JPS63244038A - 感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は感光体の製造方法、特に正帯電用電子写真感光
体の製造方法に関するものである。

口８発明の背景 従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
層を有する無機感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。例えば特公昭５０−１０４９６号公報には、
ポリ−Ｎ−ビニルカルバソーシト２．４．７−）リニト
ロー９−フルオレノンを含有した感光層を有する有機感
光体について記載されている。しかしこの感光体は、感
度及び耐久性において必ずしも満足できるものではない
。このような欠点を改善するためｋ、感光層において、
キャリア発生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に
個別に分担させることにより、感度が高くて耐久性の大
きい有機感光体を開発する試みがなされている。このよ
うないわば機能分離型の電子写真感光体においては、各
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。

こうした機能分離型の電子写真感光体に有効なキャリア
発生物質として、従来数多くの物質が提案されている。

無機物質を用いる例としては、例えば特公昭４３−１６
１９８号公報に記載されているように、無定形セレンが
ある。これは有機キャリア輸送物質と組み合わされる。

また、有機染料や有機顔料をキャリア発生物質として用
いた電子写真感光体も多数提案されており、例えば、ビ
スアゾ化合物を含有する感光層を有するものは、特開昭
４７−３７５４３号公報、特開昭５５−２２８３４号公
報、特開昭５４−７９６３２号公報、特開昭５６−１１
６０４０号公報等に記載されていて既に公知である。

ところで、有機化合物を光導電性物質として用いる機能
分離型感光体においては、従来主として負帯電用として
用いられている。その理由としては、キャリア輸送能に
すぐれた有機光導電物質の多くがホール輸送性のもので
あるので、負帯電使用の感光体に適合しているためであ
る。これに対し、電子輸送能に優れたものはトリニトロ
フルオレノンのように毒性が大きく、発がん性等がある
ために、実用性がない。このため、従来の機能分離型感
光体は、次のような構成とされるのが通例であった。即
ち、感光体を導電性支持体と薄いキャリア発生層と比較
的厚いキャリア輸送層とをこの順に積層した構成とし、
これを負帯電用として用いるようにし、光照射時下層の
キャリア発生層から発生するホールを上層のホール輸送
能にすぐれたキャリア輸送層で輸送し、感光体表面の負
帯電をすみやかに打ち消して高感度特性を得るようにし
ている。

しかしながら、このような負帯電使用では、次の如き問
題があることが判明している。

（１）負のコロナ放電時、帯電器による負帯電時に、雰
囲気中のオゾン発生量が多（、環境条件が悪化する。こ
のため、感光体表面の材質の劣化や、帯電により生ずる
イオン性物質の感光体表面への付着が生じ、繰返し使用
時に電位低下をきたすため、画像不良、画像ボケの原因
となり、感光体の寿命にも影響する。また、コロナ放電
器の放電ワイヤの汚れ等により、放電ムラが発生しやす
いため、画像ムラが生ずることもある。

（２）負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要
となるが、正極性のトナーは強磁性体キャリア粒子に対
する摩擦帯電系列からみて製造が困難である。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている＠例えば、特開昭５７−２
０００４３号公報には、アントラセン、ピレン、フェナ
ントレン、コロネンなどの多環芳香族化合物、又はイン
ドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾー
ル、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジ
アゾール等の含窒素化合物、又はそれらを構成単位とし
て有する化合物等を含むキャリア輸送層を下層とし、例
えばアゾ系顔料、キノン系顔料、インジゴ系顔料、ツタ
ロシアニン系顔料、ビスベンゾイミダゾール系顔料又は
キナクリドン系顔料等を含むキャリア発生層を上層とす
る正帯電用感光体が記載されている。

ところで、上記正帯電用感光体においては、周辺雰囲気
の温湿度、光゛又はコロナ放電により発生する活性種等
に極めて敏感なキャリア発生層をキャリア輸送層上に上
層として設ける必要があり、しかも感光体としての性能
を発揮するため高精度で均一な薄層形成が要請される。

又、前記キャリア輸送層とキャリア発生層とは、それら
の相接する界面がそれぞれの性能を阻害しない状態とさ
れることが必要とされ、このような要請を満たすために
も、前記両層の塗布加工は最適の方法を選択する必要が
ある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、ディ
ップ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてディップ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

かかる塗布方法を用いた例としては、例えば特開昭５７
−２０００４３号公報があり、該公報には正帯電用感光
体において、下層のキャリア輸送層をディップ塗布方法
で塗布し、上層のキャリア発生層をスプレー塗布方法で
塗布加工することが記載されている。

ハ０発明が解決しようとする問題点 ところで上記公報に記載されるディップ塗布方法は電子
写真感光体にとって好ましい塗布加工法として従来多（
用いられ、通常以下の方法で塗布される。即ち、第７図
において示すように、まず塗布液１を収容した容器２に
、上方の開口部を蓋３で閉蓋した支持体円筒４を浸漬し
、前記３の取手３ａを把持して所定の早さで引き上げて
塗布する。かかる塗布加工法は、例えば特公昭５６−４
１３１０号、特公昭６０−２６３１５７号、特開昭ω−
１５６０６５号、特開昭６０−２４２４６１号等の各号
公報により知られていて、それぞれ塗布層の均一化を計
るための改善がなされている。

しかしながら、上記ディップ塗布法には基本的に以下の
問題がある。即ち、浸漬塗布された円筒上部付近の塗膜
４ａが破線のように薄層となり易く、この部分は性能上
欠陥があるために利用できない無駄な部分であり、結果
的に材料のコストアップを招いている。もし、上記薄層
の部分を像形成に使えば、カブリが多（、かつ画像濃度
の低いものとなる。又、円筒４を塗布液中に浸漬したと
き、塗布液１の液圧により円筒４内の空気が圧縮され、
それだけ塗布液が円筒４内に浸入するので、円筒４を引
き上げたときに該円筒の下方に破線のように液溜り４ｂ
ができてしまう。この液溜り４ｂは、得られる円筒状感
光体を像形成装置に組み込む際、障害となるため、拭き
取る必要があり、加工能率を著しく低下せしめる。

さらに又、ディップ塗布法においては、−変容器２内に
入れられた塗布液がくり返し使用されるため、溶媒の蒸
発、温度変化、特性の劣化等を生じ、結果的に得られる
感光層の膜厚や電子写真性能等がバラツクようになる。

又、使用限度に達すれば、塗布液を廃棄することとなり
、材料のコストアップに連なり、さらにその都度、容器
の洗浄等の煩わしい手作業が必要となる。なお、ディッ
プ塗布法は元来、液の下方への流下という自然現象を利
用しているため、塗布液の温度、粘度、円筒４の表面状
態、引き上げ速度等、各種の要因により塗布層の塗布状
態や厚み等が変化し、均一加工がむずかしい。

従って、導電性支持体上に前記ディップ塗布法で、機能
分離型で正帯電用感光体のキャリア輸送層を塗布した場
合、得られる塗布層が塗布むらやバラツキが生じている
ため、その上にキャリア発生層を例えばスプレー塗布法
により塗布しても均一な薄層が得られず、感光体の性能
を劣化させていた。

