフエ
ノール16.91gを得た。 film υ max(cm-1) 3350 1520 1110 δCDCl3 TMS(ppm)6.73、S、4H Aromatic H 5.42、broad s、1H −OH 3.87、t J=6Hz、2H −
CH2−O− 第三段 4−n−ヘプチルビフエニル−4′−カルボン酸
の合成 500mlの四つ口フラスコに、水酸化ナトリウム
43.26gエタノール120ml、水120mlを入れた。次
に室温で、4′−n−ヘプチル−4−シアノビフエ
ニル10gを加え入れた。この混合物を、加熱還流
下18時間反応し、反応終了後、氷水に流し込み、
濃塩酸を用い酸性にした。 析出した結晶は、濾取し、乾燥した。この粗結
晶を再結晶し、4−n−ヘプチルビフエニル−
4′−カルボン酸8.92gを得た。 nujol υ max(cm-1) 2750〜2000 1680 1605 δDMSO−d6 TMS(ppm)7.24〜8.18、m、8H、Aromatic
H 2.62、t、2H、−CH2 −Ar 第四段 光学活性な4−n−ヘプチルビフエニル−4′−
カルボン酸4″−(6″−メチルオクチルオキシ)
フエニルエステルの合成 4−n−ヘプチルビフエニル−4′−カルボン酸
3gに塩化チオニル30mlを加え、4.5時間加熱還
流下反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去
し、油状の酸塩化物を得た。 (υfilm nax、1770、1740、1600cm-1) この酸塩化物に、氷冷下、4−(6−メチルオ
クチルオキシ)フエノール2.39g、乾燥ピリジン
20mlを入れ、室温にもどした後、さらに油浴45℃
で一昼夜反応した。反応後、沈澱物を濾別し、エ
ーテル抽出した。有機層は、水、2NHCl、5%
NaOHで順次洗浄後、さらに水、飽和食塩水で
中性になるまで洗浄、乾燥し、エーテルを減圧下
留去した。得られた粗生成物を繰り返し精製し、
4.07gのエステル体を得た。 nujol υ max(−cm-1) 1735 1610 1110 δCDCl3 TMS(ppm)6.81〜8.30、m、12H、Aromatic
H 3.92、tJ=6Hz、2H、−CH2 −
O− 2.64、t、2H、−CH2 −Ar この液晶化合物は、以下のような転移温度であ
つた。 この液晶化合物(LC−4とする)は、室温よ
りかなり高い温度領域でSc*相をとるため、液晶
組成物のSc*相の上限温度を上げるためのブレン
ド材として使用できる。 更に、応答速度への影響を見るために、この液
晶化合物1に対し、構造式 で表わされるMBRA8を1及び3の割合でブレン
ドした液晶組成物をつくり、応答の温度依存性の
データをとつた。比較の意味で、MBRA8単体の
データも記載した。第3図に示す。 これらのデータは、PVAラビングの一軸配向
処理を施した基板間に、液晶層厚が3μmになる
ように挾持し、±10Vの電圧を印加し、直交ニコ
ル下で採取した。 第3図が示すように、この液晶化合物は、
MBRA8と混合しても、応答速度を悪くすること
は、ほとんどないことが判明した。 実施例 5 実施例1の液晶化合物(LC−1とする)と、
実施例2の液晶化合物(LC−2とする)をブレ
ンドした時の相図を第4図に示す。 第4図において、LC−1、LC−2ともに、昇
温過程の相変化を採用したため、Sc*相を有しな
い形になつている。 第4図より明らかなように、LC−1とLC−2
をブレンドすることにより、室温近くで、Sc*相
を呈する液晶組成物が得られることが明らかにな
つた。 実施例 6 実施例1の液晶組成物(LC−1)と実施例3
の液晶組成物(LC−3とする)をブレンドした
場合の相図を第5図に示す。 第5図より明らかなように、LC−1とLC−3
をブレンドすることにより、室温近辺でSc*相を
呈する液晶組成物が得られることが明らかになつ
た。 実施例 7 実施例1の液晶化合物(LC−1)とMBRA8
とをブレンドした時の相図を第6図に示す。 第6図より明らかなように、LC−1と
MBRA8をブレンドすることにより、室温以下ま
でSc*相を呈する液晶組成物が得られることが明
らかになつた。 実施例 8 実施例3の液晶化合物(LC−3)とMBRA8
とをブレンドした場合の相図を第7図に示す。 第7図から明らかなように、LC−3と
MBRA8をブレンドすることにより、室温近辺で
Sc*相を有する液晶組成物が得られた。 以上、実施例で見てきたように、本発明による
新規の液晶化合物は、応答性が良好であり、室温
近辺の液晶組成物を得るブレンド材または、Sc*
相の上限温度を上げるブレンド材として有効であ
り、室温を含む広い温度範囲の実用的なSc*液晶
組成物を得ていく上で、画期的な材料である。強
誘電性液晶デイスプレイの実用化に大きく寄与す
るものである。
第1図はスメクチツクC*相またはH相の模式
図であり、第2図はカイラルスメクチツク相の液
晶分子の電界によるコーンに沿つた運動を示す模
式図であり、第3図は応答速度の温度依存性を示
すグラフであり、第4図から第7図は、2種類の
液晶をブレンドした時の相図である。
図であり、第2図はカイラルスメクチツク相の液
晶分子の電界によるコーンに沿つた運動を示す模
式図であり、第3図は応答速度の温度依存性を示
すグラフであり、第4図から第7図は、2種類の
液晶をブレンドした時の相図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 【式】または 【式】 (上式中、Rは直鎖アルキル基であり、Aは
【式】 【式】または 【式】であり、 *印は不斉炭素であることとを示す。) で表わされる光学活性な液晶化合物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59137491A JPS6117541A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 液晶化合物 |
US06/743,095 US4710585A (en) | 1984-07-03 | 1985-06-10 | Liquid crystal compound |
EP85304418A EP0167328A3 (en) | 1984-07-03 | 1985-06-20 | Liquid crystal compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59137491A JPS6117541A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 液晶化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6117541A JPS6117541A (ja) | 1986-01-25 |
JPS6330300B2 true JPS6330300B2 (ja) | 1988-06-17 |
Family
ID=15199889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59137491A Granted JPS6117541A (ja) | 1984-07-03 | 1984-07-03 | 液晶化合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4710585A (ja) |
EP (1) | EP0167328A3 (ja) |
JP (1) | JPS6117541A (ja) |
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JPS6143A (ja) * | 1984-06-11 | 1986-01-06 | Chisso Corp | 強誘電性液晶化合物及び液晶組成物 |
