JPH0221960A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の７１１用分野 本発明は塗布装置に関Ｕ７、例えば電子写真感光体の感
光層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものであ
る。

ｌ］、従来技術 電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際しては、良
好な感度特性を保ら、濃度ムラ等の画像欠陥を防止して
感光体としての良好な性能を発揮するため、高精度で均
一な薄層を塗４１形成する必要かある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法とＵ７て、デ
ィンプ塗！５．スプレー塗布、スピンナー塗４、ワイヤ
ーバー塗布、プレー１−塗布、ローラ塗４１等の種々の
塗布方法が知られているが、主としてデイツプ塗布とス
プレー塗布か用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布体（導電＋’ｌ−基体等）に
均一・な塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用
される。

こうしたデイツプ塗布方法により円筒状導電性基体（中
空のもの。以下、基体ドラムと呼ぶことがある。）の表
面に塗布を行う場合、中空の基体ｌ−ラＪ、をそのまま
浸漬したのでは円筒状基体の両端か開口となっているご
とから基体ドラ１、の中空部分に塗布液（塗料）が入り
込み、内壁面に塗布液が付着し、無駄となる。従って、
これを防止するため、基体ドラムの浸漬時に基体ドラム
上端部を閉塞させることが行われている。

第１２図はこうした方法によるデイツプ塗布装置を示す
断面図である。

塗布槽２内には所定の塗４）液１が収容されており、デ
イツプ塗布時には基体トラム４を開口部４ｂを下向きに
して塗布液１へと浸漬する。基体ドラム４の上端側聞口
４ｆは蓋５により閉鎖されており、蓋５の外周面と基体
トラム内周面４ｄとの間には０−リング１０が設けられ
、空気洩れを防止している。基体ＩＳラム４を浸漬する
と、基体１ラム４内の中空部４Ｃを満たしている空気の
ために塗布液１が中空部４Ｃより排除され、液面が位置
１ｃにまで低下する。ごれにより、基体ドラム外周面４
ｅは高さ４ａの位置まで塗布される。

そして、浸漬終了後、蓋５の把手５ａを把持して基体ド
ラム４を所定速度で引き上げ、基体ドラム外周面４ｅｌ
：に高さ４ａまで塗膜を形成する。

しかし、このような塗布装置では、塗布液１と外気温度
との温度差により中空部４Ｃ内の空気自体が膨張したり
、塗布液１中の溶剤が中空部４Ｃ内・＼と蒸発したりす
ることにより、中空部内の空気が一点鎖線１ｄのように
膨らみ、基体トラム４の引き上げ時に開口部４ｂ側から
泡３を生しることが多い。そして、この泡３により塗布
液１が揺れ、基体ドラム４上の塗膜にムラを生し、均一
な塗膜が得られなくなる。

かかる問題を解決する方法として、以下のようなものが
知られている。

（ａ）　　特開昭５９−８０３６３号公報記載の方法両
端が開放状態にある円筒状基体ドラムの下端部を塗布液
中に浸漬し、基体ドラムの下端部の中空部分に塗布液を
浸入させる。しかる後に基体１ラムの上端部を密閉し、
この密閉状態で基体ドラムを塗布液中に浸漬させる。

しかし、この方法では、基体ドラム浸漬時に基体ドラム
中空部内の溶剤蒸気が外部へと飛散し、周囲の作業環境
を汚染する。

（ｂ）　　特公昭６２−４１８７号公報記載の方法第１
３図に示すように、塗布槽側壁２ｄを貫通するパイプ９
を設け、塗布液１の液面よりもバイプ９のに端開口９ａ
の方が」１方に位置するようにする。パイプ９の他端に
は風船状の伸縮自在の空気室２８を設けである。そして
、基体ドラム４を浸漬したときには中空部４ｃ内の空気
がパイプ９を通して空気室２８内に流入し、空気室２８
が実線で示すように膨張し、基体ドラム４ｃ内の空気の
一部を抜く。これに伴い、塗布液液面は１ｅの高さへと
若干−に昇する。基体ドラム４を引き上げると、空気室
２８は仮想線で示すように収縮する。

しかし、この方法では、塗布槽側にパイプ、空気室を設
けているので、通常の塗布槽を使用することができず、
塗布槽の製作、セツティングが必要となる。また、塗布
槽の使用後の塗布液の洗浄等も煩雑である。更に、塗布
槽とパイプとの継目に塗布液漏れ防止のためのシール部
材が必要である。

