JP2678467B2 - 塗布方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 イ．産業上の利用分野 本発明は塗布方法に関するものである。

ロ．従来技術 近年、電子写真感光体の感光層において、キャリア発
生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担
させることにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感
光体を開発する試みがなされている。このようないわば
機能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮
する物質を広い範囲のものから選択することができるの
で、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に
作製することが可能である。

かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際し
ては、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を
防止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高
精度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デ
ィップ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤー
バー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方
法が知られているが、主としてディップ塗布とスプレー
塗布が用いられている。なかでも、円筒状の被塗布物
（導電性基体等）に均一な塗膜を塗布形成するには、デ
ィップ塗布が多用される。

こうしたディップ塗布方法により円筒状導電性基体
（中空のもの。以下、基体ドラムと呼ぶことがある。）
の表面に塗布を行う場合、中空の基体ドラムをそのまま
浸漬したのでは円筒状基体の両端が開口となっているこ
とから基体ドラムの中空部分に塗布液（塗料）が入り込
み、内壁面に塗布液が付着し、無駄となる。従って、こ
れを防止するため、基体ドラムの浸漬時に基体ドラム上
端部を閉塞させることが行われている。

第14図はこうした方法によるディップ塗布装置を示す
断面図である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されており、デ
ィップ塗布時には基体ドラム4Aを開口部4bを下向きにし
て塗布液１へと浸漬する。基体ドラム4Aの上端側開口は
蓋５により閉鎖されている。蓋５の外周面と基体ドラム
内周面4dとの間にはＯ−リングを設け、空気洩れを防止
しても良い。基体ドラム4Aを浸漬すると、基体ドラム4A
の中空部4cを満たしている空気圧のために塗布液１の液
面が位置1cにまで低下する。一方、基体ドラム外周面4e
と塗布槽側壁2dとで挟まれた領域では、塗布液１が位置
1aにまで上昇し、この結果、基体ドラム外周面4eは所定
高さまで塗布される。

そして、浸漬終了後、蓋５の把手5aを把持して基体ド
ラム4Aを所定速度で引き上げ、基体ドラム外周面4e上に
塗膜が形成される。

しかし、このような塗布装置では、基体ドラム4Aの浸
漬、保持、引き上げ時に、中空部内の空気が一点鎖線1d
のように膨らみ、基体ドラム4Aの引き上げ時に開口部4b
側から泡63を生じることが多い。そして、この泡63によ
り塗布液１が揺れ、基体ドラム上の塗膜にムラを生じ、
均一な塗膜が得られなくなる。

かかる問題を解決する方法として、例えば以下のよう
なものが知られている。

ａ）特開昭59−80363号公報記載の方法 両端が開放状態にある円筒状基体ドラムの下端部を塗
布液中に浸漬し、基体ドラムの下端部の中空部分に塗布
液を浸入させる。しかる後に基体ドラムの上端部を密閉
し、この密閉状態で基体ドラムを塗布液中に浸漬させ
る。

しかし、この方法では、基体ドラムの浸漬と同期させ
つつ、所定位置まで基体ドラム中空部内に塗布液が浸入
すると共に基体ドラム上端部の密閉を行わなければなら
ない。従って、制御が複雑かつ困難となり、生産性も低
下する。また、操作方法を誤ると塗布欠陥を招く。

ｂ）特公昭62−4187号公報記載の方法 第15図に示すように、塗布槽側壁2dを貫通するパイプ
69を設け、塗布液１の液面よりもパイプ69の上端開口69
aの方が上方に位置するようにする。パイプ69の他端に
は風船状の伸縮自在の空気室68を設けてある。そして、
基体ドラム4Aを浸漬したときには中空部4c内の空気がパ
イプ69を通して空気室68内に流入し、空気室68が実線で
示すように膨張し、基体ドラム4c内の空気の一部を抜
く。これに伴い、塗布液液面は位置1eの高さへと若干上
昇する。基体ドラム4Aを引き上げると、空気室68は仮想
線で示すように収縮する。

