JPH10337514A - 浸漬塗布装置、および電子写真感光体の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布ムラ／ダレのない均一な膜厚の塗膜を形
成し得る浸漬塗布装置、および、これを用いた電子写真
感光体の製造装置を提供すること。 【解決手段】 塗布液を保持し、被塗物を浸漬する浸漬
塗布槽１１と、その外周に設けられた塗布液受け皿１２
と、浸漬塗布槽１１底部から塗布液を供給し、該浸漬塗
布槽１１上端開口部から塗布液を溢流させる液送手段Ｐ
とを有し、溢流した塗布液を塗布液受け皿１２にて回収
し、再度前記液送手段Ｐにより前記浸漬塗布槽１１に供
給することにより塗布液を循環させる浸漬塗布装置１０
において、前記塗布液受け皿１２上部に前記浸漬塗布槽
１１の外周よりも大きな開口を有する蓋１４を設け、前
記浸漬塗布槽１１上端を前記蓋１４の開口より突出させ
たことを特徴とする浸漬塗布装置、及びこれを用いた電
子写真感光体の製造装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬塗布法により
被塗物の表面に塗膜を形成する浸漬塗布装置、および、
浸漬塗布法により円筒状基体周面に電子写真感光体の構
成層を形成する電子写真感光体の製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、円筒状の導電性基体
の周面に感光層となる材料（以下、単に「塗布液」とい
う）を塗布して製造される。塗布液の塗布方法は、図６
に示す浸漬塗布装置６０を用い、塗布液を入れた浸漬塗
布槽６１に、円筒状基体の長手方向を垂直にして円筒状
基体を所定の深さまで浸漬したのち引き上げ、次いで、
引き上げた円筒状基体を静止させて周面の塗布液を指触
乾燥し、その後熱風乾燥機等により乾燥し、塗膜を固化
する方法が採用されている。

【０００３】そして、基体の塗布上下方向の塗膜の均一
性を得るために、塗布液の溶媒としては、通常、速乾性
の溶媒が用いられる。速乾性の溶媒を用いる事により、
塗布液の固化を短時間で行うことができるが、次の様な
理由により、速乾性溶剤を用いても膜厚／ムラダレが発
生する場合がある。

【０００４】すなわち、特に速乾性の溶媒を用いると溶
剤蒸気濃度の発生が多くなり、浸漬塗布槽の塗布液面、
塗布液受け皿（フローパン）６２内、および、被塗物自
体から発散される溶剤蒸気により、浸漬塗布槽上部の溶
剤蒸気濃度が高濃度になり、引き上げた円筒状基体周面
の塗布液の固化までに要する時間が増し、塗膜ムラ／ダ
レが大きくなる。

【０００５】このような塗膜ムラ／ダレの回避策とし
て、浸漬塗布槽上部の溶剤蒸気濃度を低減すべく、１）
特開昭５９−１２７０４９号等に記載されている様に、
円筒状基体が浸漬塗布槽中に浸漬している間に、塗布液
受け皿近傍に外部よりエアーを送り込み、塗布液受け皿
近傍より溶剤蒸気を同伴したエアーを排出し、浸漬塗布
槽から円筒状基体を引き上げた時の円筒状基体周辺の溶
剤蒸気濃度を事前に低減し、指触乾燥速度を促進させる
ものや、２）特開平３−１５１号等に記載されている様
に、塗布液受け皿近傍に溶剤蒸気排出口を具備し、ＯＮ
−ＯＦＦ機構を付与した強制排気装置に連結し、浸漬塗
布槽から円筒状基体を引き上げた時の円筒状基体周辺の
溶剤蒸気濃度を制御するもの等が開示されており、これ
らにより膜厚ムラを抑制する事が行われている。

【０００６】しかし、前者においては、浸漬塗布槽の塗
布液面より蒸発する溶剤蒸気の滞留を防止するには有効
であるが、円筒状基体引き上げ時に円筒状基体周面の塗
布膜より発生する溶剤蒸気を排出できないため、円筒状
基体周辺の溶剤蒸気濃度は上昇し塗膜ムラ／ダレが発生
してしまい、塗膜厚の均一化をはかるのは困難であっ
た。又、後者においては、ＯＮ−ＯＦＦ動作による円筒
状基体周辺の溶剤蒸気濃度の追従に遅れが生じ、前記同
様、塗膜厚の均一化をはかるのは困難であった。

【０００７】また、特開平８−２２０７８６号に、循環
塗布液を回収する塗布液受け皿の戻り配管に浸漬塗布槽
の塗布液面より低い位置に溶剤蒸気排出口を設け、溶剤
蒸気濃度をコントロールする方法などが提案されてい
る。しかし、特に多本塗りになった場合の浸漬塗布装置
全体の形状や複数の浸漬塗布槽と塗布液受け皿の位置関
係などの問題で、必ずしも理想的な排気ができない。即
ち、溶剤蒸気濃度をある程度低減する事は達成できて
も、複数の浸漬塗布槽と塗布液受け皿の位置関係等によ
り、引き上げられた各円筒状基体周辺の溶剤蒸気濃度に
バラツキが発生してしまい、各円筒状基体間、および円
筒状基体一本内の膜厚ムラ／ダレ抑制には、充分な効果
が得られなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】以上の如く、浸漬塗布
装置では、円筒状基体を浸漬塗布槽の塗布液中に浸漬し
た後、塗布液より引き上げて塗膜を形成する際、浸漬塗
布槽の塗布液面、塗布液受け皿内、被塗物自体から発散
される溶剤蒸気により、浸漬塗布槽上部の溶剤蒸気濃度
が高濃度となるため、速乾性の溶剤を用いても塗膜の固
化が遅くなり、膜厚ムラ／ダレが生じ易くなる。従っ
て、その改善策として浸漬塗布槽上部の溶剤蒸気濃度を
低減する事が重要である。

