JPS63285113A - 水分保持量の少ない新規な沈澱シリカ、その製造方法およびシリコーンエラストマーの補強への利用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、水分保持量の少ない新規な沈澱シリカ、そ
の製造方法およびシリコーンエラストマーまたはシリコ
ーンペーストの補強への利用に関する。

［従来技術およびその問題点コ 燃焼シリカを例えば加硫可能な有機ポリシロキサン組成
物への補強装入物として使用することが知られているが
、燃焼シリカは高価であるという欠点がある。

従って、長年に亙って、燃焼シリカの少なくとも一部を
廉価な沈澱シリカで代替することが研究され、沈澱シリ
カの種々の製造方法、その調製の間に温度、反応体の濃
度、ｐＨ値等を調整する複合方法が提案されている（仏
閣特許第１３５２３５４号）。

さらに、シリコーンに適用するために沈澱シリカを適当
な表面処理（例えばシランまたはシラザンの使用）によ
って疎水性にすることによって沈澱シリカ補強剤の品質
を改善する研究がなされている。そのような処理によっ
て疎水性にされシリコーンへの適用に使用し得るように
された親水性シリカは、例えば仏閣特許第２３５６５９
６号に記載されているが、これらの処理により上記方法
は比較的にコスト高となる。

有機ボリシａキサンエラストマーの補強に使用し得る改
良された沈澱シリカも記載されている（コンフェレンス
・インタナショナル・ドウ・カウチュク、キエフ、１９
７８年１０月１０−１４日）。

これらの沈澱シリカは興味深い性質を示し得るが、水分
保持量に関して未だ不満足であることが確かめられてい
る。この特性はシリコーンのすべての応用において本質
的であり、また、何よりも得られた組成物の絶縁性、特
にケーブルのような応用において重要な性質である。

［問題を解決する手段］ この発明の第一の目的は、水分保持量の少ない沈澱シリ
カを完成することである。

この発明の第二の目的は、水分保持量が少なく、かつ、
表面特性およびシリコーンエラストマーにおける分散特
性がシリコーンエラストマーの補強用装入剤として使用
するのに十分なシリカを完成することである。

この発明の第三の目的は、上記の型のシリカの特に簡単
かつ経済的な製造方法を完成することである。

このために、この発明に従う水分保持量の少ない製造方
法は一次沈澱シリカに７００’Ｃ以上の温度で１分間以
上熱処理を施すことを特徴としている。

この発明の好適な実施態様に従えば、一次シリカとして
平均粒径が８０μｍより大きいほぼ球体状の球形のシリ
カが使用される。

さらに、この発明のシリカには二つの実施態様がある。

第一の実施態様に従うと、これらのシリカは下記の特性
を有する。

一−ＢＥＴ表面積：　　Ｉ　００〜３５０　　ｍ”／ｇ
−−ＣＴＡＢ表面積：１０Ｑ〜３５０　　ｍ章／ｇ−一
水分保持量：　　４．５％　以下 上記シリカはさらに平均粒径８０μｍのほぼ球体状の球
形をしている。

第二の実施態様に従うと、これらのシリカは下記の特性
を有する。

一−ＢＥＴ表面積：　　１３５〜３５０　　ｍ宜／ｇ−
−ＣＴＡＢ表面積：　ｌ　５０〜３５０　　ｍ”／ｇ−
一水分保持量＝　　４．５％　以下 この発明に従うシリカ、すなわち上記方法に従って製造
されるシリカは水分保持量が少ないとともに比表面積が
大きい。また、これらのシリカは密度が小さいので有機
ポリシロキサン組成物に容易に導入することができ固有
抵抗を大きくすることができる。

