JPH0221961A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の感光
層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関するものである
。

口、従来技術 電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際しては、良
好な感度特性を保ち、濃度Ｊ、う等の画像欠陥を防止し
て感光体としての良好な性能を発揮するため、高精度で
均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているか、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布体（導電性基体等）に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

こうしたデイツプ塗布方法により円筒状導電性基体（中
空のもの。以下、基体トラムと呼ぶことがある。）の表
面に塗布を行う場合、中空の基体トラムをそのまま浸漬
したのでは円筒状基体の両端が開口となっていることか
ら基体トラムの中空部分にｇ７′：布／＆（塗料）が入
り込み、内壁面に塗布液が何着し、無駄となる。従って
、これを防止するため、基体ドラムの浸漬時に基体ドラ
ム上◇ゼ；部を閉塞させることが行われている。

第８図はこうした方法によるデイツプ塗布装置を示す断
面図である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されており、デイ
ツプ塗布時には基体ドラム４を開口部４ｂを下向きにし
て塗布液１へと浸漬する。基体トシム４の上端側聞口４
ｆはＭ５により閉鎖されており、蓋５の外周面と基体ド
ラム内周面４ｄとの間にばＯ−リング１０が設けられ、
空気洩れを防止している。基体ドラム４を浸漬すると、
基体ドラム４内の中空部４Ｃを満たしている空気のため
に塗布液１が中空部４Ｃより排除され、液面が位置１Ｃ
にまで低下する。これにより、基体トラム外周面４ｅは
高さ４ａの位置まで塗布される。

そして、浸漬終了後、蓋５の把手５ａを把持して基体ド
ラム４を所定速度で引き上げ、基体ドラム外周面４ｅ上
に高さ４ａまで塗膜を形成する。

しかし、このような塗布装置では、塗布？（９，１と外
気温度との温度差により中空部４Ｃ内の空気自体か膨張
したり、塗布液１中の溶剤が中空部４Ｃ内・＼とブに発
したりするごとにより、中空部内の空気が一点鎖線１ｄ
のように膨らめ、基体トラム４の引き−４−げ■４．に
開口部４ｂ側から泡３を生しることが多い。そして、こ
の泡３により塗布液１が揺れ、基体ドラム４上の塗膜に
ムラを生じ、均一な塗膜が得られなくなる。

かかる問題を解決する方法として、以下のようなものが
知られている。

（ａ）、特開昭５９−８０３６３号公報記載の方法両端
が開放状態にある円筒状基体ドラムの下端部を塗膜）液
中に浸漬し、基体トラムの下端部の中空部分に塗布液を
浸入さ・ける。しかる後に基体ドラムの上端部を密閉し
、この密閉状態で基体ドラｊ、を塗布液中に浸漬さセる
。

しかし、この方法では、基体トラ１、浸漬時に基体１−
ラム中空部内の溶剤蒸気が外部へと飛散し、周囲の作業
環境を汚染する。

（ｂ）、特公昭６２　４１８７号公報記載の方法第９図
に示すように、塗布槽側壁２ｄを貫通ずるパイプ９を設
け、塗布液１の液面よりもパイプ９の上端開口９ａの方
が上方に位置するようにする。パイプ９の他端には風船
状の伸縮自在の空気室２８を設りである。そして、基体
トラム４を浸漬したときには中空部４ｃ内の空気がパイ
プ９を通して空気室２８内に流入し、空気室２８が実線
で示すように膨張し、基体ドラム４Ｃ内の空気の一部を
抜く。これに伴い、塗布液液面は１ｅの高さへと若干上
昇する。基体トラム４を引き上げると、空気室２８は仮
想線で示すように収縮する。