しかし、この方法では、抜いた空気を貯える空気室を
塗布槽の外に別個に設ける必要があり、場所をとる上
に、コスト的にも不利となる。

ｃ）実開昭61−155071号公報記載の方法 第16図に示すように、塗布槽底面2cを貫通するパイプ
69が設けられ、基体ドラム4Aを浸漬した状態で基体ドラ
ム4Aの下端よりもパイプ69の開口69aが上方に位置する
ようにする。この状態でバルブ68を開栓して中空部4c内
の空気を抜き塗布液液面を位置1eの高さにまで上昇させ
る。そして、基体ドラム4Aを上昇させるときには、バル
ブ68を閉じる。

しかし、この方法では、バルブの開閉操作を基体ドラ
ムの浸漬、引き上げと同期させつつ行う必要があり、制
御が極めて煩雑かつ困難である。また、操作方法を誤る
と塗布欠陥を招く。

ｄ）基体ドラムの下端部に蓋を嵌めて密閉する方法も知
られている。しかし、これでは両者の嵌め合わせ及び位
置極めが困難であってロボット等による制御に向かず、
かつ基体ドラムの浸漬時に中空部の体積分の浮力がかか
ることから、浮力が非常に大きく、位置制御、姿勢制御
が困難となる。

ハ．発明の目的 本発明の目的は、被塗布体の内側空間内の空気膨張に
よる気泡の発生及びこれによる塗布ムラの発生を、簡略
に煩雑な制御手段等によらずに防止でき、しかも余計な
設備を必要としないような塗布方法を提供することであ
る。

ニ．発明の構成 本発明は、筒状の被塗布体を塗布槽内に収容されてい
る塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対して
相対的に上昇移動させることによって前記塗布液を前記
被塗布体に塗布する塗布方法において、前記被塗布体を
前記塗布液に浸漬する際の前記被塗布体の内側空間内の
温度を前記塗布液の温度よりも高くしたことを特徴とす
る塗布方法に係るものである。

そして、本発明は、筒状の被塗布体を塗布槽内に収容
されている塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液
に対して相対的に上昇移動させることによって前記塗布
液を前記被塗布体に塗布する塗布処理部と、前記被塗布
体を前記塗布液に浸漬する前に前記被塗布体の内側空間
に加熱処理を施す加熱処理部とを有する塗布装置によっ
て実施される。

また、本発明は、筒状の被塗布体を支持する支持手段
と、前記被塗布体を前記塗布液に浸漬する前に前記被塗
布体の内側空間を加熱するための加熱媒体を供給する加
熱媒体供給手段とを有する加熱処理装置によって実施さ
れる。

ここに、「加熱」とは、物質系に熱ないし熱量を加え
ることをいう。具体的には、室温から加熱限度までをい
う。なお、慣習的に、30℃〜40℃をわずかに加温した状
態とし、40℃〜70℃程度の加熱を加温と呼んでいるが、
ここにいう「加熱」はこれらを含むものである。

また、「加熱媒体」とは、加熱のための媒体をいい、
赤外線、温風等、物質系に熱を与えるすべての媒体を含
む。

ホ．実施例 以下、本発明の実施例を説明する。

以下の実施において、従来の塗布装置と同一の機能を
有する部材には同一の符号を付し、その説明は省略す
る。

第１図は塗布装置を表す部分断面図である。

支持台40の表面40a上には円錐台形の赤外線ヒーター4
3が載置されている。未塗布の基体ドラム4Aは開口4bを
下向きにした状態で台40上に載置され、基体ドラム下端
面4fが表面40に接している。この状態で、赤外線ヒータ
ー43に通電し、基体中空部4c内の空気を温める。