【０００９】本発明の目的は、塗布液受け皿内から発生
する溶剤蒸気と被塗物自体から発散される溶剤蒸気とを
分離し、塗布後引き上げた被塗物自体から発散される溶
剤蒸気を拡散しやすくすることにより、該被塗物周辺の
溶剤蒸気濃度を低下させ、塗布ムラ／ダレのない均一な
膜厚の塗膜を形成し得る浸漬塗布装置を提供すること、
更には、塗布ムラ／ダレのない均一な感光層等を形成し
得る電子写真感光体の製造装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
により達成される。即ち本発明は、 （１）塗布液を保持し、被塗物を浸漬する浸漬塗布槽
と、該浸漬塗布槽の外周に設けられた塗布液受け皿と、
前記浸漬塗布槽に塗布液を供給する液送手段と、を有
し、液送手段により浸漬塗布槽底部から塗布液を供給
し、該浸漬塗布槽上端開口部から塗布液を溢流させ、溢
流した塗布液を塗布液受け皿にて回収し、再度この塗布
液を前記液送手段により前記浸漬塗布槽に供給すること
により、塗布液を循環させる浸漬塗布装置において、前
記塗布液受け皿上部に前記浸漬塗布槽の外周よりも大き
な開口を有する蓋を設け、前記浸漬塗布槽上端を前記蓋
の開口より突出させたことを特徴とする浸漬塗布装置で
ある。 （２）浸漬塗布槽が円筒状であり、蓋の開口が円形であ
り、該浸漬塗布槽と蓋の開口とが同心円となるように配
したことを特徴とする（１）に記載の浸漬塗布装置であ
る。

【００１１】（３）浸漬塗布槽の外径Ｄｄ（ｍｍ）と蓋
の開口径Ｆｄ（ｍｍ）とが、以下の関係を有することを
特徴とする（２）に記載の浸漬塗布装置である。 １＜Ｆｄ／Ｄｄ≦１．５ Ｆｄ−Ｄｄ≧４（ｍｍ） （４）軸方向両端が開口し、蓋の開口径と同径以上の内
径を有し、かつ、外周に外部と連通する連通孔が設けら
れた円筒状フードを、蓋の開口の上部に該開口と同心円
となるように配したことを特徴とする（２）または
（３）に記載の浸漬塗布装置である。 （５）連通孔が、フードの外周の下端部および／または
その周辺部に設けられたことを特徴とする（４）に記載
の浸漬塗布装置である。

【００１２】（６）連通孔が、フードの外周の全面に設
けられたことを特徴とする（４）に記載の浸漬塗布装置
である。 （７）フードの外周が、１０μｍ〜１ｍｍの開口径のメ
ッシュ状であることを特徴とする（４）に記載の浸漬塗
布装置である。 （８）浸漬塗布槽を複数有し、かつ蓋に浸漬塗布槽と同
数の開口が設けられたことを特徴とする（１）〜（７）
に記載の浸漬塗布装置である。

【００１３】（９）電子写真感光体の構成層となる塗布
液を保持し、円筒状基体を浸漬する浸漬塗布槽と、該浸
漬塗布槽の外周に設けられた塗布液受け皿と、前記浸漬
塗布槽に塗布液を供給する液送手段と、を有し、液送手
段により浸漬塗布槽底部から塗布液を供給し、該浸漬塗
布槽上端開口部から塗布液を溢流させ、溢流した塗布液
を塗布液受け皿にて回収し、再度この塗布液を前記液送
手段により前記浸漬塗布槽に供給することにより、塗布
液を循環させ、前記浸漬塗布槽に浸漬した円筒状基体を
引き上げその周面に電子写真感光体の構成層を形成する
電子写真感光体の製造装置において、前記塗布液受け皿
上部に前記浸漬塗布槽の外周よりも大きな開口を有する
蓋を設け、前記浸漬塗布槽上端を前記蓋の開口よりも突
出させたことを特徴とする電子写真感光体の製造装置で
ある。 （１０）浸漬塗布槽が円筒状であり、蓋の開口が円形で
あり、該浸漬塗布槽と蓋の開口とが同心円となるように
配したことを特徴とする（９）に記載の電子写真感光体
の製造装置である。

【００１４】（１１）浸漬塗布槽の外径Ｄｄ（ｍｍ）と
蓋の開口径Ｆｄ（ｍｍ）とが、以下の関係を有すること
を特徴とする（１０）に記載の電子写真感光体の製造装
置である。 １＜Ｆｄ／Ｄｄ≦１．５ Ｆｄ−Ｄｄ≧４（ｍｍ） （１２）軸方向両端が開口し、蓋の開口径と同径以上の
内径を有し、かつ、外周に外部と連通する連通孔が設け
られた円筒状フードを、蓋の開口の上部に該開口と同心
円となるように配したことを特徴とする（１０）または
（１１）に記載の電子写真感光体の製造装置である。 （１３）連通孔が、フードの外周の下端部および／また
はその周辺部に設けられたことを特徴とする（１２）に
記載の電子写真感光体の製造装置である。

【００１５】（１４）連通孔が、フードの外周の全面に
設けられたことを特徴とする（１２）に記載の電子写真
感光体の製造装置である。 （１５）フードの外周が、１０μｍ〜１ｍｍの開口径の
メッシュ状であることを特徴とする（１２）に記載の電
子写真感光体の製造装置である。 （１６）浸漬塗布槽を複数有することを特徴とする
（９）〜（１５）に記載の電子写真感光体の製造装置で
ある。

