JPH01171669A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH01171669A
JPH01171669A JP32906787A JP32906787A JPH01171669A JP H01171669 A JPH01171669 A JP H01171669A JP 32906787 A JP32906787 A JP 32906787A JP 32906787 A JP32906787 A JP 32906787A JP H01171669 A JPH01171669 A JP H01171669A
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JP
Japan
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coating
tank
side wall
coating liquid
layer
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JP32906787A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Mitsutake
均 三竹
Kazuyuki Shimizu
和之 清水
Takeshi Tanaka
武志 田中
Akira Ohira
晃 大平
Yoshihiko Eto
嘉彦 江藤
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の感光
層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものである
口、従来技術 近年、電子写真感光体の感光層において、キャリア発生
機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
せることにより、感度が高くて耐久性の大きい有機感光
体を開発する試みがなされている。このようないわば機
能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮す
る物質を広い範囲のものから選択することができるので
、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作
製することが可能である。
かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。
従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。
なかでも、円筒状の被塗布物(導電性基体等)に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。
かかるデイツプ塗布方法においては、塗布槽側壁に乾固
物が生成することによる異物欠陥(塗布欠陥)を防止す
べく、いわゆるオーバーフロ一方式のものが知られてい
る。
である。
塗布槽2内には所定の塗布液3が収容され、塗布槽2の
側壁2bの周囲には受は皿5が設けられている。塗布液
3は、タンク8からポンプCP)9によって送り出され
、フィルター(F)10を介して、供給ロアより矢印り
で示すように塗布槽2内へと供給され、更に側壁2bの
上縁部2aを越えて塗布槽2の円周から外へと溢流し、
受は皿5で集められ、排出口6よりタンク8へと排出さ
れる。円筒状導電性基体12は塗布液3内に浸漬され、
次いで導電性基体(以下、基体ドラムと呼ぶこともある
。)12が矢印Aで示すように所定の速度で引き上げら
れ、デイツプ塗布が施される。
このデイツプ塗布時に、上述のように塗布液3が側壁2
bの上縁部2aを越えて溢流し続けているので、塗布液
3の界面3aの高さが一定に保たれる。
しかしながら、上述のようなオーバーフロ一方式による
塗布装置には、下記の欠点がある。
即ち、同図(blに示すように、受は皿5で受けた塗布
液3を排出口6に集め、管13を通じて一度にタンク(
塗布液収容槽)8へと流入せしめているので、タンク8
への塗布液流下速度が非常に速く、従って流下時に気泡
16を巻き込むことになる。この気泡は同図(alに示
すように管13等を通じて矢印で示すように塗布槽内へ
と供給され、従って結果として気泡による凹状塗布欠陥
が生じ、塗膜が損なわれていた。
かかる欠点を解決する手段としては、実開昭60−10
7952号公報において、第6図に示すように雨どい状
の障壁14をタンク(塗布液収容槽)8内に設けること
が提案されている。即ち、障壁14により塗布液流下の
衝撃を柔げ、また障壁14の形状を塗布液が流下し易い
よう配慮し、気泡の巻き込みを防ごうとしたものである
しかしながら、本発明者の検討によると、第6図の構成
を採用した場合も、特に基体ドラムの浸漬時に多量の液
が塗布槽側壁上縁部を越えて溢流し、タンク8内へと流
入するため、やはり塗布液3の流下速度を抑制すること
はできず、気泡16を巻き込み、塗布欠陥を生ずる。
従って、オーバーフロ一方式による利点をすべて享受し
つつ、かつ気泡の巻き込みによ−る塗布欠陥を防止しう
るような塗布装置が要望される。
ハ0発明の目的 本発明の目的は、異物欠陥の生成防止等のオーバーフロ
一方式による利点を享受しつつ、かつ気泡の巻き込みに
よる塗布欠陥を防止できる塗布装置を提供することであ
る。
二0発明の構成 本発明は、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体を浸
漬し、この被塗布体を引き上げることによって前記塗布
液を前記被塗布体に塗布するに際し、前記塗布槽側壁の
上縁部を越えて前記塗布液が溢流するようにして塗布液
が供給口から前記塗布槽内へと供給される塗布装置にお
いて、前記上縁部を越えて溢流した前記塗布液を受ける
塗布液受は部が前記塗布槽側壁の外周に設けられ、前記
塗布液受は部が塗布液収容部としても機能し、ここから
排出された前記塗布液が塗布液収容槽を経由することな
く前記供給口から前記塗布槽内へと供給されることを特
徴とする塗布装置に係るものである。
ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。
第1図(alは塗布装置を示す概略部分断面図、同図(
b)は同図fa)のTb−1b線矢視断面図である。
本例においては、塗布槽側壁2bの外周に一定の間隔を
おいて同心円状に外壁15が設けられ、塗布槽側壁2b
と外壁15とで挾まれた領域に塗布液受は部11が設け
られている点に顕著な特徴を有する。
即ち、塗布槽2に収容されている塗布液3は、塗布槽側
壁上縁部2aを外周方向に一様に越え、側壁外周2cを
濡らしながら、その形状に沿って薄膜をなしつつ低速゛
で流下する。
塗布液受は部11は塗布液を収容する塗布液収容部、即
ち一種の塗布液溜めとしても機能するものであり、側壁
外周2cに沿って流下した塗布液3は図示するように塗
布液受は部11の下部に収容される。塗布液受は部11
の最下端には排出口17が設けられ、塗布液受は部11
に一旦収容された塗布?&3は排出口17から排出され
、管13、ポンプ9、フィルター10を経由して供給ロ
アから矢印りで示すように塗布槽2内へと供給される。
以上述べたような塗布装置によれば、従来のものと著し
く異なり、塗布液が塗布槽側壁外周に沿って流下するの
で、流下面積が非常に大きく、また塗布液が塗布槽側壁
外周を濡らしながら流下する。従って、結果として塗布
