JP2000325863A - 円筒状基体への塗料塗布方法および電子写真用感光体ドラムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ロール塗布法を用いて従来法の持つ欠点を解
消し、簡単な制御で、円筒状基体の外周面に効率よく、
良好な画像特性を得るための塗膜形成方法を提供する。 【解決手段】 塗布ロールに供給された塗料を円筒状基
体に塗布する円筒状基体への塗料塗布方法において、円
筒状基体と塗布ロールを非接触状態で同一方向に回転し
つつ塗料を塗布し、塗料が円筒状基体に転写された後、
塗布ロール上に存在する塗料の膜厚をＴ１、円筒状基体
と塗布ロールとの間隙をＧ１とすると、Ｔ１≦Ｇ１を満
足する条件下で塗料を定常状態となし、その状態から塗
布ロール上の塗料の量を減少して円筒状基体上の塗料と
塗布ロール上の塗料との繋がりを切断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真用感光体
ドラムの製造方法に好適な円筒状基体への塗料塗布方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真用感光体ドラムには、アルミニ
ウムで構成された中空円筒状基体の外周面に電子写真用
感光体塗料として下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を
順次塗布、積層した感光層を形成しているものがある。
感光層は薄膜でかつ均一な厚さであることが要求される
が、低コスト化の要求も強いため、生産性に優れた塗布
方法の開発検討が行われている。円筒状基体の外周面に
電子写真用感光体塗料を塗布して感光層を形成する方法
としては、従来からスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレ
ード塗布法等の方法が知られている。しかしながら、従
来の塗布法においては、均一な塗膜が得られなかった
り、生産効率が悪いなどの欠点があった。

【０００３】例えばスプレー塗布法では、電子写真用感
光体塗料に沸点の低い溶媒を用いると、塗料が円筒状基
体の外周面に到達する途中で塗料中に含まれる溶媒が揮
発し塗料の固形分濃度が増大するために、円筒状基体に
到達したときには外周面に充分に広がらずに塗膜表面が
凹凸になり、塗膜表面の平滑性が得られず均一な塗膜が
得られないという欠点があった。

【０００４】逆に沸点の高い溶媒を用いると、塗料が円
筒状基体の外周面に付着してレベリング（膜厚の均一
化、以下同じ）はするが、溶剤の揮発が遅いために塗膜
の固定が遅延してしまう。したがって、塗膜の固定化が
不十分な状態で塗布を続けると所望の膜厚が厚い場合に
は塗料だれが起こり、やはり均一な膜厚の塗膜が得られ
なかった。これを回避するために数回に分割して塗料を
塗布することも考えられるが、塗布および指触乾燥状態
（指で触れても痕跡が残らない程度に乾燥した状態）に
なるまでの乾燥を繰り返して所望の膜厚を得なければな
らず、時間もかかり極めて煩雑であった。

【０００５】浸潰塗布法によれば塗膜表面の平滑性は改
善されるものの、円筒状基体の内部や端面にまで塗膜が
形成される。円筒状基体の内部や端面に形成された塗膜
はフランジ等を取り付ける際の障害となるため、この円
筒状基体を電子写真用感光体ドラムとする際には、円筒
状基体の内部や端面に一度形成された塗膜を除去しなけ
ればならない。また、使用される機種によっては円筒状
基体の外周面端部に一度形成された塗膜を除去しなけれ
ばならないため、除去工程が必要となり、生産性を阻害
する要因となっていた。

【０００６】さらに、塗膜の膜厚は塗料物性と浸漬した
後の引き上げ速度に大きく支配され、等速度で引き上げ
ると円筒状基体の上端と下端とで膜厚差が発生する。こ
れを解消するためには引き上げ速度を制御する必要があ
るが、その制御は難しく、さらには均一な塗膜を形成す
るために浸潰した後の引き上げ速度を遅くせざるを得な
いという基本的な問題もあり、高い生産効率が得られな
かった。

【０００７】ブレード塗布法は円筒状基体の長さ方向に
近接する位置にブレードを配置してブレードに塗料を供
給し、円筒状基体を１回転させた後ブレードを後退させ
る塗布法である。この方法では高い生産性は得られるも
のの、ブレードを後退させる際、塗料の表面張力により
円筒状基体に塗布された塗膜の一部が盛り上がるため膜
厚が不均一になるという欠点があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記以外の方法として
ロール塗布法がある。ロール塗布法は、円筒状基体に対
して所定のギャップをあけて配置した塗布ロールから塗
料を供給し、その後円筒状基体と塗布ロールとを離間す
ることを基本とする塗布方法である。特開昭４８−９０
７４６号公報によれば、円筒状基体に対してドクターロ
ールを平行に配置し、そのドクターロールに樹脂を供給
し、これをドクターロールを介して円筒状基体に塗布せ
しめることにより均一な膜厚で継ぎ目のない光導電層が
形成される。

【０００９】しかるに、電子写真に要求される画質のレ
ベルが年々高くなり、本発明者等の検討によれば、前記
特開昭４８一０９７４６号で開示された手法のみではそ
の要求を十分に満足させることは困難となってきてい
る。つまり、特開昭４８−０９７４６号が提案された当
時に問題とされた膜厚均一性、継ぎ目大きさでは現在要
求される画質を満足させることはできない。

【００１０】本発明は、ロール塗布法を用いて従来法の
持つ欠点を解消し、簡単な制御で、円筒状基体の外周面
に効率よく、良好な画像特性を得るための塗膜形成方法
を提供することを課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題を
解決するために、ロール塗布法における円筒状基体上の
塗膜の挙動について詳紬な検討を行った。以下この検討
内容について説明する。初めに、円筒状基体と塗布ロー
ルとの回転方向について、図１、図２にづき説明する。
図１、図２において、１は被塗布物である円筒状基体、
２は塗布ロールであり、各々矢印（実線）方向に回転す
る。つまり、図１には円筒状基体１と塗布ロール２とが
同一方向に回転する場合を示し、図２には円筒状基体１
と塗布ロール２とが反対方向に回転する場合を示してい
る。５は塗料であり、塗布ロール２から円筒状基体１ヘ
転移、塗布される。塗料５は円筒状基体１と塗布ロール
２との回転方向の影響を受け、各々矢印（鎖線）の方向
に流動する。

【００１２】図２に示すように円筒状基体１と塗布ロー
ル２とが互いに反対方向に回転すれば、転移起点９１に
おいて円筒状基体１に塗布された塗料５は転移終点９２
を経由して円筒状基体１の回転に伴い転移起点９１に戻
る。従って、塗布ロール２によって次々に供給される塗
料５の一部は円筒状基体１と塗布ロール２との間の間隙
（ギャップ）を通過することができないこととなる。通
過できなかった塗料５は転移起点９１近傍に蓄積され、
塗料溜まり８を形成する。この状態で円筒状基体１を塗
布ロール２から離間すると、この塗料溜まり８に相当す
る部分が突出して塗膜の均一性を阻害する。塗料溜まり
８が形成される前に円筒状基体１を塗布ロール２から離
問することも考えられるが、その場合には円筒状基体１
の外周全面に塗料を均一に塗布することができない。

【００１３】これに対し、図１に示すように円筒状基体
１と塗布ロール２の回転方向を同一方向にすれば、塗料
溜まりは発生しないか、発生してもわずかな量となる。
すなわち、塗布ロール２により搬送されてきた塗料は、
矢印（鎖線）方向に転移起点９１から円筒状基体１の回
転に伴いその大部分が円筒状基体１の外周面を経由して
転移終点９２に達する。したがって、塗布ロール２から
円筒状基体１へ塗料が転移され続けても転移起点９１に
塗料溜まりは発生しないか、発生してもわずかな量とな
るのである。以上の理由により、本発明では円筒状基体
と塗布ロールとを同一方向に回転することとした。