さらに、本質的に熱処理を主体とする製造方法は特に簡
単であり、工業的に実施するのが容易である。

この発明の他の特徴および利点は以下の詳細な説明およ
び非限定的な実施例からより良く理解されるであろう。

この発明のシリカは、二つの実施態様について、まず、
ＢＥＴ比表面積によって特徴づけられる。

このＢＥＴ比表面積は、［ザ・ジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイエティ、第６０巻３０９
頁１９３８年２月号」に記載されているブルナウアー・
エメット・テラー（ＢＲＵＮＡＵＥＲ−ＥＭＭＥＴＴ−
置ＬＥＲ）の方法に従って決定される。

また、この発明のシリカは、ＣＴＡＢ表面積によっても
特徴づけられる。このＣＴＡＢ表面積はジェイージャン
セン・クラウス（Ｊａｙ−Ｊａｎｓｅｎ　　Ｋｒａｕｓ
）の方法（ラバー・ケミストリ・アンド・テクノロジー
、第４４巻１２８７−１２９６頁）に従って、ｐＨ９で
臭化セチルトリメチルアンモニウムの吸着によって決定
される。

さらに、この発明のシリカはあらゆる場合に水分保持量
が４．５％以下、好ましくは３％以下であることを特徴
としている。

この水分保持量は所定の相対湿度下でシリカのサンプル
により吸着される水の量を表す。

この場合、水分保持量は次のようにして測定される。

すなわち、まず、サンプルを窒素気流中で１２０℃にお
いて一定Ｍｔｋになるまで脱着し、次いで２３℃の乾燥
窒素気流中で冷却する。さらに、サンプルの温度が常に
２３℃でありサンプルの相対湿度が６４％であるような
条件下で、水蒸気で飽和した乾燥窒素をサンプルんに通
す。乾燥製品に対するサンプルの水分保持量の重量百分
率を測定する。

それとは別に、この発明のシリカは追加の特徴を幾つか
持っている。

すなわち、残留ナトリウム含量が１．５０（ｌｐｐｍ以
下、好ましくは１，０００ｐｐｍ未満である。この残留
ナトリウム含量はシリカをぶつ化水素酸に溶解した後、
火炎発光スペクトルにより測定される。

さらに、これらの同じシリカの炭素含量は２．５００ｐ
ｐｍより少なく、好ましくは５００ｐｐｍ未満である。

第一の実施態様の場合は、しりかのＢＥＴ比表面積とＣ
ＴＡＢ表面積は１００〜３５０ｍ宮／ｇである。

この第一の実施態様に従うシリカの別の特徴は、それら
が粒子の形、すなわち、平均粒径が８０μｍ以上のほぼ
球体状の球形をしていることである。

さらに詳しくは、この平均粒径は１５０μｍより大きく
、好ましくは２００〜３００μｍであってもよい。

最後に、この第一の実施態様に従うシリカは密度が０．
２３〜０．３２である。

この発明の第二の実施態様の場合は、シリコーンエラス
トマーの補強に最も適合したシリカに関し、このシリカ
はＢＥＴ比表面積が１３５〜３５０　ｍ　”／　ｇであ
り、ＣＴＡＢ表面積が１５０〜３５０ｍ”７ｇである。

この第二の実施態様のシリカの密度は０．３以下、特に
０．１５以下である。前記と同様にＡＦＮＯＲＭ、＠第
０３０１００号に従って密に詰まった状態の密度を問題
にしている。

一般に、この発明の第二の実施態様に従うシリカのｐＨ
は３．５〜７．５であり、特に４．５〜６．５である。

この場合、シリカの５％水性懸濁液で測定したｐＨを問
題としている。

最後に、これらの同じシリカの粒子の量は、４５μｍの
ふるいを通過するか否かにより評価すると、好ましくは
０．０５％以下である。

次ぎに、この発明のシリカの製造方法について説明する
。

出発物質は以下に「一次シリカ」と呼称する沈澱シリカ
より成る。この一次シリカは公知の任意の方法、例えば
仏閣特許第２，４７１，９４７号および同第２，５６２
，５３４号に記載されている方法に従って調製したもの
であってもよい。この一次シリカは前記のＢＥＴ比表面
積、ＣＴＡＢ表面積および残留ナトリウム含量の諸特性
を有するものでなければならない。