液の流下速度は非常に小さく、流下も静かに行われ、気
泡を巻き込むおそれはない。ことに、特筆すべきことは
、基体ドラムの浸漬時においても、流下面積の大きさ等
から流下速度を低くでき、かつ塗布液の流下も静かにで
きることである。
このため、気泡による凹状塗布欠陥は生じず、均一な塗
膜を生産性良く塗布形成できる。むろん、異物欠陥の防
止等の従来のオーバーフロ一方式の塗布装置による利点
はあますところなく充分に享受できる。
また、排出口より排出された塗布液が塗布液収容槽(第
5図(alのタンク8を参照。)を経由することなく供
給口から塗布槽内へと供給されるので、別個にタンクを
設ける等の手間がいらず、余分なスペースをとる必要も
な(、装置の小型化ひいてはコストダウンも可能である
更に、塗布槽側壁外周に塗布液受は部が同心円状に設け
られ、両者が一体となっているので、温度制御等を行う
場合に両者を一体として制御でき、有利である。
電子写真感光体の構成層に前述のような気泡による凹状
欠陥が生じた場合は黒ベタで淡くなるという画像欠陥が
生ずるが、本例の装置を適用すればかがる画像欠陥を防
止するという顕著な作用効果を更に奏しうる。
第2図〜第4図はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。
第2図の感光体においては、導電性基体21の上に第1
層としてキャリア発生層22が設けられ、キャリア発生
層22の上に、第2層としてキャリア輸送層23が設け
られている。第3図の感光体は、導電性基体21側から
見て、第1層としてキャリア輸送層21、第2層として
キャリア発生層21を順次積層したものである。第3図
の感光体は、第1層としてキャリア発生物質とキャリア
輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層24を有
するものである。
むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第2図〜第4図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自由に設定することができる。
例えば、導電性基体側から見て、第1層、第2層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第1層、第2層、第3層がそれぞ
れ下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、第1層、第2層、第3層、第4層がそれぞれ下引き
層、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の或いは下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層、
保護層であるもの等が挙げられる。
下引き層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系
、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノ
ール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボネ
ート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン
酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。
キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピ
レンキノンおよびフラパンスロン類などの多環キノン類
、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素
、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属
フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシ
アニン系顔料、ビリリウム塩色素、チアピリリウム塩色
素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公知
各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必
要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分
散し、塗布することによって形成することができる。
またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノンあ
るいはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のほかポリ−N−ビニルカルバゾー
ルに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合
体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリールア
ルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリールアミ
ン誘4体、カルバゾールM’J体、スチルベン誘導体、
フェノチアジン誘4体等各種公知の正孔を輸送しやすい
キャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に
溶解し、塗布、乾燥して形成することができる。
また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共に
溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形成
することができる。
上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂(例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレンつタクリル酸メ
チル共重合体片アクリロニトリル系共重合樹脂(例えば
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等)、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−
アルキッド樹脂、フェノール樹脂(例えばフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデ
ヒド樹脂等)、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−
ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合体が好ま
しい。
また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の操り返し単位のうち
2つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成することが
できる。
キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエ
タン、1.1.2トリクロルエタン、1,1.2.2−
テトラクロルエタン、1,1.2−トリクロルプロパン
、1゜1.2.2−テトラクロルプロパン、1. 2.
