JP4134540B2 - 電子写真感光体の製造システム、製造方法、及び該製造方法で製造された電子写真感光体 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する利用分野】
本発明は、電子写真感光体の製造システムに関するものであり、詳しくは、円筒状の電子写真感光体の塗布装置、液溜まり除去装置を連続して構成する製造システムに関するものであり、該製造システム用いた電子写真感光体の製造方法、該製造方法で作製された電子写真感光体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、電子写真感光体は、アルミニウム等の円筒状基体上浸漬塗布装置などによって感光体材料の塗布液を塗布する等の工程を経て製造される。この電子写真感光体の全体の製造システムは円筒状基体の表面加工装置、洗浄装置、塗布装置、乾燥装置等から構成されている。これらの構成装置の中で、塗布装置と乾燥装置は塗布乾燥を中断することの不利益が大きいことから、即ち塗布後、乾燥を中断すると乾燥ムラや膜厚ムラが発生しやすいことから、通常連続したシステムが構成されている。例えば塗布装置で塗布した感光体をそのまま、搬送装置を代えないで、乾燥装置に搬送し、乾燥装置の搬送台に感光体を設置するまで連続した搬送を行っている。
【０００３】
一方、円筒状基体（以後、単に基体とも云う）に感光層等の塗布液を塗布した感光体は塗布直後、塗布液が尚、流動性を有している時間内に、重力の影響を受け、基体下端部に塗布液が流下し、いわゆる液溜まり部を形成する。この液溜まり部をそのまま乾燥すると、感光体端部に凸状に隆起した感光層を形成し、膜剥がれやクリーニング不良の原因となるので、この下端部液溜まり部は除去することが好ましい。
【０００４】
この液溜まり部の除去方法としては感光体乾燥後に溶媒を含浸させたテープ等で除去する方法、溶媒中で除去する方法等が知られている。しかしながら、一旦乾燥した感光層等への溶媒の浸透には十分な時間が必要なため、この方法は大量の感光体の製造、或いは多品種の感光体の製造には適していない。
【０００５】
そこで、より液溜まり部を容易に除去する方法として、感光層等の塗布液を塗布直後に液溜まり部を除去する方法が用いられている。例えば、図１に示されるような液溜まり除去方法の一例が提案されている。図１の（ａ）は円筒状基体ａに感光層ＰＬが塗布された状態を示している。感光層下端部は塗布膜が流下し、液溜まり部Ｅが発生している。図１の（ｂ）では、感光体下端部の液溜まり部Ｅを剥離溶媒２１Ｅで満たした剥離溶媒タンク２１に浸し、液溜まり部を剥離溶媒２１Ｅで膨潤させて拭き取り部材２２により剥離する方法が提案されている。この液溜まり除去方法は塗布層が乾燥される前に用いると短時間で液溜まり部を除去することができる。
【０００６】
ところが、基体上に塗布液が塗布され塗布膜の流動性が高い内に感光体下端部を剥離溶媒タンクに浸した場合には、下端部の拭き取り跡がギザギザの形状となりそのまま乾燥した場合、端部がギザギザとなって膜はがれの原因になることが判った。この原因は、塗布膜が流動状態で剥離溶媒に浸したのでは、剥離溶媒が塗布膜の下端部から塗布膜上部に浸透し、塗布膜の流動が止まらないことが原因と考えられる。
【０００７】
そこで、基体上に塗布膜を形成した後、塗布膜の流動性を止めて前記液溜まり除去工程に入る製造方法、製造システムの開発が必要になってきた。即ち、図２に示すように従来の塗布装置１（塗布工程）から乾燥装置３（乾燥工程）迄を、各装置間を同一の塗布昇降機６で基体を搬送していたのでは、塗布工程終了後すぐに液溜まり除去工程に入ることとなり、液溜まり部の拭き取り跡が膜剥がれの原因となりやすいという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は上記のような課題を解決し、即ち液溜まり除去装置を有する電子写真感光体の製造システムを提供することであり、更に詳しくは塗布装置と液溜まり除去装置を連動させ、膜剥がれを発生させない高生産性の電子写真感光体の製造システムを提供することであり、該製造システムを用いた電子写真感光体の製造方法、該製造方法で形成された電子写真感光体を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、以下の構成を取ることにより達成される。
【００１０】
１．円筒状基体への塗布液の塗布装置と塗布後の円筒状基体下端部の液溜まり除去装置を有する電子写真感光体の製造システムにおいて、前記各装置が独立した円筒状基体の搬送装置により動作し、各装置間の円筒状基体の受け渡しが、受け保持台を兼ねた液溜まり除去装置の該受け保持台を経由して行われることを特徴とする電子写真感光体の製造システム。