（Ｃ）　　実開昭６１−１５５０７１号公報記載の方法
第１４図に示すように、塗布槽底面２ｃを貫通ずるパイ
プ９が設けられ、基体ドラム４を浸漬した状態で基体ド
ラム４の下端よりもパイプ９の開口９ａが上方に位置す
るようにする。この状態でパルプ１８を開栓して中空部
４ｃ内の空気を抜き、塗布液液面を位置１ｅの高さにま
で上昇させる。

そして、基体ドラム４を上界させるときには、バルブ１
８を閉じる。

しかし、この方法でも、基体中空部４ｃ内の溶剤蒸気が
外気へと飛散する。また、上記（ｂ）と同様の問題が塗
布槽側に生じる。

ハ９発明の目的 本発明の目的は、被塗布体の凹部内の気体膨張等に起因
する気泡の発生及びこれによる塗布ムラの発生を防止で
き、被塗布体凹部内の塗布液蒸発成分が外気へと飛散す
るのも防止でき、また塗布槽側に空気抜き部材を設ける
必要も生じないような塗布装置を提供することである。

二０発明の構成 本発明は、凹部を有する被塗布体を塗布槽内に収容され
ている塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対
して相対的に引き上げることによって前記塗布液を前記
被塗布体に塗布する塗布装置において、前記凹部の壁面
に形状変化可能な部材が固定され、前記被塗布体を浸漬
するに際して前記部材の形状変化によって前記凹部の体
積が変化するように構成したことを特徴とする塗布装置
に係るものである。

ボ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

以下の実施例において、従来の塗布装置と同一の機能を
有する部材には同一の符ちをイ」シ、その説明は省略す
る。

第１図、第２図は夫々塗布装置を示す断面図であって、
第１図は基体トラム浸漬時の状態を示し、第２図ば基体
ドラＪ、の浸漬前後の状態を示すものである。

本例においては、蓋内壁面５ｄｌに伸縮可能なダイヤフ
ラム４１が固定されており、顕著な特徴をなしている。

Ｍ５には貫通孔５ｃが設げられ、貫通孔５ｃ内をチュー
ブ４２が導通し、ダイヤフラム４１の内部空間に連結さ
れている。チューブ４２の他端はシリンダー４３に連結
され、このシリンダー４３内にはピストン４４が摺動可
能に嵌入されている。

次に、基体ドラム４の浸漬引き上げ動作について述べる
。

第２図に示す状態から、塗布液１内へと基体１′ラム４
を開口４ｂを下向きとしつつ浸漬し、第１図に示す状態
とする。このとき、従来は、中空部４Ｃ内の圧力は徐々
に高まり、また基体中空部４ｃ中への溶剤蒸気の蒸発等
が生し、塗布液液面は仮想線で示す１Ｃの位置より更に
膨張していた。これに対し、本例では、基体ドラム下端
が塗布液液面と接触した後、基体ドラム引き上げ前の状
態までの間に、ピストン４４を第２図に示す状態（第１
図に一点鎖線で示す状態）から、第１図に実線で示す状
態とする。このとき、チューブ４２内をダイヤフラム４
１内の液体、気体等が矢印Ａで示すように流れ、これに
伴い、ダイヤフラム４１は一点鎖線で示す状態から実線
で示す状態へと収縮する。これにより、塗布液液面を１
ｅの高さにまで上昇させることができ、基体ドラム下端
部から気泡が生ずることはない。

次に、基体１−ラｌ、４を」二昇させ、第２図に示す状
態とする。このとき、中空部４ｃ内の圧力は徐々に減少
するが、これに応じてピストン４４を第１図に実線で示
す状態から一点鎖線で示す状態へと動作させると、シリ
ンダ４３内の液体、気体等は矢印日で示すようにチュー
ブ４２内を流れ、ダイヤフラム４１を一点鎖線で示すよ
うに膨張させる。これにより、第２図に示す状態となり
、基体ドラ１．４の引き」二げが終了する。

次に、本例の塗布装置の態様について更に述べる。

（ａ）、　Ｊ二連の説明では、ダイヤフラｌ、４１内、
チューブ４２内、シリンダー４３内に夫々液体、気体等
を入れている。気体としては空気、不活性ガス（窒素、
アルゴン等）が例示できる。気体としては、水、油等が
例示できる。その他、流動体、半流動体を媒質として用
いることができる。