しかしながら、この発明の好適な実施態様に従えば、一
次シリカとして欧州特許第１８８６６号公報明細書に記
載されている型の球または真珠状り＠％’ａｆ用する。

同公報の開示内容全体をこの明細書中に引用する。

詳しくは、はぼ球体状の球形をし、平均粒径が８０μｍ
以上、特に１５０μｍより大きく、好ましくは２００〜
３００μｍのものを問題にしている。

この一次シリカはさらに密に詰めた状態の密度が０．２
より大きく、例えば、０．２５〜０．３２である。

この一次シリカはまたＢＥＴ比表面積が１００〜３５０
ｍ″／ｇであることが特徴である。

この一次シリカのＣＴＡＢ表面積も１００〜３５０ｍ”
７ｇである。

この一次シリカは欧州特許第１８８６６号公報明細書に
記載の方法に従って製造される。すなわち、沈澱反応の
結果生じるｐＨｈ４４以上、好ましくは４．５〜６、乾
燥材料含量が１８％より多く、好ましくは２０〜２５％
の懸濁液の噴霧によって製造される。好ましくは、速度
勾配１０３／秒で測定したこの懸濁液の粘度が１００〜
Ｌ　０００ボイズである。

シリカは脱イオン水で一回または二回以上処理すること
によりナトリウムを除去して精製する。

この処理は懸濁液のろ適役に得られるシリカケーキを脱
イオン水中に再懸濁し、この処理後に得られる懸濁液を
新たにろ過することより成る。

この発明の方法の本質的特徴は熱処理にある。

この熱処理は高温度で、すなわち、７００℃以上で実施
される。処理時間は短く、数分間程度であるが、この時
間は一般に１分間以上であり、通常は１−１５分間、好
ましくは２〜２０分間である。

この熱処理温度は一般に７００〜９５０℃である。

一般的な場合は、すなわち、なんらかの一次沈澱シリカ
を使用した場合は、熱処理温度は８００〜９００℃であ
る。球形をした一次シリカの場合は、温度は７００〜９
００℃にすることができる。

熱処理は周知の装置系で行われる。一般に、傾斜回転炉
が使用される。

この発明の方法は超微粉砕または粉砕より成る補充工程
を包含していてもよい。

この工程は製品の密度を低下させることを目的としてい
る。超微粉砕はジェトマイザ（ＪＥＴ−Ｑ−ＭＩ　ＺＥ
Ｒ）型その他ジェイ・エイチ・ベリー著「ケミカル・エ
ンジニアズ・ハンドブック、第５版、８／８３部」に記
載の装置を使用して実施することができる。

粉砕は所望の粒度分布と密度を得ることができる任意の
周知方法を使用して実施することができる。

この処理は、本質的に、シリコーンエラストマーの補強
に使用するのに特に適した製品を得ることを望む場合に
実施される。

熱処理と超微粉砕または粉砕との二つの工程はそれぞれ
任意の順序で展開される。

しかしながら、この発明の好適な実施例に従えば、まず
熱処理を行い、次いで超微粉砕を行う。

この操作態様は、球形の一次シリカの場合には、この形
が熱処理を容易にするので特に有利である。

ここで注意すべきことは、一次シリカ、特に球形のもの
に行った熱処理の結果得られた特に優れた結果が上に記
載されていることである。これらの結果は二つの理由か
ら優れている。まず、熱処理温度が高いので同様に処理
されたシリカに対して水分保持量を少なくできる。とこ
ろで、処理温度が高いにも拘わらず、懸念とは逆にシリ
カの比表面積は維持されている。

一方、シリカ球の場合は、同一の高温熱処理が出発法の
著しい固化をもたらし得る。ところで、この固化がよく
起きるにしても比較的に弱く、どんな場合にも製品の最
終的な粉砕または超微粉砕が工業的に使用するには同等
問題を生じない。