２．前記受け保持台は液溜まり除去装置の基体保持台を剥離タンク液面上に出して受け保持台としたことを特徴とする前記１に記載の電子写真感光体の製造システム。
【００１１】
３．前記受け保持台は円筒状基体の下端部を接地させない把持手段を有することを特徴とする前記１又は２に記載の電子写真感光体の製造システム。
【００１２】
４．円筒状基体上への塗布液の塗布工程と塗布後の円筒状基体下端部の液だまり除去工程を有する電子写真感光体の製造方法において、前記各工程を独立した搬送装置により行い、各工程間の円筒状基体の受け渡しが、受け保持台を兼ねた液溜まり除去装置の該受け保持台を経由して行われることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【００１４】
以下、本発明を実施の形態に基づき詳細に説明する。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の電子写真感光体の製造システムの実施の形態を図面に基づいて説明する。図３は、本発明に係る電子写真感光体の製造システム（以下、製造システムとも云う）の要部を示す概念図である。
【００１６】
本発明の製造システムは塗布装置（塗布工程）１、液溜まり除去工程２等から構成されている。塗布装置は塗布槽４と塗布液を満たした該塗布液タンク４１に基体を浸漬するために上下動する塗布昇降機６の基体搬送装置を有する。液溜まり除去工程２は液溜まり除去装置５及び拭き取り昇降機７の基体搬送装置を有する。
【００１７】
液溜まり部除去工程の後の工程は、乾燥工程であってもよいし、次の塗布工程であってもよい（図３では乾燥工程の場合を示している）。前記塗布装置１と液溜まり除去装置５の間の基体の搬送には、図３の如く塗布装置１と液溜まり除去装置５の間に、基体の受け保持台９が置かれ、これらの保持台を通して、塗布装置と液溜まり除去装置間の基体の受け渡しを行い、且つこの間に基体上の塗布膜の流動性を止める為の乾燥時間が持たれる。
【００１８】
以下、図３の製造システムの一連の動作を記載する。
即ち、基体ａを把持した入口受け台８が、塗布昇降機６の真下に搬送され、停止する。次に塗布昇降機が降下してきて、入口受け台８上の基体ａを塗布昇降機下端の基体把持手段により、受け取る。基体を渡した入口受け台８は塗布層上面から移動する。
【００１９】
前記塗布槽４は、図３に示すように塗布液タンク４１、塗布液供給管４２、オーバーフロー液回収装置４３等から構成されている。この塗布液タンクに塗布昇降機６が下降し、懸垂されている基体ａが塗布液タンク中の塗布液に浸漬する。基体ａに塗布液が十分浸漬された後、再び塗布昇降機６が上昇し、基体ａは引き上げられて基体上に塗布膜（感光層等）が形成される。
【００２０】
続いて、受け保持台９が塗布昇降機の下に移動し、停止する。塗布昇降機６が下降してきて、受け保持台９に基体ａを移動させる。塗布昇降機６が上昇開始すると、受け保持台９は液溜まり除去工程の拭き取り昇降機７の真下に移動し、停止する。続いて拭き取り昇降機７が下降してきて拭き取り昇降機上の基体ａを拭き取り昇降機下端の基体把持手段により受け取る。拭き取り昇降機が上昇を開始すると基体を渡した受け保持台９は塗布装置と液溜まり除去装置の中間の定位置に移動する。次に拭き取り昇降機７が再び降下してきて、前記の図３に示した液溜まり除去装置５に基体を設置し、液溜まり除去装置の基体保持台５４の回転運動（モーター駆動等による回転）により、基体を回転させ、液溜まり除去装置５の拭き取り部材で液溜まり部を除去する。液溜まり除去が完了すると再び、拭き取り昇降機７は上昇し、停止する。次に出口受け台１０が拭き取り昇降機７の真下に移動し、停止する。次に拭き取り昇降機７が再び下降し、出口受け台１０に基体ａを移す。拭き取り昇降機が上昇を開始すると、基体ａを把持した出口受け台１０は次の工程に移動する。出口受け台は乾燥工程のベルトコンベア１１上に停止する。次に出口受け台上の基体は基体把持手段を有する基体把持機（図示せず）を用いて、出口受け台上の基体をベルトコンベアに移動させ乾燥室に基体を運ぶ。ベルトコンベアにより運ばれて乾燥工程の乾燥室に移動してきた基体は、そのままベルトコンベア上で乾燥した後、乾燥室の出口へ移動する。その後、乾燥室の出口では基体把持機を用いてベルトコンベア上の基体を製品保存箱に保管して、全ての工程が終了する。
【００２１】
上記の各工程間の基体の受け渡しに用いる保持台は、前工程で作業終了した基体を搬送機より受け取り、次工程の搬送機に渡す機能を有し、各工程を独立に作業させると同時に、相互に結びつけ、塗布工程、液溜まり部除去工程の作業を効果的に進める機能を有する。本発明に用いられる保持台としては平板状の木版、プラスチック板、金属板等のものが用いられ、例えば図７のように平板上に基体を把持する把持手段を有するものが好ましい。
【００２２】
