JPH01127072A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の・感
光層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものであ
る。

口、従来技術 従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
層を有する無機感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。例えば特公昭５０−１０４９６号公報には、
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールと２．４．７−１リニト
ロー９−フルオレノンを含有した感光層を有する有機感
光体について記載されている。しかしこの感光体は、感
度及び耐久性において必ずしも満足できるものではない
。このような欠点を改善するために、感光層において、
キャリア発生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に
個別に分担させることにより、感度が高くて耐久性の大
きい有機感光体を開発する試みがなされている。このよ
うないわば機能分離型の電子写真感光体においては、各
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。

かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布体（導電性基体等）に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

第９図はデイツプ塗布に用いられる塗布装置を示すもの
である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されている。デイ
ツプ塗布時には、−＋、、ｒｍｌ−ｚ、、ｐｚ円筒状導
電性基体（以下、基体ドラムと呼ぶことがある。）４を
開口部４ｂを下向きにして塗布液１へと浸漬し、次いで
蓋５の把手５ａを把持して基体ドラムに存在するが、基
体ドラム４を浸漬するときには基体ドラム４内の中空部
４ｃを満たしている空気に伴い、基体ドラム４の外周面
４ｅと塗布槽２の４８の高さまで基体ドラム外周面４ｅ
に塗布液が塗布され、均一な塗膜が形成されることにな
る。

このとき、基体ドラム４の浸漬部分の容積及びその部分
内の空気の体積に見合う分だけ、即ち高さノ２だ汁液面
は上昇する。

従って、かかる塗布装置には、以下の問題点がある。

し 点鎖線で示す位置１！ｉとの間を上下動するため、塗布
槽１ｌＩＩｌ壁内周面２ｂＫ塗布液１が付着し、付着し
た塗布液が乾燥して乾固物９を生成する。そして乾固物
９が塗布液１中へと混入して塗布液１の成分変化、劣、
化を生じたり、更にいわゆる異物欠陥（塗布欠陥）の原
因となっているものと思われる。また、塗布液１が劣化
すれば、廃棄、塗布液の入れ替えの必要が生ずるので、
原材料費等のコストアップにつながり、廃棄、入れ替え
を行うたびに容器の洗浄等の煩しい手作業が必要となる
。

かかる問題点に対する対策として、実開昭６２−５９１
７５号公報において、塗布槽中に昇降可能な台座を備え
、この台座の上端に被塗布物体を載置し、台座の昇降に
より被塗布物体の浸漬、引き上げを行う塗布装置が開示
されている。これは、塗布槽の底面に孔を設け、この孔
に上記台座を嵌入せしめ、塗布槽の外部に存在する駆動
装置により台座の上下動を行りているものである。しか
し、こうした塗布装置では、塗布槽と台座との間隙から
塗布液が洩れ易く、別にシール部材が必要で装置が複雑
となり、また特に台座の昇降時に塗布液が洩れ易い。台
座外周面への塗布液の付着、乾燥を防止する必要もある
と考えられる。

このような欠点を防止する方法として、いわゆるオーバ
ーフロ一方式のものが知られており、第１０図はこの方
式によるデイツプ塗布装置の概略断面図を示すものであ
る。

塗布槽２内に′は所定の塗布液１が収容され、土布槽２
の側壁２ｄの周囲には受は皿６が設けられている。塗布
液は、タンク１２からポンプＣＰ）１０によって送り出
され、フィルター１４を介して、供給口１１より矢印Ｅ
で示すように塗布槽２内へられ、排出口８よりタンク１
２へと排出される。

円筒状導電性基体４は塗布液１内に一点鎖線で示すよう
に浸漬され、次いで導電性基体４が矢印りで示すように
所定の速度で引き上げられ、デイツプ塗布が施される。

このデイツプ塗布時に、上述のように塗布ｉ１が側壁２
ｄの上縁部２ｅを越えて溢流し続けているので、塗布液
１の液面の高さは一定に保たれる。

かかるオーバーフロ一方式の塗布方法によれば、塗布装
置において液面位が一定に保たれるため、塗布槽内壁の
乾固物生成がな（、また生成してもフィルター１４によ
り濾過できるため、異物付着による塗布欠陥防止に効果
的である。

しかし、オーバーフロ一方式の塗布装置では、塗布槽と
循環系とに多量の塗布液を必要とするという欠点がある
（例えば、ｗｃＳ図の塗布装置にくらべて数倍の塗布液
量が必要となる。）。このため、原材料のコストが高（
、また塗布液が使用限度に達すれば、多量の塗布液の廃
棄、入れ替えの必要が生ずるので、コスト等の面で不利
である。