（ｂ）　　塗布液液面の位置１ｅは種々の高さに設定で
きる。この位置１ｅは、シリンダー４３の寸法（長さ方
向の断面積）、ピストン４４の後退距離、中空部４ｃの
温度、中空部４ｃ内への溶剤の蒸発量等に影響されるが
、基本的にダイヤフラム４１の収縮体積、即ちシリンダ
ー４３の長さ方向の断面積及びピストン４４の後退距離
を変えることにより、容易に所定位置に設定できるもの
である。

（Ｃ）、基体ドラム４の浸漬、引き上げ動作は、例えば
サーボモータ等により容易に行なえる。また、ピストン
４４の駆動も同様にサーボモータ等によって簡略かつ正
確に行なえる。基体ドラム４の浸漬、引き上げを行うサ
ーボモータ等の駆動手段と、ピストン４４の駆動を行う
サーボモータ等の駆動手段との同期も、公知の手段によ
り容易に行なえる。

（ｄ）、ダイヤフラム４１の材質としては、金属又は非
金属の薄膜を用いることができる。具体的には、溶剤蒸
気による劣化を生しない又は生じ難いような材質を選択
することが好ましい。例えば、パーフロロゴム等を例示
できる。

本例の塗布装置によれば、以下の効果を奏しう（（］） （ａ）、　、！；（体ドラＪ・の浸？ｒｉ時に、ダイヤ
フラム４１を収縮させ、基体ＩＳラム中空部内の体積を
増加させて塗布液液面の高さを−・定の高さに保持して
いるので、基体Ｉ・ラム下９：ｈ；側から気泡か生しな
い。従って、塗布ｄグの揺れを防止でき、塗膜ムラの発
生が防止−（きる。

（ｂ）、基体ドラｌ、」二側間１コ部４ｆが蓋により閉
鎖されており、また富、内壁面５ｄ上にダイヤフラム４
１が設りられ、貫通孔５ｃと中空部４ｃとがダイヤフラ
ム４１により隔てられているので、基体トラム４の浸漬
、引き−にげ■、９に、中空部４ｃ内の溶剤茎部が外気
中へと飛散することがない。

（Ｃ）、　蓋５の内壁面５ｄにダイヤフラム４１を取り
（＝ｔ　＆：Ｊであるので、基体ドラム４側で中空部４
ｃ内の圧力制御ができる。従って、塗４ｊ槽側には空気
抜き手段を設のる必要（１１なく、通常の塗布槽を使用
できろ。よって、塗布４凸の洗浄、塗布開始前のセツテ
ィングが容易であって生産性が良く、また塗布槽からの
塗布液漏れを防止するためのシール手段の如きものも必
要としない。

（ｄ）、基体トラムの浸漬時における塗布液液面の高さ
を、ピストンの後退距離等を変えることにより所定間さ
に容易かつ正確に設定できる。従って、基体１ラム中空
部内への塗布液の浸入、中空部内周面への塗布液の付着
を制御でき、非常に少なく抑えることができる。

（Ｃ）、基体ドラムの浸漬、引き上げ動作、ピストンの
後退、前進動作及び再動作の同１υ１を、リーーホモ（
ｆ）、基体ドラムが円筒ドラｌ、状であるため、」１記
同期がより容易であると考えられる。ピストンとノ１（
体ドラＪ、との長さ方向の断面積が一定だからである。

仮に、基体ドラｌ、が“ひょうたん形”′の場合には、
シリンダー及びビス１−ンによるコント「１ルば難しく
なる。太い所と細い所とでピストンの移動速度が異なる
からである。

（ｇ）、ダイ−）２フラムを収縮、膨張させる媒質とし
て水、油等の液体を用いた時は、ダイヤフラムの収縮量
、膨張量（体積）をより容易、確実に調節できる。

（ｈ）　、電子写真感光体においては、塗膜−トの塗布
ムラを防止できる結果として、複写画像上の画像ムラを
防止でき、均一な画像を提供できる。

第３図、第４図は人々他の実施例を示すものであり、共
に第１図のビス１−ン及びシリンダーに代わりダイヤフ
ラＪ、の収縮、膨張を制御するものである。

第３図では、チューブ４２の一５ｊｉｊに風船状の伸縮
自在の空気室５３を接続している。そして、基体ドラム
の浸漬時には、空気室５３が実線で示すように膨張し、
基体ドラＪ、引き上げ時には、風船５３が一点鎖線で示
すように収縮する。