次に、基体ドラム4Aの塗布時には、移送具35を基体ド
ラム上部の所定位置に下降させ、ハンド35aを一点鎖線
に示す状態から実線に示す状態へとエアプレッシャー等
により動作させ、ハンド35aで把持部5aを把持する。そ
して、移送具35を上昇させて基体ドラム4Aを支持台40か
ら持ち上げ、矢印Ａで示すように基体ドラム4Aを塗布槽
２上へと移送し、塗布液の塗布を行う。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されており、デ
ィップ塗布時には、移送具35を下降させて基体ドラム4A
を開口部4bを下向きにして塗布液１へと浸漬し、次いで
蓋５の把手5aを把持した状態で基体ドラム4Aを所定速度
で引き上げる。

ここで注目すべきことは、基体ドラム4Aを塗布液１へ
と浸漬する前に、予め基体ドラム中空部4c内の空気を赤
外線ヒーター43により温めていることである。これによ
り、基体ドラム4Aの浸漬時には、中空部4c内の空気温度
が塗布液１の温度よりも高くなり、中空部4c内より塗布
液１へと矢印Ｄで示すように熱が移動する。従って、中
空部4c内の空気温度が下がって空気が収縮し、塗布液１
の液面は位置1eへと上昇する。

中空部4c内の空気を温める際、空気温度は30℃〜55℃
程度とすることが好ましい。但し、これは、塗布液１の
液温が25℃程度の場合である。

塗布液１の液温と中空部4c内の空気温度との差は２〜
20℃とするのが好ましい。

また、空気を温める時間は、例えば数秒〜数十秒の範
囲内とすることができる。

本例の塗布装置、塗布方法によれば、以下の効果を奏
しうる。

（ａ）．中空部4c内の空気が基体ドラム浸漬時に収縮す
るので、基体ドラム下端側から気泡が生じない。従っ
て、塗布液の揺れを防止でき、塗膜上の欠陥（いわゆる
泡故障）の発生を防止できる。

（ｂ）．従来のようなバルブ開閉操作、基体ドラム上端
側の密閉操作のような余分な操作は一切必要としない。
従って、基体ドラムの浸漬、引き上げ自体も円滑かつ連
続的に行なえる。

（ｃ）．基体ドラム4Aの浸漬前に所定の加熱操作を行う
だけなので、従来のように基体ドラムの浸漬中にバルブ
開閉等の操作を行うのと異なり、操作自体が単純であ
り、操作の失敗による塗布欠陥の発生も防止できる。

（ｄ）．例えば台15図に示す空気室のようなものを設け
る必要はなく、塗布槽の構造をより簡略にできる。

（ｅ）．電子写真感光体においては、塗膜上の塗布ムラ
を防止できる結果として、複写画像上の画像ムラを防止
でき、均一な画像を提供できる。

（ｆ）．赤外線ヒーター34が円錐台形の形状をしている
ことから、基体ドラム中空部4c内にヒーター43を収容す
る際（基体ドラム4Aを台40上に載置する際）、位置極め
し易い。ヒーターの径も中空部4cの径とさほど変わら
ず、またヒーター43が中空部4cの下部に収容され、ヒー
ター43により暖められた空気が中空部4c内を上昇するこ
とから、中空部4c内の空気を暖めるのに都合のよい形状
といえる。

加熱媒体供給手段は赤外線ヒーターに限らず、他のヒ
ーターの輻射熱による場合でもよい。また、ヒーターの
寸法、形状、構造等も種々変更でき、動力も電気には限
られない。赤外線ヒーターを基体ドラムに対して回転さ
せてもよい。

第２図は他の加熱処理装置（加熱処理部）を示す部分
断面図である。第３図は本例の温風供給手段32Aを示す
一部切欠き斜視図である。

第２図〜第７図には加熱処理装置を示すが、これらに
おいて、いずれも塗布槽側は図示省略してある。

本例の加熱処理装置では、支持台40上に円筒状の温風
供給器32Aを載置固定してある。温風供給器32Aは中空体
とされており、その周面には多数の温風吹き出し口33が
周方向へと均一に設けられている。支持台40には貫通孔
40b、40cが設けられ、貫通孔40cには送風パイプ31が差
し込まれ、温風供給器32Aの中空部と連結させられてい
る。図示しない温風供給手段より矢印で示すように供給
された温風Ｂは、温風吹き出し口33より基体ドラム中空
部4c内へと吹き出され、貫通孔40bより系外へと排出さ
れる。

