JP3590484B2

JP3590484B2 - 電子写真感光体の浸漬塗布装置

Info

Publication number: JP3590484B2
Application number: JP22054696A
Authority: JP
Inventors: 一政中山; 智博在田
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1996-08-02
Filing date: 1996-08-02
Publication date: 2004-11-17
Anticipated expiration: 2016-08-02
Also published as: JPH1048852A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真感光体の浸漬塗布装置に関するものであり、詳しくは、浸漬槽に収容した塗布液の液面の振動を安定化させ、円筒状基体表面の塗布ムラを一層低減し得る電子写真感光体の浸漬塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ドラム状の電子写真感光体は、円筒状基体の表面に感光体材料の塗膜を形成して製造され、斯かる塗膜の形成には、通常、感光体材料としての塗布液を収容し且つ円筒状基体が浸漬される浸漬槽を備えた浸漬塗布装置が使用される。浸漬塗布装置による処理においては、形成される感光塗膜の平滑性が要求されるため、円筒状基体の表面の塗布ムラを防止することが重要な課題となっている。
【０００３】
塗布ムラの発生原因には、例えば、塗布液の濃度のばらつきや気化した溶剤の気泡の混入などの原因が挙げられるが、塗布液の均一化と塗布液中の気泡の排除を企図した浸漬塗布方法としては、上記の浸漬塗布装置において、超音波振動の発生装置によって浸漬槽に超音波振動を与えつつ浸漬塗布する方法が提案されている（特開平３−６２０３５号公報、特開平５−１１３６８５号公報）。
【０００４】
ところで、浸漬槽から引き上げる際に基体表面に塗布を行う浸漬塗布装置においては、塗布液の混合状態や気泡の問題以前に、抑、塗布液の液面に発生する振動、すなわち、液面の揺れが塗布ムラを発生させる極めて大きな要因とされており、一般的に、浸漬槽の基礎やロボットハンド等の円筒状基体の移送装置における基礎には免震構造が採用され、また、塗布液を供給するポンプには振動や脈動のないポンプが採用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の浸漬塗布装置においては、駆動装置を含む移送装置によって円筒状基体が吊持され、更に、周辺の設備から騒音が発生する等、種々の原因により、塗布液の液面の振動を完全に抑制するのは困難であり、円筒状基体の仕様、浸漬速度、塗布液の循環速度などの処理条件によっては基体表面に塗布ムラが生じ、不良率が高くなることがある。従って、浸漬槽に収容された塗布液の液面の振動を一層低減し得る新規な手段が望まれる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記の課題を解決すべく種々検討した結果、浸漬槽における液面の振動は、浸漬槽の基礎における免震構造などによってもある程度抑制し得るが、ある種の振動数の振動が伝わった場合には、塗布液自体の固有振動数、或いは、浸漬した円筒状基体の固有振動数との関係により、液面の振動が一層増幅されるとの知見を得た。本発明者等は、斯かる知見に基づいて更に検討した結果、浸漬槽の塗布液に対し、敢えて、特定の周波数の振動を与えるならば、液面を不安定にする塗布液中の振動を相殺し、結果的に液面を安定に保持し得ることを知得した。そして、塗布液に与える振動は、浸漬槽と撹拌貯槽との間で塗布液を循環させるポンプを巧みに選択することによっても、容易に発生させ得ることを知得し、循環本発明の完成に至った。
【０００７】
すなわち、本発明は次の２つの要旨から成り、その第１の要旨は、感光体材料としての塗布液に円筒状基体を浸漬させて引き上げることにより、円筒状基体の表面に感光体材料の塗膜を形成する浸漬塗布装置であって、塗布液を収容し且つ円筒状基体が装入される浸漬槽と、塗布液を調製し且つ貯留する貯槽と、前記浸漬槽と前記貯槽の間で塗布液を循環させる循環用の配管および循環ポンプとを備え、かつ、円筒状基体を浸漬させる際および引き上げる際に前記浸漬槽の塗布液に対して１０〜５００Ｈｚの振動を与える加振手段が付設されていることを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布装置に存する。
【０００８】