本例では、空気室５３をゴム等の弾性体薄膜により伸縮
自在に構成できる。従って、空気室５３を伸縮させるた
めの駆動手段の如きものは必要とせず、構造、操作を簡
略とできる。

第４し１の例では、チューブ４２の一端に蛇腹状の空気
室６３を接続している。そして、基体ドラムの浸漬時に
は空気室６３が実線で示すように膨張し、基体ドラム引
き上げ時には空気室が一点鎖線で示すように収縮する。

本例では、空気室６３を伸縮自在に構成できる。

従って、空気室６３を伸縮させるための駆動手段の如き
ものは必要としない。もっとも、何らかの駆動手段を設
けて空気室６３を外部から第４図に示すように伸縮させ
ることも可能であり、この場合には、必ずしも空気室６
３自体が弾性体である必要はない。

第５図、第６図は、夫々更に他の塗布装置を示す要部拡
大断面図であり、第１図におりるダイヤフラム４１の代
わりに、他の変形部材を用いたものである。

第５図の例では、蓋５、把手５ａを貫通ずる貫通孔５ｃ
を設け、デユープ４２にこの貫通孔５ｃ内を導通させて
いる。チューブ４２の他端には、第１図に示すシリンダ
、ピストンが接続されている。チューブ４２の他端には
、風船状の伸縮自在の空気室５１が接続されでいる。こ
の空気室５３（１：ｉ） （ＩＡ） 厨、前述のダ、イ′〜・フッＪ、と同様に、基体ｌう１
．４の浸漬■、１ｊには実３ｈ）ζ示ず、１、うに収縮
さ・Ｕられ、基体トラム４の引き１−２げ■、冒こは一
点８ｊ′（線で示すように膨張さ−１られる。

本例でも、第１図の例と同様の作用効果を奏しうろ。空
気と；ｚ５３の（Ａ質としては、溶剤蒸気による劣化を
生Ｕ７ない又は〕１．シにくいものを使用するのが好ま
しい。

第６図の例では、チューブ４２の一◇：１１に蛇腹状の
空気室６１を接続している。この空気室６３は、第５Ｕ
Ａの空気ｔｓ、　５１と同様の膨張、収縮動作を営む。

なお、空気室６１の＋Ａ質としても、溶剤蒸気６、Ｚよ
ろ劣化を牛し１ζいメし１、ルしにくいものを選択する
ことか好ましい。

第７図４Ｊ更に他の塗布装置を示す要部拡大断面図であ
り、第１図の塗布装置と同様の構成を有するもの一ζあ
る。

イＵし、本例では、チューブ４２の−ｉＩ：ｊｊにシリ
ンダーを接続しておらず、その代わりにデユープ４２に
ニードルバルブ５０を接続している。

このニードルバルブ５０は弁体を針状としたものであり
、中空部４Ｃ内の圧力に応して中空部４Ｃ内の空気を外
気中へと徐々に抜いていく働きを有する。従って、第１
４図に示したバルブと異なり、開閉動作を行う必要はな
く、中空部４Ｃ内の圧力に応して空気流量は自動的に調
節される。

即ち、基体ドラム４の浸漬時には、中空部４Ｃの圧力が
徐々に高まり、これに応じてダイヤフッＪ１４１が収縮
し、ダイヤフラム４１内の空気がニードルバルブ５０を
通して矢印Ａのように徐々に放出される。逆に、基体ト
ラム４を引き上げる際には、中空部４Ｃ内の圧力は徐々
に減少し、ニドルバルブ５０を通して矢印臼のように空
気がダイヤフラム４１内へと吸い込まれ、ダイヤフラム
４１が一点鎖線で示すように膨張する。

ニードルバルブ５０の種類、材質等は、塗布装置の寸法
等に応じて適宜選択できる。

本例では、上述の効果に加え、以下の作用効果を奏しう
る。

（ａ）　　ニードルバルブの作用により、基体ドラム中
空部内の圧力に応して空気を抜くことができ、暴体Ｉ−
ラム中空部内の圧力調整を簡便かつ手間をかｃノずに行
え、バルブ開閉操作、ｗ体１ラム上端側の密閉操作のよ
うな操作は一切必要としない。従って１．！１（休１′
うＪ、の浸漬、引き」二げ自体も円滑かつ連続的に行な
える。