このようにして得られたシリカは有機けい酸組成物の装
入剤として使用するのに特に敵している。

加硫後に上記のシリカによって補強することができる有
機けい酸組成物の種類は特に重要ではない。一般的には
、有機けい酸組成物エラストマーまたはペーストの種類
であってもよい。

エラストマー組成物の場合は、使用する加硫可能な有機
けい酸型合体が、ケイ素原子に結合した炭化水素基Ｒで
表され、基Ｒの総数とケイ素の総数との比が０．５〜３
であるようなものである。

有機けい酸型合体の構成において、ケイ素の他の利用可
能な原子価は酸素や窒素のようなヘテロ原子に結合して
いるか、多価炭化水素基に結合している。

好ましくは、この発明に従って装入される有機けい酸組
成物は、有機ポリシロキサンが直鎖または分枝状であっ
てもよく、場合によって炭化水素基、例えば水酸基、加
水分解可能基、アルケニル基、水素原子等のような反応
基、等を含有する有機ポリシロキサン組成物である。

さらに詳しくは、この発明の組成物の主構成成分である
有機ポリシロキサンは下記一般式（１）％式％（） のシロキサン単位より成り、場合によって下記一般式（
Ｕ） Ｚ　Ｒ５ｉ０４−ｘ−ｙ　　（ＩＩ） ｘ　　　ｙ のシロキサン単位と結合している。

上記式中、種々の符号は下記の意味を持つ。

Ｒは加水分解可能でない炭化水素基、例えば、炭素数１
〜５であり、かつ、塩素および／またはふっ素原子１〜
６個を含有するアルキル基またはハロゲン化アルキル基 炭素数３〜８であり、かつ、塩素および／またはふっ素
原子１〜４個を含有するシクロアルキル基およびハロゲ
ン化シクロアルキル基炭素数６〜８であり、かつ、塩素
および／またはふっ素原子１〜４個を含有するアリール
基、アルキルアリール基およびハロゲン化アリール基 炭素数３〜４のシアノアルキル基 を表す。

Ｚは水素原子、アルケニル基、水酸基、加水分解可能原
子、加水分解可能基である゛。

ｎは０、！、２または３の整数である。

Ｘは０，１．２または３の整数である。

ｙは２以下の整数である。

ケイ素原子に直接結合した有機基の例としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、α−ペンチル、ｔ−ブチル、クロロメチル、ジクロ
ロメチル、α−クロロエチル、α、β−ジクロロエチル
、フルオロメチル、ジフルオロメチル、α、β−ジフル
オロエチル、３．３．３−トリフルオロプロピル、トリ
フルオロシクロプロピル、４．４．４−トリフルオロブ
チル、３．３．４．４．５．５−ペンチル、β−シアノ
エチル、γ−シアノプロピル、フェニル、ｐ−クロロフ
ェニル、ｍ−’７０ロフェニＪＬ／、３．５−ジクロロ
フェニル、トリクロロフェニル、テトラクロロフェニル
％０−ｌｍ−またはｐ−）リル、α、α、α−トリフル
オロトリル、２．３−ジメチルフェニルのようなキシリ
ル、３．４−ジメチルフェニル、等の基が挙げられる。

好ましくは、ケイ素原子に結合した有機基はメチル基、
フェニル基、ビニル基であり、これらの基は場合によっ
てハロゲン原子またはシアノアルキル基を含有していて
もよい。

符号Ｚは水素原子、塩素原子、ビニル基、水酸基または
例えばアミノ基、アミド基、アミノキシ基、オキシム基
、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルケニル
オキシ基、アシルオキシ基等のような加水分解可能基で
あってもよい。有機ポリシロキサンの種類およびシロキ
サン単位（１）および（ｎ）の比率と分布は周知のよう
に所期の適用および組成物に施される加硫処理によって
決まる。