ハ０発明の目的 本発明の目的は、異物付着による塗布欠陥（異物欠陥）
を効果的に防止でき、かつ塗布に必要な塗布液の液量の
少ない塗布装置を提供することである。

二０発明の構成 本発明は、塗布槽内に収容されている塗布液に被塗布体
を９．漬し、この被塗布体を引き上げることによって前
記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗布装置において、
前記塗布槽底壁に伸縮可能な凸状部が設けられ、この凸
状部が前記塗布槽底壁に固定され、前記被塗布体を浸漬
する際には前記凸状部が体積収縮するように構成され、
かつ前記被塗布体を引き上げる際には前記凸状部が体積
膨張するように構成されていることを特徴とする塗布装
置に係る。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は塗布装置を示し、同図（ａ）は塗布槽に基体ド
ラムが浸漬される前後の状態を示す断面図、同図（ｂ）
は基体ドラムが浸漬された状態を示す断面図である。

塗布槽２の底面内壁２ａには伸縮自在の蛇腹状の凸状部
３が設ゆられている。この凸状部３が従来にない顕著な
特徴をなすものである。

即ち、まず第１図（ａ）に示す状態から、矢印Ｃで示す
ように基体ドラム４を塗布液１中へと浸漬する。このと
き、凸状部３の径は基体ドラム４の外径と同じか又は若
干大きくされており、基体ドラム浸漬時に底面４ｆが凸
状部３の上面３Ｃに当接するようになっている。この状
態で基体ドラムを矢印Ｃの方向へと押し下げると、蛇腹
状の凸状部３は基体ドラムの下端１ｆｉ４ｆに押されて
収縮し、第１図（ｂ）に示す状態となる。このとき、基
体ドラム外周面４ｅは所定位１ｔ４ａの高さまで塗布液
１中に浸漬される。

次に、第１図（ｂ）で示す状態から、基体ドラム４を矢
印りで示す方向へと引き上げ、同図（ａ）に示す状態と
する。このとき、基体ドラム下端面４ｆにより凸状部上
面３ｃが下方へと押し下げられているわけであるが、第
１図（ｂ）の状態では蛇腹状凸状部３の収縮により、凸
状部の中空部３ａ内に収容されている空気が圧縮され、
また蛇腹状凸状部３自体の形状、材質による弾性復元力
も作用し、結果として蛇腹状凸状部３は元の状態（第１
図（ａ）の状態）に戻ろうとする弾性復元力を有してい
る。従って、基体ドラム４の引き上げ動作が進行するに
伴ない、それに追随して蛇腹状凸状部３も矢印りの方向
へと膨張する。

こうして、基体ドラム４の引き上げが終了した上には所
定位ｔＲ４ａの高さまで塗布が施される。

こうした塗布装置によれば、基体ドラム４を浸漬しても
塗布液液面は位置１ａの高さからごく僅かしか変動せず
、基体ドラム４の浸漬、引き上げに伴なう塗布液液面の
上下動はごく僅かである。

従って、塗布槽側壁内周面２ｂに乾固物が生成すること
もなく、異物欠陥の発生頻度を著るしく減少せしめるこ
とができ、塗布液１の成分変化、劣化も抑制できる。ゆ
えに塗布の生産性も向上し、原材料の無駄等も防止でき
、コストダウンも達成できる。

しかも、特車すべきことは、凸状部３の存在により、塗
布に必要な塗布ｉｉの量が少なくて済むことである。即
ち、従来は、第９図に示すように基体ドラム４の浸漬に
伴なう塗布液液面の上昇の大きさは！２と大きく、この
塗布液液面の位ｆ＋ｆｆ１１ｂから位ｔｉｆｆｉｌａへ
の上昇により初めて所定位置４ａまで基体ドラム外周面
４ｅを塗布できたのである。

言い換れば、仮に基体ドラム４の浸漬時に塗布液液面が
上記のように上昇しないものと仮定すると、所定位ｔ１
４ａの高さまで所望の塗布を行うことはなし得ないので
ある。

これに対し、本発明においては、凸状部３を設けたこと
により、かかる二律背反を解決できるのである。即ち、
第１図（ａ）に示すように、仮に塗布槽底面内壁２ａに
凸状部３を設けないものと仮定すると、塗布液液面は一
点鎖線で示す位置１ｂに存在するはずであり、これでは
第１図（ｂ’）に示すよ５に基体ドラム４を浸漬しても
、所定位置４ａの高さまで所望の塗布を行うことはでき
ない。