また、本発明の第２の要旨は、感光体材料としての塗布液に円筒状基体を浸漬させて引き上げることにより、円筒状基体の表面に感光体材料の塗膜を形成する浸漬塗布装置であって、塗布液を収容し且つ円筒状基体が装入される浸漬槽と、塗布液を調製し且つ貯留する貯槽と、前記浸漬槽と前記貯槽の間で塗布液を循環させる循環用の配管および循環ポンプとを備え、かつ、前記循環ポンプが、その脈動により、円筒状基体を浸漬させる際および引き上げる際に前記浸漬槽の塗布液に対して１０〜５００Ｈｚの振動を与えるポンプであることを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布装置に存する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明に係る電子写真感光体の浸漬塗布装置の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明に係る電子写真感光体の浸漬塗布装置の主要な構成部材を示す系統図である。図２は、浸漬槽の塗布液に与えられた振動の振動数および液面の振幅と塗布ムラの発生の関係を示すグラフである。
【００１０】
本発明の浸漬塗布装置は、図１に示す様に、円筒状基体（Ｗ）の表面に感光体材料の塗膜を形成する装置であり、感光体材料としての塗布液を収容し且つ円筒状基体（Ｗ）が装入される浸漬槽（１）と、塗布液を調製し且つ貯留する貯槽（２）と、浸漬槽（１）と貯槽（２）の間で塗布液を循環させる循環用の配管（５１）〜（５５）及び循環ポンプ（３）とを備えている。
【００１１】
本発明において、円筒状基体（Ｗ）とは、例えば、アルミニウム、黄銅、ステンレス等の金属材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、フエノール樹脂などの高分子材料、または、硬質紙などのその他の材料を２０〜２００ｍｍ程度の外径で３００〜１０００ｍｍ程度の長さの円筒状に成形した従来公知の基体である。なお、円筒状基体（Ｗ）の表面が絶縁体材料によって構成される場合には、導電物質の含浸、金属箔の積層、金属の蒸着などよって導電処理される。
【００１２】
塗布液は、感光体材料と１種以上の溶媒から成る公知の塗布液である。単層型電子写真感光体を製造する場合の感光体材料の塗布液は、電荷発生物質、電荷輸送物質、結着剤樹脂および溶媒を混合して調製される。また、積層型電子写真感光体を製造する場合の感光体材料の塗布液は、前記の電荷発生物質、結着剤樹脂および溶媒からなる電荷発生層用の塗布液と、前記の電荷輸送物質、結着剤樹脂および塗布溶媒からなる電荷輸送層用の塗布液とが別々に調製される。
【００１３】
電荷発生物質としては、例えば、スーダンレッド、ダイアンブルー、ジエナスグリーンＢ等のアゾ顔料、ジスアゾ顔料、アルゴールイエロー、ピレンキノン等のキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、インドフアーストオレンジトナー等のビスベンゾイミダゾール顔料、銅フタロシアニン等のフタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、ピリリウム塩、アズレニウム塩が挙げられる。
【００１４】
電荷輸送物質としては、主鎖または側鎖にアントラセン、ピレン、フエナントレン、コロネン等の多芳香族化合物またはインドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物の骨格を有する化合物、その他、ヒドラゾン化合物など正孔輸送物質が挙げられる。
【００１５】
結着剤樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エステル類、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、ポリエステル、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、ポリサルホン等、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、セルロースエステル類などが挙げられる。
【００１６】
溶媒としては、揮発性が高く且つその蒸気の密度が空気よりも大きい溶剤が好適に用いられる。例えば、ｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、４−メトキシ−４−メチルペンタノン−２、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、２，４−ペンタジオン、アニソール、３−オキソブタン酸メチル、モノクロルベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセルソルブアセテート等が挙げられる。
【００１７】
塗布液中の各成分の濃度は、公知の技術に従って適宜に設定される。そして、固形分の濃度は、主として、形成すべき層の膜厚に応じて決定されるが、単層型電子写真感光体を製造する際の塗布液の場合、および、積層型電子写真感光体を製造する際の電荷輸送層用の塗布液の場合、４０重量％以下、好ましくは１０〜３５重量％以下に調製される。また、これらの塗布液の場合、その粘度は、５０〜３５０ｃｐｓ、好ましくは７０〜２５０ｃｐｓとされ、その乾燥膜厚は、１５〜４０μｍとされる。
