JPH01171671A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の感光
層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものである
。

口、従来技術 近年、電子写真感光体の感光層において、キャリア発生
機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
せることにより、感度が高くて耐久性の大きいを機感光
体を開発する試みがなされている。このようないわば機
能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮す
る物質を広い範囲のものから選択することができるので
、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に作
製することが可能である。

かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の■布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー■布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布物（導電性基体等）に均−な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

かかるデイツプ塗布方法においては、塗布槽側壁に乾固
物が生成することによる異物欠陥（塗布欠陥）を防止す
べく、いわゆるオーバーフロ一方式のものが知られてい
る。

第７図は、この方式によるデイツプ塗布装置を示す概略
断面図である。

■布種２内には所定の塗布液３が収容され、塗布槽２の
側壁２ｂの周囲には受は皿５が設けられている。塗布液
３は、タンク８からポンプＣＰ）９によって送り出され
、フィルター（Ｆ）１０を介して、供給ロアより矢印り
で示すように塗布槽２内へと供給され、更に側壁２ｂの
上縁部２ａを越えて塗布槽２の円周方向へと溢流し、受
は皿５で集められ、排出口６よりタンク８へと排出され
る。円筒状導電性基体１２は塗布液３内に浸漬され、次
いで導電性基体（以下、基体ドラムと呼ぶこともある。

）１２が矢印Ａで示すように所定の速度で引き上げられ
、デイツプ塗布が施される。

このデイツプ塗布時に、上述のように塗布液３が側壁２
ｂの上縁部２ａを越えて溢流し続けているので、塗布液
３の界面３ａの高さが一定に保たれる。

しかしながら、上述のようなオーバーフロ一方式による
塗布装置には、下記の欠点がある。

即ち、供給ロアから塗布？ｆｌ　３が矢印りで示すよう
に塗布槽２内へと直線点に流入しているため、例えば塗
布槽内の塗布液３が撹乱されたり、塗布液面が波打ちを
生じたりして、塗膜にムラを生ずる。

こうした欠点を解決するため、特開昭５９−１３９９６
７号公報において、第８図に示すような方法が開示され
ている。

即ち、これは供給ロアの上方に円板１１（又は円錐体）
を配置して塗布槽２中における流入する塗布液３の流れ
を均一にしようとするものであり、塗布槽２中へと矢印
りで示すように直線的に流入した塗布液は、円板１１に
よって整流され、矢印Ｅで示すように円板１１と塗布槽
側壁２ｂとの間を流れるのである。

しかしながら、本発明者が検討したところ、上述のよう
に供給ロアの上方に円板１１を配置した場合にも円板１
１の上側において流れの片寄りを充分に無くすることは
できず、導電性基体ドラム１２（第７図参照）の外周方
向にやはり塗布ムラを生じてしまうことが判明した。更
に、円Ｆｉｚの上側で、例えば矢印Ｆで示すような渦が
発生してしまい基体ドラム１２の特に下部において塗布
液の撹乱に由来する塗布ムラが生じることも判明した。

ことに、電子写真感光体の塗膜形成において、光導電性
粒子を分散せしめた分散液（例えばキャリア発生５ｔ７
布液）においては、粒子の動きにくさから塗布液の濃度
ムラがそのまま残り、塗布ムラの発生が顕著であった。

ハ１発明の目的 本発明の目的は、塗布槽中に供給される塗料が塗布槽内
に収容されている塗布液の状態を乱すことを防止するこ
とにより、塗布層（膜）の塗布ムラの発生を防止でき、
かつ均一な層形成ができるような塗布装置を提供するこ
とである。

二１発明の構成 本発明は、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体を浸
漬し、この被塗布体を引き上げることによって前記塗布
液を前記被塗布体に塗布するに際し、前記塗布槽側壁の
上縁部を越えて前記塗布液が溢流するようにして塗布液
が供給口から前記塗布槽内へと供給される塗布装置にお
いて、複数の塗布液通過口を有する多孔板が前記供給口
の下流側に設けられ、前記供給口から前記塗布槽内へと
供給される前記塗布液が前記複数の塗布液通過口を通過
するよう構成されていることを特徴とする塗布装置に係
るものである。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