しかし、凸状部３を設けたことにより、凸状部３０体積
分だけ塗布ｉ１は予め排除され、液面は実線で示す位置
１ａまで１１だけ大きく上昇する。

従りて、この状態で第１図（ｂ）Ｋ示すように、塗布液
１内へと基体ドラム４を浸漬すると、前述のように塗布
液液面の上下動を抑えながら、同時に所定位ｆ１４ａの
高さまで所望の塗布を行えるのである。

しかも、基体ドラム４の浸漬、引き上げ時に基体底面４
ｆが凸状部上面３ｃに接しており、基体ドラム中空部４
ｃ内の容積は側段変化しない。従って、中空部４ｃ内の
空気が塗布液中へ漏れることもなく、中空部４ｃ内へ塗
布液が浸入することも実質的に防止できる。従って、基
体ドラム内周面４ｄに塗布液が塗布され、或いは付着す
るのを防止できる。即ち、仮に内周面４ｄＫ塗布液１が
塗布されるものとすると、内周面４ｄから塗布液（層）
を除く煩雑な操作が必要となり、かつ塗布液１も無駄に
なって材料等のコストも上昇するため不都合である。一
方、仮に中空部４ｃ内の空気が塗布液１中へと漏れた場
合には、塗布欠陥が生じ１不都合である。本例によれば
、これらの問題が生じないのであり、蛇腹状凸状部３０
作用によって上述のような煩雑な手作業を不要とし、塗
布液１の無駄を防止し、かつ材料等のコストも低くでき
、また空気漏れによる塗布欠陥も防止できる。

更Ｋ、本例の塗布装置は極めて構造力が簡略でありて、
蛇腹状凸状部３の収縮、膨張が基体ドラム４の浸漬、引
き上げに追随して自動的に行われ、浸漬、引き上げの際
に基体ドラム４の動きと凸状部３とを同期せしめるため
の特別の同期手段の如きものは必要としない。従って、
装置の小型化、コストダウンが可能である。

以上述べたように、本例の塗布装置によれば、基体ドラ
ムの浸漬、引き上げに伴なう塗布液液面の上下動を抑え
ると同時に、塗布液の必要量も少なくでき、かつ基体ド
ラム内周面一・の塗布液の塗布、付着を防止でき、しか
も機構が簡素でコストダウンが可能である。

第２図は他の塗布装置（いわゆるオーバーフロ一方式の
もの）を示し、同図（ａ）は塗布槽に基体ドラムを浸漬
する前後の状態を示す断面図、同図（ｂ）は基体ドラム
が浸漬された状態を示す断面図である。

第２図の塗布装置においても、塗布槽２の底面内９，２
ａ　Ｋ蛇腹状凸状部３が設けられていることが著しい特
徴をなしている。

なお、第２図の塗布装置は、上述の点を除けば、第１図
の塗布装置と同様のものであり、同一機能部材には同一
符号を付してその説明は省略し、かつタンク、ポンプ等
の循環系は図示省略する。

この塗布装置の動作は第１・図のものと同様である。即
ち、まず第２図（ａ）に示す状態から、矢印Ｃで示すよ
うに基体ドラム４を塗布液１中へと′Ｉｉ！、漬する。

このとき、凸状部３の径は基体ドラム４の外径と同じか
又は若干大きくされており、基体ドラム浸漬時に底面４
ｆが凸状部３の上面３ｃに当接するようになっている。

この状態で基体ドラムを矢印Ｃの方向へと押し下げると
、蛇腹状の凸状部３は基体ドラム底面４ｆに押されて収
縮し、第２図（ｂ）に示す状態となる。このとき、基体
ドラム外周面４ｅは所定位ｆ１１．４ａの高さまで塗布
液１中に′＆（ロ）される。

次に、第２図（ｂ）で示す状態から、基体ドラム４を矢
印りで示す方向へと引き上げ、同図（ａ）に示す状態と
する。このとき、基体ドラム４の引き上げ動作が進行す
るに伴ない、蛇腹状凸状部３の弾性復元から、基体ドラ
ム底面４ｆに追随して蛇腹状凸状部３も矢印りの方向へ
と膨張する。

こうして、基体ドラム４の引き上げが終了した上には所
定位置４ａの高さまで塗布が施される。

こうした塗布装置によれば、従来のオーバーフロ一方式
の塗布装置の利点をあますところなく充分に享受できる
。即ち、基体ドラム４の浸漬時にも塗布液液面の高さは
一定に保たれ、従って塗布槽側壁内周面２ｄＫ乾固物が
生成することもなく、異物欠陥の発生頻度を着るしく減
少せしめることができ、塗布液１の成分変化、劣化も抑
制できる。

