JPH10174922A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 円筒状基材の外周面に塗布する塗布装置にお
いて、塗布装置の蓋エッジ部における塗布液の盛り上が
りがなく、塗布液スライド面の塗布液の流れが均一であ
り、従って塗布膜厚が均一に長時間の安定塗布を行う。
これにより塗布ムラ、色ムラ、膜厚変動特に長手方向の
ムラ、段ムラがなく、また塗布ムラに起因する濃度ムラ
もなく良好な画像が得られる電子写真感光体を提供す
る。 【解決手段】 円筒状基材をその長手方向に移動させな
がら外周面に塗布する装置であり、塗布液分配スリット
及び塗布液流出口が基材外周を取り囲むように円形に形
成され、塗布液流出口の下側に塗布液スライド面を有す
る塗布装置において、塗布液流出口の上側の材質が、疎
水性で有機溶媒に不溶の樹脂であることを特徴とする塗
布装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体等
の感光層又は感光補助層の塗布に用いられる塗布装置及
び塗布方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、円筒状基材の外周面上への薄膜で
均一な塗布を行うための手段として、スプレー塗布法、
浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の
方法が検討されている。

【０００３】特に電子写真感光体のように比較的多量に
用いられ、薄膜で均一な塗布層を要するものについて
は、生産性の優れた塗布装置を開発すべく多くの検討が
なされている。しかしながら、従来のエンドレス基材へ
の塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかったり
生産性が悪い等の短所があった。

【０００４】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が、該基材の外周面上に到達するまでに、
溶媒が蒸発するため、塗布液滴の固形分濃度が上昇して
しまう。それにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液
滴が面に到達したとき、液滴が面上で充分に広がらない
ために、あるいは乾燥固化してしまった粒子が表面に付
着するために、塗布表面の平滑性の良いものがえられな
い。また該連続面を有する基材への液滴の到達率が１０
０％でなく塗布液のロスがあったり部分的にも不均一で
ある為、膜厚コントロールが非常に困難である。更に、
高分子溶液等では、いわゆる糸引き現象を起こす事があ
るため使用する溶媒及び樹脂に制限がある。

【０００５】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレードもしくはロールを配置
し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い、円筒状基材
を１回転させた後ブレードもしくはロールを後退させる
ものである。しかしながら、ブレードもしくはロールを
後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に
他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない
欠点がある。

【０００６】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。

【０００７】しかし、塗布膜厚が塗布液物性、例えば粘
度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗
布液物性の調整が非常に重要となる。また一般的にいっ
て、塗布速度も上げられず、塗布液槽を満たすためには
ある一定量以上の液量が必要である。さらに重層する場
合、下層成分が溶け出し、層界面が乱れ、しかも塗布液
槽が汚染されやすい等の欠点がある。

【０００８】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中の代表例とし
てスライドホッパ型塗布装置が含まれる）が開発され
た。この円形量規制型のスライドホッパ型塗布装置につ
いて説明すると、エンドレスに形成された連続周面を有
する円筒状基材を連続的にその長手方向に移動させなが
ら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材の外周面に
対して塗布液を塗布するものである。さらに、この塗布
装置は環状の液溜まり室と、この液溜まり室内の一部に
外部から塗布液を供給する供給口と、前記液溜まり室の
内方に開口する塗布液分配スリットとを有する。このス
リットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜するスライ
ド面上を流下させ、スライド面の下端の唇状部のスライ
ドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形
成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周面に塗布する
ものである。

【０００９】この塗布技術は画期的なものであり、他の
塗布方法より薄膜に安定して塗布することが出来る。し
かし、それだけにスライドホッパ型塗布装置の性能を十
分に発揮させるためには、解決すべき問題も残っている
ことが判明してきた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を解決するために成されたものである。

【００１１】即ち、円筒状基材の外周面に塗布するスラ
イドホッパ型塗布装置において、塗布装置の蓋エッジ部
における塗布液の盛り上がりがなく、塗布液スライド面
の塗布液の流れが均一であり、従って塗布膜厚が均一に
長時間の安定塗布を行うことの出来る塗布装置及び方法
を提供することにある。