以上の如き事情から、正帯電用感光体の性能のより一層
の改善が必要であり、そのため、５適切な塗布液の調整
、塗布加工等を含むすぐれた製造方法の出現が望まれて
いた。

二０発明の目的 本発明の目的は、上記の問題を解決し、塗布むらや感光
層の性能等のバラツキがなく、高精度で均一な層形成が
可能であって高性能の感光体を提供でき、材料の無駄や
加工能率の低下を防止でき、しかもキャリア輸送層とキ
ャリア発生層との界面において膨潤、溶解等の生じない
ような、感光体の製造方法を提供することである。

ホ６発明の構成及びその作用効果 本発明は、キャリア輸送層上にキャリア発生層を設けて
成る感光体の製造方法において、前記キャリア輸送層を
スパイラル塗布により形成し、かつ前記キャリア発生層
をスプレー塗布により形成することを特徴とする感光体
の製造方法に係るものである。

本発明における上記スパイラル塗布は、後述するように
、所定の機械的設定条件に基づいて順次塗布する方法で
あるため、ディップ塗布のように液の流下という自然現
象を利用した塗布方法とは根本的に異なり、塗膜端部の
塗布欠陥や薄膜化、液溜りの形成等が生じず、ムラのな
い均一塗布が可能である。また、予め必要量の塗布液を
準備しておき、この液を順次塗布すれば良いので、塗布
液の経時変化によるキャリア輸送層の特性のバラツキが
生じず、塗布液の材料を廃棄する必要もなく材料の無駄
や加工能率の低下を防止できる。

また、上記スプレー塗布も、上記のスパイラル塗布と同
様、機械的ＶＣ員布条件の設定を行なうことができ、塗
布液の経時変化や材料の無駄を防止できる。しかも、他
の塗布方法に比し乾燥が早いので、先の塗布層上に重ね
て塗布する場合でも、その塗布層を溶解、膨潤させるこ
となく、高速で均一な塗布が達成できる。

すなわち、一般に層厚の大きいキャリア輸送層の形成に
上述の如き特長を有するスパイラル塗布を採用し、あわ
せて層厚の小さいキャリア発生層の形成に上述の如き特
長を有するスプレー塗布を採用し、これらを組合せると
いう本発明の独得の構成により、材料のコストダウン、
加工能率の向上が可能となり、部分的薄層化、ボチ等の
塗布上の欠陥、塗布液の経時変化に基づ（感光体性能の
バラツキ、他層の溶解拡散による感光体性能の劣化、塗
布液などの材料の損失等の製造上の問題が解決され、極
めて高能率で高精度かつ均一な層形成が可能となり、従
りて又、カブリ、白ポチ、濃度ムラ等がなく、高感度、
高画質の感光体の提供が可能となりたのである。

なお、本発明に適用する上記スパイラル塗布は、本出願
人が既に提案した特開昭５２−１１９６５１号公報に記
載した方法で行なうことができる。

以下、本発明に用いられるスパイラル塗布方法の一例を
第１図及び第２図忙基づき説明する。図中、１０は塗布
液、１１は円筒状導電性支持体（以下、円筒と称す。）
１２は前記円筒１１を回転駆動するモータ、１３は円筒
１１の回転軸、１４は塗布ヘッド、１４Ａは塗布ヘッド
先端部、１４Ｂは先端部に固着された塗布ブレード、１
５はフレキシブルチューブ、１６は塗布液タンク、１７
は塗布液輸送ポンプ、１８はフィルタ、１９は塗布ヘッ
ド移動機構、２ｏはボールネジ、２１はボールネジ２０
を回転駆動する逆転可能なモータ、四は前記ボールネジ
２ｏに螺合する塗布ヘッド保持部材、詔は塗布ヘッド保
持部材２２のスライド棒である。

塗布液タンク１６に収容された塗布液１ｏはポンプ１７
Ｉｃより輸送され、フィルタ１８及びフレキシブルチュ
ーブ１５を経由して塗布ヘッド１４へと供給される。こ
こで、前記塗布ヘッド１４の先端部１４Ａは、その軸線
Ｘと、該軸線Ｘの延長線が円筒１１０局面に交わる点Ｐ
に引いた接線Ｙとのなす角θ（第２図参照）が９ＣＦ≦
θ≦１８０°となるよう設定されるのがよい。すなわち
、塗布ヘッドと円筒とのなす角θがこの円筒の回転方向
の下流側で９０’〜１８００となっているのがよい。こ
の角度は９０’未満では吐出液の連続性が失われて塗膜
が不均一になり易い。構造上の制約で１８００を越える
ことは一般にな−Ｓ。

前記塗布ヘッド１４は、モータ２１により逆転駆動され
るボールネジ加の逆回転により、保持部材四と共にスタ
ート位置にまで移動される。その後、塗布開始と共にモ
ータ１２による円筒１１の軸１３を中心とした矢印方向
への回転、モータ２１の正転駆動による塗布ヘッド１４
の矢印方向への移動、塗布ヘッド１４の先端１４Ａから
の塗布液の流出及び塗布ブレード１４Ｂによる塗布が行
なわれる。このスパイラル塗布による塗布液位置は第１
図中に破線で示した。

前記の第１図の塗布装置による塗布条件としては、通常
以下のように設定されるのがよい。

（１）円筒１１の回転速度：周速５〜５０００！ＩＩＩ
Ｉｌ／！Ｉｅｃ（周速５ｍｍ／ｓｅｃ未満では厚引、塗
布能率悪く、５０００ａｔｍ　／　ｓａ：を超えると塗
布むら、博引が生じ易い。

（２）塗布ヘッド１４の移動速度：１〜１００ｍｍ／ｓ
ｅｃ（１ｍｍ／ｓｅｅ未満では厚引、塗布能率悪く、１
００ｍｍ／ｓｅｃを超えると塗布むら、博引が生じ易い
。） 厚引に問題があり、１００ｍｍを超えると博引、塗布液
飛散が生じ易い。） （４）　　塗布ピッチ：　０．０１〜１００　ｍｍ　（
０，０１Ｍ未満では厚引、塗布能率に問題があり、１０
０ｍｍを超えると塗布むら、博引が生じ易い。） （５）塗布ヘッド先端部１４Ａの液流出口の径二０．１
〜１０！＋１！１φ（０，１ｍｍφ未満では博引、塗布
能率、塗布むらに問題があり、１０ｍ＋ａφを超えると
厚引、塗布むら、液垂れが生じ易い。）（６）該流出口
からの液の流出速度：　０．０１〜１゜ｃｊ／ｓｅｃ　
（０，０１ｃａｌｓｅｃ未満では博引、塗布能率、塗布
むらに問題があり、１０ｃ♂／　ｓｅｃを超えると厚引
、液垂れが生じ易い６） （７）塗布液粘度：１〜１０００センチボイズ（ｃｐ）
（１ｃｐ未満では塗布むら、液垂れ、要用が生じ易＜、
　　１０００　ｃｐを超えると塗布むら、博引が生じ易
い。） （８）塗布プレート４４Ｂとしてニステンレス等の金属
箔、ポリエチレンテレフタレート又はテフロン等のプラ
スチックフィルム、９レタンゴム等の弾性ｌ板等が用い
られ、厚みは１〜１００μｍ　（１μｍ未溝では塗布む
らで塗布厚一定せず、要用、腰が弱く、１００μｍを超
えると博引、塗布筋、感光体損傷が生じ易い。）、好ま
しくは５〜５０μｍ、長さ１０〜８０ｍｍ（１０ｍｍ未
満では博引、筋引、塗布むら、感光体損傷が生じ、８０
ｍｍを超えると要用、塗布厚変動が生じ易い。）好まし
くは２０〜５０−とされるのが良い。