ゆえに塗布の生産性も向上し、原材料の無駄等も防止で
き、コストダウンも達成できる。

しかも、特筆すべきことは、凸状部３の存在により、塗
布に必要な塗布液１の量が少なくて済むことである。即
ち、従来は、第１１図に示すようＫ、塗布槽２を満たす
と共にタンク１２等の循環系にも充分な量の塗布液を収
容しておく必要があり、種々の理由から多量の塗布液が
必要とされた。

これに対し、本発明においては、凸状部３を設けたこと
により、凸状部３０体積分だけ塗布液１は排除され、塗
布槽を満たすのに必要な塗布液量が非常に減少する。し
かも、塗布槽内に収容される塗布液量の減少に伴ない循
環系内の液量も少なくて済み、全体として塗布液の必要
量が大幅に減少する。また、塗布量の減少に伴ない、塗
布液の循環ｆ（速度）を減らしてポンプを小型化するこ
とができ、フィルターの濾過面積を小さくすることもで
きる。

こうした塗布液の必要量の減少と装置の小型化により、
原材料等のコストダウンを達成でき、また塗布液が最終
的に使用限度に達した際にも、塗布液の廃棄量、入れ替
え量が少なくて済み、この点でも原材料の無駄、を防止
でき有利である。

しかも、基体ドラム４の浸漬、引き上げ時に、基体底面
４ｆが凸状部上面３ｃに接しており、基体ドラム中空部
Ａｃｆ内の容積は別設変化しない。

従って、中空部４ｃ内の空気が塗布液中へ漏れることも
なく、中空部４Ｃ内へ塗布液が没入することも実質的に
防止できる。従って、基体ドラム内周面４ｄＫ塗布液が
塗布され、或いは付着するのを防止できる。

従って、第１図の塗布装置と同様に、蛇腹状凸出し、か
つ材料等のコスト、も低くでき、また空気漏れによる塗
布欠陥も防止できる。

更に、本例の塗布装置は、第１図のものと同様、構造が
極めて簡略である。

以上述べてきたように、例の塗布装置により、従来のオ
ーバーフロ一方式による利点を充分に享受しつつ、塗布
液の必要量を少なくすることができ、かつ基体ドラム内
周面への塗布液の塗布、付着も防止でき、しかも、装置
の簡略化等も達成できる。

第３図は更に他の塗布装置を示し、同図（ａ）は塗布槽
に基体ドラムが浸漬される前後の状態を示す断面図、同
図（ｂ）は基体ドラムが浸漬された状態を示す断面図で
ある。

本例においては、塗布槽底面２ｃに開ロアが設けられて
いる点に特徴を有する。他の構成部分は第１図のものと
同様である。

即ち、第３図（ａ）に示す状態から、塗布液１内へと基
体ドラム４を浸漬し、基体ドラム底面４ｆによって蛇腹
状凸状部上ｍ３ｃを下方向へと押圧すると、凸状部３の
中空部３ａ内に収容されている空気が矢印Ａで示すよう
に外部へと流出し、蛇腹状凸状部３は第３図（ｂ）に示
すように体積収縮する。

基体ドラム４の引き上げ時には、蛇腹状凸状部３自体の
材質、形状に付随する弾性復元力により、基体ドラム底
面４ｆに追随して凸状部３が矢印り方向へと体積膨張し
、同時に空気が矢印Ｂで示すように凸状部３の中空ｓ３
ａ内へと流入し、第３図（ａ）に示す状態に戻る。

この例によれば、凸状部３に加わるカを小さくでき、蛇
腹状凸状部３の伸縮動作を穏やかにできると考えられる
。

第４図、第５図はそれぞれ更に他の塗布装置を示す断面
図である。

第４図の例においては、蛇腹状凸状部１３の上面１３ｃ
が塗布液液面の位ｔ１ａよりも若干上側に設けられてい
る。なお、図中、１３ａは凸状部１３の中空部を表わし
、１３ｂは凸状部外周面を表わす。

第５図の例においては、塗布槽２の底部に凸状部４３が
設けられ、この凸状部４３の上に蛇腹状凸状部２３が設
けられている。なお、図中、２３ａは凸状部内中空部を
、２３ｂ、４３ｂは共に凸状部外周面を、２３ｃは凸状
部上面を表わす。この例によれば、基体ドラムを底面近
くまで浸漬しないような場合に利点があると考えられる
。