本例においても第１図の例と同様の効果を奏しうる。
また、温風Ｂの温度を所定温度に設定することにより基
体ドラム中空部内の温度を容易に制御できる。

第４図は更に他の加熱処理装置を示す切欠き斜視図、
第５図は同じく部分断面図である。

本例においては、基体ドラム4Aを温風供給器32Aに対
して回転させていることが特徴的である。

円盤状の支持台34の表面34a上には基体ドラム4Aが載
置されている。支持台34の中央部には貫通孔34cが設け
られており、貫通孔34cに支持軸36が嵌め込まれてい
る。支持軸36の上端面に温風供給器32Aが載置固定さ
れ、支持軸36を長さ方向に貫通する貫通孔36a内に送風
パイプ31が設けられている。図示しない温風供給手段に
より供給された温風Ｂは、送風パイプ31により温風供給
器32A内に送り込まれ、温風吹き出し口33より吹き出
し、貫通孔34bより系外へと排出される。このとき、支
持台34は図示しない駆動手段により矢印Ｅの方向へと回
転せしめられ、これに伴って基体ドラム4Aも矢印Ｅ方向
へと回転する。一方、支持軸36は固定状態とする。

本例によれば、基体中空部内の空気温度分布を更に均
一化できるものと考えられる。

第６図は更に他の加熱処理装置を示す部分断面図、第
７図は第６図のVII−VII線矢視断面図である。

本例の加熱処理装置においては、更に基体ドラムの支
持方法、支持手段に特徴がある。

温風供給器32Bの全体の構成は前述した温風供給器32A
とほぼ同様であるが、中央部の長さ方向に貫通孔37が設
けられており、この点で異なっている。支持具42は、丸
棒状の基部42c及び円錐台状の支持部42bからなり、貫通
孔37に支持具基部42cが差し込まれ、支持具42が温風供
給器32Bにより安定に支持される。

そして、支持部42bを基体ドラム中空部4c内に挿入
し、蓋５に支持面42aを当接させ、支持面42aにより蓋５
を支持する。これにより、基体ドラム4A、4Bは、共に支
持面42a上に載置され、開口4bを下向きとした状態で安
定に支持される。

この状態で、前述したように温風吹き出し口33より温
風Ｂを周方向へと均一に吹き出させる。この温風Ｂは、
基体中空部4c内の空気を排除しつつ基体ドラム下端4fと
支持台表面40aとの間から矢印で示すように基体ドラム
周方向へと均一に吹き出す。

なお、基体ドラム4Aの下端面4fから上端面までの高さ
はh_Aであり、基体ドラム4Bの高さはh_Bである。

本例の加熱処理装置によれば、前述した効果に加え、
更に以下の効果を奏しうる。

（ｋ）．温風Ｂが基体ドラム下端面4f側から基体ドラム
周方向へと均一に抜けるので、中空部4c内の対流が均一
となり、空気温度分布が更に均一化される。

（ｌ）．蓋５を支持部42b上に載置することにより基体
ドラム4A、4Bの支持を行っているので、支持面42aの高
さにより支持台表面4aから基体ドラム上端までの高さh₀
が決定される。従って、高さの異なる基体ドラム4A、4B
を用いた場合にも、移送具35による把持位置の高さは一
定となる。よって、寸法の異なる基体ドラムに対して
も、把持位置を再設定する必要はなく、連続的に処理を
行え、操作が容易となり、産業用ロボット等の自動制御
に適している。これにより、装置の稼働率が上がり、生
産性の上昇、コストダウンを実現できる。