【００１４】次に、円筒状基体と塗布ロールとの問に生
ずる塗料の繋がり、つまりメニスカスについて図３を参
照しつつ説明する。図３のように円筒状基体１上の塗料
と塗布ロール２上の塗料が表面張力によって繋がってい
る部分がメニスカス９であり、図３（Ａ）のように円筒
状基体１と塗布ロール２が離れていても、図３（Ｂ）、
（Ｃ）のように円筒状基体１と塗布ロール２が非常に近
づいていても、いずれの場合にも塗料の表面張力により
斜線部分で示すメニスカス９が形成されることになる。
図３（Ｂ）、（Ｃ）の違いは、塗布ロール２上に存在す
る塗料の膜厚をＴ１、円筒状基体１と塗布ロール２との
間隙をＧ１とすると、前者はＴ１＜Ｇ１、後者はＴ１＞
Ｇ１となっている点である。なお、図３（Ａ）もＴ１＜
Ｇ１となっている。また、塗布ロール２上に存在する塗
料の膜厚Ｔ１とは、メニスカス９以外の部分の厚さをい
う。

【００１５】本発明者等は、塗布ロール２上の塗料が円
筒状基体１に転移された後に、図３（Ａ）〜（Ｃ）の各
状態において塗料を定常状態となし、その状態から塗布
ロール上の塗料の量を減少させて円筒状基体上の塗料と
塗布ロ一ル上の塗料の繋がりを切断することにより得ら
れた電子写真用感光体ドラムを用いて画質の評価を行っ
たところ、図３（Ａ）および（Ｂ）により得られた電子
写真用感光体ドラムのほうが、図３（Ｃ）により得られ
た電子写真用感光体ドラムに比べて画質が優れているこ
とを確認した。

【００１６】本発明は以上の知見に基づくものであり、
塗布ロールに供給された塗料を円筒状基体に塗布する円
筒状基体の製造方法において、円筒状基体と塗布ロール
を非接触状態で同一方向に回転しつつ塗料を塗布し、塗
料が円筒状基体に転写された後、塗布ロール上に存在す
る塗料の膜厚をＴ１、円筒状基体と塗布ロールとの間隙
をＧ１とすると、Ｔ１≦Ｇ１を満足する条件下で塗料を
定常状態となし、その状態から塗布ロール上の塗料量を
減少させて円筒状基体上の塗料と塗布ロール上の塗料と
の繋がりを切断することを特徴とする。

【００１７】また本発明によれば、塗布ロールに供給さ
れた電子写真用感光体塗料を電子写真用感光体ドラム基
体に塗布後乾燥する電子写真用感光体ドラムの製造方法
において、電子写真用感光体ドラム基体と塗布ロールと
を非接触状態で同一回転方向に回転しつつ電子写真用感
光体塗料を塗布し、電子写真用感光体塗料が電子写真用
感光体ドラム基体に転移された後、塗布ロール上に存在
する電子写真用感光体塗料の膜厚をＴ１、電子写真用感
光体ドラム基体と塗布ロールとの間隙をＧ１とすると、
Ｔ１≦Ｇ１を満足する条件下で電子写真用感光体塗料を
定常状態となし、その状態から塗布ロール上の電子写真
用感光体塗料の量を減少させて電子写真用感光体ドラム
基体上の電子写真用感光体塗料と塗布ロール上の電子写
真用感光体塗料の繋がりを切断する電子写真用感光体ド
ラムの製造方法が提供される。

【００１８】以下本発明をより詳細に説明する。円筒状
基体１と塗布口一ル２の間に存在するメニスカス近傍の
塗料の挙動を図４および図５に基づき説明する。なお、
図４はＴ１＞Ｇ１の条件を満足する定常状態から、塗布
ロール２上の塗料の量を減少させて円筒状基体１上の塗
料と塗布ロール２上の塗料との繋がりを切断する過程
を、また図５はＴ１＜Ｇ１の条件を満足する定常状態か
ら、塗布ロール２上の塗料の量を減少させて円筒状基体
１上の塗料と塗布ロール２上の塗料との繁がりを切断す
る過程を示している。

【００１９】図４のように、Ｔ１＞Ｇ１の定常状態から
塗布ロール２上の塗料の量を減少させていくと、図４
（Ａ）のようにメニスカス９の塗料溜まりが凸部（ｃ）
となって残る。さらに塗布ロール２上の塗料供給量を減
少させていくと、塗料の表面張力がメニスカス９を維持
させようとして、図４（Ｂ）のように円筒状基体１上の
塗料膜厚が減少して凹部（ｂ）が生じる。ついで、図４
（Ｃ）のように円筒状基体１上の塗料と塗布ロール２上
の塗料の繋がりが切断されると、円筒状基体１には継ぎ
目として凸部（ａ）が残るとともに、凹部（ｂ）、凸部
（ｃ）も消滅せずに残存する。

【００２０】一方、図５のように、Ｔ１＜Ｇ１の定常状
態から塗布ロール２上の塗料供給量を減少させていく場
合には、図５（Ａ）のようにメニスカス９の幅が狭いた
めに塗料溜まりによる凸部（ｃ）は小さくなる。さらに
塗布ロール２上の塗料の量を減少させていくと、図５
（Ｂ）のようにメニスカス９を維持させようとして生じ
る凹部（ｂ）も消滅、または残存する程度が小さくな
る。そして、図５（Ｃ）のように円筒状基体１上の塗料
と塗布ロール２上の塗料の繋がりが切断されると、円筒
状基体１には凸部（ａ）も消滅、または残存する程度を
小さくすることができる。

【００２１】本発明において、円筒状基体１上の塗料と
塗布ロール２上の塗料の繋がり切断する前に、塗布ロー
ル上の塗料が定常状態となっている必要がある。この定
常状態を得るためには、ギャップを一定に維持したまま
円筒状基体、塗布口ールの回転を継続する必要がある。
塗料の物性、回転条件等の諸条件により変動するが、少
なくとも、ギャップを固定したままで円筒状基体、塗布
ロールを１回転、望ましくは３回転以上回転する。

【００２２】以上のような凸部（ａ）、凸部（ｃ）およ
び凹部（ｂ）を有する塗膜が被覆された電子写真用感光
体ドラムを用いて印字試験を行ったところ、画質に最も
影響を与えるのは凹部（ｂ）であることが判明した。つ
まり、凸部（ａ）（凸部（ｃ））の高さと凹部（ｂ）の
深さが同一であったとしても、凸部（ａ）（凸部
（ｃ））に対応する部分に比べて凹部（ｂ）に対応する
部分の画質が劣るのである。したがって、本発明におい
ては、Ｔ１≦Ｇ１を満足する条件下で塗料を定常状態と
することとした。そして、この凹部（ｂ）の深さを極力
低減することが画質向上のために非常に重要であること
がわかった。そして、前記凹部は塗膜の最小膜厚ｔｍｉ
ｎとして定義すると、塗膜の平均膜厚ｔａｖｅとの関係
で、ｔａｖｅ−ｔｍｉｎ／ｔａｖｅが０．０７以下、望
ましくは０．０３以下であれば良好な画像特性が得られ
る。もっとも、凸部（ａ）、（ｃ）も小さい方が望まし
く、最大膜厚をｔｍａｘとすると、ｔｍａｘ一ｔａｖｅ
／ｔａｖｅが０．１以下、望ましくは０．０５以下であ
ることが推奨される。