更に、上記スパイラル塗布において、前記塗布ブレード
の厚みｔ（ｃｍ）と該塗布ブレードの材質のヤング率Ｅ
　（ｄｙｎｅ／ｃ績）が、ｔＸＥ≦２．ＯＸ　１０ なる関係を有する塗布ヘッドを用いて塗布することが望
ましい。即ち、塗布ブレードは塗布溶媒により膨潤又は
溶解するものであってはならないし、基体に直接あるい
は塗布液を介して当接しているものであるから、硬すぎ
ても基体を傷付けることになり好ましくないが、こうし
たことを防止するには塗布ブレードの弾力性や厚み自体
の値ではな（、その両者の積に上記した適切な範囲があ
ることを見出したのである。ｔ　Ｘ　Ｅ）　２．ＯＸＩ
Ｏ。

の場合には、基体に傷を生ずる等の欠点がある。

上記において、塗布ブレードの厚みは１〜１０００μｍ
が好ましく、より好ましくは１〜１００μｍ１更には１
〜１０μｍである。また、塗布ブレードの長さは１０〜
８０ｍ＋ｏが好ましく、よりｌ好ましくは２０〜５０ｍ
ｍである。また、塗布ブレードの材質のヤング率は、Ｉ
　Ｘ　１０”　〜３０　Ｘ　１０　　ｄｙｎｅ／ＣｒＡ
が好ましく、より好ましくは０．３　Ｘ　１０〜２０　
Ｘ　１０”ｄｙｎｅ／ｃ−である。その剛性率は０．０
２　Ｘ　１０〜１０　Ｘ　１０”　ｄｙｎｅ／ｃＩａが
好ましく、より好ましくは０．Ｉ　Ｘ　１０〜５　Ｘ　
１０　　ｄｙｎｅ／ｃｄである。

好ましい塗布ブレードの材質としては、ステンレス、鋼
、真鍮、アルミニウム、錫、鉛等の金属箔、又はＰＥＴ
、テフロン、ナイロン等の樹脂ペースが挙げられ、塗布
液の溶媒によりて適宜選択使用すればよい。塗布液の溶
媒として例えばハロゲン系溶媒を用いるときは、塗布ブ
レードとして前記樹脂ペースを使用すると溶解又は膨潤
することがあるので、このような場合、金属箔を使用す
るのが好ましい。

以上説明したスパイラル塗布方法によれば、塗布液タン
ク１６には円筒１１の全面を塗布するに必要な液量を保
有していればよく、塗布終了と共にタンク１６内の塗布
液は殆んど消費しつくされるので。

塗布液の経時変化による性能劣化の心配がな（、かつ材
料の無駄がない。又、塗布方法としてディップ塗布方法
の場合のように自然現象を利用して塗布するやり方では
な（、所定の機械的設定条件に基づいて塗布するやり方
であるため、先頭薄膜（塗膜先端部）等の塗布欠陥やバ
ラツキ等がなく、塗布状態や厚み等の変化がな（、均一
加工が可能であり、正確で能率的に塗布することができ
る。

なお、上記スパイラル塗布方法は一定の塗布ピッチで筋
状に（第１図中の破線のように）塗布して行くため、薄
膜とする場合よりも厚膜な塗布する場合に適合している
。そこで、本発明では、乾燥後の膜厚が通常５〜５０μ
ｍとされるキャリア輸送層の塗布方法としてこのスパイ
ラル塗布ヲ選択した。

スパイラル撒布は、上記のように円筒状導電性支持体上
にキャリア輸送層を形成する場合の他、ベルト状導電性
支持体上に層を形成する場合にも使用でき、また、その
他の形状の感光体にも適用できる。即ち、ベルト状導電
性支持体を断面円形のドラムに巻き付けて上述と同様に
塗布すればよい。なお、ベルト状導電性支持体を駆動し
、その駆動軸の方向へ塗布ヘッドを移動させながら、塗
布を行なうこともできる。

次に、本発明に用いられるスプレー塗布方法の例を第３
図に基づき説明する。図中、３１は支持体円筒、３２は
該円筒３１０回転軸、３３は該回転軸３２に装着された
プーリー、詞は該プーリーオと図示しないモータに掛は
渡されるベルト（但し、これらの３２．３３．３４は第
１図でも採用してよい。）、３５はスプレーガン、箕は
該スプレーガンを保持する保持台でボールネジ等の送り
装置３７と螺合している。羽はスプレーガン先端の噴出
部、３９は塗布液噴出用キャリアガスを導くパイプ、４
０は塗布液タンク、４１は該タンク内の塗布液をスプレ
ーガン３５の噴出部間へ導（パイプ、４２はキャリアガ
スに含まれる水蒸気圧を調節する装置で、例えばシリカ
ゲル等の乾燥剤が充填されている。

かかる構成のスプレー装置を用いて塗布する際、スプレ
ー室内に水蒸気が多いと結露により塗布層が白濁し易い
ので、脱湿空調を行なうのが良い。

塗布開始に先出ち、送り装置Ｍを逆転してスプレーガン
３５をスタート位置に移動し、塗布時円筒３１（即ち、
上記した導電性円筒状支持体にキャリア輸送層を塗布し
たもの）を矢印方向に回転し、スプレーガン３５を矢印
方向に移動させながら、塗布液噴出部郭から塗布液をキ
ャリアガスと共に噴出して回転する円筒１１上に吹きつ
け、スプレー塗布する。

前記の第３図の塗布装置による塗布条件としては、通常
以下のように設定されるのが良い。

■　円筒３１０回転速度：周速５〜５０００ｍｍ／ｓｅ
ｃ（５ｍｍ／ｓｅｃ未満では塗布能率、摩剥に問題があ
り、５０００ｍｍ／ｓｅｅを超えると博引、塗布むらが
生じ易い。） ■　スプレーガン３５の移動速度：１〜１０００ｍｍ／
　ｓｅｃ　（１ｍｍ　／　ｓｅｅ未溝では塗布加工性、
塗布ムラ、摩剥に問題があり、１０００　ｒｒｍ／　ｓ
ｅｅを超えると博引、塗布むらが生じ易い。） ■　塗布液の噴出速度：　０．０１〜１０　ｃａｌｓｅ
ｃ（０，０１ｃｊ／ｓｅｃ未満では塗布能率、博引に問
題があり、１０ｃＪ／ｓｅｅを超えると摩剥、液垂れが
生じ易い。） ■　キャリアガス圧＝０．１〜１０ゆ／ｃｔＡ（０，１
ｋｇｌｃａ未満では液垂れ、塗布むら、博引が生じ、１
０に９／ｃＪを超えると摩剥、液垂れが生じ易い。） ■　塗布液粘度：１〜１０００　ｃｐ　（１ｅｐ未満で
は液垂れ、塗布むら、摩剥が生じ、１０００　ｅｐを超
えると博引、塗布むら、塗布能率、塗布加工性忙問題が
生じ易い、） 以上説明したスプレー塗布方法によれば、スパイラル塗
布の場合と同様、機械的に塗布条件の設定を行なうこと
ができ、塗布液の経時変化や無駄な消費等がな（、コス
ト低減、性能向上を達成できる。さらには、ディップ塗
布やスパイラル塗布に比して乾燥が早いので、先の塗布
層（キャリア輸送層）上に重ねて塗布する場合でも、先
の塗布層を不当に溶解又は膨潤することがな（、高速で
かつ均一塗布が達成され、前記のスパイラル塗布による
キャリア輸送層の均一塗布とあいまって、塗布状態、表
面状態の均一な、高性能の感光体の提供が可能となる。