【００１６】従来においては、浸漬塗布槽の塗布液面
（オバーフロー面）の高さを特に規定した技術は開示さ
れておらず、一般に前記オバーフロー面と塗布液受け皿
の上部に設けられた開口を有する蓋とは略同一の高さ、
または該蓋の方がやや高い位置に設定されている。これ
に対し、本発明は、浸漬塗布槽上の溶剤蒸気濃度を低下
させる手段として、浸漬塗布槽の塗布液面（オバーフロ
ー面）が、オバーフローした液を受ける塗布液受け皿
（フローパン）の壁より高く、塗布液受け皿の上部に設
けられた開口を有する蓋より突出している事を特徴とす
る。このような構成とすることにより、浸漬塗布槽の塗
布液面や被塗物自体から発生した溶剤蒸気の逃げ道を確
保することができ、浸漬塗布槽上部の溶剤濃度の低減を
図ることができる。即ち、塗布液の溶剤蒸気は一般に空
気より重く、浸漬塗布槽の塗布液面や被塗物自体から発
生した溶剤蒸気は、下方に逃げ道があればその方向に流
れだし、浸漬塗布槽上部に溶剤蒸気が滞留することな
く、溶剤濃度が低減される。また、塗布液受け皿で発生
した溶剤蒸気は、外部の空気の流れ等により上方に昇っ
て来ようとしても、塗布液受け皿上の蓋により遮断さ
れ、浸漬塗布槽上部まで上昇することなく、浸漬塗布槽
上部の溶剤の低濃度が確保できる。その結果、塗布むら
のない均一な膜厚の被塗物、例えば電子写真感光体を製
造することができるものである。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施形態を説明
する。図１は、本発明の浸漬塗布装置１０の概略構成図
を示したものである。図１において、１１は塗布液を保
持し、被塗物を浸漬する浸漬塗布槽であり、１２は浸漬
塗布槽１１の外周に設けられたフローパン（塗布液受け
皿）であり、さらに浸漬塗布装置１０は浸漬塗布槽１１
に塗布液を供給するポンプ等の液送手段Ｐを有してい
る。なお、本実施例では、フローパン１２にて回収され
た塗布液を回収し、塗布液の濃度、粘度等を調製して次
の循環に備える塗布液回収槽１５、および、液送手段Ｐ
の下流に塗布液中の不純物を取り除くフィルターＦが備
えられている。塗布液回収槽１５中の塗布液は液送手段
ＰによりフィルターＦを介して浸漬塗布槽１１底部から
供給される。浸漬塗布槽１１では上端開口部から塗布液
が溢流し、この溢流した塗布液はフローパン１２により
回収され、戻り配管１３を通って塗布液回収槽１５に送
られる。この回収された塗布液は、上記同様、再度液送
手段Ｐにより浸漬塗布槽１１に供給され、浸漬塗布装置
１０中を循環する。この浸漬塗布装置１０は、フローパ
ン１２の上部に浸漬塗布槽１１の外周よりも大きな開口
を有する蓋１４が設けられ、浸漬塗布槽１１上端は蓋１
４の開口より突出している。

【００１８】本発明において、フローパン１２の蓋１４
面からの浸漬塗布槽１１上端の高さ（Ｄｈ）としては５
ｍｍ以上とすることが好ましく、より好ましくは１０ｍ
ｍ〜５０ｍｍ程度、さらに好ましくは１０ｍｍ〜２０ｍ
ｍ程度である。フローパン１２の蓋１４面からの浸漬塗
布槽１１上端の高さ（Ｄｈ）が５ｍｍ未満であると、浸
漬塗布槽１１上の溶剤蒸気を有効に逃がすことができな
いため好ましくない。

【００１９】また、浸漬塗布槽１１を円筒状、フローパ
ン１２の蓋１４の開口を円形とし、かつ該浸漬塗布槽１
１と蓋１４の開口とが同心円となるように配し、蓋１４
の開口径をＦｄ（ｍｍ）、浸漬塗布槽１１の外径をＤｄ
（ｍｍ）とした場合に、以下の関係式を満たすようにす
るとさらに効果的である。 １＜Ｆｄ／Ｄｄ≦１．５ Ｆｄ−Ｄｄ≧４（ｍｍ）

【００２０】蓋１４上に浸漬塗布槽１１を突出させるた
め、蓋１４の開口径Ｆｄは浸漬塗布槽１１の外径Ｄｄよ
り大きくしなければならない（１＜Ｆｄ／Ｄｄ）が、大
きすぎると、フローパン１２で発生した溶剤蒸気を蓋１
４により分離する効率が薄れ、該溶剤蒸気が浸漬塗布槽
１１上まで侵入し、本発明の目的を達しなくなる。この
ため、Ｆｄ／Ｄｄとしては１．５以下であることが好ま
しく、より好ましくは１．４以下である。

【００２１】また、浸漬塗布槽１１上端開口部から溢流
した塗布液をフローパン１２にて回収する構成であるた
め、浸漬塗布槽１１と蓋１４の開口との間には、溢流し
た塗布液がフローパン１２に流れ込むためのある程度の
隙間が必要であり、この隙間は、塗布液の粘度や溢流の
程度にもよるが、少なくとも２ｍｍ以上とすること、即
ち、Ｆｄ−Ｄｄ≧４（ｍｍ）であることが好ましい。こ
の関係式としては、さらにＦｄ−Ｄｄ≧１０（ｍｍ）と
することが好ましく、Ｆｄ−Ｄｄの値が小さすぎると浸
漬塗布槽１１上端開口部から溢流した塗布液が、フロー
パン１２に流れ込まずに、蓋１４上に流れ出し、塗布液
の循環系に支障を来す。もちろん、Ｆｄ−Ｄｄ＜４（ｍ
ｍ）であったとしても溢流した塗布液がフローパン１２
に十分に流れ込むものであれば問題ない。

【００２２】浸漬塗布槽１１は、被塗物を浸漬し得るも
のであればその内径、長さ等如何なる大きさであっても
構わないが、電子写真感光体の構成層を塗布するに当た
っては、通常内径４０〜２６０ｍｍ、長さ３５０〜６０
０ｍｍ程度のものが用いられる。また、本発明の好まし
い条件は前述の如く浸漬塗布槽１１の外径Ｄｄにより規
定されるため、上記内径との関係で浸漬塗布槽１１の円
筒の肉厚も問題となるが、該肉厚は塗布液を保持するに
十分な厚みが要求され、好ましくは０．５〜５ｍｍの範
囲である。

【００２３】本発明において、外風の影響による塗膜ム
ラを防止するには、外風を遮蔽するフード１６を用いる
ことが好ましい。図２は、フード１６を設けた浸漬塗布
装置２０の概略構成図を示したものである。フード１６
は軸方向の両端が開口した円筒状であり、かつ蓋１４の
開口径と同径以上の内径を有するものである。フード１
６は蓋１４の開口と略同心円となるように配され、突出
している浸漬塗布槽１１の周囲を取り囲むような状態と
なる。フード１６に外風を十分に遮蔽する効果を持たせ
るため、フローパン１２の蓋１４面からの浸漬塗布槽１
１上端の高さ（Ｄｈ）よりも十分に高い位置までフード
１６が突出していることが必要であり、フード１６の軸
方向の長さをＨｌとしたときに、Ｈｌ−Ｄｈ≧５０（ｍ
ｍ）とすることが好ましく、Ｈｌ−Ｄｈ≧１００（ｍ
ｍ）とすることがより好ましい。