【００２３】上記凸部（ａ）、凹部（ｂ）についてはニ
ュートン流体のレベリング性を記述するＯｒｃｈａｒｄ
一Ｒｈｏｄｅｓの式により説明される。詳細は、「塗料
の流動と塗膜形成」（中道敏彦著、技報堂出版）に説明
されているので、引用する。すなわち、メニスカス９が
切断されたときの継ぎ目の凹部（ｂ）と凸部（ａ）の差
をＡｏ、ｔ時間後の継ぎ目の凹部（ｂ）と凸部（ａ）の
差をＡｔ、メニスカス９の幅をλ、円筒状基体１上の平
均膜厚をｈ、塗料の表面張力をγ、塗料の粘度をηとす
れば、下式（１）のように表すことができる。

【００２４】

【数１】

【００２５】従って、レベリングによりできるだけ短時
問の内に凹部（ｂ）と凸部（ａ）の差Ａｔが０に近づく
ための条件は、式（１）より、メニスカス９の幅λが小
さく、塗料の表面張力γが大きく、塗料の粘度を低くす
ることが好ましいことがわかる。特に表面張力について
は、室温での塗料の表面張力が２６×１０^-3Ｎ／ｍ以上
であることが望ましい。表面張力がこれより低い場合、
特に２０×１０^-3Ｎ／ｍよりも低い場合には、凹部
（ｂ）と凸部（ａ）の差が０に近づくまでに時問を要
し、また塗布ロール上の塗料を減少させても円筒状基体
上の塗料と塗布ロール２上の塗料の繋がりであるメニス
カス９が切断されにくい。

【００２６】このメニスカス９の幅λを小さくするため
には、円筒状基体１と塗布ロール２との間隔を広げるこ
とが有効である。本発明では、上述のように、Ｔ１≦Ｇ
１を満足する条件下で塗料を定常状態とするが、Ｔ１≦
Ｇ１とすることによりメニスカス９の幅λを小さくする
ことも可能となる。

【００２７】本発明において、Ｔ１≦Ｇ１を満足する条
件下で塗料を定常状態となし、その状態から塗布ロール
上の塗料の量を減少させて円筒状基体上の塗料と塗布ロ
ール上の塗料の繋がりを切断する。

【００２８】塗布ロール上の塗料の量を減少させるため
には、塗布ロールの近傍に塗料膜厚制御手段を配置し、
塗布ロールと塗料膜厚制御手段との間隙を、定常状態の
ときよりも狭くすればよい。膜厚制御手段としてはドク
ターブレード、あるいはロールを用いることができる。
膜厚制御手段としてロールを用いる場合には、塗布ロー
ルと同一方向にそのロールを回転させつつ、その回転数
を増大させることにより塗布ロール上の塗料の量を減少
することができる。

【００２９】本発明において、塗料を円筒状基体に転移
する際には、Ｔ１＞Ｇ１となっていてもかまわない。こ
のようにしておく方が、塗布ロール上の過剰塗料を円筒
状基体に速やかに転移させることができる。また、塗布
ロールに近接配置させた膜厚制御手段と塗布ロールとの
間隙を円筒状基体と塗布ロールとの問隙より大きくし、
塗布ロール上の過剰塗料を円筒状基体に転移させる方法
もある。さらに、円筒状基体に過剰な塗料をディスベン
サー等により供給しても良い。

【００３０】なお、円筒状基体に形成させるべき乾燥後
の膜厚は、塗料の不揮発分、粘度等の塗料特性、および
塗布ロール上の塗料の膜厚、円筒状基体又は塗布ロール
の回転速度等を調整することで決定される。

【００３１】また、塗布ロール上の塗料の厚さＴ１は以
下のように測定することができる。つまり、周知のマイ
クロメータヘッド（０−２５ｍｍ ０．００１ｍｍレベ
ルのもの）により塗料塗布前の塗布ロール表面を基準点
（ゼロ点）とし、塗料転移時にはマイクローメータヘッ
ドのスピンドルを塗布ロールから十分後退させる。その
後、塗料が定常状態となったらスピンドルが塗料に接触
するまで前進させる。そのときの読みとり値が塗布ロー
ル上の塗料の厚さＴ１である。なお、マイクロメータヘ
ッドは、塗布ロールに対して固定させる必要があること
はいうまでもない。また、本発明を実行する上でこの方
法に限定されるものではない。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下本発明を実施の形態に基づき
説明する。図６、図７は各々本発明を実施するための装
置構成の１実施形態を示す斜視図、側面図である。図
６、図７において、１は被塗布物である円筒状基体、２
は塗布ロール、３はメタリングロール（膜厚制御手
段）、４はクリーニングドクタ、５は塗料である。

【００３３】円筒状基体１、塗布ロール２およびメタリ
ングロール３は、図示しない回転機構により矢印方向へ
回転可能に設置されている。また、円筒状基体１と塗布
ロール２とは塗布ロール２から円筒状基体１へ塗料が転
移できる程度のギャップを介して近接配置され、また塗
布ロール２とメタリングロール３とは塗料５を貯留でき
る程度のギャップを介して近接配置されている。塗料５
は図示しない塗料供給手段により塗布ロール２、メタリ
ングロール３およびクリーニングドクタ４とにより形成
されり、塗料貯留部５１に貯留される。

【００３４】塗料貯留部５１から塗布ロール２およびメ
タリングロール３との間のギャップを通過して塗料５は
塗布ロール２の外周面に供給されるが、この一定幅のギ
ャップ、およびメタリングロール３と塗布ロール２との
周速比とにより塗布ロール２の外周面に供給される塗料
５が計量される。更に、塗布ロール２の外周面の塗料の
表面性も周速比にて決定される。

【００３５】塗布ロール２およびメタリングロール３と
の間のギャップは、初めに円筒状基体１に塗料を転移さ
せるために、円筒状基体１および塗布ロール２との間の
ギャップより広くする必要がある。この場合、円筒状基
体１に塗料を転移させることを目的としているので、転
移が可能であるならば、塗布ロール２およびメタリング
ロール３との問のギャップの幅、あるいは、円筒状基体
１および塗布ロール２との問のギャップの幅に制限が加
えられるものではない。

【００３６】この状態で塗布ロール２およびメタリング
ロール３を矢印方向に回転することにより塗布ロール２
の外周面の塗料５の膜厚が均一になる結果、円筒状基体
１の外周面に塗布される塗料の膜厚も速やかに均一なも
のとなる。次に、円筒状基体１に塗料が転移した後、塗
布ロール２上の膜厚を円筒状基体１および塗布ロール２
との問のギャップ以上になるように設定して円筒状基体
１の塗料膜厚が安定した後、塗布ロール２とメタリング
ロール３のギャップを減少させるか、あるいはメタリン
グロール３の回転数を増大させることにより塗布ロール
２上の塗料の量を減少させて、円筒状基体１上の塗料と
塗布ロール２上の塗料の繋がりを切断する。その後、円
筒状基体１と塗布ロール２とを離間させる。このとき、
円筒状基体１上の塗料の膜厚制御は、塗布ロール２およ
びメタリングロール３との間のギャップ、塗料の粘度、
不揮発分によりおこなっても良い。なお、以上の形態で
はメタリングロール３を回転しているが、回転すること
なく固定状態とすることもできる。