 3−トリクロルプロパン、1,1.2−1−ジクロル
ブタン、1,2.3.4−テトラクロルブタン、テトラ
ヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン
、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパツ
ール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド
、メチルセルソルブアセテート、n−ブチルアミン、ジ
エチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパツールア
ミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、
N。
N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点(bp)が80℃
〜150℃のものが好ましく90″C〜120℃のもの
がより好ましい。沸点が80℃未満では乾燥が早すぎて
結露し、ブラシングを生じ易く、又、乾燥が早すぎてレ
ベリングができず、平滑な感光層が得られなくなり易い
。又、150°Cを超えると液垂れ、塗布むらが生じ易
い。具体的には、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエ
タン(bp=83.5℃)、1,1.2−トリクロルエ
タン(bp =113.5℃)、1.4−ジオキサン(
bp=101.3℃)、ベンゼン(bp=80.1℃)
、トルエン(bp = 110.5’C) 、o、 m
、  p−キシレン(bp = 138〜144°C)
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノクロルベンゼ
ン等が挙げられる。又、沸点が80℃〜150℃の範囲
にない溶媒でも高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、
沸点調整を行うことができる。
また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは2μm以下、より好ましくは1μm以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引き層等が存在する場合に
は、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択され
る。特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、ジク
ロルメタン、1.2−ジクロルエタン、1゜1.1−)
ジクロルエタン、1,1,2.2−テトラクロルエタン
、テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサ
ンは、キャリア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好
ましい溶媒である。
本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。
添加量は塗布液全量に対し1〜io000ppmが好ま
しく、より好ましくは10〜11000ppである。
又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の怒度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。
さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。
導電性基体の形状、材質等は時に限定されないが、形状
としては同筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、金属板、金属ドラム又は導電性ポリマー、
酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミニウム
、パラジウム、金等の金属よりなる導電性薄層を塗布、
藩着、ラミネート等の手段により、紙、プラス千ツクフ
ィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。
キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。
(イ)キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した?容?
夜あるいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液
を塗布する方法。
(ロ)キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。
これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。
感光層、下引き層、保護層等の感光体構成層の形成用塗
布液は、粘度を5〜500cp  (センチボイズ)の
範囲内とするのが本発明の効果をより良好に奏する上で
好ましく、10〜300cpの範囲内とするとより好ま
しい。粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ易
く、ドラム上部より下部の方が厚膜となる傾向があり、
上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不均一
になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。
塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは5〜50μmの範
囲とするのが好ましい。また、塗布乾燥後のキャリア発
生層は、通常、その厚みが0.05〜10μmとされる
。単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は10〜
50μmであることが好ましい。
感光体表面に設けられる保護層の層厚は0.01〜1μ