【００１２】これにより塗布ムラ、色ムラ、膜厚変動特
に長手方向のムラ、段ムラがなく、また塗布ムラに起因
する画像濃度ムラもなく良好な画像が得られる電子写真
感光体の塗布方法を提供することにある。

【００１３】さらに本発明の目的は、同一塗布装置から
複数の塗布層を同時に基材上に形成させるいわゆる同時
重層塗布においても、優れた感光体の塗布装置及び方法
を提供することにある。

【００１４】さらに又本発明の目的は、複数の塗布装置
から塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐次重層
塗布においても、優れた感光体の塗布装置及び方法を提
供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記構
成を採ることにより達成される。

【００１６】（１） 円筒状基材を長手方向に下から上
へ移動させ該円筒状基材の外周面に塗布液を塗布する装
置であって、塗布液を塗布液流出口より流出させるため
に、円筒状基材を取り囲むように設けた塗布液分配スリ
ット、該塗布液分配スリットが流出した塗布液を連結し
ている塗布液スライド面にスライドさせる、円筒状基材
を取り囲むように設けた塗布液流出口、及び塗布液流出
口から流出した塗布液をスライドさせ、前記移動する円
筒状基材の外周面へ供給する、該塗布液流出口の下流側
と連結し、円筒状基材を取り囲むように設けた塗布液ス
ライド面を設け、前記塗布液流出口の上側が疎水性で有
機溶媒に不溶の樹脂で構成されていることを特徴とする
塗布装置。

【００１７】（２） 前記疎水性で有機溶媒に不溶の樹
脂が含フッ素ポリマー樹脂であることを特徴とする
（１）記載の塗布装置。

【００１８】（３） 前記塗布装置の塗布液流出口の上
側を含む塗布装置の蓋部全体の材質が疎水性で有機溶媒
に不溶の樹脂であることを特徴とする（１）又は（２）
記載の塗布装置。

【００１９】（４） 前記塗布装置の塗布液流出口の上
側が疎水性で有機溶媒に不溶の樹脂でコーティングされ
ていることを特徴とする（１）又は（２）記載の塗布装
置。

【００２０】（５） 円筒状基材を長手方向に移動させ
該円筒状基材の外周面に塗布液を塗布する方法におい
て、塗布液分配スリット、塗布液流出口及び塗布液スラ
イド面と、円筒状基材を取り囲むように設け、塗布液分
配スリットから塗布液流出口を通して流出した塗布液を
塗布液スライド面をスライドさせ、前記円筒状基材の外
周面に塗布する方法であって、該塗布液流出口の上側の
表面部分が疎水性で有機溶媒に不溶の樹脂で構成されて
いることを特徴とする塗布方法。

【００２１】（６） 各々複数の塗布液分配スリット及
び塗布液流出口を持ち、各々異なる塗布液を各々の塗布
液流出口から同一の塗布液スライド面に流出させて、複
数の塗布層を同時に塗布することを特徴とする（５）記
載の塗布方法。

【００２２】（７） 各々複数の塗布液分配スリット、
塗布液流出口及び塗布液スライド面を持ち、各々異なる
塗布液を各々の塗布液流出口から各々異なる塗布液スラ
イド面に流出させて、複数の塗布層を逐次に塗布するこ
とを特徴とする（５）記載の塗布方法。

【００２３】電子写真感光体の性能向上のためには塗布
精度と安定性向上が重要であり、円形量規制型その中で
もスライドホッパ型塗布装置は、現在最もこの要求に適
合した塗布方法といえる。

【００２４】従来、これらの塗布装置においては、その
構成部品にはステンレス材が多用されてきた。その理由
は、加工性にやや難点はあるものの、加工すれば機械的
精度が確保出来、錆びず、耐久性にまさるためである。
尚、ステンレス材の中でも、ＳＵＳ４０３、４０４等が
用いられてきたが、その理由は、塗布液流出口の上側部
分は、リング状のかなり大型の部材（いわゆる蓋部）と
なり、非磁性のＳＵＳ３０４、３１６では、磁力を利用
して支持し、工作機にて加工することが出来ないためで
ある。