（ｍ）．基部42c、支持部42bを基体ドラム中空部4c内へ
と挿入して支持しているので、基体ドラム4A、4Bが倒れ
る等のおそれはなく、格段に支持安定性がよい。

第６図の例において、第５図の例と同様にして温風供
給器32Bを回転させ、かつ基体ドラム4A、4Bを静止させ
ておくこともできる。

第２図〜第７図の加熱処理装置（加熱処理部）におい
て、温風吹き出し口33を図面において斜め上方へと向け
ることもできる。この場合には、基体ドラム中空部4c内
上部に存在する冷たい空気を効率的に中空部4c外へと排
出しうる。

第８図は他の塗布装置（塗布処理部）を示すものであ
る。基体ドラムの浸漬に先立つ加熱処理を行うための加
熱処理装置としては、第１図〜第７図に示すものを用い
ることができる。この点は、第９図、第10図の例でも同
様である。

塗布槽底壁2cに塗布液排出口17及び塗布液供給口７を
設け、基体ドラム4Aを塗布槽２内の所定位置に固定す
る。次に、送液ポンプ（P_IN）10Bによりタンク12内の塗
布液１をフィルター３を介して供給口７より供給し、塗
布液液面を一点鎖線で示す位置1fから実線で示す位置1a
へと上昇させる。この後に、排液ポンプ（P_out）10Aを
駆動させ、排出口17より塗布液１を排出し、タンク12内
へと流入させる。これにより、基体ドラム外周面4e上に
塗膜が形成される。

本例では上記の効果を奏しうる他、塗布液１を定量ポ
ンプにより排出して塗膜を形成しているので、基体ドラ
ム引き上げに伴う振動のような問題はなく、均一な塗膜
を形成できる。第９図はいわゆるオーバーフロー方式に
よる塗布装置を示す概略断面図である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容され、塗布槽２
の側壁2dの周囲には受け皿６が設けられている。塗布液
１は、タンク12からポンプ（Ｐ）10によって送り出さ
れ、フィルター（Ｆ）３を介して、供給口７より塗布槽
２内へと供給され、更に側壁2dの上端部2eを越えて塗布
槽２の円周から外へと溢流し、受け皿６で集められ、排
出口８よりタンク12へと排出される。基体ドラム4Aは塗
布液１内に浸漬され、次いで基体ドラム4Aが移送手段35
により所定の速度で引き上げられ、ディップ塗布が施さ
れる。このディップ塗布時に、上述のように塗布液１が
側壁2dの上縁部2eを越えて溢流し続けているので、塗布
液液面の高さが一定に保たれる。

本例では、上述の効果を奏しうる他、塗布液液面の高
さが一定に保たれるため、塗布槽側壁内周面に乾固物が
生成することはなく、これにより異物欠陥を防止でき
る。

第10図（ａ）は更に他の塗布装置を示す概略部分断面
図、同図（ｂ）は同図（ａ）のXb−Xb線矢視断面図であ
る。

本例においては、塗布槽側壁2dの外周に一定の間隔を
おいて同心円状に外壁15が設けられ、塗布槽側壁2dと外
壁15とで挟まれた領域に塗布液受け部11が設けられてい
る点に顕著な特徴を有する。

即ち、塗布槽２に収容されている塗布液１は、塗布槽
側壁上縁部2eを外周方向に一様に越え、側壁外周2aを濡
らしながら、この形状に沿って薄膜をなしつつ低速で流
下する。

塗布液受け部11は塗布液を収容する塗布液収容部、即
ち一種の塗布液溜めとしても機能するものであり、側壁
外周2aに沿って流下した塗布液１は図示するように塗布
液受け部11の下部に収容される。塗布液受け部11の最下
端には排出口17が設けられ、塗布液受け部11に一旦収容
された塗布液１は排出口17から排出され、ポンプ10、フ
ィルター３を経由して供給口７から塗布槽２内へと供給
される。

本例では、上記の効果の他、以下の効果を奏しうる。

（ｎ）．塗布液が塗布槽側壁外周に沿って流下するの
で、流下面積が非常に大きく、また塗布液が塗布槽側壁
外周を濡らしながら流下する。従って、結果として塗布
液の流下速度は非常に小さく、流下も静かに行われ、気
泡を巻き込むおそれはない。ことに、特筆すべきこと
は、基体ドラムの浸漬時においても、流下面積の大きさ
等から流下速度を低くでき、かつ塗布液の流下も静かに
できることである。