しかし、この方法では、抜いた空気を貯える空気室を塗
布槽の外に別個に設ける必要があり、場所をとる上に、
コスト的にも不利となる。

（Ｃ）、実開昭６１−１５５０７１号公報記載の方法第
１０図に示すように、塗布槽底面２ｃを貫通ずるパイプ
９が設けられ、基体ドラム４を浸漬した状態で基体ドラ
ム４の下端よりもパイプ９の開口９ａが上方に位置する
ようにする。この状態でバルブ１８を開栓して中空部４
ｃ内の空気を抜き、塗布液液面を位置１ｅの高さにまで
上昇させる。

そして、基体トラム４を」−弄させるときには、バルブ
１８を閉じる。

しかし、この方法でも、基体中空部４ｃ内の溶剤蒸気が
外気・＼と飛散する。

ハ０発明の目的 本発明の目的は、被塗布体の凹部内の気体膨張等に起因
する気泡の発生及びこれによる塗布ムラの発生を防１ト
でき、塗布槽外に空気室等の設備を要せず、しかも被塗
布体凹部内の塗布液蒸発成分が外気・＼と飛散するのを
防止できるような塗布装置を提供することである。

二１発明の構成 本発明は、四部を有する被塗布体を塗布槽内に収容され
ている塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対
して相対的に引き上げることによって前記塗布液を前記
被塗布体に塗布する塗布装置において、前記被塗布体の
保持部材にスライド部材が前記四部に面して設？ｌＪら
れ、前記被塗布体を浸漬するに際して前記スライド部材
のスライドによって１油記四部の体積が変化するように
構成したことを特徴とする塗布装置に係るものである。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

以下の実施例において、従来の塗布装置と同の機能を有
する部材には同一の符号をイ・１し、その説明は省略す
る。

〕（功ｔ１汐腫上 第１図、第２図はそれぞれ塗布装置を示す断面Ｈであっ
て、第１図は基体ドラム浸漬時の状態を示し、第２図は
基体ドラムの浸漬前後の状態を示すものである。

本例においては、蓋５、把手５ｂを貫通ずる５７通孔５
Ｃが設けられ、貫通孔５Ｃ内に矢印Ａ・Ｂ方向へとスラ
イド可能なスライド部材６が嵌め込まれている。スライ
ド部材６のスライド部６８は貫通孔５ｃと摺接して中空
部４Ｃ内の空気、溶剤蒸気が外部へと漏れるのを防止し
、スライド部６ａの上端には把持部６ｂが設けられてい
る。なお、図中、５ｄは蓋内周面である。

次に、基体ドラム４の浸漬、引き」−げ動作について述
へる。

第２図に示ず状態から、塗布液１中へと基体トラＪ、４
を開口４ｂを下向きとしつつ浸漬し、第１し１に小ず状
態とする。このとき、従来は、中空部４（、内の圧力は
徐々に高まり、また基体中空部４Ｃ中への溶剤茶気の蒸
発等が〕１：じ、塗布液液面は仮想線で示す１ｃの位置
もしくは更に膨張していた。

ごれにり・１し、本例では、基体ドラム下端か塗布液液
面と接触した後、基体トラム引き上げ前の状態までの間
に、スライド部材６を矢印Ａの方向へと移動させ、第２
図に示す状態（第１図に仮想線で示す状態）から、第１
図に実線で示す状態とする。

ごれ乙ごまり、塗布液）イシ面を１ｃの高さにまで上臂
さ−Ｕることかでき、基体ドラ１、下端部から気泡が生
ずることはない。

次に、基体ドラム４を−Ｉ−４させ、第２図に示す状態
とする。このとき、中空部４ｃ内の圧力は徐々に減少す
るが、これ乙こ応してスライド部材６を矢印日の方向・
＼とスライ１ζさ一已、第２図に示ず状態とする。ごれ
により、最終的には、塗４Ｊ液１が中空部４ｃ内から排
除され、基体ドラム４の引き上げが終了する。

次に、本例の塗布装置の態様について更に述−・る。

体積、中空部４ｃの温度、中空部４ｃ内・＼の溶剤の蒸
発量等により定まるものであり、スライド部材６の後退
距離を変えることにより容易に所定位置に設定できるも
のである。