また、ニードルバルブの空気放出速度を適宜選択するご
とにより、最初にニードルバルブの特性を調整しておく
だけで、塗布液液面の上昇位置１ｅ（第１図参照）を適
宜設定できる。

（Ｏ）、空気室のようなものを塗布槽外に設ける必要は
なく、ニードルバルブ自体により基体中空部内の空気抜
きを行っている。従って、設（＋ｉｉｉがより簡略であ
り、場所をとらず、コスト的にも有利となる。

第８図は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図であり
、いわゆるオーハーフ１」一方式によるものである。

本例においても、ダイヤフラム４１が蓋内壁面５ｄに固
定され、ダイヤフラム４１の伸縮をピストン４４、シリ
ンダー４３により行っており、第１図の例と同様の作用
効果を奏しうる。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容され、塗布槽２の
側壁２ｄの周囲には受げ皿１３が設けられている。塗布
液１は、タンク１６からポンプ（Ｐ）１７によって送り
出され、フィルター１５を介して、供給口１１より矢印
Ｅで示ずように塗布槽２内へと供給され、更に側壁２ｄ
の上縁部２ｅを超えて塗布槽２の円周方向へと溢流し、
受は皿１３で集められ、排出口１４よりタンク１６へと
排出される。円筒状基体ドラム４は塗布液１内に浸漬さ
れ、しかる後に所定の速度で引き」二げられ、デイツプ
塗布が施される。このデイツプ塗布時に、上述のように
塗布液１が側壁２ｄの上縁部２Ｃを超えて溢流し続けて
いるので、塗布液１の液面の高さば一定に保たれる。

かかるオーバーフロ一方式の塗布方法によれば、塗布装
置において液面位が一定に保たれるため、塗布槽内壁の
乾固物生成がなく、また生成してもフィルター１５によ
り濾過できるため、異物付着による塗布欠陥防止に効果
的である。

第９図〜第１１図は夫々本発明の塗布装置により層形成
される電子写真感光体の一例を示すものである。

第９図の感光体においては、導電性基体３０の上に第１
層としてキャリア発生１３１が設けられ、キャリア発生
層３１の−Ｌに、第２層としてキャリア輸送層３２が設
けられている。第１０図の感光体は、導電性基体３０側
から見て、第１層としてキャリア輸送層３２、第２層と
してキャリア発生層３１を順次積層したものである。第
１１図の感光体は、第１層としてキャリア発生物質とキ
ャリア輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層３
３を有するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗布層
の数、種類は第９図〜第１１図の例に限定されるもので
はなく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の
設計意図に応して自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層、
保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞれ
下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるもの、
キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの、
第１Ｎ、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引層、ギ
ヤリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの或い
は下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保護層で
あるもの等が挙げられる。

下引層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系、
酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノー
ル系、ポリエステル系、アルギッド系、ポリカーボネー
ト系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピ
レンキノン及びフラバンメロン類などの多環二１−ノン
類、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色
素、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金
属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロ
シアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩
色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公
知各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び
必要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは
分散し、塗布することによって形成することができる。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノン或
いはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しやす
い電子受容性物質のほかポリ−Ｎビニルカルバゾールに
代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合体、
トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダ
ゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリールアルカ
ン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導
体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリールアミン誘
導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、フェノ
チアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすいキャリ
ア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に溶解し
、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、」１記のようなキャリア発生
物質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共
に溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形
成することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル酸
メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（例
えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン
−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフェノール
−ポルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ポルトアル
デヒド樹脂等）、スヂレンーアルキッド樹脂、ポリーＮ
−ヒニルカルハゾール、ポリビニルブチラール、ポリヒ
ニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合体が好
ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてボリウレクン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち
２つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成することが
できる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロボルム、ジクロルメタン、１２−ジクロルエタ
ン、１，１．２−トリクロルエタン、１，１．２．２−
テトラクロルエタン、１１．２−トリクロルプロパン、
■１．２．２−テトラクロルプロパン、１，２．３トリ
クロルプロパン、１１．２−１−ジクロルブタン、１，
２，３．４−テトラクロルブタン、テトラヒドロフラン
、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジオキサン
、メタノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセル
ソルブアセテート、ｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン
、エチレンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエ
タノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