【００２４】図３（ａ）はフード１６の一例を示す斜視
図である。フード１６の外周の下端部には、フード１６
内の溶剤蒸気濃度を低下させる手段として、外部と連通
する連通孔１９が設けられている。この連通孔１９はフ
ード１６の外周の下端部よりもやや上方（下端部の周辺
部）に設けてもよいし、外周の全面に設けても構わな
い。塗布液の溶剤蒸気は通常空気よりも重く、発生した
溶剤蒸気は下方に流れ出すため、連通孔１９はフード１
６の外周の下端部および／またはその周辺部に設けるこ
とが好ましい。図３（ｂ）はフード１６の他の一例を示
す斜視図である。フード１６の外周はメッシュ状となっ
ており、このメッシュの開口が図３（ａ）の例における
連通孔１９の役割を果たしている。該メッシュの開口径
としては、フード１６に外風を十分に遮蔽し、かつフー
ド１６内の溶剤蒸気濃度を十分に低下させる効果を持た
せるため、１０μｍ〜１ｍｍの範囲のものを用いること
が好ましい。

【００２５】本発明においては、前記の浸漬塗布槽１１
を複数有するものとして、同時に多数個の被塗物を処理
可能とすることも好ましい態様である。同時に多数個の
被塗物を処理可能とすることにより生産性の向上を図る
ことができる。図４は浸漬塗布槽１１を８槽有し、８個
の被塗物を同時に処理できる浸漬塗布装置４０の一例を
示す斜視図であり、図５はその断面図である。この浸漬
塗布装置４０は、フローパン１２の上部に浸漬塗布槽１
１の外周よりも大きな８個の開口１８を有する蓋１４が
設けられ、各浸漬塗布槽１１上端は蓋１４の各開口１８
より突出している。本実施態様において、浸漬塗布装置
４０は、前記図３（ｂ）に示すメッシュ状のフード１６
を蓋１４それぞれの開口１８の上部に設けている。な
お、図６において、左端の開口１８上のフード１６ａは
取り外した状態で示し、フード１６ａ内部の浸漬塗布槽
１１ａの状態がわかるようにしている。もちろん浸漬塗
布装置３０の使用に際しては、該フード１６ａは開口１
８の上部に蓋１４と接した状態で設置される。８本の浸
漬塗布槽１１の底部からはパイプ１７を介して送液手段
Ｐにより送られた塗布液が供給され、８本の浸漬塗布槽
１１の上端開口部からは塗布液が溢流する。８本の浸漬
塗布槽１１の外周には、前記溢流した塗布液全てを回収
するフローパン１２が設けられ、回収された塗布液は戻
り配管１３を通って不図示の塗布液回収層に送られ次の
循環に備える。このような浸漬塗布槽１１を複数有する
浸漬塗布装置４０においても、その種々の条件等は前記
単槽の場合と同様である。

【００２６】本発明の浸漬塗布装置は、既述の如く電子
写真感光体に用いることが特に好ましいが、その他浸漬
塗布方法により塗布すべきあらゆる被塗物に対して適用
することができる。本発明の浸漬塗布装置は、速乾性の
溶媒を用い、均一な塗膜厚の塗布膜を設けたい場合に有
効な塗布装置であり、長尺の被塗物に対し特に好適であ
る。

【００２７】次に、上述の浸漬塗布装置を電子写真感光
体の製造装置として用いた場合について説明する。電子
写真感光体には、基体上に感光性の塗膜（感光層）を設
けてなるが、その感光層構成の種類により、一つの感光
層に電荷発生物質および電荷輸送物質を含む単層型と、
感光層が電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物
質を含む電荷輸送層とに機能分離されている積層型とが
あり、さらに、必要に応じて電荷注入防止の目的で基体
と電荷発生層の間に干渉防止層、下引き層を設けたもの
もある。本発明の電子写真感光体の製造装置としては、
電子写真感光体のこれら何れの層を形成する場合にも適
用することができる。特に、本発明の電子写真感光体の
製造装置は、積層型電子写真感光体における電荷輸送層
や単層型電子写真感光体における感光層等の２０μｍ以
上の厚膜層を得る場合に、その均一膜形成に顕著な効果
があり、優れた電子写真感光体を提供することができる
ものである。以下に、電子写真感光体の構成について説
明する。

【００２８】基体としてはアルミニウム、ステンレス、
ニッケル等の金属材料、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロ
ン、ポリスチレン、フェノール樹脂等の高分子材料や硬
質紙等の絶縁材料に導電処理として導電物質を分散した
もの、金属箔の積層、金属の蒸着等の方法が挙げられ
る。また、基体の形状は円筒形で、通常、直径１０〜２
００ｍｍφ、長さ２００〜５００ｍｍの範囲である。

【００２９】基体上に設けられる電子写真感光体の構成
層について、以下感光層が積層型の場合と単層型の場合
に分けて説明する。 １．積層型の場合 前記基体の上には、通常下引き層が設けられる。下引き
層としてはアクリル系、メクアクリル系、塩化ビニル
系、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェ
ノール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボ
ネイト系、シリコン系、メラミン系等各種樹脂類やジル
コニウム化合物、チタニウム化合物、シランカップリン
グ剤等を含有した上記樹脂類が挙げられる。下引き層の
塗膜の形成方法については後述する。

【００３０】下引き層として、または基体上に下引き層
とは別にレーザ光源の干渉防止の目的で干渉防止層を設
けてもよい。干渉防止層としては、樹脂中に酸化チタン
等の金属酸化物を分散させたもの、或いは有機顔料等を
分散させもの等が挙げられる。干渉防止層の塗膜の形成
方法については後述する。