【００３７】以上の実施形態では、メタリングロール３
および塗布ロール２とのギャップを利用することにより
塗布ロール２外周面の塗料５の量を制御するとともに膜
厚の均一化を図っているが、図８に示すように塗料槽５
２に貯留した塗料５中に塗布ロール２を浸潰するととも
に、所定量の塗料を供給するための膜厚制御手段として
ギャップ設定用ドクター６を所定幅のギャップを介して
塗布ロール２に配置しても良い。この状態で、塗布ロー
ル２を回転させることにより、塗布ロール２外周面の塗
料５の膜厚を均一化するとともに、塗料膜厚を制御する
ことができる。

【００３８】また、図９に示すように板状の膜厚制御手
段６１を塗布ロール２の接線方向に所定幅のギャップを
介して配置する、あるいは図１０に示すような円筒体の
外周に段差を設けた膜厚制御手段６２を塗布ロール２と
所定幅のギャップを介して配置することもできる。図
９、図１０に示す膜厚制御手段６１、６２によれば、図
８に示したギャップ設定用ドクター６と同様に塗料５の
膜厚の均一性を向上させるとともに、塗料膜厚を制御す
ることができる。

【００３９】円筒状基体と塗布ロールとのギャップ幅は
塗布する塗料の種類、円筒状基体上に最終的に形成する
膜厚によって、１０μｍ〜１０００μｍの範囲で、かつ
塗布ロールと膜厚制御手段との間のギャップ幅と同等か
それ以上の値で設定すればよい。また、塗布ロールと膜
厚制御手段との間のギャップ幅も、塗布する塗料の種
類、円筒状基体上に最終的に形成する膜厚によって、１
０μｍ〜１０００μｍの範囲で設定すればよい。

【００４０】塗料が塗布される際の円筒状基体の回転の
周速は３ｍ／ｍｉｎ〜５０ｍ／ｍｉｎの範囲とすること
が、また塗布ロールの回転の周速は３ｍ／ｍｉｎ〜５０
ｍ／ｍｉｎの範囲とすることが好ましい。円筒状基体お
よび塗布ロールの周速が遅いとその外周面に塗膜が形成
される時間が長くなり生産性に好ましくなく、逆に周速
が速すぎると遠心力により塗料が飛散する恐れがあるか
らである。

【００４１】円筒状基体の回転の周速と塗布ロールの回
転の周速の比（円筒状基体の周遠／塗布ロールの周速）
は、０．５〜２．０の範囲が好ましく、０．６〜１．６
の範囲がさらに好ましい。また、塗布ロールと円筒状基
体の径の比が１／４〜１０の範囲であれば、本発明を問
題なく実施することができる。

【００４２】円筒状基体を塗布ロールから離問した後
に、形成された塗膜のレベリングと風乾をかねて円筒状
基体の回転を継続し、回転を停止しても塗料だれが生じ
ないことを確認して、熱風循環式乾燥機に入れて完全に
乾燥させる。

【００４３】比較的揮発性の高い溶剤を用いた場含、溶
剤揮発による乾燥を防止するために塗布ロール部分、円
筒状基体部分あるいはその周囲全体等を略密閉状態とす
るような容器あるいは遮蔽壁等で覆うことも有効であ
る。

【００４４】円筒状基体の材料としては、例えば、鉄、
アルミニウム、銅、マンガン、シリコン、マグネシウ
ム、亜鉛、ステンレス、クロム、チタン、ニッケル、モ
リブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属
又はこれらの合金、あるいはポリエステルなどの樹脂に
アルミニウム等の導電性材料を蒸着したもの等が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００４５】円筒状基体が電子写真用感光体ドラムを対
象とする場合、形成される感光層は、電荷発生材料と電
荷輸送材料とが同一の層内に存在する単層型であって
も、電荷発生材料を含有する層と電荷輸送材料を含有す
る層とを積層してなる積層型であってもよい。

【００４６】単層型の感光層は、電荷発生材料と電荷輸
送材料とをバインダー樹脂溶液に分散あるいは溶解した
塗布液を、円筒状基体の外周面に塗布後乾燥して形成す
ることができる。

【００４７】積層型の感光層は、電荷発生材料の微粒子
を必要に応じてバインダー樹脂溶液に分散した塗料を円
筒状基体の外周面に塗布後乾燥して電荷発生層を形成
し、その上に、電荷輸送機能を有する化合物をバインダ
ー樹脂溶液に溶解した塗料を塗布後乾燥して電荷輸送層
を形成することにより得ることができる。また、上記と
は逆に、円筒状基体の外周面に電荷輸送層を形成した
後、電荷発生層を形成させても良い。電子写真用感光体
ドラムにおける感光層の膜厚は、単層型電子写真用感光
体の場合には、５〜１００μｍの範囲が好ましく、１０
〜５０μｍの範囲が特に好ましい。

【００４８】また、積層型電子写真用感光体の場合に
は、電荷発生層の膜厚は５μｍ以下が好ましく、０．０
１〜１μｍの範囲が特に好ましく、電荷輸送層の膜厚は
５〜１００μｍの範囲が好ましく、１０〜５０μｍの範
囲が特に好ましい。

【００４９】本発明による塗布方法は、塗料の粘度によ
らず適用できる。積層型電子写真感光体の電荷発生層お
よび電荷輸送層の塗布に好ましい。また、単層型電子写
真感光体および積層型電子写真感光体に必要に応じて用
いられる後述の接着層あるいはバリア層（下引き層）の
塗布に好ましい。

【００５０】電荷輸送材料としては、正孔輸送材料およ
び／又は電子輸送材料を用いることができる。正孔輸送
材料としては、低分子化合物では、例えば、ピレン系、
カルバゾール系、ヒドラゾン系、オキサゾール系、オキ
サジアゾール系、ピラゾリン系、アリールアミン系、ア
リールメタン系、ベンジジン系、チアゾール系、スチル
ベン系、ブタジエン系等の化合物が挙げられる。また、
高分子化合物としては、例えば、ポリ−Ｎ一ビニルカル
バゾール、ハロゲン化ポリーＮ−ビニルカルバゾール、
ポリビニルピレン、ポリビニルアンスラセン、ボリビニ
ルアクリジン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾールーホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾ
ール−ホルムアルデヒド樹脂、トリフェニルメタンポリ
マー、ポリシラン等が挙げられる。

【００５１】電子輸送材料としては、例えば、ベンゾキ
ノン系、テトラシアノエチレン系、テトラシアノキノジ
メタン系、フルオレノン系、キサントン系、フェナント
ラキノン系、無水フタール酸系、ジフェノキノン系等の
有機化合物や、アモルファスシリコン、アモルファスセ
レン、テルル、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、
硫化アンチモン、酸化亜鉛、硫化亜鉛等の無機材料が挙
げられる。電荷輸送材料は、ここに挙げたものに限定さ
れるものではなく、また、その使用に際しては単独、あ
るいは２種類以上混合して用いることができる。

【００５２】バインダー樹脂としては、疎水性で、電気
絶縁性のフィルム形成可能な高分子重合体を用いるのが
好ましい。このような高分子重合体としては、例えば、
ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂、ア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリビニルアセテート、スチレンーブタジ
エン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シ
リコンーアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、スチレンーアルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォ
ルマール、ポリスルホン等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。これらのバインダー樹脂は、単
独又は２種類以上混合して用いられる。また、これらの
バインダー樹脂とともに可塑剤、増感剤、表面改質剤等
の添加剤を使用することもできる。

【００５３】可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩
化ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ジブチルフタレー
ト、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタ
レート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾ
フェノン、塩素化パラフイン、各種フルオロ炭化水素等
が挙げられる。