【００２５】しかし、このスライドホッパ型塗布装置を
用いての塗布において、塗布液流出口の上側に塗布液が
せり上がりコブ状の液だまりが数箇所出来ることがあ
る。此の部分は塗布液の停滞が起こるため、液の整流性
が阻害されまたしばしばその表面には皮膜を生じる。此
の状態で塗布を続けるとコブ状の液だまりが原因となっ
て、塗布液スライド面を流れ落ちる整流性がそこなわれ
塗布液濃度及び液層の厚さにむらが生じ、結果的に感光
体の塗布膜厚にむらが出来る（塗布装置の具体的構成例
とその部材名は後述図２〜５を参照されたい）。

【００２６】此の影響は当然薄膜塗布の場合に顕著に現
れ、従って、通常膜厚が０．１〜２μｍ程度のＵＣＬ
（下引層）、ＣＧＬ（電荷発生層）のごとき層では、膜
厚が５〜５０μｍ程度の電荷輸送層等より大きく、より
深刻なものとなる。

【００２７】本発明の発明者等は鋭意検討した結果、コ
ブ状の液だまりの発生原因は従来用いられていた塗布液
流出口上部の材質によることを突き止め、これを疎水性
で有機溶媒に不溶の樹脂にすることにより、上記の問題
を解決出来ることを見いだし、本発明に至った。

【００２８】本発明における上記有機溶媒とは、下記の
ものを指し、有機溶媒に不溶の樹脂とは、該有機溶媒を
常圧における沸点近くまで加熱しその中に１０時間浸漬
しても、実質的に重量変化が起きない樹脂という意味で
ある。又、疎水性とは通常用いられる意味で疎水性であ
ればよい。

【００２９】上述の有機溶媒を記載すれば下記のごとき
ものがある。

【００３０】アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソプロピルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、ジク
ロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロ
ロプロパン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，
１−トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、等が挙げられる。

【００３１】又、本発明に好ましく用いられる樹脂とし
ては、含フッ素ポリマー、例えばポリトリフルオロクロ
ロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン（テフロ
ン）、ポリヘキサフルオロプロピレン等の単量体中に３
個以上のフッ素原子を含むものが良く、中でもポリテト
ラフルオロエチレン（テフロン）がよい。

【００３２】さらに、これら樹脂をスライドホッパ型塗
布装置の塗布液流出口９の上部に用いる方法としては、
そのエッジ部に設置されていれば良く、具体的設置方法
としては図１（ａ）のごとく、樹脂材を張り付ける、図
１（ｂ）のごとく表面にコーティングする、あるいは図
１（ｃ）のごとく、塗布装置の蓋部の素材を上記樹脂に
する等の方法がある（図１中のハッチング部分が当該樹
脂材料）。尚、図１において各図面の全体がスライドホ
ッパ型の塗布装置３の一部を表し、４は塗布液スライド
面、８は塗布液分配スリット、９は塗布液流出口であ
る。

【００３３】

【発明の実施の形態】図２は、本発明の塗布装置の概要
断面図である。図２に於いて、中心線Ｙに沿って垂直状
に重ね合わした円筒状基材１Ａ、１Ｂと、該円筒状基材
１Ａ、１Ｂに順次感光層用の塗布液２を塗布するスライ
ドホッパ型の塗布装置３を示す。

【００３４】前記円筒状基材１Ａを取り囲む様に、塗布
液２の塗布液スライド面４が形成され、該塗布液スライ
ド面４に供給された塗布液２を前記円筒状基材１Ａに順
次塗布する様に構成している。塗布方法としては、前記
環状の塗布装置３を固定し、前記円筒状基材１Ａを中心
線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら上端部より
塗布を行う。前記塗布装置３の塗布液スライド面４に塗
布液２を供給するため、外部に設けた塗布液タンク５よ
り送液ポンプ６−１と送液管６−１′と、塗布液供給部
６Ａにより前記環状の円形量規制型塗布装置３に接続
し、塗布液２を供給する。