このようにして、高温で過酸化２．４−ジクロロベンゾ
イル、過酸化ベンゾイル、過安息香酸を一ブチル、過酸
化クミル、過酸化ジ−ｔ−ブチル、等のような有機過酸
化物の作用下に加硫可能な組成物を問題にすることがで
きる。

そのような組成物に導入される有機ポリシロキサンはそ
の場合本質的にシロキサン単位（Ｉ）から成り、加水分
解可能な基または原子を含有していない。

末端にトリメチルシリル基を有するポリメチルポリシロ
キサンはこのカテゴリーの工業的に特に重要な例である
。

加硫は周囲温度または適温でビニルシリル基と水素化シ
リル基との間に網目構造を形成させる（架橋する）こと
により行うことができる。水素化シリル化反応白金誘導
体のような触媒の存在下に行われる。この場合、使用す
る有機ポリシロキサンは加水分解可能な原子または基を
含有していない。

加硫は湿度の作用で行うこともできる。この型の組成物
に含有される有機ポリシロキサンは前記のような加水分
解可能な原子または基を含有している。そのような基を
含有するシロキサン単位（■）は使用する有機ポリシロ
キサンの全体の１５重１％以下である。この型の有機ポ
リシロキサン組成物は一般に錫塩のような触媒を含有し
ている。

最後に、加硫は架橋剤の存在下で行うこともできる。こ
の組成物に導入される有機ポリシロキサンは、一般に、
単位（Ｉ）または（■）（式中、Ｚは水酸基であり、Ｘ
は１以上である。）より構成される直鎖、分枝状または
架橋ポリシロキサンである。架橋剤としては、メチルト
リアセトキシシラン、イソプロピルトリアセトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリス（ヂエ
チルアミノキシ）シラン、等のような多官能価シランを
使用してもよい。

この発明に従う有機けい酸組成物は５〜５０％、好まし
くは１０〜４０％の場合によって前記の処理を施した沈
澱シリカを含有している。シリコーンペーストの場合は
、この発明のシリカの割合は一般に３〜２０％である。

さらに、ポリシロキサン、場合によって処理された沈澱
シリカ、架橋剤および架橋触媒の外に、上記組成物は粉
末状石英、ケイ藻土、タルク、カーボンブラック、炭酸
塩等のような慣用の装入剤を含有していてもよい。上記
組成物は、さらに、構造化防止剤、熱安定化剤、揺変防
止剤、顔料、腐食防止剤等のような種々の慣用の補助剤
を含有していてもよい。

可塑剤という名称でも知られている構造化防止剤は一般
に有機けい酸であり、有機けい酸ゴム１００部に対して
０〜２０部の比率で導入される。

これは貯蔵時における組成物の固化を防止することを可
能にする。構造化防止剤の例としては、加水分解可能基
を有するシラン、または低分子量の水酸化またはアルキ
ル化ジオルガノポリシロキサン油を挙げられる。このよ
うな組成物は例えば仏間特許第１．Ｉｌｂ　９６９号公
報明細書に記載されている。

当業者に周知の熱安定化剤の例としては、鉄、セリウム
またはマンガンの塩、酸化物および水酸化物を挙げられ
る。これらの添加剤は単独でも混合物としても使用でき
るが、一般に、使用する有職°ポリシロキサンゴムの重
量に対して０，０１〜５％の割合で導入される。

有機ポリシロキサン組成物は前記のような組成物の種々
の成分を混合することにより調製される。

混合は周囲温度または加熱下に行うことができる。

［実施例］ 以下に実施例に基づいてこの発明をさらに詳細に説明す
るが、この発明はそれらの実施例に限定されない。

実施例　！ この実施例はこの発明に従う若干数のシリカの調製を説
明する例である。

下記の特性を有する球形のシリカから出発する。

−−ＣＴＡＢ表面積：２１８　　ｍ”／ｇ−−ＢＥＴ表
面積：　　２２５　　ｍ’／ｇ−一平均粒径：　　　２
２０μｍ ｍ−密度：　　　　　　０．２７ −−水分保持量：　　９．１％ 直径８０ｍｍ、長さ１．３ｍの石英製回転炉を使用し、
炉の傾斜により滞留時間を調整した。炉の回転速度は４
．９回転／分である。シリカをホッパと無限螺旋歯軸に
より１００ｇ／時間の流量で装入した。