第１図（ａｌは塗布装置を示す概略断面図、同図（ｂｌ
は同図（ａｌのＪｂＩｂｖＡ矢視断面図、同図（Ｃ）は
同図ｆａ）の要部拡大図である。

本例においては、供給ロアの上方（下流側）に、多孔板
ＩＡが設けられている点に顕著な特徴を有する。この多
孔板ＩＡは板本体１ｂに多数の孔１ａをピッチＸで均一
に配列せしめたものである。この孔１ａは、できるだけ
細かいピンチで均一に設けることが好ましい。

他の構成部分は第７図のものと同様であり、同一機能部
材には同一符号を付してその説明は省略する（第２図、
第３図においても同様である。）。

即ち、多孔板ＩＡを供給ロアの上方に設置することによ
り、矢印りで示すように塗布槽２へと直線的に流入して
きた塗布液は、第１図＋ａ）、（Ｃ１に示すように、多
孔板本体ｔｂにより抵抗を受けて整流され、多数の孔１
ａを矢印Ｂで示すように通過し、塗布槽上部へと流れる
。この際、孔１ａが横方向に多数均一に配列せしめられ
ているので、多孔板ＩＡを通過した塗布液は矢印Ｂで示
すように均一に流し出され、従って塗布槽内に収容され
ている塗布液３の撹乱を最小限に抑えることができる。

これにより、特に基体ドラム１２の外周方向における塗
布液の流れを充分に均一とすることができ、且つ第８図
において示したような塗布液の渦動を生ずることもない
。従って、基体ドラム１２の外周方向の塗布ムラも生じ
ず、また基体ドラム１２の下部において塗布液３の撹乱
に由来する塗布ムラも生じない。

以上述べたように、本例の塗布装置によれば、基体ドラ
ムの外周方向及び下部の塗布ムラを防止でき、基体ドラ
ムの全面にわたって均一な層形成が可能である。

本例の塗布装置を電子写真感光体の構成層に適用すると
効果がより大きく、特に光導電性粒子（例えばキャリア
発生物質、顔料）を分散せしめた分散液（例えばキャリ
ア発生層）の塗布形成に適用した場合は、塗布液の撹乱
防止による塗布ムラの発生防止の効果が大きい。

第２図（ａｌは他の塗布装置を示す要部断面図（第１図
（ｂ）に対応する。）、第２図（ｂｌは第２図（ａｌの
ｎｂ−ｎｂ線矢視断面図である。

本例においては、供給口（第１図ｆａｔ参照）７の上方
に設置した多孔板１日の構成が若干変化せしめられてい
る。

即ち、多孔板ＩＢは、板本体１ｂの周縁部分において多
数の孔１ａを均一に配列せしめた構成となっている。本
例の塗布装置によれば、基体ドラム１２の真下に当る部
分においては板本体１ｂにより塗布液３の流れを遮断し
、かつ基体ドラム１２の外周と塗布槽側壁２ｂとで挾ま
れた領域においては矢印Ｂで示すように塗布液３の流れ
を均一にできるものと考えられる。

第３図は更に他の塗布装置を示す要部断面図であり、第
１図（Ｃ１に対応するものである。

本例においては、供給ロアの上方に基部１４が設置され
、多孔板ＩＡが基部１４により支持されている。基部１
４は塗布槽２の形状に合わせて作られている。塗布槽２
の底部に、第３図に示すように基部１４を設置すると、
供給ロアから供給された塗布液３は矢印Ｂで示すように
多孔板ＩＡＯ孔１ａを均一に通過する。

多孔仮において、孔径が大きくなり過ぎると、塗布液に
対す抵抗が小さ（なり、下方からの流速が減速されずに
そのまま塗布槽上部へと流し、出される結果となり、塗
布液の流れを充分均一にし難くなる傾向がある。一方、
孔径が小さくなり過ぎ、孔のピッチ（第１図（ｂ）のＸ
に相当する。）が大きくなり過ぎると、塗布液の流れに
対する抵抗が大きくなり、ポンプに過度の負担がかかる
傾向がある。

従って、多孔体については、孔を細かいピ・ノチで均一
に設けることが好ましい。例えば、第１図の多孔板ＩＡ
においては、孔の径を５〜０．５ｆｌの範囲内とするの
が好ましく、孔のピンチを１〜１゜龍の範囲内とするの
が好ましい。むろん、これらの値は、使用される塗布液
の物性、流量に応じて適宜決定されるものである。第２
図の多孔板ＩＢにおいても同様である。