このため、気泡による凹状塗布欠陥は生じず、均一な
塗膜を生産性良く塗布形成できる。むろん、異物欠陥の
防止等の従来のオーバーフロー方式の塗布装置による利
点はあますところなく十分に享受できる。

（ｐ）．排出口より排出された塗布液がタンク等の塗布
液収容槽を経由することなく供給口から塗布槽内へと供
給されるので、別個にタンクを設ける等の手間がいら
ず、余分なスペースをとる必要もなく、装置の小型化ひ
いてはコストダウンも可能である。

（ｑ）．塗布槽側壁外周に塗布液受け部が同心円状に設
けられ、両者が一体となっているので、温度制御等を行
う場合に両者を一体として制御でき、有利である。

第11図〜第13図は夫々本発明の塗布装置、塗布方法に
より塗膜形成される電子写真感光体の一例を示す一部断
面図である。

第11図の感光体においては、導電性基体50の上に第１
層としてキャリア発生層51が設けられ、キャリア発生層
51の上に、第２層としてキャリア輸送層52が設けられて
いる。第12図の感光体は、導電性基体50側から見て、第
１層としてキャリア輸送層52、第２層としてキャリア発
生層51を順次積層したものである。第13図の感光体は、
第１層としてキャリア発生物質とキャリア輸送物質との
双方を含有する単層構造の感光層53を有するものであ
る。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗布
層の数、種類は第11図〜第13図の例に限定されるもので
はなく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の
設計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下
引層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光
層、保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれ
ぞれ下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引
層、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の或いは下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保
護層であるもの等が挙げられる。

下引層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル
系、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェ
ノール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボ
ネート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色
素、トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水
物、ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジ
ゴ、チオインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノ
ン、ピレンキノン及びフラパンスロン類などの多環キノ
ン類、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系
色素、インダスロン系色素、スクエアリリウム系色素、
金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタ
ロシアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム
塩色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、
公知各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及
び必要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或い
は分散し、塗布することによって形成することができ
る。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノン
或いはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のほかポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合
体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリールア
ルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリールアミ
ン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、フ
ェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすいキ
ャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に溶
解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生
物質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共
に溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形
成することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネ
ート、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、
ポリビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えば
スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリル
酸メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂
（例えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
等）、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、
シリコン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホ
ルムアルデヒド樹脂等）、スチレン−アルキッド樹脂、
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子
重合体が好ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹
脂としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、
メラミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位の
うち２つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成するこ
とができる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際
に用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロホルム、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエ
タン、1,1,2−トリクロルエタン、1,1,2,2−テトラクロ
ルエタン、1,1,2−トリクロルプロパン、1,1,2,2−テト
ラクロルプロパン、1,2,3−トリクロルプロパン、1,1,2
−トリクロルブタン、1,2,3,4−テトラクロルブタン、
テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベ
ンゼン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホ
キシド、メチルセルソルブアセテート、ｎ−ブチルアミ
ン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノ
ールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジア
ミン、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