（ｂ）、基体ドラム４の浸漬、引き＋げ動作は、例えば
ザーボモータ等により容易に行える。また、スライド部
材６の矢印Ａ−Ｂ方向へのスライドも同様にザーホモー
タ等によって簡略、正確に行える。

基体ドラム４の浸漬、引き上げを行うサーボモタ等と、
スライド部材６のスライドを行うザーボモータ等との同
期も、公知の手段により容易に行える。

スライド部材６を蓋５に対し相対的にスライドさせる際
、上記のようにスライド部＋Ａ６を動かしでよいが、ま
たスライド部月６の方を固定し、基イ本１−ラＪ、４の
力だジノを駆暇Ｊしてもよい。

本例の塗布装置によれば、以下の効果を奏しうる。

（ａ）、基体ドラムの浸漬肋に、蓋に設けられたスライ
［・部）Ａをスライ１させ、基体ドラム中空部内の体積
を増加させて塗布液液面の高さを一定の高さに保持して
いるので、基体ドラム下端側から気泡が生しない。従っ
て、塗布液の揺れを防止でき、塗膜ムラの発生が防止で
きる。

（ｂ）、基体ドラムの浸漬、引き上げ時に、基体ドラム
中空部内が閉鎖されているので、中空部内の溶剤蒸気が
外気中へと飛散することがない。

（Ｃ）、例えば第９図に示す空気室のようなものを塗布
槽外へ設ける必要はない。従ゲで、設備がより簡略であ
り、場所をとらず、コスト的にも有利である。

（ｄ）、基体ドラムの浸漬時における塗布液液面の高さ
を、スライド部材のスライド距離を変えることにより所
定高さに容易かつ正確に設定できる。従って、基体ドラ
ム中空部内への塗布液の浸入、中空部内周面への塗布液
の付着を制御でき、非常に少なく抑えることができる。

（ｅ）、基体ドラムの浸漬、引き上げ動作、スライド部
材のスライド動作、及び再動作の同期を、サーボモータ
等により機械的に正確に行うことができ、生産上も有利
である。

げ）、基体ドラム４が円筒ドラム状であるため、上記同
期がより容易であると考えられる。スライド部６ａと基
体ドラム４との断面積が長さ方向で一定だからである。

仮に、基体ドラム４が′ひようたん形”の場合には、ス
ライド部材６によるコントロールは難しくなる。太い所
と細い所とでスライド速度が異なるからである。

（（２）、実質的にスライド部材６と貫通孔５Ｃとによ
り基体ドラム中空部内の圧力制御を行っているので、構
造が簡略であり、装置のｌ型化、ロス１−ダウンが可能
となる。

（ｈ）、スライド部材６（第１図参照）を固定させ、基
体ドラム４の浸漬、引き上げにより、上述のように、自
動的にスライド部材６を貫通孔５Ｃに対してスライドさ
せることができる。この場合には、最初にスライド部６
ａの寸法等を適当に設定しておけば、以後スライド部材
を駆動する必要もなく、基体１′ラム中空部内の圧力制
御が自動的に行われる。従って、簡便で、手間がかから
ず、Ｊｌ・常に有利である。

（ｉ）、電子写真感光体においては、塗膜上の塗布ムラ
を防止できる結果として、複写画・像上の画像ムラｌを
防止でき、均一な画像を提供できる。

実２施遣Ｉ 第３図は更に他の塗布装置を示す要部拡大断面図である
。

本例においては、第１図と同様の構成を採用しているが
、スライド部６ａを蓋内壁面５ｄより中空部４ｃ側へと
突出させていない点が異なる。

即ち、第２図のような状態では、スライド部材６ば第３
図に実線で示す状態とされ、第１図に示すように基体ド
ラムを浸漬した場合には、スライド部材６は第３回に仮
想線で示す状態とされる。