【００１８】
本発明の浸漬塗布装置において、浸漬槽（１）としては、塗布液をオーバーフローさせつつ処理する浸漬槽が好ましい。すなわち、浸漬槽（１）は、上端が開放され且つ下端側から塗布液が供給される浸漬槽本体（１０）と、当該浸漬槽本体の上部外周側に付設され且つオーバーフローした塗布液を収容する樋部材（１１）とから主として構成される。
【００１９】
浸漬槽本体（１０）は、塗布液の部分的な滞留をなくすため、円筒状基体（Ｗ）を収容する胴部が略円筒状に形成され且つ底部が逆円錐状に形成され、斯かる底部の下端には、塗布液を供給する配管（分岐配管）（５４）が接続される。浸漬槽本体（１０）は、単独で設けられてもよいが、効率的に運転するため、通常は並列的に複数基設置される。
【００２０】
樋部材（１１）は、例えば、短軸の有底円筒状に形成され、その底面から浸漬槽本体（１０）の上部が突出し、浸漬槽本体（１０）から溢れた塗布液を配管（５５）によって排出可能になされている。また、樋部材（１１）の上部外周側には、円筒状基体（Ｗ）の浸漬および引き上げに伴って伸縮する可橈性のフード（１２）が付設され、斯かるフード（１２）は、塗布液中の溶媒の気化を低減すると供に、円筒状基体（Ｗ）表面に塗布された塗布液の乾燥速度を調整する。
【００２１】
貯槽（１）は、浸漬槽（１）に対して常に十分な量の塗布液を供給するために設けられ、その内部は、浸漬槽（１）から供給された塗布液を所定の組成に調製し且つ均一に混合するため、仕切壁によって調製槽（２１）と混合層（２２）に分割される。調製槽（２１）には、浸漬槽本体（１０）からオーバーフローした塗布液を導入するため、配管（５５）の他端が接続され、また、希釈用の溶媒を供給するための溶媒配管（５６）が挿入される。混合層（２２）には、上記の仕切壁を越えて調製槽（２１）から流入した塗布液を均一に撹拌混合するため、撹拌翼が設けられ、そして、混合した塗布液を浸漬槽（１）側へ供給するための配管（５１）が接続される。
【００２２】
浸漬槽（１）と貯槽（２）の間の配管（５１）〜（５５）及び循環ポンプ（３）の配置は、混合層（２２）から伸長された配管（５１）が循環ポンプ（３）の吸入側に接続され、循環ポンプ（３）の吐出側から伸長された配管（５２）がフィルター（４）を介して配管（５３）に接続され、そして、配管（５３）から分岐する分岐配管（５４）、（５４）が浸漬槽本体（１０）、（１０）に接続される。また、浸漬槽（１）の樋部材（１１）から伸長された配管（５５）が貯槽（２）の調製槽（２１）に接続される。
【００２３】
すなわち、図１に示す浸漬塗布装置においては、配管（５１）を通じ、循環ポンプ（３）が貯槽（２）の混合層（２２）から塗布液を吸入し、配管（５２）、フィルター（４）、配管（５３）及び分岐配管（５４）、（５４）を通じ、浸漬槽（１）の各浸漬槽本体（１０）、（１０）に塗布液を供給する。そして、各浸漬槽本体（１０）、（１０）に連続供給された塗布液をこれらの浸漬槽本体から樋部材（１１）にオーバーフローさせた後、配管（５５）を通じ、樋部材（１１）に溢れた塗布液を再び貯槽（２）の調製槽（２１）に戻す。
【００２４】
本発明においては、浸漬槽（１）の塗布液に対して１０〜５００Ｈｚの振動を与える加振手段（６）が付設される。加振手段（６）としては、周波数コンバータによって上記の所定周波数に調整した信号を増幅して機械的振動を発生させる振動装置、モーターの回転を利用して機械的に振動を発生させる振動装置などの適宜の振動装置を使用することが出来、斯かる装置は、浸漬槽（１）の浸漬槽本体（１０）或いはその近傍の配管に取り付けられる。
【００２５】
浸漬槽（１）における浸漬塗布方法としては、ロボットハンド等の移送装置によって円筒状基体（Ｗ）を内周面から垂直に保持し、オーバーフローしている塗布液中に円筒状基体（Ｗ）を垂直に降下させて塗布液に浸漬させた後、円筒状基体（Ｗ）を垂直に引き上げる従来公知の方法が適用される。浸漬速度は５００〜２０００ｍｍ／分、引上速度（塗布速度）は２００〜１０００ｍｍ／分程度である（特公平５−４５９５１号、特開平５−７２７６０号、特開平５−８８３８４号の各公報参照）。
【００２６】
上記の様な浸漬処理において、浸漬槽（１）の塗布液に対して所定振動数の振動を与える加振装置（６）は、外部から加えられる他の振動による液面の揺動を相殺し、結果的に塗布液の液面を液面を安定に保持することが出来、静止状態に一層近付けることが出来る。その結果、円筒状基体（Ｗ）の表面における所謂ギアマークと称する塗布ムラの発生を有効に防止することが出来る。
【００２７】