【００５４】増感剤としては、例えば、クロラニル、テ
トラシアノエチレン、メチルバイオレツト、ローダミン
Ｂ、シアニン染料、メロシアニン染料、ピリリウム染
料、チアピリリウム染料等が挙げられる。

【００５５】表面改質剤としては、例えば、シリコンオ
イル、フッ素樹脂等が挙げられる。円筒状基体と感光層
との接着性を向上させたり、円筒状基体から感光層への
自由電荷の注入を阻止するため、円筒状基体と感光層と
の間に、必要に応じて接着剤層あるいはバリア層（下引
き層）を設けることもできる。

【００５６】上記の電荷発生材料、電荷輸送材料をバイ
ンダー樹脂溶液に分散、溶解する場合には、バインダー
を溶解する溶剤として、バインダーの種類によっても異
なるが、下に位置する層を溶解しないものの中から選択
するよう配慮する。

【００５７】具体的な有機溶剤としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ベンジルアル
コール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセチルアセトン
等のケトン類；テオラヒドロフラン、アニソール等のエ
ーテル類；Ｎ、Ｎ一ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアセトアミド等のアミド類；テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、メチルセロソルブ、ジグライム等のエ
ーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、炭酸ジエチメル等
のエステル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
スルホキシドおよびスルホン類；塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、１、１、２−トリクロロエタン等
の脂肪族ハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、ｏ
−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、モノクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類等が挙げられ
る。これらを用いて上記の電荷発生材料をバインダー樹
脂溶液に分散、溶解する場合には、バインダーを溶解す
る溶剤として、バインダーの種類によっても異なるが、
下に位置する層を溶解しないものの中から選択するよう
配慮する。更に、単一溶剤あるいは混合溶剤は表面張力
の高い溶剤系が好ましい。表面張力の大きさとして、２
０×１０^-3Ｎ／ｍ以上が好ましく、特に２６×１０^-3Ｎ
／ｍ以上が好ましい。

【００５８】電荷発生材料としては、例えば、フタロシ
アニン系顔料、アゾ系顔料、キノン系顔料、ペリレン系
顔料、インジゴ系顔料、チオインジゴ系顔料、ビスベン
ゾイミダゾール系顔料、キナクリドン系顔料、キノリン
系顔料、レーキ顔料、アゾレーキ顔料、アントラキノン
系顔料、オキサジン系顔料、ジオキサジン系顔料、トリ
フェニルメタン系顔料、アズレニウム染料、スクウェア
リウム染料、ピリリウム系染料、トリアリルメタン染
料、キサンテン染料、チアジン染料、シアニン系染料等
の種々の有機顔料、染料や、更にアモルファスシリコ
ン、アモルファスセレン、テルル、セレン−テルル合
金、硫化カドミウム、硫化アンチモン、酸化亜鉛、硫化
亜鉛等の無機材料を挙げることができる。

【００５９】電荷発生物質はここに挙げたものに限定さ
れるものではなく、またその使用に際しては単独、ある
いは２種類以上混合して用いることができる。電荷発生
材料の微粒子を必要に応じてバインダー樹脂溶液中に分
散した分散液を塗布、乾燥させてなる電荷発生層の場含
には、電荷発生材料とバインダー樹脂との使用割合は、
重量比で１０：１〜１：１０の範囲が好ましく、特に好
ましい範囲は６：１〜１：２である。

【００６０】バインダー樹脂としては、疎水性で、電気
絶縁性のフィルム形成可能な高分子重合体を用いるのが
好ましい。このような高分子重合体としては、例えば、
ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂、ア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリビニルアセテート、スチレン−ブタジ
エン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シ
リコン−アルキッド脂、フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカ
ルバゾール、ポリビニルブチラール、ボリビニルフオル
マール、ポリスルホン等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。これらのバインダー樹脂は、単独
又は２種類以上混合して用いられる。

【００６１】また、これらのバインダー樹脂とともに可
塑剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤として
は、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ｏ−ターフ
ェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフ
タレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、
メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフイ
ン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる

【００６２】円筒状基体と感光層との接着性を向上させ
たり、円筒状基体から感光層への自由電荷の注入を阻止
するため、円筒状基体と感光層との間に、必要に応じて
接着剤層あるいはバリア層（下引き層）を設けることも
できる。

【００６３】これらの層に用いられる材料としては、前
記バインダーに用いられる高分子化合物の他、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロー
ス、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリイミド、カルボ
キシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーラ
テックス、ポリウレタン、酸化アルミニウム、酸化錫、
酸化チタン等が挙げられる。

【００６４】接着剤あるいはバリアとしての機能を付与
する物質はここに挙げたものに限定されるものではな
く、その使用に際しては単独、あるいは２種類以上混合
して用いることができる。

【００６５】接着剤あるいはバリア層を設ける場合の膜
厚は、０．００５μｍ以上１２μｍ以下が良く、好まし
くは０．０１μｍ以上２μｍ以下である。

【００６６】上記の電化発生材料をバインダー樹脂溶液
に分散、溶解する場合には、バインダーを溶解する溶剤
として、バインダーの種類によっても異なるが、下に位
置する層を溶解しないものの中から選択するよう配慮す
る。更に、単一溶剤あるいは混合溶剤は表面張力の高い
溶剤系が好ましい。表面張力の大きさとして、２６×１
０^-3Ｎ／ｍ以上が好ましく、特に３０×１０^-3Ｎ／ｍ以
上が好ましい。

【００６７】具体的な有機溶剤としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ベンジルアル
コール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセチルアセトン
等のケトン類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアセトアミド等のアミド類；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、メチルセロソルブ、ジグライム等の
エーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、炭酸ジエチル等
のエステル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
スルホキシドおよびスルホン類；塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、１、１、２−トリクロロエタン等
の脂肪族ハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、ｏ
−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、モノクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。これらの溶剤
は、単独又は２種類以上混含して用いられる。

【００６８】上記バインダーおよび溶剤とともに適宜サ
ンドミル、ボールミルやアトライターを用いて約１μｍ
以下の微粒子状の分散体となるように分散を行い、作製
した塗料あるいは．バインダー溶液の粘度としては、５
０×１０^-3Ｐａ・ｓｅｃ以下が好ましく、特に１０×１
０^-3Ｐａ・ｓｅｃ以下が好ましい。

【００６９】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例の範囲に限定される
ものではない。

【００７０】（実施例１）表面処理として硬質クロムメ
ッキを施した表面粗さ３．２Ｓ、長さ２６０ｍｍ、外径
６５ｍｍの炭素鋼製塗布ロール２と、同じ仕様のメタリ
ングロール３と、被塗布物である円筒状基体１とを図６
に示すように配置した。円筒状基体１はアルミニウムか
らなり、長さ２５４ｍｍ、外径３０ｍｍ、肉厚１ｍｍの
中空構造を有する。電子写真用感光体ドラムを得る目的
でこの円筒状基体１に、はじめ下引き層塗料を塗布し
た。

【００７１】下引き層塗料は、可溶性ナイロン「ＣＭ８
０００」（東レ株式会社製）３．５部をキシレン９．６
部、エチルアルコール４８．３部、およびベンジルアル
コール３８．６部からなる混合溶剤に溶解して調整し
た。この下引き層塗料の室温における粘度および表面張
力は、９．３５×１０^-3Ｐａ・ｓｅｃおよび２７×１０
^-3Ｎ／ｍであった。

【００７２】円筒状基体１は、図示しない回転駆動装置
に連結され正逆回転可能なベアリングを有した把持機構
で両端が把持されている。その把持機構は、塗布ロ一ル
２に対して近接、離問可能な図示しない移動装置に載置
されている。