炉内滞留時間と温度を種々に変えた。

得られた結果を表１に示す。この発明の条件に従って使
用した出発シリカに対して熱処理すると比表面積が低下
しないことが確かめられた。

得られた生成物のｐＨは５．７、残留ナトリウム含量は
３５０ｐｐｍ、残留炭素の含量は２８０ｐｐｍである。

超微粉砕前の平均粒径および密度は上記の通りである。

紅 ２’３Ｇ’　　　７５０　　３．９　　　２１５　　　
２２０２゛４５”　　７５０　　４．０　　　２１５　
　　２２０５°３０″　　７５０　　３．４　　　２１
８　　　２２０５°３０”　　８５０　　２．０　　　
２０１　　　２１５２’４５’　　　８５０　　２．４
　　　２０６　　　２１８２°３０’　　　８５０　　
３．２　　　２０５　　　２１７ジエトマイザで超微粉
砕を行った後、生成物の密度は０．０９であった。

実施例　２− 振動炉を使用してこの発明のシリカＡを調製した。この
場合、熱処理は８５０℃で７°４０”　（７時間４０分
）行った。出発シリカは球形のシリカＢであり、その特
性は下記の通りである。

−−ＣＴＡＢ表面積：１７４　　ｍ”／ｇ−−ＢＥＴ表
面積：　　１８２　　ｍ”／ｇ−一平均粒径、　　　　
１９０　　μｍ−一密度、　　　　　　０．２７ −−水分保持量＝　　８．７％ 得られたシリカＡはジエトマイザで超微粉砕した後、下
記の特性を示した。

一−ＣＴＡＢ表面積：１６５ｍ’／ｇ −−ＢＥＴ表面積：　　１７５　　ｍ”／ｇ−一密度：
　　　　　　０．１０５ −−ｐＨ：　　　　　　６．２ ｍ−水分保持量：　　２．７％ ｍ−炭素含量：　　　　３７０ｐｐｍ −一残留Ｎａ：　　　　４５０ｐｐｍ 実施例　３ この実施例は、上記のシリカＡおよびＢより補強された
製品、シリコーンの補強に適合された従来技術の沈澱シ
リカ、すなわち、デグサ社により商標ｒＦ’に１６０Ｊ
の下に販売されているとともに、刊行物「シンプルドウ
ルック・アウス・カウチュク＋グミ・クンストシュトヅ
フエ、第２．３２巻（１９７９年）８９−９３頁」に記
載され、ＢＥＴ比表面積が１６０ｍ″／ｇ、上記の方法
に従って測定された水分保持量が５．８％の沈澱シリカ
により補強された製品、およびデグサ社により商標ｒＡ
ＥＲＯｓ　Ｉ　ＬＪのちとに市販されている高熱反応シ
リカにより補強された製品のそれぞれについてのブラッ
クによる絶縁性に関する例である。

有機ポリシロキサンの調製 実験室用ニジリンダ混合機で下記のものを混合した。

ｍ−ポリジメチルシロキサンゴム　５０ｇ−一構造化防
止剤　３．６ｇ ｍ−シリカ　２０ｇ ポリジメチルシロキサンゴムはＳｔ基を７２０ｍ　ｇ　
／　ｋ　ｇ含有しトリメチルシリルオキシ単位を末端に
有する脱蔵されたゴムである。その２５℃における粘度
は２０ｘｌＯ”センチボイズであり重量が６ｘｌＯ’程
度の塊に相当する。構造化防止剤はヒドロキシル基を８
．３％含有するα、ω−ヒドロキシル化ポリジメチルシ
ロキサンである。