【００３５】次に供給された塗布液２は、前記環状の塗
布装置３内に形成した環状の塗布液分配室７に供給され
て塗布液分配スリット８より送液され、エンドレスの塗
布液流出口９より前記塗布液スライド面４に塗布液２が
連続的に供給され、塗布液２は前記円筒状基材１Ａの全
周面に塗布される。１２は、前記塗布液スライド面４よ
り落下した塗布液２を液溜めする液溜部である。

【００３６】図３は、図２に示す前記スライドホッパ型
塗布装置３の一部を切欠いて示す斜視図である。

【００３７】図４は、スライドホッパ型の塗布装置３を
用いて円筒状基材１Ａ、１Ｂに感光体となる塗布液を同
時に重層塗布する本発明の好ましい実施態様例（同時重
層塗布方法）を示す塗布装置の概要断面図である。

【００３８】図４に於いて、中心線Ｙに沿って垂直状に
重ね合わした円筒状基材１Ａ、１Ｂと、該円筒状基材１
Ａ、１Ｂに順次感光用の塗布液２を塗布する環状の塗布
装置３を示す。図の様に前記円筒状基材１Ａを取り囲む
様に、塗布液２，２Ａの塗布液スライド面４が形成さ
れ、該塗布液スライド面４に供給される塗布液２，２Ａ
を前記円筒状基材１Ａに順次塗布する様に構成してい
る。塗布方法としては、前記環状の塗布装置３を固定
し、円筒状基材１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇
移動させながら上端部より塗布を行う。前記塗布装置３
の塗布液スライド面４に塗布液２，２Ａを供給するた
め、外部に設けた塗布液タンク５より送液ポンプ６−１
と送液管６−１′と、塗布液供給部６Ａから塗布液分配
室７に塗布液を送る。

【００３９】塗布液タンク５１から塗布液分配室７１へ
の送液も同様に行う。

【００４０】次に供給された塗布液２，２Ａは、塗布装
置３内に形成した環状の塗布液分配室７には前記塗布液
２を供給し、該塗布装置３内に形成した環状の塗布液分
配室７１には前記塗布液２Ａを供給する。先ず供給され
た塗布液２は塗布液分配スリット８よりエンドレスの塗
布液流出口９より塗布液スライド面４に塗布液２が連続
的に供給され、前記円筒状基材１Ａの全周面に先ず塗布
液２が塗布される。

【００４１】更に前記塗布液分配室７１には前記塗布液
２Ａが供給される。供給された塗布液２Ａは塗布液分配
スリット８１よりエンドレスの塗布液流出口９１より前
記塗布液２面上に連続的に供給され、前記円筒状基材１
Ａの全周面に先ず塗布液２が、その上に塗布液２Ａが重
層塗布される。

【００４２】１２は、前記塗布液スライド面４より落下
した塗布液２を液溜めする液溜部である。

【００４３】図５は前記図２の実施態様例に使用されて
いる塗布装置３を上下に配置した、本発明のもう一つの
好ましい実施態様例（逐次重層塗布方法）に用いられる
塗布装置の概要断面図である。これも前記図４に示すよ
うなエンドレスに形成した円筒状基材１Ａ、１Ｂに塗布
液の重層塗布を行う実施態様例である。

【００４４】先ず前記図２と同様に塗布液スライド面４
に供給される塗布液２を円筒状基材１Ａに塗布する。塗
布方法としては、塗布装置３を固定し、前記円筒状基材
１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら
上端部より塗布を行う。前記塗布装置３の塗布液スライ
ド面４に塗布液２を供給するため、外部に設けた塗布液
タンク５より送液ポンプ６−１と送液管６−１′と、塗
布液供給部６Ａから塗布液分配室７に塗布液を送る（塗
布液タンク５２から塗布液分配室７２への送液も同様に
行う）。

【００４５】これにより塗布装置３内に形成した環状の
塗布液分配室７に供給されて塗布液分配スリット８より
エンドレスの塗布液流出口９より前記塗布液スライド面
４に塗布液２が連続的に供給され、塗布液２は前記円筒
状基材１Ａの全周面に一層目が塗布される。