図７は基体を内面で把持する基体把持手段を有する受け保持台の例である。図７の受け保持台９はＳＵＳ等の金属板上に基体把持手段９１が設けられており、該基体把持手段９１は基体ａを内面で把持する風船チャック９２を有している。搬送機により基体ａが保持台上に搬送され、該風船チャック９２を基体ａの内部に入れて停止したとき、該風船チャック９２の風船がふくらみ基体ａを塗布液が付着していない基体内面で保持できるような構造を有している。このように受け保持台９上の基体把持手段９１が基体内部を把持して、基体下端部を接地させない構造を持つことにより、基体ａ下端部の塗布液が受け保持台９上に付着することを防止でき、且つ受け保持台９上の汚れが塗布膜に付着することを防止できる。尚、上記風船チャックはスパイラルチューブ９３からの空気の出し入れにより、基体ａの把持及び把持からの解放を作動させることができる。又、上記受け保持台９自体の移動は受け保持台に付属した搬送機（例えばボールネジの駆動手段を有する）９４により、水平移動を行い、移動させることができる。
【００２３】
図３の基体昇降機、即ち塗布昇降機６又は拭き取り昇降機７に付帯している基体把持手段６１、７１も上記保持台の把持手段と同様に基体ａを内部から把持することが好ましい。このような把持手段としては公知のＯリングチャック、エアピッカチャック等を用いてもよい。
【００２４】
上記のように塗布装置と液溜まり除去装置の基体の受け渡しを受け保持台を用いて行うことにより、各工程を連続して作動させ、しかも受け保持台上で塗布膜の流動性を止めることにより液溜まり部除去後の塗布膜端部がなだらかに仕上がり、膜剥がれのない電子写真感光体を作ることができる。
【００２５】
図４は本発明の製造システムの他の一例の概念図である。図４の製造システムでは液溜まり除去装置５が基体の受け保持台を兼ねた構成（図５に示す）を有する。即ち、図４の製造システムでは基体ａに塗布膜が形成され、塗布昇降機６が塗布槽の上に上昇した後、液溜まり除去装置５の真上に移動する。その後、塗布昇降機６は下降し、液溜まり除去装置５に基体を設置する。ここで、液溜まり除去装置５は図５に示すように受け保持台を兼ねた構成を有する。図５の液溜まり除去装置５は剥離溶媒タンク５１、液溜まり拭き取り部材５５、スポンジ状の基体保持部材５４１、基体保持台（受け保持台を兼ねる）５４、及び基体保持台５４の上下移動装置等から構成されている。図５の（ａ）では液溜まり除去装置５は、基体ａの基体保持台がシリンダー５４２の回転により、剥離タンク液面上に上昇している。
【００２６】
このように基体保持台５４が液面から出た状態で塗布後の基体を基体保持台５４上に設置する。
【００２７】
この基体設置後、塗布昇降機６は図４のように上昇し、さらに塗布工程に移動する。つづいて拭き取り昇降機７が液溜まり除去装置５の上に移動し、下降してきて、液溜まり除去装置の基体を把持手段７１により把持する。この間に塗布膜の流動性が止まり、その後、図５のシリンダー５４２の回転により基体保持台５４が剥離タンクの中に図５（ｂ）のように浸漬し、基体保持台５４を回転させて、基体下端部の液溜まり部を除去する。液溜まり除去が完了すると、図４に示されるように再び拭き取り昇降機７は上昇し、出口受け台１０の上に移動した後下降して、出口受け台１０に基体ａを移動させる。以後の乾燥工程は図３と同じである。
【００２８】
このような保持台を兼ねた液溜まり除去装置を用いると図３で示した受け保持台９は、使用する必要がなくなる。
【００２９】
即ち、液溜まり除去装置の基体保持台５４を剥離タンクの内外に移動できる構造とすることにより、受け保持台と液溜まり除去装置を兼ねた構造とすることができる。
【００３０】
即ち、本製造システムの特徴は塗布工程、液溜まり除去工程と続く連続した電子写真感光体の製造方法において、前記各工程を独立した装置で構成し、それぞれの装置間を独立の搬送装置を用いて基体を搬送し、前記装置間の基体の移動に受け保持台を介在させて行うことにより、液溜まり除去後の膜剥がれを防止でき、且つ各工程の生産速度を独立に調整でき、多品種少量生産の生産形態を構成することが出来る。
【００３１】
以下、本発明の製造システムに用いられる各装置の詳細について記載する。本発明の塗布装置は塗布槽４と塗布昇降機６等から構成される。塗布槽は公知の浸漬塗布槽を用いることが出来るが、本発明の製造システムの特徴を生かせる塗布槽としては、多数本が同時に塗布可能な塗布槽が好ましい。図３、図４では、塗布液タンクは基体１本毎に独立しているが多数本を同一の塗布液タンクに浸漬する多数本取りの塗布液タンクを用いてもよい。
【００３２】
次に、液溜まり除去工程の装置構成は液溜まり除去装置５と拭き取り昇降機７等から構成される。図６は液溜まり除去装置５の全体構成図である。
【００３３】
液溜まり除去装置５は剥離溶媒タンク５１、溶媒オーバーフロー室５２、補給タンク５３、基体保持台５４、液溜まり拭き取り部材５５、溶媒循環パイプ５６、ポンプ５７、フィルター５８、拭き取り昇降機７等から構成されている。