【００７３】円筒状基体１と塗布ロール２とは、塗料転
移の際のギャップ幅が５０μｍ、塗布時にはギャップ幅
が３００μｍとなるように移動装置を設定している。ま
た、塗布ロール２とメタリングロール３との間のギャッ
プ幅は１００μｍに設定した。

【００７４】円筒状基体１と塗布ロール２との回転方向
は同一方向で、塗布ロール２とメタリングロール３との
回転方向も同一方向である。周速は、円筒状基体１が１
０ｍ／ｍｉｎ、塗布ロール２が１０ｍ／ｍｉｎ、メタリ
ングロール３が塗料転移および塗布時は２ｍ／ｍｉｎと
なるように設定し、塗料貯留部５１より前記下引き層塗
料を供給した。円筒状基体１、塗布ロール２、およびメ
タリングロール３を回転させて、塗布ロール２外周面に
均一な膜厚の塗膜を形成した。

【００７５】その後、円筒状基体１を前述のギャップ幅
になるまで塗布ロール２に近接させた。これにより塗布
ロール２上の塗料は円筒状基体１に転移、塗布を開始し
た。転移開始から１秒間回転させ、メニスカスを維持し
た状態で、円筒状基体１と塗布ロール２とのギャップ幅
を３００μｍに設定し、そのまま回転状態を維持して定
常状態を得た。前述のマイクロメータヘッドを用いた測
定方法により定常状態の塗布ロール２上の塗料の膜厚を
測定したところ９０μｍであった。以下次に、メタリン
グロール３の周遠を１２ｍ／ｍｉｎに上げることによ
り、塗布ロール２上の塗料の量を減少させてメニスカス
を切断し、その後、円筒状基体１と塗布ロール２とを離
間した。

【００７６】下引き層が塗布された下引き層塗布円筒状
基体１は、そのまま３分間回転させながら風乾した後、
速やかに熱風循環式乾燥機で１００℃で１０分間乾燥し
た。乾燥後の膜厚を分光反射干渉膜厚計「ＴＦＭ−１２
０」（（株）オーク製作所製）で測定したところ、０．
８μｍであった。また、下引き層塗布円筒状基体１の表
面には、離間に際し生じる継ぎ目ムラは、目視観察では
見出せなかった。

【００７７】（実施例２）実施例１で外周面に下引き層
を塗布した下引き層塗布円筒状基体１に、実施例１で使
用した塗布装置を用いて、電荷発生層を塗布した。

【００７８】電荷発生層塗料は、α型オキシチタニウム
フタロシアニン０．６部およびブチラール樹脂「エスレ
ックＢＨ−３」（積水化学（株）製）０．６部を、イソ
プロピルアルコール４９．４部およびシクロヘキサノン
４９．４部からなる混含溶媒に添加し、平均粒径１．０
ｍｍのガラスビーズとともに分散、混含して調整した。
この電荷発生塗料の室温における粘度および表面張力
は、８．１２×^-3Ｐａ・ｓｅｃおよび２６．１×１０^-3
Ｎ／ｍであった。

【００７９】下引き層塗布円筒状基体１は、実施例１と
同様に図示しない回転駆動装置に連結され正逆回転可能
なベアリングを有した把持機構で両端が把持されてい
る。その把持機構は、塗布ロール２に対して近接、離問
可能な図示しない移動装置に載置されている。

【００８０】下引き層塗布円筒状基体１と塗布ロール２
とは、塗料転移の際のギャップ幅が５０μｍ、塗布時に
はギャップ幅が２５０μｍとなるように移動装置を設定
している。また、塗布ロール２とメタリングロール３と
の間のギャップ幅は１００μｍに設定した。

【００８１】下引き層塗布円筒状基体１と塗布ロール２
との回転方向は同一方向で、塗布口ール２とメタリング
ロール３との回転方向も同一方向である。周速は、下引
き層塗布円筒状基体１が１０ｍ／ｍｉｎ、塗布ロール２
が１０ｍ／ｍｉｎ、メタリングロール３が塗料転移およ
び塗布時は２ｍ／ｍｉｎとなるように設定し、塗料貯留
部５１より電荷発生層塗料を供給した。下引き層塗布円
筒状基体１、塗布ロール２、およびメタリングロール３
を回転させて、塗布ロール２外周面に均一な膜厚の塗膜
を形成した。

【００８２】その後、下引き層塗布円筒状基体１を前述
のギャップ幅になるまで塗布ロール２に近接させた。す
ると、塗布ロール２上の塗料は下引き層塗布円筒状基体
１に転移、塗布を開始した。転移開始から１秒間回転さ
せ、メニスカスを維持した状態で、下引き層塗布円筒状
基体１と塗布ロール２とのギャップ幅を２５０μｍに設
定し、そのまま回転状態を維持した。前述のマイクロメ
ータヘッドを用いた測定方法により定常状態の塗布ロー
ル２上の塗料の膜厚を測定したところ９０μｍであっ
た。次に、メタリングロール３の周速を１２ｍ／ｍｉｎ
に上げて、塗布ロール２上の塗料供給量を減少させてメ
ニスカスを切断し、その後、下引き層塗布円筒状基体１
と塗布ロール２とを離間した。

【００８３】電荷発生層が塗布された電荷発生層塗布円
筒状基体１は、そのまま２分間回転させながら風乾した
後、速やかに熱風循環式乾燥機で１００℃で１０分間乾
燥した。

【００８４】乾燥後の膜厚を分光反射干渉膜厚計「ＴＦ
Ｍ一１２０」（（株）オーク製作所製）で測定したとこ
ろ、０．２μｍであった。また、電荷発生層塗布円筒状
基体１の表面には、離間に際し生じる継ぎ目ムラは、目
視観察では見出せなかった。

【００８５】（実施例３）実施例２で外周面に電荷発生
層を塗布した電荷発生層塗布円筒状基体１に、実施例１
で使用した塗布装置を用いて、電荷輸送層を塗布した。

【００８６】電荷輸送層塗料は、化学式（１）

【００８７】

【化１】

【００８８】で示されるアリールアミン化合物２０部、
ポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学（株）製の「ユー
ピロンＺ一２００」）２５部、および抗酸化剤１部を、
シクロヘキサノン９０部およびキシレン２２部からなる
混含溶媒に溶解させて固形分を２９％に調製した。この
とき電荷輸送塗料の粘度および表面張力は、７．００×
１０^-3Ｐａ・ｓｅｃおよび３４．５×１０^-3Ｎ／ｍであ
つた

【００８９】電荷発生層塗布円筒状基体１は、実施例１
と同様に図示しない回転駆動装置に連結され正逆回転可
能なベアリングを有した把持機構で両端が把持されてい
る。その把持機構は、塗布ロール２に対して近接、離間
可能な図示しない移動装置に載置されている。

【００９０】電荷発生層塗布円筒状基体１と塗布ロール
２とは、塗料転移の際のギャップ幅が５０μｍ、塗布時
にはギャップ幅が３００μｍとなるように移動装置を設
定している。また、塗布ロール２とメタリングロール３
との間のギャップ幅は最初に５８０μｍに設定した。

【００９１】電荷発生層塗布円筒状基体１と塗布ロール
２との回転方向は同一方向で、塗布ロール２とメタリン
グロール３との回転方向も同一方向である。周速は、電
荷発生層塗布円筒状基体１が１０ｍ／ｍｉｎ、塗布ロー
ル２が１０ｍ／ｍｉｎ、メタリングロール３が塗料転移
および塗布時は１ｍ／ｍｉｎとなるように設定し、塗料
貯留部５１より電荷輸送層塗料を供給した。電荷発生層
塗布円筒状基体１、塗布ロール２、およびメタリングロ
ール３を回転させて、塗布ロール２外周面に均一な膜厚
の塗膜を形成した。