DE3500972A1 (de) * | 1985-01-14 | 1986-07-17 | Henkel Kgaa | Sebosuppressive kosmetische mittel, enthaltend alkoxy- oder alkylbenzyloxy-benzoesaeuren oder deren salze |
DE3683062D1 (de) * | 1985-02-08 | 1992-02-06 | Ajinomoto Kk | Auf polyphenyl basierende esterverbindungen und sie enthaltende fluessigkristalline zusammensetzungen. |
JPS62114937A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-26 | Chisso Corp | 液晶性炭酸エステル及び液晶組成物 |
DE3620049A1 (de) * | 1986-06-14 | 1987-12-17 | Hoechst Ag | Chirale ester aus (alpha)-substituierten phenylalkansaeuren und mesogenen hydroxylverbindungen und ihre verwendung als dotierstoff in fluessigkristall-phasen |
US5132041A (en) * | 1986-07-21 | 1992-07-21 | Polaroid Corporation | Liquid crystal compounds having ether tail moiety |
JPH066555B2 (ja) * | 1986-12-23 | 1994-01-26 | 高砂香料工業株式会社 | 液晶性化合物 |
JPS63196534A (ja) * | 1987-02-07 | 1988-08-15 | Seiko Epson Corp | 光学活性フエニルエ−テル化合物 |
US4866199A (en) * | 1987-03-20 | 1989-09-12 | Adeka Argus Chemical Co., Ltd. | Optically active ester compound |
US4857227A (en) * | 1987-07-02 | 1989-08-15 | Polaroid Corporation Patent Department | Liquid crystal mixtures having widened smectic temperature range |
US4959173A (en) * | 1987-09-29 | 1990-09-25 | Adeka Argus Chemical Co., Ltd. | Optically active ester compound |
DE3875461T2 (de) * | 1987-12-22 | 1993-05-13 | Mitsubishi Rayon Co | Mesomorphe verbindung, die eine beta-hydroxycarbonsaeuregruppe als chirales zentrum enthaelt und fluessigkristall-zusammensetzung. |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5344535A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-21 | Chisso Corp | Liquid crystals |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4937707B1 (ja) * | 1970-12-28 | 1974-10-11 | ||
US3975286A (en) * | 1974-09-03 | 1976-08-17 | Beckman Instruments, Inc. | Low voltage actuated field effect liquid crystals compositions and method of synthesis |
US4147651A (en) * | 1974-09-03 | 1979-04-03 | Beckman Instruments, Inc. | Biphenyl based liquid crystal compositions |
GB1456359A (en) * | 1974-10-22 | 1976-11-24 | Merck Patent Gmbh | Biphenyl carboxylic esters |
GB1592161A (en) * | 1976-08-13 | 1981-07-01 | Secr Defence | Biphenyl carboxylic esters and their use as liquid crystal materials |
JPS5387986A (en) * | 1977-01-12 | 1978-08-02 | Seiko Epson Corp | Display element |
JPS5829877A (ja) * | 1981-08-13 | 1983-02-22 | Seiko Epson Corp | 液晶表示体 |
US4613209A (en) * | 1982-03-23 | 1986-09-23 | At&T Bell Laboratories | Smectic liquid crystals |
EP0115693B1 (en) * | 1983-01-06 | 1987-08-26 | Chisso Corporation | Liquid crystalline compounds and mixtures thereof |
JPS6090290A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-21 | Chisso Corp | カイラルスメクチツク液晶組成物 |
JPS60203692A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-15 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶組成物 |
JPS6117552A (ja) * | 1984-07-03 | 1986-01-25 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶化合物 |
-
1984
- 1984-07-03 JP JP59137491A patent/JPS6117541A/ja active Granted
-
1985
- 1985-06-10 US US06/743,095 patent/US4710585A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-06-20 EP EP85304418A patent/EP0167328A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5344535A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-21 | Chisso Corp | Liquid crystals |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6117541A (ja) | 1986-01-25 |
EP0167328A2 (en) | 1986-01-08 |
US4710585A (en) | 1987-12-01 |
EP0167328A3 (en) | 1988-10-05 |
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