【００３４】
基体保持台５４には液溜まり拭き取り部材５５が取り付けられており、基体ａを固定すると同時に液溜まり除去装置５の基体保持台５４の回転により感光体が回転すると、感光体下端の液溜まり部を拭き取り、除去する。尚、図６に示されているように基体保持台５４は液溜まり拭き取り部材５５と共に剥離溶媒タンク５１の溶媒中に浸っており、この為、感光体下端液溜まり部は溶媒で膨潤しながら、拭き取り部材で拭き取られるので、容易に剥離される。
【００３５】
又、剥離溶媒タンク中の溶媒は、補給タンク５３から溶媒循環パイプ５６を経由して常に順環しており、溶媒が液溜まり部の塗布膜を十分溶解できるように、順環パイプの途中にフィルターを設けて、塗布膜成分は除去されている。
【００３６】
本発明の製造システムは各種装置を一体として動作させる為に、システム全体を一括して制御出来る中央演算処理装置を有する制御部と各装置を連結し、各装置を動かすプログラムに基づいた指示を該制御部から出すことにより、このシステム全体を制御するのが好ましい。図３の製造システムを動かす制御フローチャートの一例を図８、図９に示す。図８と図９は連絡したフローチャートであり、図８の＊は図９の＊に連結する。
【００３７】
本発明の製造システムを用いて製造できる電子写真感光体は浸漬塗布により、製膜する円筒形状の電子写真感光体なら、どのような感光体にも適用できるが、最も好ましい電子写真感光体としては、円筒形状の有機感光体である。
【００３８】
前記有機感光体とは電子写真感光体を構成する電荷発生物質及び電荷輸送物質の少なくともいずれか一方を有機化合物を用いて構成された感光体を云う。以下本発明に用いられる円筒状の有機感光体について説明する。
【００３９】
導電性基体（導電性支持体）
本発明の感光体に用いられる導電性支持体として円筒状の導電性支持体が用いられる。該円筒状導電性支持体とは回転することによりエンドレスに画像を形成できることが必要な円筒状の支持体を意味し、真直度で０．１ｍｍ以下、振れ０．１ｍｍ以下の範囲にある導電性の支持体が好ましい。この真直度及び振れの範囲を超えると、良好な画像形成が困難になる。
【００４０】
導電性の材料としてはアルミニウム、ニッケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチックドラム、又は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用することができる。導電性支持体としては常温で比抵抗１０³Ωｃｍ以下が好ましい。
【００４１】
中間層
本発明の感光体に用いられる中間層（ＵＣＬ）は導電性支持体と前記感光層との接着性改良、或いは該支持体からの電荷注入を防止するために、該支持体と前記感光層の間に設けられるが、該中間層の材料としては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位の中の２つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら樹脂の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さくできる樹脂としてはポリアミド樹脂が好ましい。又、これら樹脂を用いた中間層の膜厚は０．０１〜０．５μｍが好ましい。
【００４２】
又、本発明に最も好ましく用いられる中間層はシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の有機金属化合物を熱硬化させた硬化性金属樹脂を用いた中間層が挙げられる。硬化性金属樹脂を用いた中間層の膜厚は、０．１〜２μｍが好ましい。
【００４３】
又、別の好ましい中間層としては酸化チタンとバインダ樹脂を含有し、酸化チタンをバインダ樹脂溶液中に分散、塗布したものが挙げられる。酸化チタンを用いた中間層の膜厚は、０．１〜１５μｍが好ましい。
【００４４】
以下、本発明の有機感光体の好ましい感光層構成について記載する。
感光層
本発明の感光体の感光層構成は前記下引層上に電荷発生機能と電荷輸送機能を１つの層に持たせた単層構造の感光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）に分離した構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ることにより繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御でき、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやすい。負帯電用の感光体では下引き層の上に電荷発生層（ＣＧＬ）、その上に電荷輸送層（ＣＴＬ）の構成を取ることが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順が負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好ましい感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電用感光体構成である。