本発明を電子写真感光体の構成層、特に感光層の塗布形
成に適用した場合は、異物欠陥に起因する画像欠陥（例
えば黒点）の発生を抑制でき、感光体の生産性、原材料
費等のコストダウン（例えばキャリア発生物質等）の点
で特に有利である。

また、特に本発明をオーバーフロ一方式の塗布装置に適
用し、かつキャリア発生層形成用塗布液に適用した場合
には、特に効果が大であると考えられる。粒状のキャリ
ア発生物質とキャリア輸送物質とを共に含有せしめた単
層構成の感光層もこれに該当する。なぜなら、これらの
塗布液は、通常粒状の顔料を液中に分散せしめた顔料分
散系であり、顔料には結晶形の変化し易いものが多く、
循環することによる粘度変化、顔料の結晶形変化などの
影響が大きいからである。従りて、本発明の塗布装置に
より塗布液量、塗布液の循環量を減少せしめれば、それ
だけコスト的に有利と考えられるのである。

第６図〜第８図はそれぞれ本発明の塗布により層形成さ
れる電子写真感光体の一例を示すものである。

第６図の感光体においては、導電性基体３０の上に第１
層としてキャリア発生層３１が設けられ、キャリア発生
層３１の上に、第２層としてキャリア輸送層３２が設け
られている。第７図の感光体は、導電性基体３０側から
見て、第１層としてキャリア輸送層３２、第２層として
キャリア発生層３１を順次積層したものである。第８図
の感光体は、第１層としてキャリア発生物質とキャリア
輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層３３を有
するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第６図〜第８図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保δ層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞ
れ下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるもの
、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの
、第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引層、
キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの、
或いは下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保護
層であるもの等が挙げられる。

下引層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系、
酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノー
ル系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボネー
ト系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン酸
共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピ
レンキノンおよびフラパンスロン類などの多環キノン類
、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素
、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属
フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシ
アニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩色
素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公知
各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必
要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分
散し、塗布することによって形成することができる。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノンあ
るいはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のほかポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合
体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリールア
ルカン誘導体、フェニレンジアミン訪導体、ヒドラゾン
誘導禄、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリールアミ
／誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、フ
ェッチアジ／誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすいキ
ャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に溶
解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共に
溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形成
することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル酸
メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（例
えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコ
ン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂等）、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合体が
好ましい。

また保′ａ層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹
脂としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン
、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢
酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メ
ラミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のう
ち２つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成すること
ができる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエ
タン、１，１．２−１リクロルエタン、１，１，２，２
−テトラクロルエタン、１，１．２−）ジクロルプロパ
ン、１゜１．２．２−テトラクロルプロパン、１，２．
３−ドリクロルプロパン、１，１，２−トリクロルブタ
ン、１，２，３．４−テトラクロルブタン、テトラヒド
ロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジ
オキサン、メタノール、エタノール、インプロパツール
、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メ
チルセルソルブアセテート、ｎ−ブチルアミン、ジエチ
ルアミン、エチレンジアミン、インプロパツールアミン
、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点（１）ｐ）が８０
°Ｃ〜１５０℃のものが好ましく、９０℃〜１２０℃の
ものがより好ましい。沸点が８０℃未満では乾燥が早す
ぎて結露し、プラシングを生じ易く、又、乾燥が早すぎ
てレベリングができず、平滑な感光層が得られなくなり
易い。また、１５０℃を超えると液垂れ、塗布むらが生
じ易い。具体的には、ジクロルメタン、１，２−ジクロ
ル−エタン（ｏｐ＝＝８３．５°Ｃ）、１，１．２−ト
リクロルエタン（ｂｐ＝１１３．５℃）、１，４−ジオ
キサン（ｂｐ＝１０１．３°Ｃ）、ベンゼン（１）ｐ＝
８０．１℃）、トルエン（ｂｐ＝１ｘｏ、６てｏ、ｍ、
ｐ−キシンｙ（ｂｐ＝１３８〜１４４℃）、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、モノクロルベンゼン等が挙げら
れる。また、沸点が８０℃〜１５０℃の範囲にない溶媒
でも高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点調整を
行うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引層等が存在する場合に１
１．これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択され
る。