【００３１】下引き層または干渉防止層の上には電荷発
生層および電荷輸送層が設けられる。これらの積層順序
としては、どちらが上になっても構わない。電荷輸送層
に含まれる電荷発生物質としては、アゾ顔料、ジスアゾ
顔料、キノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、
インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、フタロシ
アニン顔料、キナクリドン顔料、ピリリウム塩、アズレ
ニウム塩、三晶方型セレン等が挙げられる。

【００３２】電荷輸送層に含まれる電荷輸送物質として
は、主鎖または、側鎖にアントラセン、ピレン、フェナ
ントレン、コロネン等の多芳香族化合物または、インド
ール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾー
ル、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジ
アゾール、ピラゾリン、ヒアジアゾール、トリアゾール
等の含チッ素環式化合物の骨格を有する化合物、その
他、ヒドラゾン化合物等の正孔輸送物質が挙げられる。

【００３３】電荷発生層および電荷輸送層の塗膜を形成
するための結着樹脂としては、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エステル
類、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、ポリエ
ステル、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、ポリ
サルホン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、メチルセ
ルロース、ヒドロキシメチルセルロース、セルロースエ
ステル類等が挙げられる。

【００３４】干渉防止層、下引き層、電荷発生層、電荷
輸送層の塗膜の形成方法について説明する。これら各層
は、上記各成分を適当な溶媒に溶解または分散させて、
順次塗布する。塗布液溶剤（溶媒）としては、揮発性が
高く、且つその蒸気の密度が空気よりも大きい溶剤が好
適に用いられ、例えば、ｎ−ブチルアミン、ジエチルア
ミン、エチレンジアミン、イソプロパホールアミン、ト
リエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベ
ンゼン、４−メトキシ−４−メチルペンタノン、ジメト
キシメタン、ジメトキシエタン、２，４−ペンタジオ
ン、アニソール、３−オキソブタン酸メチル、モノクロ
ロベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、１−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ、エチルセル
ソルブ、メチルセルソルブ、メチルセルソルブアセテー
ト等が挙げられる。

【００３５】本発明において、この中でも特に電荷輸送
物質や結着剤樹脂の溶解力が高く蒸発速度の速い（速乾
性の）、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等を用い
ることにより、特に本発明の効果が発揮される。塗布液
の粘度としては、膜厚、塗布速度等のねらいによって変
化させているが、１００〜６００ｍＰ・Ｓの範囲が好ま
しい。

【００３６】上記のような各塗布液を前記図１、図２ま
たは図４に示す浸漬塗布装置１０、２０、４０の浸漬塗
布槽１１に仕込み、さらに送液手段Ｐにより浸漬塗布装
置１０、２０、４０中を循環させる。そして、被塗物で
ある基体を長手方向を垂直にして浸漬塗布槽１１に浸漬
させ、所定の速度で引き上げる。浸漬塗布槽１１の上部
は本発明の効果により溶剤蒸気の濃度が低い状態に保た
れているため、速乾性の溶媒を用いた塗布液の場合には
引き上げ後即座に塗布液が乾燥し指触乾燥状態となり、
液ダレを起こすことなく、基体表面に均一な塗布膜が形
成される。特にフード１６を設けた図２または図４に示
す浸漬塗布装置２０、４０を用いた場合には、外風によ
る影響も軽減され、周方向のムラも生じにくく、基体表
面に極めて均一な塗布膜を形成することができる。さら
に、熱風乾燥機等により乾燥することにより耐久性のあ
る塗布膜を得ることができる。このようにして、順次、
下引き層、干渉防止層、電荷発生層、電荷輸送層を形成
することにより電子写真感光体を製造することができ
る。

【００３７】各層の膜厚は、溶媒の種類およびその塗布
液中の割合、被塗物の引き上げ速度等により適宜調整さ
れる。好ましい各層の膜厚の範囲としては、以下の通り
である。 下引き層 ：０．１〜１０μｍ程度 干渉防止層：１〜３０μｍ程度 電荷発生層：０．０５〜１μｍ程度 電荷輸送層：１０〜３０μｍ程度 尚、これらの各層の内、特に厚膜層を設けたい電荷輸送
層は本発明の浸漬塗布装置（電子写真感光体の製造装
置）を用いることが好ましいが、それ以外の層は、従来
公知の通常の浸漬塗布装置や、その他公知の塗布装置
（例えば、スプレー法によるもの、バーコート法による
もの等）により塗布しても構わない。

【００３８】２．単層型の場合 単層型電子写真感光体を製造する場合の感光層の塗布液
は、電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂を溶媒に混
合または分散させて調合される。用いることのできる電
荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂および溶媒は、積
層型の場合に用いたものと同様である。また、前述の下
引き層および／または干渉防止層は、単層型においても
設けてよく、その塗布液は積層型の場合に用いた下引き
層および／または干渉防止層物質と溶媒とを混合して調
合される。これら感光層の塗布液、および必要に応じて
設けられる下引き層の塗布液は、積層型の場合と同様に
して、本発明の浸漬塗布装置１０、２０、４０により基
体上に塗布される。塗膜の膜厚の調整、下引き層および
干渉防止層の好ましい膜厚の範囲も積層型の場合と同様
であり、感光層の好ましい膜厚の範囲としては、２０〜
４０μｍ程度である。

【００３９】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるもので
はない。なお、以下の諸例で用いた化合物および塗布液
の組成は、以下の通りである。

【００４０】

【化１】

【００４１】

【化２】

【００４２】 塗布液Ａ（下引き層） 構造式（１）のジルコニウム化合物 ２０重量部 構造式（２）のシランカップリング剤 ２重量部 構造式（３）のポリビニルブチラール樹脂 ２重量部 １−ブタノール ７０重量部 上記材料を混合、溶解したものを塗布液Ａとした。

【００４３】 塗布液Ｂ（電荷発生層） クロルガリウムフタロシアン ５重量部 構造式（６）の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５重量部 酢酸ｎ−ブチル ２００重量部 上記材料を１ｍｍφのガラスビーズを用いたサンドミル
で２時間分散して得られた分散液を塗布液Ｂとした。