但し、スプレー塗布の場合は、キャリアガスの助けを借
りて塗布液を噴出するため、キャリアガス圧の管理や、
塗布層の結露忙よる白濁を防止するために塗布室の水蒸
気圧の管理等が必要となる。

なお、上記スプレー塗布方法は、塗布液を噴霧状にして
吹き付けるため、薄層塗布に適している。

このため、本発明では、乾燥後の膜厚が通常０．０５〜
１０μｍとされるキャリア発生層を前記キャリア輸送層
上に設ける場合の塗布方法として、このスプレー塗布を
選択した。

以上のようにスパイラル塗布方法及びスプレー塗布方法
を、正帯電用感光体の下層及び形成用として組み合わせ
て用いることにより、主としてスプレー塗布が塗布後の
乾燥が早いことから、下層であるキャリア輸送層が溶解
又は膨潤等により乱されることが少な（、かつキャリア
発生層自体もキャリア輸送層とまじり合うとか、ハジキ
を生ずる等の障害が防止される。従って、キャリア輸送
層及びキャリア発生層のいづれもが極めて均一な塗膜と
して得られるので、これらが積層された感光層を有する
感光体上には画像むら、黒ポチ等の欠陥のない均一な画
像が得られる。

本発明の製造方法において、スパイラル塗布に供される
キャリア輸送層用塗布液としては、キャリア輸送物質と
バインダー物質とを溶媒中に均一に溶解せしめたものを
用いることができる。また、スプレー塗布に供されるキ
ャリア発生層用塗布液としては、キャリア発生物質とバ
インダー物質とを媒体（有機溶媒）中に含有、分散させ
た分散液を用いることができる。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能となり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。

さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

次に、本発明の正帯電用感光体の製造方法において、ス
パイラル塗布に供されるキャリア輸送層用塗布液は、前
述のように、キャリア輸送物質と、これと相溶性のバイ
ンダー物質（樹脂）と、これらを均一に溶解する溶媒と
から構成できる。前記キャリア輸送物質としては、オキ
サゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール
誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、
イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダゾリ
ジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合
物、とドラシン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサシロ
ン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾー
ル誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ア
クリジン誘導体、７工ナジン誘導体、アミノスチルベン
誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビ
ニルピレン、ポリ−９−ビニルアントラセン等カ挙ケラ
れる。

具体的には次の一般式（Ｉ）又はＣＩＩＩのスチリル化
合物が挙げられる。

一般式［”Ｉ］ （但、この一般式中。

ｍ、Ｒ”：置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若
しくは未置換のア リール基を表し、置換基として はアルキル基、アルコキシ基、 置換アミノ基、水酸基、ハロゲ ン原子、了り−ル基を用いる。

Ａｒ’　、　Ａｒ”　：置換若しくは未置換のアリール
基を表し、置換基としてはアル キル基、アルコキシ基、置換ア ミノ基、水酸基、ハロゲン原子。

了り−ル基を用いる。

ｆ、Ｒｏ：置換若しくは未置換のアリール基、水素原子
を表し、置換基と してはアルキル基、アルコキシ 基、置換アミノ基、水酸基、）１ ０ゲン原子、アリール基を用い る。） 一般式〔■〕： ？ Ｒ“ （但、この一般式中、 Ｒ”　：置換若しくは未置換のアリール基、Ｒｏ；水素
原子、ハロゲン原子、置換若しくは未置換のアルキル基
、アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、水酸基、 Ｒ“　：置換若しくは未置換の了り−ル基、置換若しく
は未置換の複素環基を表す、）また、キャリア輸送物質
として次の一般式ＣＩＩＩ）、ＣＩＶＩ、（Ｖ）又は（
ＶＩ〕のヒドラゾン化合物も使用可能である。

一般式〔■〕： （但、この一般式中、 ＲｏおよびＲｏ：それぞれ、水素原子またはノ・ロゲン
原子、 Ｒ＋　ｏおよびＲ“：それぞれ、置換若しくは未置換の
アリール基、 Ａｒ’　　：置換若しくは未置換のアリーレン基を表わ
す、、） 一般式〔■〕： （但、この一般式中、 Ｒ：メチル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基また
は２−クロルエチル基、 ＲＩｊ：メチル基、エチル基、ベンジル基またはフェニ
ル基、 Ｒパ：メチル基、エチル基、ベンジル基またはフェニル
基を示す。

一般式〔Ｖ〕： （但、この一般式中、Ｒは置換若しくは非置換のナフチ
ル基：Ｒは置換若しくは非置換のアルキル基、アラルキ
ル基又は了り−ル基：Ｒ′９は水素原子、アルキル基又
はアルコキシ基：　Ｒ”及びＲは置換若しくは非置換の
アルキル基、アラルキル基又はアリール基からなる互い
に同一の若しくは異なる基を示す。） 一般式〔■〕： （但、この一般式中、 Ｒ：置換若しくは未置換の アリール基または置換 若しくは未置換の複素 環基。

Ｒ：水素原子、置換若しく は未置換のアルキル基 または置換若しくは未 置換のアリール基、 Ｑ　：水素原子、ハロゲン原 子、アルキル基、置換 アミノ基、アルコキシ 基またはシアノ基、 ｍ　：０または１の整数を表 わす。） また、キャリア輸送物質として、次の一般式〔■〕のピ
ラゾリン化合物も使用可能である。

一般式〔■〕： 〔但、この一般式中、 ｎ　：０又は１、 Ｒ％ＲおよびＲ：置換若しくは未置換 のアリール基、 ＲおよびＲ：水素原子、炭素原子 数１〜４のアルキル 基、又は置換若しく は未置換のアリール 基若しくはアラルキ ル基（但、Ｒ及び Ｒは共に水素原子 であることはなく、 ｎがＯのとぎはＲ１ は水素原子ではない。）〕 更に、次の一般式〔■〕のアミン誘導体もキャリア輸送
物質として使用できる。