【００４５】
以下に機能分離負帯電用感光体の感光層構成について説明する。
《電荷発生層》
本発明の電荷発生層は、電荷発生物質とバインダ樹脂を含有し、電荷発生物質をバインダ樹脂溶液中に分散、塗布して形成する。
【００４６】
電荷発生物質は、公知のフタロシアニン化合物を用いることができる。好ましくはチタニルフタロシアニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物である。更にはチタニルフタロシアニンのＹ型、Ａ型（β型）等、Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線（波長１．５４Å）に対するブラッグ角２θの主要ピークが特徴的なチタニルフタロシアニン化合物が良い。これらオキシチタニルフタロシアニンについては特開平１０−０６９１０７号公報に記載されている。又、これらの電荷発生物質は単独で使用しても、２種以上例えばＹ型とＡ型を混合して使用しても良く、多環キノン例えばペリレン顔料と混合して用いても良い。
【００４７】
電荷発生層のバインダ樹脂としては、公知の樹脂を用いることが出来、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の中で、２つ以上を含む共重合体樹脂（例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂）及びポリ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００４８】
電荷発生層の形成は、バインダ樹脂を溶剤で溶解した溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散して塗布液を調製し、塗布液を塗布機で一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。
【００４９】
電荷発生層に使用するバインダ樹脂を溶解し塗布するための溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミン等を挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００５０】
電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー及びホモミキサー等が使用出来るがこれらに限定されるものではない。
【００５１】
電荷発生層を形成する塗布機としては浸漬塗布機、リングコーター等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００５２】
バインダ樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダ樹脂１００質量部に対して電荷発生物質１〜６００部（以下、部とは質量部）が好ましく、さらに好ましくは５０〜５００部である。電荷発生層の膜厚は、電荷発生物質の特性、バインダ樹脂の特性及び混合割合等により異なるが好ましくは０．０１〜５μｍである。
【００５３】
《電荷輸送層》
本発明の電荷輸送層は、電荷輸送物質とバインダ樹脂を含有し、電荷輸送物質をバインダ樹脂溶液中に溶解、塗布して形成される。
【００５４】
電荷輸送物質は、特願２０００−３６０９９８号の明細書の一般式で挙げられる電荷輸送物質の他、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレン及びポリ−９−ビニルアントラセン等を２種以上混合して使用してもよい。
【００５５】
電荷輸送層用のバインダ樹脂は、公知の樹脂を用いることが出来、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂及びスチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられるが、ポリカーボネートが好ましい。更にはＢＰＡ、ＢＰＺ、ジメチルＢＰＡ、ＢＰＡ−ジメチルＢＰＡ共重合体等がクラック、耐摩耗性、帯電特性の点で好ましい。
【００５６】
電荷輸送層の形成は、バインダ樹脂と電荷輸送物質を溶解して塗布液を調製し、塗布液を塗布機で一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。
【００５７】