また、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶
解して塗布液を形成するための溶媒としては、これらを
均一に溶解するものが選択されるが、沸点（bp）が80℃
〜150℃のものが好ましく90℃〜120℃のものがより好ま
しい。沸点が80℃未満では乾燥が早すぎて結露し、ブラ
シングを生じ易く、また、乾燥が早すぎてレベリングが
できず、平滑な感光層が得られなくなり易い。また、15
0℃を超えると液垂れ、塗布むらが生じ易い。具体的に
は、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン（bp＝83.5
℃）、1,1,2−トリクロルエタン（bp＝113.5℃）、1,4
−ジオキサン（bp＝101.3℃）、ベンゼン（bp＝80.1
℃）、トルエン（bp＝110.6℃）、o,m,p−キシレン（bp
＝138〜144℃）、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モ
ノクロルベンゼン等が挙げられる。また、沸点が80℃〜
150℃の範囲にない溶媒でも高沸点溶媒と低沸点溶媒の
混合により、沸点調整を行うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶
媒としては、バインダー樹脂及び必要により含有される
キャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好
ましくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒
子状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、し
かも下層のキャリア輸送層、下引層等が存在する場合に
は、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択され
る。特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、シク
ロルメタン、1,2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロル
エタン、1,1,2,2−テトラクロルエタン、テトラヒドロ
フラン、モノクロルベンゼン、ジオキサンは、キャリア
発生層、キャリア輸送層のいずれにも好ましい溶媒であ
る。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質
を含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合
物を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果
がある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロ
キサン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられ
る。添加量は塗布液全量に対し１〜10000ppmが好まし
く、より好ましくは10〜1000ppmである。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目
的として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル
酸等の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質
100重量部当たり0.1〜100重量部の割合で添加すること
ができる。更にまた、感光層中には、必要により感度向
上、メモリー低減を目的としてブチルアミン、ジイソブ
チルアミン等の有機アミンをキャリア発生物質のモル数
以下のモル数で含有せしめてもよい。

また、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層
用塗布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用し
て感光体を形成することも可能であり、その場合、感光
体の生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即
ち、同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層と
キャリア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生し
たキャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送さ
れ、それだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリ
ー特性等も改善される。

更にまた、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用
できれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点が
ある。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形
状としては円筒状のものが好ましく用いられる。また、
材料としては、アルミニウム合金等の金属板、金属ドラ
ム、又は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化
合物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金属よ
りなる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段に
より、紙、プラスチックフィルム等の基体に設けて成る
ものが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあた
っては、より具体的には、次のような方法が選択され
る。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液或
いはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗布
する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散さ
せると、均一分散が可能になる。

感光層、下引層、保護層等の感光体構成層の形成用塗
布液は、粘度を５〜500cp（センチポイズ）の範囲内と
するのが好ましく、10〜300cpの範囲内とするとより好
ましい。粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ
易く、ドラム上部よりも下部の方が厚膜となる傾向があ
り、上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不
均一になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。

なお、感光体構成層の形成に際しては、ブレード塗
布、スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法をも併
用してもよい。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の
態様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能で
ある。

例えば、第２図〜第７図において、温風を１本又は２
本以上のノズルから吹き出すようにしてもよい。この際
は、ノズルの先端（温風吹き出し口）を基体ドラム中空
部の上部に位置させるのが好ましい。

第２図〜第７図において、温風供給器の中に赤外線ヒ
ーターを設置し、送風パイプより冷風、室温の空気を送
り込み、この冷風、室温の空気を赤外線ヒーターで加熱
して温風とし、この温風を基体ドラム中空部内へと吹き
出させるように構成してもよい。また、ノズルから温風
を吹き出させる場合にも同様の構成を採用できる。

第１図〜第７図において、蓋５を取外した状態で基体
ドラムの加熱処理を行い、この後に蓋５を取り付け、そ
の後把持部5aを把持して塗布槽へと移送することができ
る。また、移送具を基体ドラムの内側空間へと挿入し、
この後に移送具の把持用ハンドを動作させ、このハンド
により内側から基体ドラム内周面を押圧保持するように
構成してもよい。

第６図において、移送具、ハンドの構成、形状、寸法
等は種々変更でき、駆動手段もエアプレッシャーの他、
モータ等も使用できる。蓋、把持部の形状等も変更可能
であり、この際にはハンドの形状等もこれに合わせて変
更できる。