本例においても、実施例１と同様の作用効果を奏しうる
。

実１１肌１ 第４図は更に他の塗布装置を示す概略部分断面図であり
、いわゆるオーバーフロ一方式によるものである。

本例においても、第１図の塗布装置と同様に、Ｍ５に貫
通孔５ｃが設けられ、スライド部材６が貫通孔５ｃ内に
スライド可能に設けられており、実施例１と同様の作用
効果を奏しうる。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容され、塗布槽２の
側壁２ｄの周囲には受は皿１３が設けられている。塗布
液１は、タンク１６からポンプ（Ｐ）１７によって送り
出され、フィルター１５を介して、供給口１１より矢印
Ｅで示すように塗布槽２内へと供給され、更に側壁２ｄ
の上総部２ｅを越えて塗布槽２の円周方向へと溢流し、
受は皿１３で集められ、排出口１４よりタンク１６へと
排出される。円筒状基体ドラム４は塗布液１内に浸漬さ
れ、次いで所定の速度で引き上げられ、デイツプ塗布が
施される。このデイツプ塗布時に、上述のように塗布液
１が側壁２ｄの一ト縁部２Ｃを越えて溢流し続けている
ので、塗布液１の液面の高さは一定に保たれる。

かかるオーバーフロ一方式の塗布方法によれば、塗布装
置において液面位が一定に保たれるため、塗布槽内壁の
乾固物生成がなく、また生成してもフィルター１５によ
り濾過できるため、巽物付着による塗布欠陥防止に効果
的である。

田 第５図〜第７部はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。

第５図の感光体においては、導電性基体３０の上に第１
層としてキャリア発生層３１が設けられ、キャリア発生
層３１の上に、第２層としてキャリア輸送層３２が設け
られている。第６図の感光体は、導電性基体３０側から
見て、第１層としてキャリア輸送層３２、第２層として
キャリア発生層３１を順次積層したものである。第７図
の感光体は、第１層として、キャリア発生物質とキャリ
ア輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層３３を
有するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗布層
の数、種類は第５図〜第７図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層、
保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞれ
下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるもの、
キャリア発生層、−）−ヤリア輸送層、保護層であるも
の、第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引層
、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの
、或いは下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保
護層であるもの等が挙げられる。

下引層はアクリル系、メタアクリル系、塩化ビニル系、
酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノー
ル系、ポリエステル系、アルキラミ系、ボリカーホ不−
１・系、シリコン系、メラミン系、塩化ヒニルー酉酸ヒ
ニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ヒニルー無水マレ１′
ン酸共重合体等の各種樹脂類で形成することかできる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素等のアゾ系色素、ペリレン酸無水物、ペ
リレン酸イミド等のペリレン系色素、インジゴ、チオイ
ンジゴ、等のインジゴ系色素、アンスラキノン、ピレン
キノン及びフラパンスロン類等の多環−１−ノン類、キ
ナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系の色素、
インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属フ
タロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニ
ン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩色素と
ポリカーボ不−１・から形成される共晶錯体等、公知各
種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必要
によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分散
し、塗布することによって形成することができる。

またキャリア輸送層は例えばｌ・リニ］・ロフルオ（Ｊ
５） レノンあるいはテトラニトロフルオレノン等の電子を輸
送しやすい電子受容性物質のほがポリ−Ｎビニルカルバ
ゾールに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する
重合体、トリアゾール誘導体、オキザジアヅール誘導体
、イミダゾール誘導体、ピラヅリン誘導体、ポリアリー
ルアルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラ
ゾン誘導体、アミン置換カルコン誘導体、トリアリール
アミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルヘン誘導体
、フェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやす
いキャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒
に熔解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなギヤリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共に
溶媒中に熔解或いは分散し、塗布することによって形成
することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リヒニルアセテ−１・、スチレン系共重合樹脂（例えば
スチレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル
酸メチル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（
例えば塩化ビニリデンーアクリロニ１−リル共重合体等
）、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリ
コン−アルキン］・樹脂、フェノール樹ｊ指（１列えば
フェノール−ポル広アルデヒ）・樹脂、ｍ−クレゾール
−ボルムアルデヒド樹脂等）、スヂし・ンーアル４’　
ンｌ樹脂、ポリ−Ｎビニルカルバゾール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルフ調ルマール、／４ｒｊのフィル
Ｊ・形成性高分子重合体が好ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうぢ
２つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成することが
できる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１２−ジクロルエタ
ン、１，１．２−）ジクロルエタン、１，１，２．２−
テトラクロルエタン、１，１．２−）ジクロルプロパン
、１１２２−テトラクロルプロパン、１，２．３トリク
ロルプロパン、１，１．２−）ジクロルメタン、１２．
３．４−テトラクロルブタン、テトラヒドロフラン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジオキサン、メ
タノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エチル
、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセルソル
ブアセテト、ｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチ
レンジアミン、イソプロパツールアミン、］・リエタノ
ールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ、　　Ｎジノデ
ルポルムアミＦ等か挙げられる。