一般式〔■〕： （但、この一般式中、 Ａｒ　、　Ａｒ“　　：置換若しくは未置換のフェニル
基を表わし。

置換基としてはハロゲ ン原ギ÷ルキル基、ニ トロ基、アルコキシ基 を用いる。

Ａｒ”　　：置換若しくは未置換の フェニル基、ナフチル 基、アントリル基、フ ルオレニル基、複素環 基を表わし、置換基と してはアルキル基、ア ルコキシ基、ハロゲン 原子、水酸基、了り− ルオキシ基、アリール 基、アミノ基、ニトロ 基、ピペリジノ基、モ ルホリノ基、ナフチル 基、アンスリル基及び 置換アミノ基を用いる。

但し、置換アミノ基の 置換基としてアシル基、 アルキル基、アリール 基、アラルキル基を用 いる。） 前記一般式Ｃ１１〜〔■〕に示されるキャリア輸送物質
の具体的化合物例は、本願出願人が先に提案した例えば
特願昭６０−１８５７４９号の明細書中の第３４〜７５
頁に記載されており、その内、特に重要な化合物例は以
下の通りである。

（Ａ−１） （Ａ−２） （Ａ−３） （Ａ−４） （Ａ−５） ＯＣＲ。

（Ａ−６） （Ａ−７） Ｃ，Ｈ。

（Ａ−８） （Ａ　−１１） （Ａ−１２） Ｃ，Ｈ。

（Ａ−１３） （Ａ−１４） （Ａ−１５） （Ａ−１６） 又、キャリア輸送層を形成するため塗布液中に含有され
るバインダー樹脂としては、通常、電子写真用として用
いられる全ての樹脂が有用であり、例えばポリエチレン
、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩
化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ビニルブチラール樹脂
、ビニルホルマール樹脂、エポキシ樹脂、ポリワレタン
樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド
樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン
樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂
、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以上
を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカ
ルバゾール等の高分子有機半導体を挙げることができる
。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、沸点（ｂｐ）
が８０℃〜１５０℃のものが好ましく、より好ましくは
９０℃〜１２０℃のものである。沸点が８０℃未満では
乾燥が早すぎて結露し、プラシングを生じ易く、又、乾
燥が早すぎてレベリングができず、平滑な感光層が得ら
れなくなり易い。

また、１５０℃を超えると液垂れ、塗布むらが生じ易い
。具体的には、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタ
ン（ｂｐ＝８３．５℃）、１，１．２−トリクロルエタ
ン（ｂ　ｐ　＝　１１３．５℃）、１，４−ジオキサン
（ｂ　ｐ　＝　１０１．３℃）、ベンゼン（ｂｐ＝８０
．１℃）、トルエン（ｂｐ＝１１０．６℃）、０１ｍ＋
ｐｌ−キシレン（ｂ　ｐ＝１３８〜１４４℃）、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、モノクロルベンゼン等が挙
げられる。また、沸点が８０℃〜１５０℃の範囲にない
溶媒でも高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点調
整を行い、使用することができる。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。クロキサン系化合物としてはジメチルポリクロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量忙対し１〜１００００−が好ましく
、より好ましくは１０〜１１０００ｐ１である。

前記溶媒中にキャリア輸送物質、バインダー樹脂、その
他前記シロキサン系化合物等を含有して成る組成物は、
攪拌器で十分攪拌溶解され、溶液の粘度が１〜１０００
センチポイズとなるよう調整される。か（して、得られ
た塗布液は前記第１図及び第２図で説明したスパイラル
塗布装置及び塗布条性に基づいて、必要により中間層を
設けた導電性支持体上に塗布、乾燥されて、キャリア輸
送層が形成される。なお、塗布乾燥後の前記キャリア輸
送層は、その厚みは通常５〜５０μｍの範囲とされる。

５μｍ未満では所望の帯電能（＋　５００〜８００Ｖ）
が得られず、又、十分なキャリア輸送機能を発揮できな
いことがあり、５０μｍを超えると帯電能が高すぎ（１
０００ｖ以上）、画質が荒れ易（、解像力も落ち、残留
電位大となり易い。バインダー樹脂１００重量部当りの
キャリア輸送物質の量は、２０〜２００重量部、好まし
くは３０〜１５０重量部の範囲に納まるようにするのが
よい、、２０重量部未満ではキャリア輸送機能が低（、
感度低下、残留電位が増加し、２００重量部を超えると
塗布加工性が悪（なり易い。

次に、前記スプレー塗布に供されるキャリア発生層用塗
布液は、キャリア発生物質と、必要によりキャリア輸送
物質と、バインダー樹脂と、前記キャリア発生物質の分
散安定性にすぐれ、かつ前記キャリア輸送物質及びバイ
ンダー樹脂を溶解する溶媒とから構成される、前記キャ
リア発生物質としては、例えば可視光を吸収してフリー
キャリアを発生する下記有機化合物を用いることができ
る。

（１）　　モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ顔料及びチ
アゾールアゾ顔料等のアゾ系顔料。

（２）　ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペ
リレン系顔料。

（３）　アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導
体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体
、ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体
等のアントラキノン系又は多環キノン系顔料。

（４）　インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等のイ
ンジゴイド系顔料。

（５）　金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン
等の７タロシアニン系顔料。

（６）　　ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタ
ン顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボ
ニウム系顔料。

（７）　アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料
等のキノンイミン系顔料。

（８）　クアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン系
顔料。

（９）　キノリン系顔料。

（１０）　　ニトロ系顔料。

（１１）　　ニトロソ系顔料。

（１２）　　ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料。

（１３）　　ナフタルイミド系顔料。

（１４）　　ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料等がある。

本発明においては、この中でも、下記ビスアゾ系顔料、
多環キノン系顔料又はフタロシアニン系顔料が特に好ま
しく用いられ、ビスアゾ系顔料としては一般式（ＩＸ）
群、一般式〔Ｘ）群及び一般式（ＸＩ）群で示されるも
のがある。

一般式（ＩＸ）群： Ｃｐ Ｃｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ’−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ’−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−Ａｒ”−Ｎ＝Ｎ−Ｃｐ −Ｎ Ｏ （但、この一般式中、 Ａｒ’、Ａｒ“およびＡｒｏはそれぞれ、置換若しくは
未置換の炭素環式化合物、 Ｃｐは、 ＯＮ ２；置換若しくは未置換の芳香族炭素環またし１置換若
しくは未置換の芳香族複素環を構成するに必要な原子群
。

Ｙ：水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基若しく
はそのエステル基、スルホ基、置換若しくは未置換のカ
ルバモイル基、または置換若しくは未置換のスルファモ
イル基、Ｒ：水素原子、置換若しくは未置換のアルキル
基、置換若しくは未置換のアミノ基、置換若しくは未置
換のカルバモイル基、カルボキシル基若しくはそのエス
テル基、またはシアノ基、 Ａｒ：置換若しくは未置換のアリール基、Ｒ：置換若し
くは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアラル
キル基、または置換若しくは未置換のアリール基、 を表わす。） また、次の一般式〔Ｘ３群、（ＸＩ）群のアゾ系顔料も
使用可能である。