支持具の形状、寸法等は種々変更できる。また、支持
面の形状も平面だけでなく、曲面か鋸歯状面、波形面等
を採用できる。基体ドラム中空部内で支持する方法も、
上記のように支持面上に蓋を載置する方法の他、支持部
の直径を前述のものより大きくし、基体中空部の径と同
等又はこれよりも若干大きくし、基体中空部をこの支持
部に嵌め込み、両者の摩擦力で支持することも考えられ
る。更に、支持具側に手動又は自動のチャック手段、把
持手段を設け、支持具を基体ドラム中空部内に挿入した
後に、このチャック手段、把持手段を動作させて、基体
ドラムを支持してもよい。

上述の例では、未塗布の基体ドラム中空部を加熱した
後に塗布槽内に浸漬していたが、これを既に一層以上の
塗膜を形成した基体ドラムの塗布に適用できる。即ち、
この既塗布の基体ドラム中空部内を前述のように加熱
し、塗布液よりも中空部の方が温度が高いという状態を
保ちつつ、基体ドラムを塗布槽内へと浸漬すればよい。

基体ドラムの中空部を加熱処理する際には、基体ドラ
ムの外周面側を赤外線ヒーターの輻射熱により加熱し、
これにより中空部側の空気を暖めることも可能である。
この場合、基体ドラム浸漬時には、基体ドラム外周面と
塗布液との温度差を５℃以内とすることが好ましい。

本発明は種々の塗布装置、塗布方法及び加熱処理装置
に適用できる。

ヘ．発明の効果 本発明の塗布方法によれば、筒状の被塗布体を塗布液
に浸漬する際の被塗布体の内側空間の温度を塗布液の温
度よりも高くしたので、被塗布体の浸漬時に内側空間か
ら塗布液へと熱が移動し、内側空間の温度が低下する。
従って、内側空間内の空気が収縮するので、内側空間内
の空気が気泡となって塗布液中に発生することはない。
従って、この気泡により塗布液の揺れ及び塗布ムラを防
止できる。

また、被塗布体を塗布液に浸漬すれば、自動的に内側
空間内の空気が収縮するので、基体ドラム浸漬時に煩雑
な制御等を必要とせず、操作ミスの発生も防止でき、ま
たかかる制御のための設備も必要としない。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第13図は実施例を示すものであって、 第１図は塗布装置を示す概略部分断面図（塗布処理部及
び加熱処理部を含む。）、 第２図は他の加熱処理装置（加熱処理部）を表す部分斜
視図、 第３図は温風供給器を示す一部切欠き斜視図、 第４図は更に他の加熱処理装置を示す一部切欠き斜視
図、 第５図は同じく部分斜視図、 第６図は更に他の加熱処理装置を示す部分断面図、 第７図は第６図のVII−VII線矢視断面図、 第８図は他の塗布装置（塗布処理部）を示す概略部分断
面図、 第９図は更に他の塗布処理部を示す概略部分断面図、 第10図（ａ）は更に他の塗布処理部を示す概略部分断面
図、同図（ｂ）は同図（ａ）のXb−Xb線矢視断面図、 第11図、第12図、第13図は夫々電子写真感光体の一例を
示す一部断面図 である。 第14図は従来の塗布装置を示す断面図である。 第15図、第16図は夫々従来の他の塗布装置を示す概略部
分断面図である。 なお、図面に示す符号において、 １……塗布液 ２……塗布槽 4A、4B……基体ドラム、 4c……基体ドラム中空部 ５……蓋 5a……把持部 31……送風パイプ 32A、32B……温風供給器 33……温風吹き出し口 34、40……支持台 35……移送具 42……支持具 42b……支持部 43……赤外線ヒーター Ｂ……温風 である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中野 中也 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株 式会社内 (72)発明者 大平 晃 東京都八王子市石川町2970番地 コニカ 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−77060（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】筒状の被塗布体を塗布槽内に収容されてい
   る塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対して
   相対的に上昇移動させることによって前記塗布液を前記
   被塗布体に塗布する塗布方法において、前記被塗布体を
   前記塗布液に浸漬する際の前記被塗布体の内側空間内の
   温度を前記塗布液の温度よりも高くしたことを特徴とす
   る塗布方法。