又、前記４・ヤリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解
して塗布液を形成するだめの溶媒としては、これらを均
一に溶解するものが選択されるが、沸点（＋）Ｐ）が８
０°Ｃ〜１５０°Ｃのものが好ましく、９０°Ｃ〜１２
０°Ｃのものがより好ましい。沸点が８０°Ｃ未満では
乾燥が早すぎて結露し、ブラシングを生し易く、又、乾
燥が早すぎてレヘリングができず、平滑な感光層が得ら
れなくなり易い。又、１５０°Ｃを超えると液垂れ、塗
布ムラが生し易い。具体的には、ジクロルメタン、■、
２−ジクロルエタン（ｂ　ｐ　＝８３．５°Ｃ）、１，
１．２−トリクロルエタン（ｂｐ−］］、３．５°Ｃ）
、１，４−ジオキサン（ｂ　ｐ　＝１０１．３°Ｃ）、
ベンゼン（ｂ　ｐ　＝８０．］°Ｃ）、トルエン（ｂ　
ｐ　＝１１０．６’Ｃ）、ｏ、ｍ、ｐ、　−キシレン（
ｂ　ｐ　＝１３８〜１４４°Ｃ）、テトラヒドロフラン
、ジオキリ−ン、モノクロルヘンセン等が挙げられる。

また、沸点が８０°Ｃ〜１５０°Ｃの範囲にない溶媒で
も高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点調整を行
うことができる。

また、キャリア発生層、中層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引層等が存在する場合には
、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択される
。

特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、１．１２−トリクロ
ルエタン、１，１，２．２−テトラクロルブタン、テト
ラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサンは、
キャリア発生層、ギヤリア輸送層のいずれにも好ましい
溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１１００００ｐｐが好ま
しく、より好ましくは１０〜ｌｏｏＯｐｐｍである。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目的
として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸
等の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質１
００重量部当たり０．１〜１００重量部の割合で添加す
ることができる。更に又、感光層中には、必要により感
度向−ヒ、メモリー低減を目的としてブチルアミン、ジ
イソブチルアミン等の有機アミンをキャリア発生物質の
モル数以下のモル数で含有せしめてもよい。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照躬特発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。

さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒智が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつｉ’：＋速となる利
点がある。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されない凧 か、形状としてはＶ筒状のものが好ましく用いられる。

また、祠料としては、アルミニウム合金−９の金属板、
金属トラＪ１、又は導電性ポリマー、酸化インジウム等
の導電性化合物若しくはアルミニラ１１、パラジウム、
金等の金属よりなる導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネー
ト等の手段により、紙、プラスチックフィルム等の基体
乙こ設けて成るものが用いられる。

キャリア発生層、栄層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に熔解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をホールミル、ボモミキリーー
等によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイ
ンターを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する
方法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散さ−
ｌると、均一分散が可能になる。