mの範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電性
基体との間に設けられる下引き層(あるいは中間層、バ
リア層、接着層等)の層厚は0.01〜2μmの範囲内
とするのが好ましい。
なお、各感光体構成層の塗布形成に際しては、ブレード
塗布、スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を併
用しても良い。
以下、本発明の実施例を更に具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。
く塗布液の調製〉 まず、以下のようにして、塗布液を調製した。
1.2−ジクロルエタン(関東化学社製’) 4000
m1中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート(パ
ンライトL −1250、奇人化成社製) 480gを
溶解し、かつキャリア輸送物質として1.1−ビス(4
−N、N−ジベンジルアミノ−2−メチルフェニル)ノ
ルマルブタン480gを溶解して、キャリア輸送層形成
用塗布液を調製した。
く塗布実験〉 大立舅 内径120fi、深さ320寵の塗布槽の周囲に内径1
50龍、深さ350 n+の外壁を設置して塗布槽受け
とし、第1図に示す塗布装置とした。
前記キャリア輸送層形成用塗布液を上記塗布槽内に収容
し、マグネットポンプを用いて2000cc/minで
循環せしめた。この装置に、外径80mmφ、長さ30
0 mのアルミニウム製円筒状導電性基体ドラム(シリ
ンダー)を浸漬し、次いで引き上げ速度300tm/m
in″?:基体ドラムを引き上げたところ、気泡による
凹状欠陥のない良好な塗膜が得られた。
上記塗布欠陥は目視による官能試験により検査した。
此MA引Y 第5図に示す塗布装置を用い、塗布槽の寸法等は実施例
と同様とし、実施例で述べたと同様の条件で塗布実験を
行った。
その結果、塗膜中に気泡の混入による凹状欠陥が発生し
た。
上較±1 第6図に示す塗布装置を用い、塗布槽の寸法等は実施例
と同様とし、実施例で述べたと同様の条件で塗布実験を
行った。
その結果、塗膜中に気泡の混入による凹状欠陥が発生し
た。
以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上述のも
のに限られるわけではなく、本発明の技術的思想に基づ
き種々変形が可能である。
例えば、塗布液受は部は第1図のように塗布槽側壁の外
周に同心円状に設けられている必要はなく、その寸法、
形状等は種々変更でき、例えば第1図(blにおいて一
定の方向に大きく膨らんだ形状とし、主として膨らんだ
部分に塗布液収容部としての機能を持たしめても良い。
その他、塗布槽の寸法、形状、材質等にも特に制限はな
い。
本発明は種々の塗布装置に適用可能である。
へ6発明の効果 。
本発明の塗布装置によれば、塗布槽側壁の上縁部を越え
て溢流した塗布液を受ける塗布液受は部が前記塗布槽側
壁の外周に設けられているので、塗布液が塗布槽側壁を
濡らしながら外周に沿って流下する。従って、塗布液の
流下面積が大きく、かつ塗布液の流下速度は小さくなり
、流下も静かに行われ、流下時に気泡を巻き込むおそれ
もない。
このため気泡による塗布欠陥を生じず、均一な塗膜を生
産性良く塗布形成できる。
また、前記塗布液受は部が塗布液収容部としても機能し
、ここから排出された塗布液が塗布液収容槽を経由する
ことなく供給口から塗布槽内へと供給されるので、別個
に塗布液供給槽を設ける必要はな(、装置の小型化ひい
てはコストダウンも可能となる。
更に、塗布液収容部としても機能する塗布液受は部が塗
布槽側壁の外周に設けられているので、塗布槽に収容さ
れる塗布液と塗布液受は部に収容される塗布液とを一体
に状態制御しうる。
【図面の簡単な説明】
図(blは同図(alのIb−■b線矢視断面図である
。 第2図、第3図、第4図はいずれも電子写真感光体の一
例を示す断面図である。 第6図は従来の他の塗布装置を示す要部断面図である。 なお、図面に示す符号に於いて、 2 −−−−− 塗布槽 2 a −−−塗布槽側壁上縁部 2 b −−一  塗布槽側壁 2 c−−−−−一塗布槽側壁外周 3− −  塗布ン〈1( 7−−−− 供給口 8−−−−  ポンプ(塗布液収容槽)11−・−−一
−−−−−−−塗布液受は部12−−−−−−一基体ド
ラム + 3−−−−−一管 + 5−−−−m−外壁 + 13−−−−−気泡 17−−−・−排出口 である。 代理人  弁理士  逢 坂   宏

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体を浸漬し、
    この被塗布体を引き上げることによって前記塗布液を前
    記被塗布体に塗布するに際し、前記塗布槽側壁の上縁部
    を越えて前記塗布液が溢流するようにして塗布液が供給
    口から前記塗布槽内へと供給される塗布装置において、
    前記上縁部を越えて溢流した前記塗布液を受ける塗布液
    受け部が前記塗布槽側壁の外周に設けられ、前記塗布液
    受け部が塗布液収容部としても機能し、ここから排出さ
    れた前記塗布液が塗布液収容槽を経由することなく前記
    供給口から前記塗布槽内へと供給されることを特徴とす
    る塗布装置。
JP32906787A 1987-12-25 1987-12-25 塗布装置 Pending JPH01171669A (ja)

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JP32906787A JPH01171669A (ja) 1987-12-25 1987-12-25 塗布装置

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JPH01171669A true JPH01171669A (ja) 1989-07-06

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0465164U (ja) * 1990-10-18 1992-06-05

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