特に、上記のうち、トルエン、クロルホルム、ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、　１．１゜２−トリ
クロルエタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、
テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジＮキサン
は、キャリア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好ま
しい溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するとい５効来が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全ｔＶｃ対し１〜１００００ｐＰＩが好
ましく、より好ましくは１０〜１１０００ｐＩである。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目的
として、無水コハク酸、無水マレイン酸無水フタル酸等
の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質１０
０重量部当り０．１〜１００１１ｉ量部の割合で添加す
ることができる。さらに又、感光層中には、必要により
感度向上、メモリー低減を目的としてブチルアミン、ジ
イソブチルアミン等の有機アミンをキャリア発生物質の
モル数以下のモル数で含有せしめてもよい。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。

さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては円μ状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、アルミニウム合金等の金属板、金属ドラム
、又は導電性ポリマτ、酸−化インジウム等の導電性化
合物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金属よ
りなる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段に
より、服プラスチックフィルム等の基体に設けて成るも
のが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引層、保護層等の感光体構成層の形成用塗布
液は、粘度を５〜５００ｃｐ（センチボイズ）の範囲内
とするのが好ましく、１０〜３００ｃｐの範囲内とする
とより好ましい。粘度が上記範囲より小さいと３１！膜
にタレを生じ易く、ドラム上部より下部の方が厚膜にな
る傾向があり、上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布液
の粘度が不均一になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じる傾
向がある。

塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは５〜５０μｍの範
囲とするのが好ましい。５μｍ未満では所望の帯電能（
＋５００〜８００Ｖ）が得られず、又、十分なキャリア
輸送機能を発揮できないことがあり、５０μｍを超える
と帯電能が高すぎ（１０００■以上）、画質が荒れ易く
、解像力も落ち、残留電位大となり易い。バインダー樹
脂１００重量部当りのキャリア輸送物質の量は、２０〜
２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部の範囲に
納まるようにするのがよい。２０重量部未満ではキャリ
ア輸送機能が低く、感度低下、残留電位が増加し、２０
０重量部を超えると粘度、表面張力が大きく塗布加工性
が悪くなり易い。　　　　ノまた、塗布乾燥後のキャリ
ア発生層は、通常、その厚みが０．０５〜１０μｍとさ
れる。０．０５μｍ未満ではキャリア発生能が不足し、
又、均−塗布がしにくく、１０μｍを超えると発生した
キャリアがトラップされ、逆に感度が低下し易い。バイ
ンダー樹脂１００重量部当りキャリア発生物質の量は５
〜ＳＯＯ重量部、好ましくは２０〜１００重量部とする
のが良い。キャリア発生物質が５重量部未満ではキャリ
ア発生能が不足し、５００重量部を超えるとキャリアが
トラップされ、感度低下、メモリー発生が生じ易い。ま
た、必要により含有せしめるキャリア輸送物質の量は、
バインダー樹脂１００重量部当り、２０〜２００重量部
、好ましくは３０〜１ｓｏｚ量部の範囲に納まるようＫ
するのがよい。

単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は１０〜５
０μｍであることが好ましい。層厚が上記範囲より小さ
いと帯電能が小さく、耐刷性にも劣る。また層厚が上記
範囲より大きいと、かえりて残留電位が上昇すると共に
、十分な輸送能が得がたくなる傾向がある。

感光体表面に設けられる保護層の層厚は０，０１〜１μ
ｍの・範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電
性基体との間に設けられる下引層（あるいは中間層、バ
リア層、接着層等）の層厚は０．０１〜２μｍの範囲内
と、するのが好ましい。

なお、感光体構成層の形成に際しては、ブレード塗布、
スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を併用して
もよい。

以下、本発明の実施例をより具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。

く塗布液の調製〉 まず、以下のよ５Ｋｔ、て、塗布液を調製した。

キャリア発生層形成用塗布液の調製 １．２−ジクロルエタン（関東化学社製）（沸点８３．
５℃）１００ｍ中に、バインダー樹脂としてポリカーボ
ネート（パンライト−Ｌ−１２５０、帝人化成社製）５
．０ｇを溶解した。また、キャリア発生物質として４，
１０−ジブロムアンスアンスロン１０ｇをボールミル中
で２４時間粉砕し、これに上記溶液を加えてボールミル
で更に２４時間分散し、粘度１６０　ｃｐのキャリア発
生層形成用塗布液（分散液）を得た。

キャリア輸送層形成用塗布液 １．２−ジクロルエタン（関東化学社製）　１０００ｒ
ｎｌ中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート（パ
ンライ）−Ｌ−１２５０、帝人化成社製）１００ｇを溶
解し、かつキャリア輸送物質とじて１．１−ビス（４−
Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ−２−メｆルフェニル）ノル
マルブタン１００ｇを溶解して、キャリア輸送層形成用
塗布液を調製した。