【００９２】その後、電荷発生層塗布円筒状基体１を前
述のギャップ幅になるまで塗布ロール２に近接させた。
これにより塗布ロール２上の塗料は電荷発生層塗布円筒
状基体１に転移し、塗布を開始した。転移開始から５秒
間回転させ、メニスカスを維持した状態で、電荷発生層
塗布円筒状基体１と塗布ロール２とのギャップ幅を３０
０μｍに設定し、そのまま回転状態を維持した。次に、
塗布ロール２とメタリングロール３とのギャップ幅を１
８０μｍに再設定し、電荷発生層塗布円筒状基体１と塗
布ロール２との間のメニスカス、および塗布ロール２と
メタリングロール３との間のメニスカスが形成されたま
まの状態で５秒問回転状態を維持することにより、定常
状態を得た。前述のマイクロメータヘッドを用いた測定
方法により定常状態の塗布ロール２上の塗料の膜厚を測
定したところ１８０μｍであった。次に、塗布ロール２
とメタリングロール３との間隔を３０μｍに狭め、塗布
ロール２上の塗料の量を減少させることによりメニスカ
スを切断し、その後、電荷発生層塗布円筒状基体１と塗
布ロール２とを離間した。

【００９３】電荷輸送層が塗布された電荷輸送層塗布円
筒状基体１は、そのまま２０分問回転させながら風乾さ
せた後、速やかに熱風循環式乾燥機で１４０℃で４５分
間乾燥させた。

【００９４】乾燥後の膜厚を高周波渦電流式膜厚計
（（株）ケット科学研究所製「ＬＨ一３００Ｃ」）で測
定したところ、２９．５μｍであった。また、電荷輸送
層塗布円筒状基体１の表面には、離間に際し生じる継ぎ
目ムラは、目視観察から見出せなかつた。以上によって
得られた電荷輸送層塗布円筒状基体１を、電子写真用感
光体ドラム（Ａ）とする。

【００９５】（実施例４）実施例１と同様にして下引き
層塗布円筒状基体１を得た。次に、電荷発生層塗料を、
α型オキシチタニウムフタロシアニン０．６部およびブ
チラール樹脂「エスレックＢＨ−３Ｊ（積水化学（株）
製）」０．６部を、キシレン４９．４部およびシクロヘ
キサノン４９．４部からなる混合溶媒に添加し、平均粒
径１．０ｍｍのガラスビーズとともに分散、混含して調
整した以外は、実施例２と同様にして、電荷発生層塗布
円筒状基体１を得た。

【００９６】このとき電荷発生層塗料の粘度および表面
張力は、４．４０×１０^-3Ｐａ・ｓｅｃおよび３１．５
×１０^-3Ｎ／ｍである。なお、前述のマイクロメータヘ
ッドを用いた測定方法により定常状態の塗布ロール２上
の塗料の膜厚を測定したところ９０μｍであった。

【００９７】乾燥後の膜厚を分光反射千渉膜厚計で測定
したところ、０．２μｍであった。また、目視観察から
電荷発生層塗布円筒状基体１の表面には、離間に際し生
じる継ぎ目ムラは見出せなかつた。

【００９８】（実施例５）実施例４で得られた電荷発生
層塗布円筒状基体１に電荷輸送層塗料を塗布した。次
に、電荷輸送層塗料を、化学式（１）で示されるアリー
ルアミン化合物２０部、ポリカーボネート樹脂（三菱瓦
斯化学（株）製の「ユーピロンＺ一２００」）２５部、
および抗酸化剤１部を、アニソール９０部およびトルエ
ン２２部からなる混合溶媒に溶解させて固形分を２０％
に調製した以外は、実施例３と同様にして、電荷輸送層
塗布円筒状基体１を得た。

【００９９】このとき電荷輸送層塗料の粘度および表面
張力は、８．００×１０^-3Ｐａ・ｓｅｃおよび３５．５
×１０^-3Ｎ／ｍである。なお、この場合の塗布ロール２
上の塗料の膜厚は１８０μｍであった。

【０１００】乾燥後の膜厚を高周波渦電流式膜厚計で測
定したところ、２８．６μｍであった。また、電荷輸送
層塗布円筒状基体１の表面には、離間に際し生じる継ぎ
目ムラは、目視観察からは見出せなかった。以上により
得られた電荷輸送層塗布円筒状基体１を電子写真用感光
体ドラム（Ｂ）とする。

【０１０１】（比較例１）実施例１と同様にして下引き
層塗布円筒状基体１を得た。次に、実施例２で使用した
電荷発生層塗料を用いて電荷発生層を塗布した。

【０１０２】下引き層塗布円筒状基体１と塗布ロール２
とは、塗布時にはギャップ幅が３０μｍとなるように、
また塗布口一ル２とメタリングロール３との問のギャッ
プ幅は当初から４５μｍに設定した。次に、下引き層塗
布円筒状基体１を回転させつつ、前記ギャップ幅になる
ように、塗布ロール２に近接させた。すると、塗布ロー
ル２上の塗料は、下引き層塗布円筒状基体１に転移・塗
布した。その状態を、３秒間維持して定常状態を得た後
に塗布ロール２から下引き層塗布円筒状基体１を離間し
た以外は、実施例２と同様にして電荷発生層塗布円筒状
基体１を得た。前述のマイクロメータヘッドを用いた測
定方法により定常状態の塗布ロール２上の塗料の膜厚を
測定したところ４０μｍであった。

【０１０３】乾燥後の膜厚を前記分光反射干渉膜厚計で
測定したところ、０．２μｍであった。また、電荷発生
層塗布円筒状基体１の表面には、離間に際し生じる継ぎ
目ムラが目視観察により明確に観察された。

【０１０４】次に、実施例３と同様にして電荷輸送層塗
布円筒状基体１を得た。乾燥後の膜厚を前記高周波渦電
流膜厚計で測定したところ、３１μｍであった。以上に
より得られた電荷輸送層塗布円筒状基体１を、電子写真
用感光体ドラム（Ｃ）とする。

【０１０５】（比較例２）実施例１と同様にして下引き
層塗布円筒状基体１を得た後、実施例２と同様にして電
荷発生層塗布円筒状基体１を得た。次に、実施例３で使
用した電荷輸送層塗料を用いて、電荷輸送層を塗布し
た。

【０１０６】電荷発生層塗布円筒状基体１と塗布ロール
２とは、塗料転移の際のギャップ幅が８０μｍ、塗布時
も８０μｍとなるように移動装置を設定している。ま
た、塗布ロール２とメタリングロール３との間のギャッ
プ幅は２００μｍに設定した。

【０１０７】電荷発生層塗布円筒状基体１と塗布ロール
２との回転方向は同一方向で、塗布ロール２とメタリン
グロール３との回転方向も同一方向である。周速は、電
荷発生層塗布円筒状基体１が１０ｍ／ｍｉｎ、塗布ロー
ル２が１０ｍ／ｍｉｎ、メタリングロール３が塗料転移
および塗布時は１ｍ／ｍｉｎとなるように設定し、塗料
貯留部５１より電荷輸送層塗料を供給した。電荷発生層
塗布円筒状基体１、塗布ロール２、およびメタリングロ
ール３を回転させて、塗布ロール２外周面に均一な膜厚
の塗膜を形成した。