【００４４】 塗布液Ｃ−１（電荷輸送層１） 構造式（４）の電荷輸送物質 １重量部 構造式（５）のポリカーボネイト樹脂 １重量部 モノクロルベンゼン ２重量部 テトラヒドロフラン ４重量部 上記材料を混合、溶解したものを塗布液Ｃ−１とした。

【００４５】 塗布液Ｃ−２（電荷輸送層２） 構造式（４）の電荷輸送物質 １重量部 構造式（５）のポリカーボネイト樹脂 １重量部 モノクロルベンゼン ６重量部 ジクロロメタン ２重量部 上記材料を混合、溶解したものを塗布液Ｃ−２とした。

【００４６】実施例１ 湿式ホーニング処理によって表面粗度Ｒａを０．１８と
した８４ｍｍφ×３４０ｍｍＬの円筒状アルミ基体に浸
漬塗布装置（通常の塗布装置）を用いて塗布液Ａ（下引
き層）を乾燥膜厚が１．０μｍになるような引き上げ速
度で塗布し、自然乾燥２分間、乾燥温度１５０℃，１０
分間乾燥した。次いで塗布液Ｂ（電荷発生層）を浸漬塗
布装置（通常の塗布装置）を用いて乾燥膜厚が０．２μ
ｍになるような引き上げ速度で塗布し、自然乾燥１分
間、乾燥温度１００℃，１０分間乾燥した。さらに塗布
液Ｃ−１（電荷輸送層）を図１の浸漬塗布装置１０を用
いて乾燥膜厚が２５μｍになるような引き上げ速度で塗
布した。浸漬塗布装置１０は、以下の条件に設定した。 ・蓋１４面からの浸漬塗布槽１１上端の高さ（以下、
「Ｄｈ」と表記し、後記比較例との区別のため数値の前
に「＋」を付する）：＋１０ｍｍ ・浸漬塗布槽１１の外径（以下、「Ｄｄ」と表記す
る）：１１０ｍｍφ ・蓋１４の開口径（以下、「Ｆｄ」と表記する）：１３
０ｍｍφ その後、自然乾燥２分間、さらに熱風乾燥機により乾燥
温度１３５℃で４０分間乾燥した。このようにして電子
写真感光体を作製した。

【００４７】比較例１ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図６の
浸漬塗布装置６０を用いる以外は実施例１と同様に電子
写真感光体を作製した。 ・蓋６４面より浸漬塗布槽６１上端を１０ｍｍダウン
（以下、このようにダウンする場合を、実施例１におけ
る記号Ｄｈを用いて、数値の前に「−」を付することに
より表記する。即ち本例においては、Ｄｈ：−１０ｍ
ｍ） ・浸漬塗布槽６１の外径（以下、実施例１同様「Ｄｄ」
と表記する）：１１０ｍｍφ ・蓋６４の開口径（以下、実施例１同様「Ｆｄ」と表記
する）：１３０ｍｍφ

【００４８】実施例２ 湿式ホーニング処理によって表面粗度Ｒａを０．２０と
した３０ｍｍφ×３６０ｍｍＬの円筒状アルミ基体に浸
漬塗布装置（通常の塗布装置）を用いて塗布液Ａ（下引
き層）を乾燥膜厚が１．０μｍになるような引き上げ速
度で塗布し、自然乾燥２分間、乾燥温度１５０℃，１０
分間乾燥した。次いで塗布液Ｂ（電荷発生層）を浸漬塗
布装置（通常の塗布装置）を用いて乾燥膜厚が０．２μ
ｍになるような引き上げ速度で塗布し、自然乾燥１分
間、乾燥温度１００℃，１０分間乾燥した。さらに塗布
液Ｃ−２（電荷輸送層）を図１の浸漬塗布装置１０を用
いて乾燥膜厚が２４μｍになるような引き上げ速度で塗
布した。浸漬塗布装置１０は、以下の条件に設定した。 ・Ｄｈ：＋２０ｍｍ ・Ｄｄ：１００ｍｍφ ・Ｆｄ：１３０ｍｍφ その後、自然乾燥２分間、さらに熱風乾燥機により乾燥
温度１１５℃で４０分間乾燥した。このようにして電子
写真感光体を作製した。

【００４９】比較例２ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図６の
浸漬塗布装置６０を用いる以外は実施例２と同様に電子
写真感光体を作製した。 ・Ｄｈ：±０ｍｍ（蓋６４面と浸漬塗布槽６１上端を同
じ高さに合わせた） ・Ｄｄ：１００ｍｍφ ・Ｆｄ：１３０ｍｍφ

【００５０】実施例３ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図１の
浸漬塗布装置１０を用いる以外は実施例１と同様にして
電子写真感光体を作製した。 ・Ｄｈ：＋１０ｍｍ ・Ｄｄ：１００ｍｍφ ・Ｆｄ：１６０ｍｍφ

【００５１】実施例４ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図２の
浸漬塗布装置２０を用い、フード１６としては図３
（ａ）タイプのもの（軸方向の長さＨｌ：１５０ｍｍ、
内径：１３０ｍｍ）を用いる以外は実施例１と同様にし
て電子写真感光体を作製した。 ・Ｄｈ：＋１５ｍｍ ・Ｄｄ：１１０ｍｍφ ・Ｆｄ：１３０ｍｍφ

【００５２】実施例５ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図２の
浸漬塗布装置２０を用い、フード１６としては図３
（ｂ）タイプのもの（軸方向の長さＨｌ：１５０ｍｍ、
内径：１３０ｍｍ、メッシュの開口径５０μｍφ）を用
いる以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を作製
した。 ・Ｄｈ：＋１５ｍｍ ・Ｄｄ：１１０ｍｍφ ・Ｆｄ：１３０ｍｍφ

【００５３】比較例３ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図７の
浸漬塗布装置７０を用い、フード１６としては図３
（ａ）タイプのもの（軸方向の長さＨｌ：１５０ｍｍ、
内径：１３０ｍｍ）を用いそれ以外は実施例１と同様に
して電子写真感光体を作製した。 ・Ｄｈ：−１０ｍｍ ・Ｄｄ：１１０ｍｍφ ・Ｆｄ：１３０ｍｍφ