使用したシリカは上記パラグラフｌに記載したものであ
る。

混合はシリカを５分間でシロキサン重合体に徐々に添加
することにより行った。カレンダ混合を１５分間行った
後、このようにして得られた組成物に２．５−ジメチル
−２，５−ジ（ｔ−ブチルペロキシ）ヘキサンを添加し
た。

この混合物は２ｍｍ厚の試験片を作成するために所定の
鋳型内に置いた。

この鋳型を予備加熱し、このようにして混合物の加硫を
１７０℃、１２０ｋｇ／ａｍ”″？！ＩＯ分間行った。

このエラストマーを上記の状態で試験し、得られたサン
プルについて、測定電極間の絶繊体を横断して通過する
電流を考慮にいれ、かつ、その絶縁体の寸法から独立し
ている横固有抵抗を測定する（絶縁体について、−は、
ρは約１０’〜１０′８Ωｃｍの範囲ないで変化する）
。この測定はＮＰＣ２６２１５規格に従って行われた。

また、生の混合物の押し出し能力、すなわち、熱風洞内
に押し出された輪の加硫時にこのあらかじめ乾燥させた
混合物の水分保持により気泡の形成を起こさない能力も
評価した。

混合物の乾燥は２ｍｍに目盛ったブラックについて１７
０℃に加熱した真空炉内で１時間行った。

次いで、水分保持量を２０℃、湿度１００％に調節した
雰囲気に１５時間滞留させた後、重量測定も；より行っ
た。含湿度は出来るだけ低くなければならないが、それ
は混合物の貯蔵中に再吸着した水が蒸発することにより
シロキサン組成物が気泡を形成することがないようにす
るためである。

得られた結果を表２に示す。

表２ 固有抵抗　　　混合物の ρ（Ωｃ　ｍ　）　　　水分保持量 ＾ＥＲＯＳＩＬ　　　　　　１０”　　　　　０．２５
ＦＫ１６０　　　　５ｘ　１０”　　　　　０．９Ｂ　
　　　　２．５ｘｌＯ”　　　　　Ｉ、４Ａ　　　　　
　　７ｘｌＯ”　　　　　０．にの発明の、シリカは特
に横固有抵抗について高温反応シリカに最も近いことが
分かる。