本発明を電子写真感光体の構成層、特にキャリア発生層
の塗布形成に適用すると、複写画像における濃度ムラの
発生を防止できるという顕著な作用効果を奏しうる。

第４図〜第６図はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。

第４図の感光体においては、導電性基体２１の上に第１
層としてキャリア発生層２２が設けられ、キャリア発生
層２２の上に、第２層としてキャリア輸送層２３が設け
られている。第５図の感光体は、導電性基体２１側から
見て、第１層としてキャリア輸送層２Ｉ、第２層として
キャリア発生層２ダを順次積層したものである。第６図
の感光体は、第１層としてキャリア発生物質とキャリア
輸送物質との双方を含有する単層構造の感光ＦＪ２４を
有するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第４図〜第６図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞ
れ下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引き
層、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の或いは下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層、
保護層であるもの等が挙げられる。

下引き層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系
、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノ
ール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボネ
ート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル・酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン
酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアブ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピ
レンキノンおよびフラバンスワン類などの多環キノン類
、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素
、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属
フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシ
アニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩色
素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公知
各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必
要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分
散し、塗布することによって形成することができるや またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノンあ
るいはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のばかポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重合
体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリールア
ルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、アミノ置換カルコン誘淳体、トリアリールアミ
ン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、フ
ェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすいキ
ャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に溶
解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また１４層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生
物質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共
に溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって形
成することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレンーブクジエン共重合体、スチレ承タクリル酸メチ
ル共重合体）アクリロニトリル系共重合樹脂（例えば塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−ア
ルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−タレゾール−ホルムアルデヒ
ド樹脂等）、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニル
フォルマール等のフィルム形成性高分子重合体が好まし
い。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メラミン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フェノー
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミ
ン樹脂等、並びにこれらの樹脂の操り返し単位のうち２
つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成することがで
きる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、７１チルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロホルム、ジクロルメタン、１，２−ジクロル
エタン、Ｌ、ｌ、２−トリクロルエタン、１，１．２．
２−テトラクロルエタン、１　１．２−）ジクロルプロ
パン、１゜１．２．２−テトラクロルプロパン、１，２
．３−トリクロルプロパン、１．Ｌ、２−トリクロルブ
タン、１．２，３．４−テトラクロルブタン、テトラヒ
ドロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、
ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブアセテート、ｎ−ブチルアミン、ジエ
チルアミン、エチレンジアミン、イソプロパツールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ
。

Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点（ｂｐ）が８０℃
〜１５０℃のものが好ましく９０℃〜１２０℃のものが
より好ましい、沸点が８０℃未満では乾燥が早すぎて結
露し、プラシングを生じ易く、又、乾燥が早すぎてレベ
リングができず、平滑な感光層が得られなくなり易い。

又、１５０℃を超えると液垂れ、塗布むらが生じ易い。

具体的には、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタン
（ｂｐ＝８３．５℃）　、１．Ｌ　　２−トリクロルエ
タン（ｂｐ　＝１１３．５℃）、１．４−ジオキサン（
ｂｐ　＝　１０１．３℃）、ベンゼン（ｂｐ＝８０．１
℃）、トルエン（ｂｐ＝１１０．６’Ｃ）　、ｏ、ｍ、
ｐ−キシレン（ｂｐ＝１３８〜１４４℃）、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、モノクロルベンゼン等が挙げら
れる。又、沸点が８０℃〜１５０℃の範囲にない溶媒で
も高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点調整を行
うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引き層等が存在する場合に
は、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択され
る。特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、ジク
ロルメタン、１．２−ジクロルエタン、１゜ｍｌ）ジク
ロルエタン、Ｌ、１．２．２−テトラクロルエタン、テ
トラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサンは
、キャリア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好まし
い溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１００００ｐｐａ＋が好
ましく、より好ましくは１０〜１１０００ｐｐである。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その低残留電位、メモＩＪ　＋
特性等も改善される。

さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては同筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、金属板、金属ドラム又は導電性ポリマー、
酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミニウム
、パラジウム、金等の金属よりなる導電性薄層を塗布、
蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラスチ・ツク
フィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引き層、保護層等の感光体構成層の形成用塗
布液は、粘度を５〜５００ｃｐ　　（センチボイズ）の
範囲内とするのが本発明の効果をより良好に奏する上で
好ましく、１０〜３００ｃｐの範囲内とするとより好ま
しい。粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ易
く、ドラム上部より下部の方が厚膜となる傾向があり、
上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不均一
になり易く、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。

塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは５〜５０μｍの範
囲とするのが好ましい。また、塗布乾燥後のキャリア発
生層は、通常、その厚みが０．０５〜１０μｍとされる
。単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は１０〜
５０μｍであることが好ましい。

感光体表面に設けられる保護層の層厚は０．０１〜１μ
ｍの範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電性
基体との間に設けられる下引き層（あるいは中間層、バ
リア層、接着層等）の層厚は０．０１〜２μｍの範囲内
とするのが好ましい。

以下、本発明の実施例を更に具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。

く塗布液の調製〉 まず、以下のようにして、塗布液を調製した。

キ　　ｉ　ア　　−ノ　　　　諭　　パ　の札　１１．
２−ジクロルエタン（関東化学社製）（沸点８３．５℃
）１００ｍ　ｌ中に、バインダー樹脂としてポリカーボ
ネート（パンライトＬ　−１２５０、蛮人化成社製）　
５．０ｇを溶解した。

また、キャリア発生物質として４．１０−ジブロムアン
スアンスロン５ｇをボールミル中で、２４時間粉砕し、
これに上記溶液を加えてボールミルで更に２４時間分散
し、粘度１００ｃｐのキャリア発生層形成用塗布液（分
散液）を得た。

キャリア輸゛・　形　用徐右液 １．２−ジクロルエタン（関東化学社＝＞　１００ｍ１
中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート（パンラ
イトＬ−１２５０、蛮人化成社製）１５ｇを溶解し、か
つキャリア輸送物質として下記のスチリルトリフェニル
アミン化合物１５ｇを溶解して、キャリア輸送層形成用
塗布液を調製した。

（スチリルトリフェニルアミン化合物）く塗布実験〉 尖庭且上 内径１００Ｂ、深さ３５０Ｂの塗布槽中に、塗布槽上端
より３１０　ｔｍの位置に、第１図に示す多孔板ＩＡを
設置した。孔の配列パターンは、Ｘ　＝　５　ａｍ、孔
径３＋ｎとした。

前記キャリア発生層形成用塗布液を上記塗布槽内に収容
し、マグネットポンプを用いて２．０１　／ｍｉｎの流
速で供給口より流し、塗布装置内を循環せしめた。この
装置に、外径８０龍φ、長さ３００龍のアルミニウム製
円筒状導電性基体ドラム（シリンダー）を浸漬し、次い
で引き上げ速度５　ａｍ／ｓｅｃで基体ドラムを引き上
げたところ、均一でかつ塗布ムラのない塗膜（膜厚１μ
ｍ）が得られた。

塗布ムラは目視による官能試験により検査した。

即ち、キャリア発生層は赤色であり、膜厚ムラは色の濃
度ムラとして容易に視覚で確認できる。

災血但Ｉ 実施例１と同様に塗布槽を用い、塗布槽上端より３１０
鶴の位置に第２図に示す多孔板１日を設置した。孔の配
列パターンとしては、板本体の中心より距離４５ｍ及び
４０ｎの円周上にそれぞれ６４個配置し、かつ孔径を３
１１１とした。

この塗布装置を用い、実施例１と同様に基体ドラム上に
塗布を行ったところ、均一でかつ塗布ムラのない塗膜＜
Ｖｔ７１μｍ）が得られた。

ル較■ 上記と同様の塗布槽中に、塗布槽上端より３１０１■の
位置（上記と同じ位置）に径８０＋ｕの円板を設置し、
第８図に示したような塗布装置とした。この装置を用い
、実施例と同様の条件で基体ドラムにキャリア発生Ｎ（
膜厚１μｍ）を塗布したところ、基体ドラムの円周方向
で塗布ムラが発生し、かつ基体ドラムの下端より約５０
ｆｉの位置に上下方向の長さ２０龍にわたって段状の塗
布ムラが生じた。

く電子写真特性の評価〉 去庭旦上 実施例１の塗布装置に前記キャリア輸送層用塗布液を収
容し、流速２ｊ！／ｗｉｎで塗布液を循環せしめ、前述
したように既にキャリア発生層の塗布形成された実施例
１の基体ドラムを浸漬し、次いで引き上げ速度０．４５
ｍｍ／ｓｅｃで基体ドラムを引き上げ、膜厚１４μｍの
キャリア輸送層を形成し、負帯電用の電子写真感光体と
した。