【００５４】比較例４ 電荷輸送層を形成する際、以下の条件に設定した図７の
浸漬塗布装置７０を用い、フード１６としては図３
（ｂ）タイプのもの（軸方向の長さＨｌ：１５０ｍｍ、
内径：１３０ｍｍ、メッシュの開口径５０μｍφ）を用
いそれ以外は実施例２と同様にして電子写真感光体を作
製した。 ・Ｄｈ：−１０ｍｍ ・Ｄｄ：１１０ｍｍφ ・Ｆｄ：１３０ｍｍφ

【００５５】［評価試験］実施例１〜５および比較例１
〜４の電子写真感光体について、その電荷輸送層の膜厚
を干渉膜厚計（ＭＣＰＤ−２０００、大塚電子（株）
製）で測定して、塗膜の均一性の評価を実施した。評価
項目としては、１）上端部膜厚ダレ、２−ａ）面内周方
向ムラおよび２−ｂ）面内軸方向ムラの三種類とし、以
下の評価方法および基準で評価を実施した。さらに、こ
れらの結果に基づいて以下の基準により総合判定を行っ
た。結果を表１に示す。

【００５６】［評価方法および評価基準］実施例１〜５
および比較例１〜４の電子写真感光体について、電荷輸
送層の塗膜形成時、浸漬塗布槽１１に対し基体の軸方向
を垂直にして浸漬した際、上側となった端を上端とし、
下側となった端を下端とする。 １）上端部膜厚ダレ 図８は、実施例１の電子写真感光体の軸方向の膜厚の変
動を示すグラフである。横軸は電子写真感光体上端から
の距離を、縦軸は膜厚を示し、前記上端からの各距離に
おける膜厚をプロットしたものである。このグラフから
わかるように、上端から１５ｍｍ程度までは膜厚は急激
に上昇し、１５ｍｍ程度からは徐々に安定化し、５０ｍ
ｍ程度からはほぼ一定の膜厚で安定する。実用に供する
電子写真感光体は、その両端は使用しないため、上端か
ら１５ｍｍ程度までの膜厚の急激な変動は問題ない。し
かし、上端から１５ｍｍ以降は実際に感光体として使用
に供する部分となる可能性があり、上端から１５ｍｍ以
降の膜厚の不安定（膜厚ダレ）が特に問題となる。

【００５７】従って、本評価では、実施例１〜５および
比較例１〜４の電子写真感光体について、上端から５０
〜３００ｍｍの間の任意の数点を測定し、その平均値を
平均膜厚ｔａ（μｍ）とし、一方、上端から１５ｍｍの
点における膜厚ｔｘ（μｍ）を測定し、ｔａ−ｔｘの値
を上端部膜厚ダレとした。さらに以下の評価基準で評価
を行った。 ○：０．８μｍ未満 △：０．８μｍ以上１．１μｍ未満 ×：１．１μｍ以上

【００５８】２）面内ムラ 図９は面内ムラの評価方法を説明するための電子写真感
光体の斜視図である。左側が電子写真感光体の上端、右
側が下端となっている。図示の如く、上端より軸方向に
５０ｍｍであって周方向に等間隔に４点（ＡＢＣＤ）の
膜厚を測定し、さらに上端より軸方向に１７０ｍｍおよ
び２９０ｍｍの各地点においても同様に各４点（Ａ’
Ｂ’Ｃ’Ｄ’およびＡ”Ｂ”Ｃ”Ｄ”）、合計１２点に
ついて膜厚を測定した。

【００５９】２−ａ）周方向ムラ 上端より軸方向に１７０ｍｍでの４点（Ａ’Ｂ’Ｃ’
Ｄ’）における各膜厚の内、その最大値と最小値との差
を周方向ムラとした。 ２−ｂ）軸方向ムラ 上端より軸方向に５０ｍｍでの４点（ＡＢＣＤ）の測定
値、１７０ｍｍでの４点（Ａ’Ｂ’Ｃ’Ｄ’）の測定
値、および２９０ｍｍでの４点（Ａ”Ｂ”Ｃ”Ｄ”）の
測定値をそれぞれ平均し、得られた数値の最大値と最小
値との差を軸方向ムラとした。

【００６０】さらに以下の評価基準で、面内ムラについ
ての評価を行った。 ○：周方向ムラが１．５μｍ以下、かつ、軸方向ムラが
１．０μｍ以下 ×：周方向ムラが１．５μｍより大、または、軸方向ム
ラが１．０μｍより大

【００６１】３）総合判定 以上で得られた、１）上端部膜厚ダレ、および、２）面
内ムラの両評価結果に基づいて、以下の基準で総合判定
を行った。 ○：上端部膜厚ダレおよび面内ムラの評価が共に「○」
のもの △：上端部膜厚ダレが「○」のもの ×：上端部膜厚ダレが「△」または「×」のもの

【００６２】

【表１】

【００６３】以上の結果からわかるように、本発明の浸
漬塗布装置（電子写真の製造装置）を用いた実施例１〜
５は、いずれも上端部膜厚ダレの少ない均一な塗布面を
提供することができることがわかる。但し、Ｆｄ／Ｄｄ
が１．５を超える実施例３では、フローパン１２からの
溶剤蒸気の影響によると思われる面内ムラがやや大きく
なっている。また、フード１６を設けた実施例４および
５に対し、それを設けなかった実施例１および２は、外
風の影響によると思われる面内ムラ（特に周方向ムラ）
がやや大きくなっている。

【００６４】

【発明の効果】以上説明した本発明の浸漬塗布装置によ
れば、浸漬塗布面のオバーフロー面が、溢流した液を受
けるフローパン壁より高く、フローパンの蓋より突出し
させたため、浸漬塗布槽上の溶剤蒸気濃度の低下が図ら
れ、被塗物の膜厚の均一化を達成することができる。ま
た、該塗布装置を電子写真感光体の製造装置として用い
れば、感光層の膜厚の均一な、感光体特性に優れた電子
写真感光体を工業的に有利に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態にかかる浸漬塗布装置を示
す概略構成図である。