一般式〔Ｘ３群 Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ　−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ　−Ｎ＝Ｎ−ＡＡ　
−Ｎ　＝　Ｎ−Ａｒ　−Ｎ　＝　Ｎ−Ａｒ　−Ｎ＝Ｎ−
Ａｒ　−Ｎ＝　Ｎ−Ａ〔但、この一般式中、 Ａｒ　、　ＡｒおよびＡｒ：それぞれ、置換若しくは未
置換の炭素環式芳香族環基、 または Ａ′ （Ｘ’は、ヒドロキシ基 く但、Ｒ及びＲはそれぞれ、 水素原子又は置換若しくは未 置換のアルキル基、Ｒは置換 若しくは未置換のアルキル基 または置換若しくは未置換の アリール基〉、 Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、置 換若しくは未置換のアルキル 基、アルコキク基、カルホキ シル基、スルホ基、置換若し くハ未置換のカルバモイル基 または置換若しくは未置換の スルファモイル基（但、ｍが ２以上のときは、互いに異な る基でありてもよい。）、 ２は、置換若しくは未置換の炭素環 式芳香族環または置換若しく は未置換の複素環式芳香族環 を構成するに必要な原子群、 Ｒｍｅは、水素原子、置換若しくは未置換のアミノ基、
置換若しくは 未置換のカルバモイル基、カ ルボキシル基またはそのニス チル基、 Ａ′は、置換若しくは未置換のアリー ル基、 ｎは、１または２の整数、 ｍは、Ｏ〜４の整数である。）〕 一般式ＣＸＩＩ群 〔但、この一般式中、 Ａｒ　ｓ　Ａｒ”およびＡｒ：それぞれ、置換若しくは
未置換の炭素環式芳 香族環基、 Ｒｎ、Ｒ″４、ＲｏｏおよびＲ゛°：それぞれ、電子吸
引性基又は水素原子であっ て、Ｒ〜凡の少な（ とも１つはシアノ基等の 電子吸引性基、 または Ａ′ （Ｘは、ヒドロキシ基、 〈但、Ｒ″０及びＲｓｏはそれぞ れ、水素原子又は置換若 しくは未置換のアルキル 基、Ｒは置換若しくは 未置換のアルキル基 または　置換若しくは 未置換のアリール基〉、 Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、 置換若しくは未置換のア ルキル基、アルコキシ基、 カルボキシル基、スルホ 基、置換若しくは未置換 のカルバモイル基または 置換若しくは未置換のス ルファモイル基（但、ｍ が２以上のときは、互い に異なる基であってもよ い。）、 ２は、置換若しくは未置換の炭 素環式芳香族環または置 環若しくは未置換の複素 環式芳香族環を構成する に必要な原子群。

Ｒは、水素原子、置換若しくは 未置換のアミノ基、置換 若しくは未置換のカルバ モイル基、カルボキシル 基またはそのエステル基、 Ａ′は、置換若しくは未置換のア リール基、 ｎは、１または２の整数、 ｍは、Ｏ〜４の整数である。）〕 上記した一般式（ＩＸ）又は（Ｘ）群、更にはＣＸＩ）
群のアゾ系顔料の具体的化合物例は、例えは本出願人が
先に提案した特願昭６０−１５２９２２号の明細書第３
１〜９１頁に記載されている。

なお、前記一般式に示されるキャリア発生物質の５ち、
特に重要な化合物例は以下の通りである。

（Ｂ−２） （Ｂ−３） （Ｂ−４） （Ｂ−５） （Ｂ−６） （Ｂ−８） 一般式（Ｘ［）詳 （但、この一般式中、Ｘはハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基、アシル基又はカルボキシル基を表わし、ｐはＯ
〜４の整数、ｑはＯ〜６の整数を表わす。） 上記一般式ＣＭ）群で表わされる多環キノン系顔料の具
体的化合物例としては、例えば本願出願人が先に提案し
た特願昭６０−１５２９２２号の明細書第９３〜９９頁
に記載されている。

なお、前記一般式に示されるキャリア発生物質のうち、
特に重要な化合物例は以下の通りである。

（Ｂ−９） （Ｂ−１０） 以上説明した本発明に用いられるビスアゾ系顔料又は多
環キノン系顔料においては、電子吸引性基を有するもの
が好ましく、このような場合は、層中での電子輸送能が
より大となり、正帯電時に正に帯電せしめられた感光体
表面への電子の移動が速（なり、これによって光感度が
大きく残留電位もより小さくなる利点がある。電子吸引
性基を有していない場合には、電子輸送能が比較的小さ
く、光感度、残留特性が悪化する傾向がある。即ち、正
帯電用の感光体として前記電子吸引性基を有しないキャ
リア発生物質を含有する感光層に光照射した場合、表面
正電荷はある程度まで減衰するが、それ以上は充分に減
衰しないことがある。

次に１本発明に好ましく用いられる前記フタロシアニン
系顔料としては、例えば銅、コバルト、鉛、亜鉛等を中
心原子とする金属フタロシアニンと、これらを含まない
無金属フタロシアニンとがあり、結晶型としてα型、β
型、τ型、χ型、τ型、τ′型、り型、ｌ′型等が好ま
しく用いられる。

かかるフタロシアニン系顔料のさらに詳細な説明は、本
願出願人が先に提案した特願昭６０−２２０７９２号の
明細書第８〜１２頁、特願昭６０−１８５７４９号の明
細書第９〜１５頁に記載されている。

又、キャリア発生層を形成するための塗布液中和含有さ
れるバインダー樹脂としては、先にキャリア輸送層用と
して、記載したと同様の樹脂を用いることができるが、
前記本発明に好適なキャリア発生物質を微粒子状（微粒
子とすれば高密度分散による感度向上、表面平担化によ
るトナーフィルミング防止の効果あり）に分散安定せし
めるものが選択されるのが良い。又、必要忙より含有さ
れるキャリア輸送物質としては、先にキャリア輸送層用
として記載したもののいづれもが用いられるが、用いら
れたキャリア発生物質との組合せにおいて、光照射時キ
ャリア発生層で発生するホールを効率よくキャリア輸送
層に注入し、かつ発生する電子により表面の正電荷をす
みやかに打消して高感度特性を発揮しうるものが選択さ
れるのが良い。

又、用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロホルム、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、１，１．２−）ジクロルエタン、１．１，２
．２−テトラクロルエタン、１．１．２−）ジクロルプ
ロパン、１１１．２．２−テトラクロルプロパン、１．
２．３−−　）　ＩＪ　クロルプロパン、１，１．２−
）！Ｊりｏルプタン、１，２，３．４−テトラクロルブ
タン、テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジク
ロルベンゼン、ジオキサン、メタノール、エタノール、
インプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチル
スルホキシド、メチルセルソルブアセテート、ｎ−ブチ
ルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、インプ
ロパツールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレ
ンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げら
れる。

上記溶媒としては、バインダー樹脂及び必要により含有
されるキャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物
質を好ましくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下
の微粒子状に分散し、安定した分散液を提供できるもの
で、しかも下層のキャリア輸送層を不当に溶解又は膨潤
しないものが選択される。特に、上記のうち、トルエン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエ
タン、１．１．２−トリクロルエタン、１，１゜２．２
−テトラクロルエタン、テトラヒドロフラン、モノクロ
ルベンゼン、ジオキサンは、キャリア発生層、キャリア
輸送層のいずれにも好ましい溶媒である。