【００４６】更に塗布装置３の上部に塗布装置３２が設
けられている。

【００４７】一層目の塗布液２が塗布された、円筒状基
材１Ａは矢示方向に上昇し、塗布装置３２の塗布液スラ
イド面４２のところに進入する。塗布液スライド面４２
に供給される塗布液２Ａを前記円筒状基材１Ａに塗布さ
れた塗布液２面上に順次重層塗布する。塗布方法として
は、前記同様に塗布装置３２を固定し、前記円筒状基材
１Ａを中心線Ｙに沿って矢印方向に上昇移動させながら
上端部より重層塗布を行う。

【００４８】前記環状の塗布装置３２の塗布液スライド
面４２に塗布液２Ａを供給するため、外部に設けた塗布
液タンク５２より送液ポンプの塗布液供給部を塗布装置
３２に接続し（接続方法は前記塗布装置３に対するのと
同一）、塗布液２Ａを供給する。次に供給された塗布液
２Ａは、塗布装置３２内に形成した環状の塗布液分配室
７２に供給されて塗布液分配スリット８２よりエンドレ
スの塗布液流出口９２より前記塗布液スライド面４２に
塗布液２Ａが連続的に供給され、塗布液２Ａは前記円筒
状基材１Ａに塗布された塗布液２面上の全周面に塗布さ
れる。

【００４９】本発明の電子写真用感光体における円筒状
基材としては、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル
などの金属のドラム及びシート、紙、プラスチック又は
ガラス上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウ
ム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス、銅−イン
ジウムなどの金属を蒸着するか、酸化インジウム、酸化
錫などの導電性金属酸化物を蒸着するか、金属箔をラミ
ネートするか、又はカーボンブラック、酸化インジウ
ム、酸化錫−酸化アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅など
を結着樹脂に分散し、塗布することによっても導電処理
したドラム状、シート状、プレート状のものなど、公知
の材料を用いることができるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００５０】更に、必要に応じて円筒状基材の表面は、
画質に影響のない範囲で各種の処理を行うことができ
る。例えば、表面の酸化処理、薬品処理、着色処理等を
行うことができる。

【００５１】又、円筒状基材と電荷発生層（ＣＧＬ）の
間に更に下引き層を設けることが出来るが、この下引き
層は帯電時において、積層構造からなる感光層における
導電性の円筒状基材から感光層への電荷の注入を阻止す
るとともに、感光層を導電性の円筒状基材に対して一体
的に接着保持せしめる接着層としての作用、或いは円筒
状基材からの反射光の防止作用等を示す。この下引き層
（ＵＣＬ）に用いる樹脂は、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹
脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、
ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、水
溶性ポリエステル、ニトロセルロース又はカゼイン、ゼ
ラチンなどの樹脂を用いることができるが、これらに限
定されるものではない。

【００５２】また、下引き層の厚みは０．０１〜１０μ
ｍ、好ましくは０．０５〜２μｍが適当である。

【００５３】電荷発生層は例えばモノアゾ色素、ジスア
ゾ色素、トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸
無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、イン
ジゴ、チオインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキ
ノン、ピレンキノン及びフラパンスロン類などの多環キ
ノン類、キナグリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール
系色素、インダスロン系色素、スクエアリリウム系色
素、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどの
フタロシアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリ
ウム塩色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体
等、各種の電荷発生物質（ＣＧＭ）を適当なバインダー
樹脂及び必要により電荷輸送物質（ＣＴＭ）と共に溶媒
中に溶解或いは分散し、塗布することによって形成する
ことができる。

【００５４】電荷発生物質を樹脂中に分散させる方法と
してはボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法などを用いることができる。この際、電荷発
生物質は、体積平均粒径で５μｍ以下、好ましくは２μ
ｍ以下、最適には０．５μｍ以下の粒子サイズにするこ
とが有効である。これらの分散に用いる溶剤として、メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチル
セルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、酢酸メチル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチレンクロライド、クロロホルム、１，２−ジク
ロロエタン、モノクロロベンゼン、キシレンなどの通常
の有機溶剤を単独或いは２種類以上混合して用いること
ができる。