【図２】本発明のフードを設けた実施形態にかかる浸漬
塗布装置を示す概略構成図である。

【図３】図２におけるフードの具体例を示す斜視図であ
り、（ａ）は下端部に連通孔を設けた例、（ｂ）はフー
ド全体がメッシュ状の例である。

【図４】本発明の浸漬塗布槽を８槽有する実施形態にか
かる浸漬塗布装置を示す斜視図である。

【図５】図４の浸漬塗布装置の断面図である。

【図６】従来の浸漬塗布装置の一例を示す概略構成図で
ある。

【図７】比較例に用いた浸漬塗布装置を示す概略構成図
である。

【図８】実施例における上端部膜厚ダレの評価法を説明
するグラフである。

【図９】実施例における面内ムラの評価法を説明する図
である。

【符号の説明】

１０、２０、４０、６０、７０：浸漬塗布装置 １１、６１：浸漬塗布槽 １２、６２：フローパン（塗布液受け皿） １３、６３：戻り配管 １４、６４：蓋 １５、６５：塗布液回収層 １６、１６ａ：フード １７、６７：パイプ １８：開口 １９：連通孔 Ｐ：液送手段 Ｆ：フィルター

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塗布液を保持し、被塗物を浸漬する浸漬
   塗布槽と、該浸漬塗布槽の外周に設けられた塗布液受け
   皿と、前記浸漬塗布槽に塗布液を供給する液送手段と、
   を有し、液送手段により浸漬塗布槽底部から塗布液を供
   給し、該浸漬塗布槽上端開口部から塗布液を溢流させ、
   溢流した塗布液を塗布液受け皿にて回収し、再度この塗
   布液を前記液送手段により前記浸漬塗布槽に供給するこ
   とにより、塗布液を循環させる浸漬塗布装置において、
   前記塗布液受け皿上部に前記浸漬塗布槽の外周よりも大
   きな開口を有する蓋を設け、前記浸漬塗布槽上端を前記
   蓋の開口より突出させたことを特徴とする浸漬塗布装
   置。
2. 【請求項２】 浸漬塗布槽が円筒状であり、蓋の開口が
   円形であり、該浸漬塗布槽と蓋の開口とが同心円となる
   ように配したことを特徴とする請求項１に記載の浸漬塗
   布装置。
3. 【請求項３】 浸漬塗布槽の外径Ｄｄ（ｍｍ）と蓋の開
   口径Ｆｄ（ｍｍ）とが、以下の関係を有することを特徴
   とする請求項２に記載の浸漬塗布装置。 １＜Ｆｄ／Ｄｄ≦１．５ Ｆｄ−Ｄｄ≧４（ｍｍ）
4. 【請求項４】 軸方向両端が開口し、蓋の開口径と同径
   以上の内径を有し、かつ、外周に外部と連通する連通孔
   が設けられた円筒状フードを、蓋の開口の上部に該開口
   と同心円となるように配したことを特徴とする請求項２
   または３に記載の浸漬塗布装置。
5. 【請求項５】 連通孔が、フードの外周の下端部および
   ／またはその周辺部に設けられたことを特徴とする請求
   項４に記載の浸漬塗布装置。
6. 【請求項６】 連通孔が、フードの外周の全面に設けら
   れたことを特徴とする請求項４に記載の浸漬塗布装置。
7. 【請求項７】 フードの外周が、１０μｍ〜１ｍｍの開
   口径のメッシュ状であることを特徴とする請求項４に記
   載の浸漬塗布装置。
8. 【請求項８】 浸漬塗布槽を複数有し、かつ蓋に浸漬塗
   布槽と同数の開口が設けられたことを特徴とする請求項
   １〜７に記載の浸漬塗布装置。
9. 【請求項９】 電子写真感光体の構成層となる塗布液を
   保持し、円筒状基体を浸漬する浸漬塗布槽と、該浸漬塗
   布槽の外周に設けられた塗布液受け皿と、前記浸漬塗布
   槽に塗布液を供給する液送手段と、を有し、液送手段に
   より浸漬塗布槽底部から塗布液を供給し、該浸漬塗布槽
   上端開口部から塗布液を溢流させ、溢流した塗布液を塗
   布液受け皿にて回収し、再度この塗布液を前記液送手段
   により前記浸漬塗布槽に供給することにより、塗布液を
   循環させ、前記浸漬塗布槽に浸漬した円筒状基体を引き
   上げその周面に電子写真感光体の構成層を形成する電子
   写真感光体の製造装置において、前記塗布液受け皿上部
   に前記浸漬塗布槽の外周よりも大きな開口を有する蓋を
   設け、前記浸漬塗布槽上端を前記蓋の開口よりも突出さ
   せたことを特徴とする電子写真感光体の製造装置。
10. 【請求項１０】 浸漬塗布槽が円筒状であり、蓋の開口
    が円形であり、該浸漬塗布槽と蓋の開口とが同心円とな
    るように配したことを特徴とする請求項９に記載の電子
    写真感光体の製造装置。
11. 【請求項１１】 浸漬塗布槽の外径Ｄｄ（ｍｍ）と蓋の
    開口径Ｆｄ（ｍｍ）とが、以下の関係を有することを特
    徴とする請求項１０に記載の電子写真感光体の製造装
    置。 １＜Ｆｄ／Ｄｄ≦１．５ Ｆｄ−Ｄｄ≧４（ｍｍ）
12. 【請求項１２】 軸方向両端が開口し、蓋の開口径と同
    径以上の内径を有し、かつ、外周に外部と連通する連通
    孔が設けられた円筒状フードを、蓋の開口の上部に該開
    口と同心円となるように配したことを特徴とする請求項
    １０または１１に記載の電子写真感光体の製造装置。
13. 【請求項１３】 連通孔が、フードの外周の下端部およ
    び／またはその周辺部に設けられたことを特徴とする請
    求項１２に記載の電子写真感光体の製造装置。
14. 【請求項１４】 連通孔が、フードの外周の全面に設け
    られたことを特徴とする請求項１２に記載の電子写真感
    光体の製造装置。
15. 【請求項１５】 フードの外周が、１０μｍ〜１ｍｍの
    開口径のメッシュ状であることを特徴とする請求項１２
    に記載の電子写真感光体の製造装置。
16. 【請求項１６】 浸漬塗布槽を複数有することを特徴と
    する請求項９〜１５に記載の電子写真感光体の製造装
    置。