かかる材料を用いてキャリア発生層用塗布液を調整する
には、通常、溶媒１０１００Ｏ！中にバインダー樹脂１
〜１００ｇ、キャリア輸送物質Ｏ〜ｉｏｏ　ｆｉを加え
通常の攪拌器により十分攪拌して樹脂溶液を作成する。

又、別に溶媒１０００＋ｌＪ中にキャリア発生物質０．
５〜５００９を加え、例えばボールミル・ホモミキサー
等によりて微細な分散粒子を作成し。

これを前記樹脂溶液に加えて、例えば超音波分散器によ
り均一な分散液を得、さらに分散液の粘度を１〜１００
０ｃｐの範囲内となるよう調整する。

か（して得られた塗布液は、例えば前記第３図で説明し
たスプレー塗布装置及び塗布条件に基づいて、前記スパ
イラル塗布して得られたキャリア輸送層上にスプレー塗
布される。

なお、塗布乾燥後のキャリア発生層は、通常、その厚み
が０．０５〜１０μｍとされる。０．０５μｍ未満では
キャリア発生能が不足し、又、均一塗布がしにく（，１
０μｍを超えると発生したキャリアがトラップされ、逆
に感度が低下し易い。バインダー樹脂１００重量部当り
キャリア発生物質の量は５〜５００重量部、好ましくは
２０〜１００重量部とするのが良い。キャリア発生物質
が５重量部未満ではキャリア発生能が不足し、５００重
量部を超えるとキャリアがトラップされ、感度低下、メ
モリー発生が生じ易い。また、必要により含有せしめる
キャリア輸送物質の量は、バインダー樹脂１００重量部
当り、２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重
量部の範囲に納まるようにするのがよい。

本発捏の製造方法により得られる正帯電用感光体の層構
成例が、第４図（イ）、（ロ）及び（ハ）に示される。

第４図（イ）の感光体においては、導電性支持体５０上
に、膜厚５〜５０μｍのキャリア輸送層５１が設けられ
、該キャリア輸送層５１上に膜厚Ｏ，ＯＳ〜１０μｍの
キャリア発生層５２が設けられている。なお、前記キャ
リア発生層５２中には、前述のように、さらにキャリア
輸送物質を含有せしめて感度向上を計ることができる。

又、さらに必要によりキャリア発生層５２中には、残留
電位及びメモリー低減を目的として、無水コハク酸、無
水マレイン酸、無水フタル酸等の電子吸引性物質を、好
ましくはキャリア発生物質１００重量部当り０．１〜１
００重量部の割合で添加することができる。さらに又、
キャリア発生層５２中には、必要により感度向上、メモ
リー低減を目的としてブチルアミン、ジイソブチルアミ
ン等の有機アミンをキャリア発生物質のモル数以下のモ
ル数で含有させてよい。

ｆａ４図（ロ）の感光体においては、第４図（イ）の感
光体の表面に保護層５３が設けられている。該保護層ハ
０．０１〜１μｍの薄層とされ、透光性のバインダー樹
脂から成り、必要により°キャリア輸送性の物質を含有
することができ、好ましくはキャリア発生層上にスプレ
ー塗布して形成される。

又、第４図ｔｉの感光体においては、第４図（イ）の感
光体の導電性支持体５ｏとキャリア輸送層５１との間に
中間層５４が設けられている。該中間層５４は、接着層
及びバリア層として機能し、通常０．０１〜２μｍとさ
れ、前記キャリア輸送層のバインダー樹脂の外、ポリビ
ニルアルコール、エチルセルローズ、カルボキシメチル
セルローズ、カゼイン、澱粉等の有機高分子化合物又は
酸化アルミニ９ム等から構成され、好ましくはディップ
塗布、スプレー塗布により形成される。

又、前記導電性支持体５０としては、金属板、金属ドラ
ム、又は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化
合物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金属よ
りなる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段に
より、紙、プラスチックフィルム等の基体に設けて成る
ものが用いられる。

へ、実施例 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。

実施例１ １００ｍｍφｘ３５０ｍｎ＋のアルミニ９ム製円筒に第
１図のスパイラル塗布装置を用い、下記方法で調整され
たキャリア輸送層用塗布液を塗布してキャリア輸送層を
形成した。塗布液調整方法は次の通りであった。

メチレンクロライドと１．１．２−）リクロルエタンと
を１：１で混合して得られる混合溶媒１００〇−中（沸
点１８０　’Ｃ以下）に、バインダー樹脂としてポリカ
ーボネート（パンライトＬ−１２５０。

帝人化成社Ｉり５０Ｉｉを溶解し、さらに例示化合物（
Ａ−１６）　５０　ｇを溶解して、粘度１３ｃｐの塗布
液を調整した。次いで、この塗布液を用いて、前記スパ
イラル塗布装置により以下のようにして塗布を行なった
。即ち、第１図、第２図において、アルミニタム円筒１
１を１０Ｏｒ、Ｐ−ｍで回転させながら、塗布ヘッド１
４にギヤポンプ１７を利用して３ｆ３１１ＬＩ　／　ｍ
ｉ　ｎの割合で２５℃の塗布液を送り込み、塗布ヘッド
１４を１０ｍｍ／式の速さで移動させた。

塗布ブレード１４Ｂは巾１５ｍｍのものを用いた。塗布
ピッチ（λ）は６ｍｍとした。

塗布ヘッド１４は、塗布液を介して円筒１１に第２図の
θ＝１３５’で接触しており、塗布ヘッドエ４から基体
上に供給された塗布液によりスパイラル塗布を行い、ウ
ェット膜厚２０２μｍの塗膜を形成した。

この塗膜は円筒１１上でレベリングしていた。次いで円
筒１１を回転させながら、常温で約１０分乾燥した後、
円筒１１を軸からとりはずし、１００℃に保たれたオー
プンで約３０分乾燥した。

膜厚を測定したところ、１５μｍの均一な塗膜が得られ
た。

次に、第３図のスプレー塗布装置を用い、下記方法で調
整されたキャリア発生層用塗布液を前記キャリア輸送層
上に塗布して、キャリア発生層を形成した。

塗布液調整方法は次の通りであった。

ジクロルエタンとモノクロルベンゼンとを４：１で混合
して得られる混合溶媒１０００１Ｒ１中に、バインダー
樹脂として前記ポリカーボネート１３９を溶解し、例示
化合物（Ｂ−９）２７ｇを加えて分散し、最後にキャリ
ア輸送物質として前記キャリア輸送層に用いたと同じキ
ャリア輸送物質２０ｇを加えてこれを溶解し、粘度４０
ｃｐの塗布液を調製した。次いで、この塗布液を用いて
、第３図に示したスプレー塗布装置により以下のように
して塗布を行なりた。即ち、前記キャリア輸送層が塗布
された円筒３１を５００　ｒ、Ｐ−ｍで回転しながら、
第３図に示すスプレーガン３５に塗布液タンク４０から
約２５℃の塗布液を送り込み、スプレーガン３５を２０
ｍｍ／式の速さで移動させ、キャリアガス輸送パイプ３
９から２　ｋｇ　／　ｃＡ圧のキャリアガスを送り、ス
プレーガン３５の噴出部３８から塗布液を１ｃＪ／ｓｅ
ｅの噴出速度で前記円筒１１上に噴出させながら塗布し
た。このときのウェブ）ＩＩＩ厚は５０μｍであり、円
筒１１を回転しながら１５分間自然乾燥した後、８０℃
に保たれたオープンで約４０分乾燥して、３μｍの均一
な塗膜が得られた。これにより、本発明に基（正帯電用
感光体を得た。