感光層、下引層、保護層等の感光体構成層の形成用塗布
液は、粘度を５〜５００ｃｐ（センナボイス）の範囲内
とするのが好ましく、１０〜３００ｃｐの範囲内とする
とより好ましい。粘度が」１記範囲より小さいと塗膜に
タレを生し易く、ドラＪ、上部よりも下部の方が厚膜と
なる傾向があり、上記範囲より大きいと塗布槽中の塗布
液の粘度が不均一になり易く、塗膜に膜厚１、うを生し
る傾向がある。

なお、感光体構成層の形成に際しては、ブレーｌ−塗布
、スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法をも併用
してもよい。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の態
様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能であ
る。

例えば、塗布槽、Ｎ（基体トラム保持部材）、基体トラ
ム、スライド部材、スライド部材がスライドする貫通孔
等の寸法、形状、構造等は種々変更可能である。

スライド部材を駆動する場合には、駆動方法は種々選択
できる。

塗布槽を下部させ、基体ドラムの方を一定位置に保持す
ることにより、基体ドラムの外周面に塗布を行うことも
可能である。この場合は、スライド部材の駆動を行う必
要がある。

第１０図に示すような把手５ａをＭ５に設けることもで
きる。この場合には、スライド用貫通孔を蓋５の他の任
意の位置に設けうる。なお、スライド部材及びスライド
用貫通孔を蓋５」二に複数個設りることもできる。

本発明は種々の塗布装置に適用できる。

へ６発明の効果 本発明の塗布装置によれば、被塗布体を浸漬するに際し
てスライド部材のスライドによって被塗布体凹部の体積
が変化するよう構成されている。

従って、被塗布体浸漬時に凹部に面する塗布液液面を一
定の位置に保持でき、被塗布体四部から気泡が４卜シな
い。これにより、塗布液の揺れを防止でき、塗膜Ｊ、う
の発生を防止できる。

また、スライド部材が被塗布体凹部に面して設けられて
いるので、凹部内の塗布液蒸発成分の外気中への飛散が
スライド部材により抑えられる。

更に、スライド部材が被塗布体の保持部材に設番ノられ
ているので、空気室等の設備を必要とせず、場所をとら
ない。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は実施例を示すものであって、第１図は
塗布装置を示す断面図（基体ドラムを浸漬した状態を表
す。）、 第２Ｖば塗布装置を示す断面図（基体ドラムを浸漬する
前後の状態を表す。）、 第３図は他の塗布装置を示す要部拡大断面図、第４図は
いわゆるオーバーフロ一方式による塗布装置を示す概略
部分断面図 である。 第５図、第６図、第７図はそれぞれ電子写真感光体の一
例を示す部分断面図である。 第８図、第９図、第１０図はそれぞれ従来の塗布装置を
示す断面図である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・塗布液 ｉｂ、１ｃ、ｌｅ ・・・・・・・・・塗布液液面の位置（高さ）２・・・
・・・・・・塗布槽 ４・・・・・・・・・導電性基体ドラム４ｂ、４ｆ・・
・・・・・・・開口 ４ｃ・・・・・・・・・中空部 ５・・・・・・・・・蓋 ５ａ、５ｂ・・・・・・・・・把持部 ５ｃ・・・・・・・・・貫通孔 ６・・・・・・・・・スライド部材 ６ａ・・・・・・・・・スライド部 ６ｂ・・・・・・・・・把持部 １０・・・・・・・・・０−リング １８・・・・・・・・・開閉弁付きバルブ２８・・・・
・・・・・空気室 である。 代理人　　　弁理士　　連環　宏

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、凹部を有する被塗布体を塗布槽内に収容されている
   塗布液に浸漬し、前記被塗布体を前記塗布液に対して相
   対的に引き上げることによって前記塗布液を前記被塗布
   体に塗布する塗布装置において、前記被塗布体の保持部
   材にスライド部材が前記凹部に面して設けられ、前記被
   塗布体を浸漬するに際して前記スライド部材のスライド
   によって前記凹部の体積が変化するように構成したこと
   を特徴とする塗布装置。