また、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解
して塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均
一に溶解するものが選択されるが、沸点（ｂｐ）が８０
°Ｃ〜１５０°Ｃのものが好ましく９０°Ｃ〜１２０°
Ｃのものがより好ましい。沸点が８０°Ｃ未満では乾燥
が早すぎて結露し、ブラシングを生じ易く、また、乾燥
が早すぎてレベリングができず、平滑な感光層が得られ
なくなり易い。また、１５０°Ｃを超えると液垂れ、塗
布むらが生じ易い。具体的には、ジクロルメタン、１．
２−ジクロルエタン（ｈｐ−Ｊ）３．５°Ｃ）、１，１
．２−トリクロルエタン（ｂｐ−１１３，５°Ｃ）、１
．．１−ジオキサン（ｂｐ＝１０１．３°Ｃ）、ヘンゼ
ア　（ｂｐ＝８０．１°ｃ）、トルエン（ｂｐ＝１１０
．６°Ｃ）　、ｏ、　ｍ、　　ｐ−キシレフ（ｂｐ−１
３８〜１４４°ｃ）、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、モノクロルベンゼン等が挙げられる。また、沸点が８
０°Ｃ〜１５０°Ｃの範囲にない溶媒でも高沸点溶媒と
低沸点溶媒の混合により、沸点調整を行うことができる
。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を熔解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層の：トリエチレン、下引層等が存在する場合には
、これらを不当に熔解又は膨潤しないものが選択される
。

特に、上記のうち、トルエン、クロロホルｌ１、ジクロ
ルメタン、１２−ジクロルエタン、１１２−トリクロル
エタン、１１２．２−テトラクロルエタン、テトラヒド
ロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサンは、キャリ
ア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好ましい溶媒で
ある。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１００００　ｐｐｍが好
ましく、より好ましくは１０〜１１０００ｐｐである。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目的
として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸
等の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質１
００重量部当たり０．１〜１００重量部の割合で添加す
ることができる。更にまた、感光層中には、必要により
感度向上、メモリー低（２Ｇ） 城を！−１的としてブチルアミン、ジイソブチルアミン
等の有機アミンをキャリア発生物質のモル数以下のモル
数で含有せしめてもよい。

また、特に手中リア輸送層用塗布液と・）・セリア発生
層用塗布液とに、同し７ハインダー樹脂、同じ溶媒を使
用して感光体を形成することも可能であり、その場合、
感光体のη−産性及び性能が一段と向上される利点があ
る。即ち、同しバインダー樹脂が使えれば、キャリア発
生層とキャリア輸送層間の障壁か少なくなり、光照躬特
発生したキャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸
送され、それたり感光体の感度特性その他残留電位、メ
モリー易性等も改善される。

更にまた、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

導電性載体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては円筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、アルミニウム合金等の金属板、金属ドラム
、又は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合
物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金属より
なる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミ不−１・等の手段に
より、紙、プラスデックフィルム等の基体に設けて成る
ものが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に熔解した溶液或
いはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗布
する方法。

（ロ）ギヤリア発生物質をボールミル、ポモミ・トサー
等によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイ
ンダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する
方法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引層、保護層等の感光体構成層の形成用塗布
液は、粘度を５〜５００ｃｐ　（センチボイズ）の範囲
内とするのが好ましく、１０〜３００ｃｐの範囲内とす
るとより好ましい。粘度が上記範囲より小さいと塗膜に
タレを生じ易く、ドラム上部より下部の方が厚膜となる
傾向があり、上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の
粘度が不均一になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じする傾
向がある。

なお、感光体構成槽の形成に際しては、ブレード塗布、
スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法をも併用し
てもよい。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は」１記の
態様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能で
ある。

例えば、塗布槽、チューブ、ビス１〜ン、シリンダー、
ダイヤフラム、蛇腹状の空気室、風船状の空気室等の寸
法、形状、個数等は種々変更できる。

第３図〜第７図の装置は第８図に示ずオーバーフロ一方
式の塗布装置に適用できる。また、第３図、第４図の空
気室を第５図〜第６図の塗布装置に使用することもてき
る。更に、第７図において、ニー１〜ルハルブの他、第
１図のピストン及びシリンダー等をイノ１川することも
できる。