去皇健ｌ 実施例２の塗布装置に前記キャリア輸送層用塗布液を収
容し、前述のように即にキャリア発生層の塗、布形成さ
れた実施例２の基体ドラムを浸漬し、実施例１と同様に
して膜厚１４μｍのキャリア輸送層を形成し、負帯電用
の電子写真感光体とした。

ル較但 比較例の塗布装置に前記キャリア輸送層用塗布液を収容
し、前述のように既にキャリア発生層の塗布形成された
比較例の基体ドラムを浸漬し、実施例１と同様の条件で
膜厚１４μｍのキャリア輸送層を形成し、負帯電用の電
子写真感光体とした。

■ それぞれの感光体を、所定の電子複写機に取り付けてコ
ピー画像を見たところ、実施例１，２の感光体は、良好
なコピー画像が得られた。これに対し比較例の感光体は
、コピー画像にも感光体のムラの位置に対応するところ
に濃度ムラが生じた。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上述のも
のに限られるわけではなく、本発明の技術的思想に基づ
き種々変形が可能である。

例えば、多孔板本体、孔の寸法、形状、構造、材質も種
々変更してよく、多孔板の取り付は位置にも特に制限は
ない。

孔は、多孔板上に均一に配列せしめられているのが好ま
しいが、配列の態様は第１図、第２図のものに限らず、
要は平面的に一定の繰り返し単位を特定できれば均一　
と認められよう。

本発明は種々の塗布装置に適用可能である。

へ１発明の効果 本発明の塗布装置によれば、複数の塗布液通過口を有す
る多孔板が供給口の下流側に設けられ、前記供給口から
塗布槽内へと供給される塗布液が前記複数の塗布液通過
口を通過するよう構成されているので、供給口から供給
される塗布液が複数の塗布液通過口に分配され、複数の
塗布液通過口から均一に流出する。従って、塗布槽中に
収容されている塗布液の撹乱を抑制でき、多孔板の下流
側において塗布液の渦動をも生ぜず、従って被塗布体の
周方向、上下方向の塗布ムラを防止でき、均一な塗布層
形成ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明の実施例を示すものであって、 第１図（ａｌば塗布装置を示す概略断面図、同図（ｂｌ
第２図（ａ）は他の゛塗布装置を示す要部断面図、同図
（ｂ）は同図（ａｌのｍ　ｂ−ｎ　ｂ線矢視新面図、第
３図は更に他の塗布装置を示す要部断面図である。 第４図、第５図、第６図はいずれも電子写真感光体の一
例を示す断面図である。 第７図は従来の塗布装置を示す概略断面図、第８図は従
来の他の塗布装置を示す要部断面図であある。 なお、図面に示す符号に於いて、 ＩＡ、１日−・−−−−−−−・−多孔板１ａ−・・−
−−−−−−−・・孔 １　ｂ−−−−・−・−・−多孔板本体２・・・・−一
−−−−−−−塗布槽 ２ａ−・−・・・・・−塗布槽側壁上縁部２ｂ・・−・
・・・−・−・−・塗布槽側壁３・−・・−・・・塗布
液 ？−−−−−・−・・・・・−・供給口１２・−・−一
一一−−−−−基体ドラム１４・・・・−・−一−−−
−・基部 である。 代理人　　弁理士　　逢　坂　　　宏 第７図 第８図 （自発）手続補正書 昭和６３年３月１１日 曙、″、 特許庁長官　　小　川　邦　夫　　殿　　　　　　　　
し１、事件の表示 昭和６２年　特許願第３２９０７３号 ２、発明の名称 塗布装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号　　′名
　称　（１２７）コニカ株式会社 ４、代理人 住　所　東京都立川市柴崎町２−４−１１ＦＩＮＥビル
ｅ　　０４２５−２４−５４１１（ｆ６（１）、明細書
第１９真下から１行目の「５〜５００」を「０．５〜５
００」と訂正します。 （２）、同第２４頁７行目のｒｏ、４５Ｊをｒ４．５　
Ｊと訂正します。 一以　上−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体を浸漬し、
   この被塗布体を引き上げることによって前記塗布液を前
   記被塗布体に塗布するに際し、前記塗布槽側壁の上縁部
   を越えて前記塗布液が溢流するようにして塗布液が供給
   口から前記塗布槽内へと供給される塗布装置において、
   複数の塗布液通過口を有する多孔板が前記供給口の下流
   側に設けられ、前記供給口から前記塗布槽内へと供給さ
   れる前記塗布液が前記複数の塗布液通過口を通過するよ
   う構成されていることを特徴とする塗布装置。