比較例１ 第５図のディップ塗布装置を用い、塗布液粘度を１２０
ｃｐとし、円筒の引き上げ速度を４　ｍ／　ｓｅｅ。

乾燥温度を９０℃として、キャリア輸送層を形成した。

その他は実施例１と同様にして比較例１の感光体を得た
。

比較例２ キャリア輸送層を比較例１と同様にしてディップ方法で
形成し、さらにキャリア発生層も、第５図のディップ塗
布装置を用いて塗布液粘度を４０ｃｐとし、円筒の引き
上げ速度を１２ｍｍ／５ｅＣ１乾燥温度を９０℃として
ディップ塗布方法で塗布した。その他は実施例イと同様
にして比較例２の感光体を得た。

比較例３ 第３図のスプレー塗布装置を用い、塗布液粘度を２０ｅ
ｐとし、円筒１１を５０Ｏｒ、ｐ、ｍで回転し、スプレ
ーガン３５を５　ｍｍ　／　ｓｅｃの速度で移動し、キ
ャリアガス圧を１ｋｇ／ｃ−とし、塗布液の噴出速度を
ｌｃａ／ｓｅｃとして、キャリア輸送層をスプレー塗布
により形成した。その他は実施例１と同様にして比較例
３の感光体を得た。

比較例４ 第４図のスパイラル塗布装置を用い、円筒１１を６Ｏｒ
、ｐ、ｍで回転し、塗布ヘッド１４を８　ｍｒｎ　／　
ｓｅｃの速度で移動させ、塗布液を７４／−の割合で送
り込み、塗布ピッチ８閣でキャリア発生層をスパイラル
塗布で形成した。その他は実施例１と同様にして比較例
４の感光体を得た。

上記実施例１、比較例１〜比較例４の各感光体の塗布上
の欠陥及び電子写真性能を表−１に示した。

（以下余白、次頁に続く） 但し、上記画像欠陥及び電子写真性能は、Ｕ　−Ｂｉｘ
　１６００改造機に前記感光体ドラムを装着して像形成
を行なりたときの評価である。

表−１から、本発明に基（感光体は、比較感光体に比し
て高感度、高濃度画像が得られる外、画像欠陥、カブリ
もなく、優れていることがわかる。

実施例２ キャリア発生物質に例示化合物（Ｂ−５）を用い、キャ
リア輸送物質に例示化合物（Ａ−１６）を用いた他は、
実施例１と同様にして本発明に基く感光体を得た。

遺１■魁し キャリア発生物質に例示化合物（Ｂ−７）を用い、キャ
リア輸送物質に例示化合物（Ａ−６）を用いた他は、実
施例１と同様にして本発明に基く感光体を得た。

実施例４ 予め１．塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体樹脂をアセトンとシクロヘキサノンの４：１の混合
溶媒にＩ％濃度で溶解した溶液を円筒状導電性支持体上
にディップ塗布して、０．１μｍ厚の中間層を形成した
。また、キャリア発生物質として、近赤外吸収スペクト
ルに７９０〜８２０　ｎｍの吸収極大を有するτ型無金
属フタロシアニンを用い、さらにキャリア輸送物質とし
て例示化合物（Ａ−１）を用いた。その他は実施例１と
同様にして、本発明に基く感光体を得た。

前記実施例２〜実施例４の各感光体のそれぞれについて
、正帯電使用のＵ−Ｂｉｘ１６００改造機を用いて、く
りかえし５０００回の複写テストを行なった。その結果
は、いずれも、画像むら、カプリ等の発生がな（、高濃
度で鮮明な画像が得られた。

実施例５ 実施例１において、使用した塗布ヘッドの塗布ブレード
の材質を６種類選択し、それらの厚み、ヤング率を変化
したとき塗布時の生産収率の変化をみた。塗布は実施例
１の材料、条件に基づいて行なった。結果を第５図、第
６図に示した。

この結果によれば、第５図の直線（ｔ＠Ｅ＝２×１０°
ｄｙｎｅ／ｃｔＡ）より下方の領域においては、好まし
い結果が得られ、材質によるが、塗布ブレードの厚みは
１〜１０００μｍ、ヤング率は１０’〜３　Ｘ　１０　
　ｄ７ｎｅ　／ｃｄの範囲とするのがよい。厚みについ
ては、第６図に示すように、上記した１〜１０００　ｐ
ｍ　（ナイロン、ＰＥＴ）、１〜１００μｍムラがな（
、均一塗布が可能であって良品が得られ易い点で望まし
い。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図は本発明を例示するものであって、 第１図はスパイラル塗布装置の正面図、第２図は塗布ヘ
ッドの断面図、 第３図はスプレー塗布装置の斜視図、 第４図（４）、第４図（ロ）、第４図（ハ）は感光体の
層構成を表わす各断面図、 第５図は塗布ブレードの厚みとヤング率との関係を示す
グラフ、 第６図は塗布ブレードの厚みによる収率変化を示すグラ
フ である。 第７図は従来のディップ塗布装置の断面図である。 なお、図面に示す符号において、 １１．３１・・・・・・・・・支持体（円筒）１３・・
・・・・・・・円筒１１の回転軸１４・・・・・・・・
・塗布ヘッド １４Ａ・・・・・・・・・塗布ヘッド先端部１４Ｂ・・
・・・・・・・塗布ブレード１５・・・・・・・・・フ
レキシブルチェープ１６．４０・・・・・・・・・塗布
液タンク１７・・・・・・・・・塗布液輸送用ポンプ１
８・・・・・・・・・フィルタ １９・・・・・・・・・塗布ヘッド移動装置２０、３７
・・・・・・・・・ボールネジ２３・・・・・・・・・
塗布ヘッドスライド棒３３・・・・・・・・・プーリ ３５・・・・・・・・・スプレーガン ３６・・・・・・・・・スプレーガン支持台３８・・・
・・・・・・噴出部 ３９・・・・・・・・・キャリアガス輸送層くイブ４１
・・・・・・・・・塗布液輸送ノ（イブ４２・・・・・
・・・・脱湿装置 ５０・・・・・・・・・導電性支持体 ５１・・・・・・・・・キャリア輸送層５２・・・・・
・・・・キャリア発生層５３・・・・・・・・・保護層 ５４・・・・・・・・・中間層 である。 代理人　弁理士　逢　坂　　　宏 第３図 箔７図 １゜ ４’ｂ　　ｊｂ 第４図 （イ） （ロ） （ハ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、キャリア輸送層上にキャリア発生層を設けて成る感
   光体の製造方法において、前記キャリア輸送層をスパイ
   ラル塗布により形成し、かつ前記キャリア発生層をスプ
   レー塗布により形成することを特徴とする感光体の製造
   方法。