ダイヤフラム等は蓋内壁面に固定する必要はなく、基体
ドラム内周面に固定することもでき、また双方に固定す
ることもできる。

被塗布体の凹部に固定する形状変化可能な部材（ダイヤ
フラム等）としては、上記のものの他、種々選択できる
。

なお、この形状変化可能な部材をチューブ等を通して何
らかの空気室（ピストン及びシリンダー等）と連結する
必要はなく、例えば第１図において貫通孔５ｃ、チュー
ブ４２を設げないようにすることも可能である。この場
合は、ダイヤフラムの形状を変えたり、蛇腹状の空気室
を用いることとし、これら形状変化可能な部材が基体ｌ
゛ラム中空部内の圧力変化に応じて敏感に収縮、膨張す
るようにすればよい。

第７図において、ニードルバルブを設けるる代わりに、
ニードルバルブ及びチューブ４２を除き、貫通孔５ｃの
径を小さくし、所定の値に調整することにより、貫通孔
５ｃを流れる空気の速度を調節し、ダイヤフラム４１の
膨張、収縮を調節する／　９　Ｑ　） こともてきる。また、ニードルバルブを除き、チューブ
４２の径及び長さを調節することにより、チューブ４２
より排出される空気の速度を調節することもできる。更
に、ニードルバルブ及びチュブ４２を除き、貫通孔５ｃ
内に焼結金属体、多孔体を嵌太し、貫通孔５ｃから排出
される空気の排出ｊ土度を調節することもできる。

本発明は種々の塗布装置に適用できる。

・＼９発明の効果 本発明の塗布装置によれば、被塗布体を浸漬するに際し
て、形状変化可能な部材の形状変化によって被塗布体凹
部の体積が変化す−るように構成されている。従って、
被塗布体浸漬時に凹部に面する塗布液液面を一定の位置
に保持でき、被塗布体凹部から気泡が生じない。ごれに
より、塗布液の揺れを防止でき、塗膜ｌ、うの発生を防
止できる。

また、形状変化可能な部材が被塗布体凹部に固定されて
いるので、凹部内の空気を抜く空気抜き手段を塗布槽側
に設ける必要はない。これにより、塗布槽の設定、洗浄
等の作業が容易となり、生産性を高めることが可能とな
り、塗布液漏れ防止のシール部材等も不必要とできる。

更に、凹部の壁面に形状変化可能な部材が固定されてい
るので、凹部を外気から閉鎖した閉鎖系に構成すること
も可能となる。これにより、凹部内の塗布液溶剤蒸気の
外気への飛散を防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第８図は実施例を示すものであって、第１図は
塗布装置を示す断面図（基体ドラムを浸漬した状態を表
す。）、 第２図は塗布装置を示す断面図（基体ドラムを浸漬する
前後の状態を表す。）、 第３図、第４図は、夫々ダイヤフラムの膨張、収縮を制
御するだめの空気室を示す正面図、第５図、第６図、第
７図は夫々他の塗布装置を示す要部拡大断面図、 第８図はいわゆるオーバーフロ一方式による塗布装置を
示す概略部分断面図 である。 第９図、第１０図、第１１図は夫々電子写真感光体の一
例を示す部分断面図である。 第１２図、第１３図、第１４図は夫々従来の塗布装置を
示す断面図である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・塗布液 １ｃ、１ｅ・・・・・・・・・塗布？Ｆｊ、液面の位置
（高さ）２・・・・・・・・・塗布槽 ４・・・・・・・・・導電性基体ドラム４ｂ、４ｆ・・
・・・・・・・開口 ４ｃ・・・・・・・・・中空部 ５・・・・・・・・・蓋 ５ｃ・・・・・・・・・貫通孔 ５ｄ・・・・・・・・・蓋内壁面 １０・・・・・・Ｏ−リング ４１・・・・・・・・・ダイヤフラム ４２・・・・・・・・・チューブ ４３・・・・・・・・・シリンダー ４４・・・・・・・・・ピストン ５０・・・・・・・・・ニードルバルブ５１．５３・・
・・・・・・・風船状空気室６１．６３・・・・・・・
・・蛇腹状空気室である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、凹部を有する被塗布体を塗布槽内に収容されている
   塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対して相
   対的に引き上げることによって前記塗布液を前記被塗布
   体に塗布する塗布装置において、前記凹部の壁面に形状
   変化可能な部材が固定され、前記被塗布体を浸漬するに
   際して前記部材の形状変化によって前記凹部の体積が変
   化するように構成したことを特徴とする塗布装置。