〈塗布実験１〉 実施例１ 第３図の塗布装置を用いて塗布実験を行った。

塗布槽２の直径を１２０ｍｍ・高さを３５０Ｍとし、蛇
腹状の凸状部３の直径を８５工・高さを３４５−とした
。

上記のキャリア発生層形成用塗布液、キャリア輸送層形
成用塗布液をそれぞれ塗布槽内へと収容し、基体ドラム
上にキャリア発生層、キャリア輸送層を順次塗布形成し
、負帯１！聾の電子写真感光体を連続して１００本製造
した。ただし、基体ドラムとしては８０ｍｍφＸ　３０
０ｍｍのアルミニウム製円筒状導電性基体を用いた。

比較例１ 第９図に示す塗布槽を用い、実施例１と同様の条件下に
・負帯電使用の感光体を１００本連続して製造した。た
だし、塗布槽の直径を１２０ｍｍ・高さを３００閣とし
た。

く塗布実験１の結果〉 実施例１ キャリア発生層については、塗布液量が最初２１、追加
分０．５１で、計２．５ノ必要であった。

キャリア輸送層については、塗布液量が最初２１、追加
１！で、計３１であった。

感光体１００本のうち、良品は９０本であり、残りの１
０本には塗布欠陥（異物欠陥）が見られた。

比較例１ キャリア発生層、キャリア輸送層の塗布液量は、共に実
施例と同様であった。

また、感光体１００本のうち、良品は８２本であり、残
りの１８本には塗布欠陥（異物欠陥）が顕著であった。

また、塗布本数が増加するに従りて、欠陥ドラムの本数
も増加した。

以上のように、実施例１の塗布装置によれば、必要な塗
布液量は同程度であるにもかかわらず、塗布液の劣化が
抑えられ、塗布欠陥の発生煩度が著るしく減少し、生産
性が向上していることが明らかである。

く塗布実験２〉 実施例２ 第２図の塗布装置を用いて塗布実験を行った。

ただし、塗布槽底壁に開口Ｔ（第３図参照）を設けた。

塗布槽２の直径を２４０ｍｌ１１＠高さを３５０鵬とし
、凸状部３の直径を２０５ｍｍ・高さを３４５間とした
。

上記のキャリア発生層形成用塗布液、キャリア輸送層形
成用塗布液をそれぞれ塗布槽内へと収容し、基体ドラム
上にキャリア発生層、キャリア輸送層を順次塗布形成し
、負ｉ電壓の電子写真感光体を連続し″Ｃ１００本製造
した。ただし、基体ドラムとしては２００ｍｍφＸ３０
０ｍｍのアルミニウム製円筒状導電性基体を用いた。

比較例２ 第１０図に示す塗布槽を用い、実施例と同様の条件下に
、負帯電使用の感光体を１００本連続して製造した。た
だし、塗布槽の直径を２４０ｍｍ・高さを３００ｍｍと
した。

〈塗布実験２の結果〉 実施例２ キャリア発生層については、塗布液量が最初８．５１（
塗布槽に４．５１、配管に４１）、追加分０．５１で、
計９１必要でありた。

キャリア輸送層については、塗布液量が最初８．５Ｊ（
塗布槽に４．５１、配管に４１）、追加１１で、計９．
５６であった。

感光体１００本のうち、良品は９７本であった。

比較例２ キャリア発生層については、塗布液量が最初１９．５１
（塗布槽に１３．５Ａ！、配管に６１）、追加分０．５
１で、計２０１必要でありた。

キャリア輸送層については、塗布液量が最初１９．５１
（塗布槽に１３．５１．配管に６１）、追加１１で、計
２０．５１であった。

感光体１００本のうち、良品は９６本であった。

く塗布装置〉 なお、ポンプの容量な２０１　／　ｍ　（比較例２）か
ら２１７ｍ（実施例２）へと小型化できた。また、フィ
ルターの濾過面積を１３．０００　ｃｒＡ（比較例２）
から１．　Ｆｌｏｏ　ｃｎｉ　（実施例２）へと小型化
できた。

以上のように、実施例の塗布装置によれば、必要な塗布
液量が半分以下に抑えられ、ポンプの容量、フィルター
の濾過面積も小さくできることが明らかである。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の態
様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能であ
る。