上記バインダ樹脂と電荷輸送物質を溶解するための溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミン等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００５８】
バインダ樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダ樹脂１００質量部に対して電荷輸送物質１０〜５００部（以下、部とは質量部）が好ましく、さらに好ましくは２０〜１００部である。
【００５９】
電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダ樹脂の特性及び混合割合等により異なるが好ましくは１０〜１００μｍで、さらに好ましくは１５〜４０μｍである。
【００６０】
更に電荷輸送層中にはＡＯ剤、ＥＡ剤、安定剤等を添加しても良い。ＡＯ剤については特願平１１−２００１３５号、ＥＡ剤は特開昭５０−１３７５４３号公報、特開昭５８−７６４８３号公報に記載のものが良い。
【００６１】
《保護層》
耐久性をアップする為に、電荷輸送層上に保護層を設けても良い。特開平９−１９０００４号、特開平１０−０９５７８７号、特開２０００−１７１９９０号の各公報に記載のシロキサン系樹脂を用いた保護層は耐摩耗性を改良し、好ましい。上記では本発明の最も好ましい有機感光体の層構成を例示したが、本発明では上記以外の層構成でも良い。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明した様に、塗布装置と液溜まり除去装置間を円筒状基体の受け渡しに用いる受け保持台を経由して、基体の搬送を行う製造システムを取ることにより、液溜まり除去後の乾燥塗布膜の膜剥がれを防止し、各工程の製造能力を十分に発揮させ、全体の生産効率を高めることが出来る。又、本発明の製造システムは製造品種により、各工程を独立に最適化出来ることから、少量多品種の生産に適している。
【図面の簡単な説明】
【図１】液溜まり除去方法の一例を示す図である。
【図２】各装置間を同一の基体搬送機で基体を搬送している図である。
【図３】本発明に係る電子写真感光体の製造システムの要部を示す概念図である。
【図４】本発明の製造システムの他の一例の概念図である。
【図５】液溜まり除去装置が基体の受け保持台を兼ねた構成を示す図である。
【図６】液溜まり除去装置の全体構成図である。
【図７】基体を内面で把持する基体把持手段を有する受け保持台の例。
【図８】図３の製造システムを動かす制御フローチャートの一例。
【図９】図３の製造システムを動かす制御フローチャートの一例。
【符号の説明】
ａ 基体
Ｅ 液溜まり部
１ 塗布装置（塗布工程）
２ 液溜まり除去工程
３ 乾燥装置（乾燥工程）
４ 塗布槽
５ 液溜まり除去装置
６ 塗布昇降機
７ 拭き取り昇降機
８ 入口受け台
９ 受け保持台
１０ 出口受け台
１１ ベルトコンベア
２１、５１ 剥離溶媒タンク
２１Ｅ 剥離溶媒
２２ 拭き取り部材
４１ 塗布液タンク
４２ 塗布液供給管
４３ オーバーフロー液回収装置
５２ 溶媒オーバーフロー室
５３ 補給タンク
５４ 基体保持台
５５ 液溜まり拭き取り部材
５６ 溶媒循環パイプ
６１ 基体把持手段
７１ 基体把持手段
９１ 基体把持手段
９２ 風船チャック
９３ スパイラルチューブ
９４ 搬送機
５４１ 基体保持部材
５４２ シリンダー

Claims (4)

1. 円筒状基体への塗布液の塗布装置と塗布後の円筒状基体下端部の液溜まり除去装置を有する電子写真感光体の製造システムにおいて、前記各装置が独立した円筒状基体の搬送装置により動作し、各装置間の円筒状基体の受け渡しが、受け保持台を兼ねた液溜まり除去装置の該受け保持台を経由して行われることを特徴とする電子写真感光体の製造システム。
2. 前記受け保持台は液溜まり除去装置の基体保持台を剥離タンク液面上に出して受け保持台としたことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造システム。
3. 前記受け保持台は円筒状基体の下端部を接地させない把持手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造システム。
4. 円筒状基体上への塗布液の塗布工程と塗布後の円筒状基体下端部の液だまり除去工程を有する電子写真感光体の製造方法において、前記各工程を独立した搬送装置により行い、各工程間の円筒状基体の受け渡しが、受け保持台を兼ねた液溜まり除去装置の該受け保持台を経由して行われることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。

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