【００５５】本発明で用いるの電荷発生層の膜厚は、一
般的には０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２μｍが
適当である。

【００５６】本発明の電子写真感光体における電荷輸送
層（ＣＴＬ）は、電荷輸送物質（ＣＴＭ）を適当なバイ
ンダー中に含有させて形成される。電荷輸送物質として
は、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−
１，３，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール
誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−
〔ピリジル−（２）〕−３−（ｐ−ジエチルアミノスチ
リル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリ
ンなどのピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、スチ
リルトリフェニルアミン、ジベンジルアニリンなどの芳
香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−１，１−ビフェニ
ル−４，４′−ジアミンなどの芳香族第３級ジアミノ化
合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６
−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリ
アジンなどの１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエ
チルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒド
ラゾンなどのヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−ス
チリル−キンゾリンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒド
ロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾ
フランなどのベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフ
ェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリンなどのα
−スチルベン誘導体、“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍａ
ｇｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ”２９：７〜１０（１９８
５）に記載されているエナミン誘導体、Ｎ−エチルカル
バゾールなどのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾールなどのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及び
その誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタナー
ト及びその誘導体、更にはピレン、ポリビニルピレン、
ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ
−９−ビフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂な
どの公知の電荷輸送物質を用いることができるが、これ
らに限定されるものではない。また、これらの電荷輸送
物質は単独或いは２種以上混合して用いることができ
る。

【００５７】更に、電荷輸送層における結着樹脂として
は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩
化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセ
テート樹脂、ブチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッ
ド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン
−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎビニルカルバゾールなどの
公知の樹脂を用いることができるが、これらに限定され
るものではない。また、これらの結着樹脂は単独或いは
２種以上混合して用いることができる。

【００５８】電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（重量
比）は１０：１〜１：５が好ましい。本発明で用いる電
荷輸送層の膜厚は一般的には５〜５０μｍ、好ましくは
１０〜３０μｍが適当である。

【００５９】更に、電荷輸送層を設ける際に用いる溶剤
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼンなどの芳香族系炭化水素類、アセトン、２−ブタノ
ンなどのケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化
エチレンなどのハロゲン化脂肪族系炭化水素類、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテルなどの環状若しくは直鎖
状のエーテル類などの通常の有機溶剤を単独或いは２種
類以上混合して用いることができる。

【００６０】更に、必要に応じて電荷輸送層の上に保護
層（ＯＣＬ）を設けてもよい。この保護層は、積層構造
からなる感光層の帯電時の電荷輸送層の化学的変質を防
止すると共に、感光層の機械的強度を改善する為に用い
られる。

【００６１】又前記保護層中に前述した電荷輸送材料を
添加してもよい。

【００６２】また、この保護層に用いる結着樹脂として
は、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂ポリエステル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド樹脂などの公知の樹脂を用いることができる。

【００６３】本発明で用いる保護層の膜厚は０．５〜２
０μｍ、好ましくは１〜１０μｍが適当である。

【００６４】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。

【００６５】実施例１ （実施例及び比較例）導電性支持体としては鏡面加工を
施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムド
ラム支持体を用いた。

【００６６】前記支持体上に下記の如く塗布液組成物Ｕ
ＣＬ−１を調製し、図２に記載の如くのスライドホッパ
−型塗布装置で、塗布液流出口上部（蓋エッジ部）を表
１に記載の如く変更した塗布装置を用い（図１参照）、
塗布液を塗布量流出させその状態を６時間保持した後塗
布開始し、塗布ドラムＮｏ．１−１〜１−５を得た。な
お比較例として塗布液流出口上部をＳＵＳ−４０３製に
した塗布装置（蓋部も材質は同じ）を用いた。

【００６７】 ＵＣＬ−１塗布液組成物 塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体（エスレックＭＦ−１０ 積水化学社製） ５０ｇ アセトン／シクロヘキサノン＝１０／１ （Ｖｏｌ比） ７０００ｍｌ 結果を表１に示す。