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. （１）一次沈澱シリカを７００℃以上の温度で１分間以
   上熱処理することを特徴とする、水分保持量の少ないシ
   リカの製造方法。
2. （２）該熱処理の前にあらかじめ、またはその後に該一
   次シリカに超微粉砕または粉砕を施すことを特徴とする
   、特許請求の範囲第１項に記載の方法。
3. （３）該一次シリカ平均粒径が８０μｍ以上のほぼ球体
   状の球形をしていることを特徴とする、特許請求の範囲
   第１または２項に記載の方法。
4. （４）該一次シリカは、密に詰められた状態の密度が０
   ．２よりも大きく、ＢＥＴ比表面積が１００〜３５０ｍ
   ＾２／ｇ、ＣＴＡＢ表面積が１００〜３５０ｍ＾２／ｇ
   であることを特徴とする、特許請求の範囲第３項に記載
   の方法。
5. （５）該一次シリカは、平均粒径が１５０μｍよりも大
   きく、好ましくは２００〜３００μｍであることを特徴
   とする、特許請求の範囲第３または４項に記載の方法。
6. （６）該一次シリカは、密度が０．２３〜０．３２であ
   ることを特徴とする、特許請求の範囲第３〜５項のいず
   れか一つに記載の方法。
7. （７）該熱処理を７００〜９５０℃、特に８００〜９０
   ０℃、球形のシリカに対しては７００〜９００℃の温度
   で行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１〜６項の
   いずれか一つに記載の方法。
8. （８）該熱処理を１〜１５分間、好ましくは２〜２０分
   間行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１〜７項の
   いずれか一つに記載の方法。
9. （９）特許請求の範囲第１および３〜８項のいずれか一
   つに記載の方法により製造し得る型の沈澱シリカであっ
   て、下記の特性： ＢＥＴ比表面積：１００〜３５０ｍ＾２／ｇ ＣＴＡＢ表面積：１００〜３５０ｍ＾２／ｇ 水分保持量：≦４．５％以下 を示すとともに、該シリカは平均粒径８０μｍのほぼ球
   体状の球形をしていることを特徴とする沈澱シリカ。
10. （１０）平均粒径が１５０μｍよりも大きく、好ましく
    は２００〜３００μｍであることを特徴とする、特許請
    求の範囲第９に記載のシリカ。
11. （１１）水分保持量が３．５％以下であることを特徴と
    する、特許請求の範囲第９または１０項に記載のシリカ
    。
12. （１２）密度が０．２３〜０．３２であることを特徴と
    する、特許請求の範囲第９〜１１項のいずれか一つに記
    載のシリカ。
13. （１３）炭素含量が２，５００ｐｐｍ未満、好ましくは
    、５００ｐｐｍ未満であることを特徴とする、特許請求
    の範囲第９〜１２項のいずれか一つに記載のシリカ。
14. （１４）残留ナトリウム含量が１，５００ｐｐｍ以下で
    あることを特徴とする、特許請求の範囲第９〜１３項の
    いずれか一つに記載のシリカ。
15. （１５）特許請求の範囲第１および３〜８項のいずれか
    一つに記載の方法により製造し得る型の沈澱シリカであ
    って、下記の特性： ＢＥＴ比表面積：１３５〜３５０ｍ＾２／ｇ ＣＴＡＢ表面積：１５０〜３５０ｍ＾２／ｇ 水分保持量：４．５％未満 であることを特徴とする沈澱シリカ。
16. （１６）ＢＥＴ比表面積／ＣＴＡＢ表面積が０．９〜１
    ．２であことを特徴とする、特許請求の範囲第１５項に
    記載のシリカ。
17. （１７）炭素含量が２，５００ｐｐｍ未満、好ましくは
    、５００ｐｐｍ未満であることを特徴とする、特許請求
    の範囲第１５または１６項に記載のシリカ。
18. （１８）残留ナトリウム含量が１，５００ｐｐｍ以下で
    あることを特徴とする、特許請求の範囲第１５〜１７項
    のいずれか一つに記載のシリカ。
19. （１９）水分保持量が３．５％以下であることを特徴と
    する、特許請求の範囲第１５〜１８項のいずれか一つに
    記載のシリカ。
20. （２０）密度が０．３以下、好ましくは０．１５以下で
    あることを特徴とする、特許請求の範囲第１５または１
    ９項に記載のシリカ。
21. （２１）ｐＨが３．５〜７．５、好ましくは４．５〜６
    ．５であることを特徴とする、特許請求の範囲第１５〜
    ２０項のいずれか一つに記載のシリカ。
22. （２２）４５μｍのふるいを通過するか否かで評価した
    粒径分布が０．０５％以下であることを特徴とする、特
    許請求の範囲第１５〜２１項のいずれか一つに記載のシ
    リカ。
23. （２３）特許請求の範囲第１５〜２２項のいずれか一つ
    に記載のシリカまたは特許請求の範囲第１〜８項のいず
    れか一つに記載の方法により得られたシリカを使用する
    ことを特徴とする、有機ポリシロキサン組成物の補強方
    法。
24. （２４）特許請求の範囲第１５〜２２項のいずれか一つ
    に記載のシリカまたは特許請求の範囲第１〜８項のいず
    れか一つに記載の方法により得られたシリカを含有する
    ことを特徴とする、有機ポリシロキサン組成物。