【０１０８】その後、電荷発生層塗布円筒状基体１を前
述のギャップ幅になるまで塗布ロール２に近接させた。
これにより塗布ロール２上の塗料は電荷発生層塗布円筒
状基体１に転移し、塗布を開始した。転移開始から５秒
間回転を継続することにより定常状態を得た。前述のマ
イクロメータヘッドを用いた測定方法により定常状態の
塗布ロール２上の塗料の膜厚を測定したところ１８０μ
ｍであった。次に、塗布ロール２とメタリングロール３
とのギャップ幅を３０μｍに狭め、塗布ロール２上の塗
料の量を減少させることによりメニスカスを切断し、そ
の後、電荷発生層塗布円筒状基体１と塗布ロール２とを
離間した。

【０１０９】電荷輸送層が塗布された電荷輸送層塗布円
筒状基体１は、そのまま２０分間回転させながら風乾さ
せた後、速やかに熱風循環式乾燥機で１４０℃で４５分
間乾燥させた。

【０１１０】乾燥後の膜厚を前記高周波渦電流式膜厚計
で測定したところ、３２．３μｍであった。また、電荷
輸送層塗布円筒状基体１の表面には、離間に際し生じる
継ぎ目ムラが目視観察により明確に観察された。以上に
より得られた電荷輸送層塗布円筒状基体１を、電子写真
用感光体ドラム（Ｄ）とする。

【０１１１】（評価）この様にして作成した電子写真用
感光体ドラム（Ａ）、（Ｂ）、〈Ｃ）、（Ｄ）をジェン
テック（株）製試験装置ＣＹＮＴＨｌＡ−８８Ｘ３ＤＣ
を用いて、スコロトロン方式で−５．５ｋＶでコロナ放
電し、暗所で１秒間保持した後、白色光で露光し、周方
向の帯電特性を調べた。帯電特性としては、無露光表面
電位（Ｖｏ、平均値）、残留表面電位（Ｖ_L、平均値 ）
および残留表面電位（Ｖ_L））の最大値と最小値の差
（δＶ_L）を測定した。その結果を、表１に示す。

【０１１２】

【表１】

【０１１３】δＶ_Lは、表面が平滑であればその値が小
さくなる傾向を示す。したがって、電子写真用感光体ド
ラム表面上の継ぎ目が大きくなるとその影響を受けて大
きな値を示すことになる。つまり、δＶ_Lは、継ぎ目の
大小を判定する基準となる。

【０１１４】表１より、本発明による電子写真用感光体
ドラム（Ａ）、（Ｂ）では、いずれも継ぎ目の影響であ
るδＶ_Lは小さい値を示すが、それ以外の電子写真用感
光体ドラム（Ｃ）、（Ｄ）では、その値が非常に大き
い。また、これらの電子写真用感光体ドラムを用いて、
作製から１日後に印字試験を行って目視観察をしたとこ
ろ、画像特性は電子写真用感光体ドラム（Ａ）、（Ｂ）
では良好であったが、（Ｃ）、（Ｄ）では継ぎ目部分に
濃淡ムラが生じた。

【０１１５】（膜厚分布）実施例３、実施例５、比較例
２でそれぞれ得られた電子写真用感光体ドラム（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｄ）の周方向の膜厚分布を図１１に示す。こ
のグラフより、（Ａ）、（Ｂ）では均一な膜厚分布が得
られていることが分かるが、（Ｄ）では継ぎ目部分の凹
凸が大きく、特に画像特性に影響を及ぼす凹部（図１１
中、ドラム周方向の位置の６０度付近に相当）の大きさ
が非常に大きいことが分かる。

【０１１６】

【発明の効果】本発明によって、円筒状基体の外周面に
均一な塗膜の感光層を有する電子写真用感光体ドラム
を、効率よく製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 円筒状基体と塗布口一ルを同一方向に回転さ
せた場合を示す模式図。

【図２】 円筒状基体と塗布口一ルを反対方向に回転さ
せた場合を示す模式図。

【図３】 円筒状基体と塗布ロールを同一方向に回転さ
せて、両者の間に形成されるメニスカス部分の一例を示
す模式図。

【図４】 Ｔ１＞Ｇ１の状態から、円筒状基体と塗布ロ
ールとの間に形成されるメニスカス部分が切断されると
きの状態を示す模式図。

【図５】 Ｔ１＜Ｇ１の状態から、円筒状基体と塗布ロ
ールとの間に形成されるメニスカス部分が切断されると
きの状態を示す模式図。

【図６】 本発明の一実施形態を示す斜視図。

【図７】 本発明の一実施形態を示す側面図。

【図８】 本発明の他の実施形態を示す側面図。

【図９】 本発明の他の実施形態を示す側面図。

【図１０】 本発明の他の実施形態を示す側面図。

【図１１】 実施例３、実施例５、および比較例２で得
られた電子写真用感光体ドラムの周方向の膜厚分布を示
すグラフ。

【符号の説明】

１・・・円筒状基体 ２・・・塗布ロール ３・・・メタリングロール（膜厚制御手段） ４・・・クリーニングドクタ ５・・・塗料 ６・・・ギャッブ設定用ドクタ（膜厚制御手段） ８・・・塗料溜まり ９・・・メニスカス

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塗布ロールに供給された塗料を円筒状基
   体に塗布する円筒状基体への塗料塗布法法において、円
   筒状基体と塗布ロールを非接触状態で同一方向に回転し
   つつ塗料を塗布し、塗料が円筒状基体に転写された後、
   塗布ロール上に存在する塗料の膜厚をＴ１、円筒状基体
   と塗布ロールとの間隙をＧ１とすると、Ｔ１≦Ｇ１を満
   足する条件下で塗料を定常状態となし、その状態から塗
   布ロール上の塗料の量を減少して円筒状基体上の塗料と
   塗布ロール上の塗料との繋がりを切断することを特徴と
   する円筒状基体への塗料塗布方法。
2. 【請求項２】 前記定常状態は、Ｇ１を一定に維持する
   ことにより得られるものである請求項１に記載の円筒状
   基体への塗料塗布方法。
3. 【請求項３】 室温における表面張力が２６×１０^-3Ｎ
   ／ｍ以上の塗料を用いる請求項１または２に記載の円筒
   状基体への塗料塗布方法。
4. 【請求項４】 塗布ロールに供給された電子写真用感光
   体塗料を電子写真用感光体ドラム基体に塗布後乾燥する
   電子写真用感光体ドラムの製造方法において、電子写真
   用感光体ドラム基体と塗布ロールとを非接触状態で同一
   方向に回転しつつ電子写真用感光体塗料を塗布し、電子
   写真用感光体塗料が電子写真用感光体ドラム基体に転写
   された後、塗布ロール上に存在する電子写真用感光体塗
   料の膜厚をＴ１、電子写真用感光体ドラム基体と塗布ロ
   ールとの間隙をＧ１とすると、Ｔ１≦Ｇ１を満足する条
   件下で電子写真用感光体塗料を定常状態となし、その状
   態から塗布ロール上の電子写真用感光体塗料の量を減少
   して電子写真用感光体ドラム基体上の電子写真用感光体
   塗料と塗布ロール上の電子写真用感光体塗料の繋がりを
   切断することを特徴とする電子写真用感光体ドラムの製
   造方法。
5. 【請求項５】 前記定常状態は、Ｇ１を一定に維持する
   ことにより得られる請求項４に記載の電子写真用感光体
   ドラムの製造方法。
6. 【請求項６】 室温における表面張力が２６×１０^-3
   Ｎ／ｍ以上の塗料を用いる請求項４または５に記載の電
   子写真用感光体ドラムの製造方法。