【００６８】

【表１】

【００６９】本発明によると塗布液流出口の上側（蓋エ
ッジ部）の材質が含フッ素ポリマ−であるとき、塗布液
流出口の上側盛り上がり現象がなく、膜厚変動、膜厚ム
ラが見られず良好である。その理由としては塗布液流出
口の上側（蓋エッジ部）に塗布液が長時間塗布でも付着
せず塗布液のスライド面の膜厚が安定な為である。

【００７０】実施例２ （実施例及び比較例）円筒状基材としては鏡面加工を施
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。

【００７１】前記円筒状基材上に下記の如く塗布液組成
物ＣＧＬ−１を調整し、実施例１と同様にして塗布し塗
布ドラムＮｏ．２−１〜２−５を得た。なお比較例とし
て塗布液流出口の上側（蓋エッジ部）を含めＳＵＳ−４
０３製の塗布装置を用いた。

【００７２】 ＣＧＬ−１塗布液組成物 ペリレン系顔料（ＣＧＭ−１） ５０ｇ ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ 積水化学社製） ５０ｇ メチルエチルケトン ２４００ｍｌ 上記塗布液組成物をサンドミルを用いて２０時間分散し
たもの。

【００７３】塗布結果を表２に示す。

【００７４】

【化１】

【００７５】

【表２】

【００７６】本発明によると塗布液流出口の上側（蓋エ
ッジ部）が含フッ素ポリマー樹脂であるとき、塗布液流
出口の上側（蓋エッジ部）の塗布液盛り上がり現象がな
く、膜厚変動、膜厚ムラが見られず良好である。

【００７７】実施例３ 円筒状基材としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高
さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００７８】前記円筒状基材上に下記の如く塗布液組成
物ＣＴＬ−１を調製し、実施例１と同様にして塗布し、
塗布ドラムＮｏ．３−１〜３−４を得た。なお比較例と
して蓋エッジ部をＳＵＳ−４０３製とした塗布装置を用
いた。

【００７９】 ＣＴＬ−１塗布液組成物 ＣＴＭ−１ ５０００ｇ ポリカ−ボネ−ト（Ｚ−２００ 三菱瓦斯化学社製） ５６００ｇ １，２−ジクロロエタン ２８０００ｍｌ 結果を表３に示す。

【００８０】

【化２】

【００８１】

【表３】

【００８２】本発明によると塗布液流出口の上側（蓋エ
ッジ部）が含フッ素ポリマー樹脂であるとき、塗布液の
盛り上がり現象がなく、膜厚変動、膜厚ムラが見られず
良好である。

【００８３】実施例４ 円筒状基材としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高
さ３５５ｍｍのアルミニウムドラム支持体を用いた。

【００８４】図５に記載された形式の逐次連続塗布装置
（塗布装置が３段に重なっているもの）を用い、実施例
１の塗布ドラムＮｏ．１−３（乾燥膜厚１．０μｍ）と
同様に塗布し、その上に実施例２の塗布液組成物ＣＧＬ
−１を塗布ドラムＮｏ．２−１と同様にして乾燥膜厚
０．５μｍになるように、更にこの上に実施例３の塗布
液組成物ＣＴＬ−１を塗布ドラムＮｏ．３−２と同様に
し、乾燥膜厚２３μｍになるように逐次重層塗布した。
この場合の塗布速度は１５ｍｍ／ｓｅｃに設定した。

【００８５】

【表４】

【００８６】塗布結果を表４に示す。各の塗布試料の塗
布時の状態と乾燥後の状態を肉眼にて観察したが、塗布
性、重層性は良好であり、周方向や長手方向の塗布膜厚
ムラもなかった。

【００８７】また実写テストを行ったところ、塗布ムラ
に起因する画像ムラはなく良好な画像が得られた。

【００８８】本発明の塗布方法によれば、表１〜４から
明らかな如く塗布ムラ、色ムラ、膜厚変動特に長手方向
のムラ、段ムラがなく、また塗布ムラに起因する濃度ム
ラもなく良好な画像が得られた。