例えば塗布槽、被塗布体、凸状部の寸法、形状、位置等
は種々であってよい。

第１図〜第５図の各塗布槽の形態はあくまでも例示であ
り、種々変形が可能である。まず、第４図、第５図にお
ける凸状部１３．２３．４３はいずれもオーバーフロ一
方式の塗布装置に使用でき、ｖＸ５図の塗布装置に開ロ
ア（第３図参照）を設けてもよい。

へ０発明の効果 本発明の塗布装置によれば、塗布槽底壁に凸状部が設け
られているので、塗布槽内において凸状部により塗布液
が排除されるため、排除された分だけ少ない液量の塗布
液をもって被塗布体を所定位置まで塗布できる。

また、凸状部が伸縮可能であって、被塗布体を浸漬する
際には前記凸状部が体積収縮するように構成され、かつ
前記被塗布体を引き上げる際には前記凸状部が体積膨張
するように構成されているので、被塗布体の浸漬、引き
上げの全過程を通じ、塗布液中において被塗布体と凸状
部とにより排除されている塗布液の総量はさほど変化し
ない。

従って塗布液の上下動を抑制でき、これにより、塗布槽
側壁における乾固物生成を抑制して異物欠陥の発生焼度
な着るしく減少せしめると共に、塗布液の必要量を減ら
してコストダウンを達成できる。

更に、塗布槽底壁に凸状部が設けられ、かつこの凸状部
が塗布槽底壁に固定されており、凸状部の伸縮によって
上記の作用効果を奏するという構成であるので、塗布装
置の構造が簡略であって、装置の小型化、コストダウン
が可能である。

【図面の簡単な説明】 第１図〜第５図は本発明の実施例を示すものであって、 第１図は塗布装置を示し、同図（ａ）は塗布液ＫＴｉＴ
ｉラドラム漬する前後の状態を示す断面図、同図（ｂ）
は塗布液に基体ドラムを浸漬し第２図（ａ）、第３図（
ａ）はそれぞれ塗布液に基体ドラノ・を浸漬する前後の
状態を示す断面図、第２図（ｂ）、第３図（ｂ）はそれ
ぞれ塗布液に基体ドラムを浸漬した状態を示す断面図、
第４図、第５図はそれぞれ更に他の塗布装置を示す断面
図 である。 第６図、第７図、第８図はそれぞれ電子写真感光体の一
例を示す断面図である。 第９図、第１０図はそれぞれ従来の塗布装置な示す断面
図である。 なお、図面に示す符号において、 １　・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・塗布液１ａ、１ｂ、１Ｃ・・・・・・塗布液液
面の位置２・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・塗布槽２ｃ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・塗布槽底壁２ｅ・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・塗布槽側壁上縁部
３．１３．２３・・・・・・蛇腹状凸状部３ａ、１３ａ
、２３ａ ・・・・・・・・・・・・・・・中空部３ｂ、１３ｂ、
２３ｂ ・・・・・・・・・・・・・・・蛇腹状凸状部外周面３
ｃ、１３Ｃ１２３Ｃ ・・・・・・・・・・・・・・・蛇腹状凸状部上面４　
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・基体ドラム４ａ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・所定位置４ｃ・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・中空部苓 ５・・・・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・
・・蓋”Ｐｋ）７　・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・開口（貫通孔）９・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・乾固物１
１　・・・・・・凸状部による液面の上昇分の大きさ１
２・・・・・・浸漬に伴なう液面の上下動の大きさであ
る。 代理人　　弁理士　逢　坂　　　宏 第１図 （Ｑ） （ｂ） ＺＱ　　　　にＣ 第９図 第１０図 （自発）平叙εネ甫正四 昭和６３年ｒ月μ日 １、事件の表示 昭和６２年　特許願第２８６３７４号 ２、発明の名称 塗布装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名　称　
（１２７）コニカ株式会社 ４、代理人 住　所　東京都立川市柴崎町２−４−１１　ＦＩＮＥビ
ル酋　０４２５−２４−５４１１（ｆ＋５明細書の発明
の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１）、明細書節１３頁２行目の「構造力」を「構造」
と訂正します。 −以上一

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、塗布槽内に収容されている塗布液に被塗布体を浸漬
   し、この被塗布体を引き上げることによって前記塗布液
   を前記被塗布体に塗布する塗布装置において、前記塗布
   槽底壁に伸縮可能な凸状部が設けられ、この凸状部が前
   記塗布槽底壁に固定され、前記被塗布体を浸漬する際に
   は前記凸状部が体積収縮するように構成され、かつ前記
   被塗布体を引き上げる際には前記凸状部が体積膨張する
   ように構成されていることを特徴とする塗布装置。