浸漬槽（１）の塗布液に積極的に振動を加えることによって塗布液の液面が安定する理由は次の様に考えられる。すなわち、浸漬槽本体（１０）及びこれに浸漬する円筒状基体（Ｗ）は各々に固有振動数を有しており、これらの各要素により、円筒状基体（Ｗ）を浸浸した際に外部から塗布液に伝播する微小振動が浸漬槽本体（１０）、円筒状基体（Ｗ）において増幅され、更に、塗布液自体が所定の固有振動数を有しているため、浸漬槽本体（１０）及び円筒状基体（Ｗ）の振動が塗布液において一層増幅される。その結果、塗布液の液面において、塗布ムラを惹起する特定の振動（液面の揺れ）の振幅が一層増大されると考えられる。これに対し、約１０〜５００Ｈｚの振動数で塗布液を振動させた場合、斯かる振動は、塗布ムラの原因となる振動の振幅を相殺する様に液面に作用すると考えられる。
【００２８】
因に、塗布液の振動と塗布ムラについて実験的に確認したところ、例えば、ＣＧ液においては、約３Ｈｚを中心に約１〜１０Ｈｚの範囲の振動を加えた場合、液面の振幅が一層大きくなり、しかも、斯かる振動数の振動によって液面の振幅が５μｍ以上、特に１５μｍ以上となる様な強度の振動が加えられた場合、浸漬槽本体（１０）や円筒状基体（Ｗ）の直径などに拘らず極めて塗布ムラが発生し易いと言う結果が得られた。これに対し、約１０〜５００Ｈｚ振動数の振動を与えた場合、振動の強さに然程影響されることなく、液面の振幅は約１５〜２５μｍの範囲となり、しかも、塗布ムラの発生がないと言うことが確認された（図２参照）。なお、液面高さの変化は、変位センサーにより測定することが出来、また、塗布液の振動およびその大きさは、振動解析手法を用いて測定することが出来る。
【００２９】
また、本発明においては、循環ポンプ（３）として適当な脈動を有するポンプを選定するならば、上記の様な振動装置に代え、循環ポンプ（３）それ自体を加振手段として使用することも出来る。すなわち、循環ポンプ（３）は、浸漬槽（１）の塗布液に対して上記の所定振動数の振動を与え得るポンプとされる。具体的には、例えば、東興産業社；アイベックス・ＭＯＧポンプ（商品名）等の定量式ロータリーポンプが挙げられる。斯かるポンプは、吐出する塗布液に対し、２つのローターによって適度な脈動を与え、結果として、供給する塗布液を通じて浸漬槽（１）の塗布液に所定の振動を加えることが出来る。
【００３０】
更に、本発明の浸漬塗布装置において、塗布液としては、その粘度が１〜１０ｃｐｓに調製される電荷発生層用の塗布液が特に好適であり、斯かる塗布液を使用した操作において塗布ムラを有効に防止し得る。
【００３１】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明の電子写真感光体の浸漬塗布装置によれば、浸漬槽の塗布液に対して所定振動数の振動を与える加振装置は、外部から加えられる他の振動による液面の揺動を相殺し、塗布液の液面を安定に保持することが出来るため、円筒状基体表面の塗布ムラを一層低減することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電子写真感光体の浸漬塗布装置の主要な構成部材を示す系統図である。
【図２】浸漬槽の塗布液に与えられた振動の振動数および液面の振幅と塗布ムラの発生の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１：浸漬槽
１０：浸漬槽本体
１１：樋部材
２：貯槽
３：循環ポンプ
５１：循環用の配管
５２：循環用の配管
５３：循環用の配管
５４：循環用の配管（分岐配管）
５５：循環用の配管
Ｗ：円筒状基体

Claims

感光体材料としての塗布液に円筒状基体を浸漬させて引き上げることにより、円筒状基体の表面に感光体材料の塗膜を形成する浸漬塗布装置であって、塗布液を収容し且つ円筒状基体が装入される浸漬槽と、塗布液を調製し且つ貯留する貯槽と、前記浸漬槽と前記貯槽の間で塗布液を循環させる循環用の配管および循環ポンプとを備え、かつ、円筒状基体を浸漬させる際および引き上げる際に前記浸漬槽の塗布液に対して１０〜５００Ｈｚの振動を与える加振手段が付設されていることを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布装置。
感光体材料としての塗布液に円筒状基体を浸漬させて引き上げることにより、円筒状基体の表面に感光体材料の塗膜を形成する浸漬塗布装置であって、塗布液を収容し且つ円筒状基体が装入される浸漬槽と、塗布液を調製し且つ貯留する貯槽と、前記浸漬槽と前記貯槽の間で塗布液を循環させる循環用の配管および循環ポンプとを備え、かつ、前記循環ポンプが、その脈動により、円筒状基体を浸漬させる際および引き上げる際に前記浸漬槽の塗布液に対して１０〜５００Ｈｚの振動を与えるポンプであることを特徴とする電子写真感光体の浸漬塗布装置。
浸漬槽は、上端が開放され且つ下端側から塗布液が供給される浸漬槽本体と、当該浸漬槽本体の上部外周側に付設され且つオーバーフローした塗布液を収容する樋部材とから構成されている請求項１又は２に記載の電子写真感光体の浸漬塗布装置。
塗布液が電荷発生層用の塗布液である請求項１〜３の何れかに記載の電子写真感光体の浸漬塗布装置。