【００８９】

【発明の効果】本発明により、円筒状基材の外周面に塗
布する塗布装置において、塗布装置の塗布液流出口の上
側（蓋エッジ部）における塗布液の盛り上がりがなく、
塗布液スライド面の塗布液の流れが均一であり、従って
塗布膜厚が均一に長時間の安定塗布が出来る。

【００９０】これにより塗布ムラ、色ムラ、膜厚変動特
に長手方向のムラ、段ムラがなく、また塗布ムラに起因
する濃度ムラもなく良好な画像が得られる電子写真感光
体を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る樹脂を設置した塗布装置の塗布液
流出口の上側（蓋エッジ部）とその周辺の断面図。

【図２】本発明の塗布装置の概要断面図。

【図３】本発明に係わるスライドホッパ型塗布装置の斜
視図。

【図４】本発明の好ましい態様（同時重層塗布方法）の
塗布装置の概要断面図。

【図５】本発明の好ましい、もう一つの態様（逐次重層
塗布方法）の塗布装置の概要断面図。

【符号の説明】

１Ａ，１Ｂ 円筒状基材 ２，２Ａ 塗布液 ３，３２ 塗布装置 ４，４２ 塗布液スライド面 ５，５１，５２ 塗布液タンク ６−１ 送液ポンプ ６−１′ 送液管 ６Ａ 塗布液供給部 ７，７１，７２ 塗布液分配室 ８，８２ 塗布液分配スリット

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円筒状基材を長手方向に下から上へ移動
   させ該円筒状基材の外周面に塗布液を塗布する装置であ
   って、 塗布液を塗布液流出口より流出させるために、円筒状基
   材を取り囲むように設けた塗布液分配スリット、 該塗布液分配スリットが流出した塗布液を連結している
   塗布液スライド面にスライドさせる、円筒状基材を取り
   囲むように設けた塗布液流出口、及び塗布液流出口から
   流出した塗布液をスライドさせ、前記移動する円筒状基
   材の外周面へ供給する、該塗布液流出口の下流側と連結
   し、円筒状基材を取り囲むように設けた塗布液スライド
   面を設け、 前記塗布液流出口の上側が疎水性で有機溶媒に不溶の樹
   脂で構成されていることを特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 前記疎水性で有機溶媒に不溶の樹脂が含
   フッ素ポリマー樹脂であることを特徴とする請求項１記
   載の塗布装置。
3. 【請求項３】 前記塗布装置の塗布液流出口の上側を含
   む塗布装置の蓋部全体の材質が疎水性で有機溶媒に不溶
   の樹脂であることを特徴とする請求項１又は２記載の塗
   布装置。
4. 【請求項４】 前記塗布装置の塗布液流出口の上側が疎
   水性で有機溶媒に不溶の樹脂でコーティングされている
   ことを特徴とする請求項１又は２記載の塗布装置。
5. 【請求項５】 円筒状基材を長手方向に移動させ該円筒
   状基材の外周面に塗布液を塗布する方法において、塗布
   液分配スリット、塗布液流出口及び塗布液スライド面
   と、円筒状基材を取り囲むように設け、 塗布液分配スリットから塗布液流出口を通して流出した
   塗布液を塗布液スライド面をスライドさせ、前記円筒状
   基材の外周面に塗布する方法であって、該塗布液流出口
   の上側の表面部分が疎水性で有機溶媒に不溶の樹脂で構
   成されていることを特徴とする塗布方法。
6. 【請求項６】 各々複数の塗布液分配スリット及び塗布
   液流出口を持ち、各々異なる塗布液を各々の塗布液流出
   口から同一の塗布液スライド面に流出させて、複数の塗
   布層を同時に塗布することを特徴とする請求項５記載の
   塗布方法。
7. 【請求項７】 各々複数の塗布液分配スリット、塗布液
   流出口及び塗布液スライド面を持ち、各々異なる塗布液
   を各々の塗布液流出口から各々異なる塗布液スライド面
   に流出させて、複数の塗布層を逐次に塗布することを特
   徴とする請求項５記載の塗布方法。