JPH0764304A

JPH0764304A - 電子写真画像形成部材の製造方法

Info

Publication number: JPH0764304A
Application number: JP6184689A
Authority: JP
Inventors: H Neery Richard; エイチ．ニーリーリチャード; Martha J Stegbauer; ジェイ．ステッグバウアーマーサ; Steven J Grammatica; ジェイ．グラマティカスティーブン; James M Markovics; エム．マーコヴィクスジェームズ
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1993-08-13
Filing date: 1994-08-05
Publication date: 1995-03-10
Also published as: CA2125713C; DE69417119D1; CA2125713A1; US5418107A; EP0638848B1; EP0638848A1; DE69417119T2

Abstract

(57)【要約】【目的】高品質であり、均一に連続した光導電被覆層
を有し、最終印刷物に欠陥を生じない電子写真画像形成
部材を提供する。【構成】例えばｎ−ブチルアセテートのような溶媒と
下記一般式で表される薄層形成ポリマーから本質的に成
る薄層形成ポリマーの溶液中に分散された約０．６μｍ
未満の平均粒子寸法の光導電性顔料粒子を含み且つ該光
導電性顔料粒子がバナジルフタロシアニン顔料粒子を除
く少なくとも２つの異なるフタロシアニン顔料粒子の混
合物から構成される被覆物を付与及び乾燥して得た、約
５０〜約９０重量％の該顔料粒子を含む電荷発生層を含
む。【化１】（式中、ｘは約５０〜約７５モル％のポリビニルブチラ
ール含量になる数、ｙは約１２〜約５０モル％のポリビ
ニルアルコール含量になる数、ｚは約０〜１５モル％の
ポリビニルアセテート含量になる数を各々表す）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、概して電子写真画像形
成部材に関し、一層詳細には改良された電荷発生層を有
する電子写真画像形成部材の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】円筒状
又はドラム形状の光受容基体を被覆する慣用の技術とし
て、被覆液浴中に該基体を浸漬することが含まれる。光
導電層を製造するために用いられる浴は、薄層形成バイ
ンダの溶媒溶液中に光導電顔料粒子を分散することによ
って調製される。残念なことに、ある有機光導電性顔料
粒子は、ディップコーティングによって塗布して高品質
の光導電被覆物を形成することができない。例えば、有
機光導電性顔料粒子、例えば、ベンゾイミダゾールペリ
レン顔料は、薄層形成バインダの溶媒溶液中に該顔料を
分散させようと試みた場合に沈降する傾向がある。該顔
料の沈降する傾向は、気泡の取込みを引起こすことにな
る連続的な攪拌を要求し、この気泡は、光受容基体上に
付着される最終的な光導電性被覆物中へ運ばれてしま
う。これらの泡は、光受容体によってゼログラフにより
形成される最終的なプリントに欠陥を生じてしまう。こ
の欠陥は、泡が存在する領域と存在しない領域との間で
電気的に帯電された光受容体の放電における差異によっ
て起こる。従って、例えば最終プリントが、放電領域の
現像の間に泡の上に暗領域を、又は帯電領域現像を用い
た場合には白いスポットを示すであろう。更に、多くの
顔料粒子は、薄層形成バインダの溶媒溶液中に該顔料を
分散させるように試みた場合には凝集する傾向がある。
この顔料凝集物は、不均一な光導電被覆物を引起し、こ
れは次いで、不均一な放電のために最終ゼログラフィ印
刷物中に他の印刷欠陥を引き起こす。

【０００３】更に、ある分散物は、光受容基体上の被覆
物として蒸着されたときに、不均一に反応して、ディッ
プコーティング又はロールコーティング操作の間に不連
続な被覆物を形成する。これらの不連続な被覆物は、該
被覆物の幾つかの領域における被覆物質の流動によって
生じ、他の領域では生じないと考えられる。

【０００４】米国特許第Ａ５，１５３，３１３号には、
フタロシアニン複合物の製造方法が開示され、これは、
無金属フタロシアニン、金属フタロシアニン、メタロキ
シフタロシアニン又はこれらの混合物をトリフルオロ酢
酸及びモノハロアルカンの溶液に添加し；得られた混合
物にチタニルフタロシアニンを添加し；得られた溶液を
複合物を沈殿させる混合物へ添加し、そしてフタロシア
ニン複合物沈殿生成物を回収することを含む。光発生層
のために開示されているポリマーバインダ樹脂には、ポ
リビニルブチラールが含まれる。電荷発生層のためにｎ
−ブチルアセテート中のポリビニルブチラールバインダ
を使用することが、例えば実施例IXに開示されている。

【０００５】本発明の目的は、上記従来技術の欠点を打
開する改良方法を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のこの目的は、被
覆されるべき基体を提供すること、アルキル基中に２〜
５の炭素原子を有するアルキルアセテートを含む溶媒と
下記一般式で表される薄層形成ポリマーから本質的に成
る薄層形成ポリマーの溶液中に分散された平均粒子寸法
が約０．６μｍ未満である光導電性顔料粒子を含む被覆
物を形成すること、該被覆物を乾燥して実質的に全ての
該アルキルアセテート溶媒を除去し、乾燥した電荷発生
層の総重量に基づいて約５０〜約９０重量％の顔料粒子
を含む乾燥した電荷発生層を形成すること、並びに、電
荷輸送層を形成することを含み、該光導電性顔料粒子が
バナジルフタロシアニン顔料粒子を除く少なくとも２つ
の異なるフタロシアニン顔料粒子の混合物から構成され
る電子写真画像形成部材の製造方法を提供することによ
って達成される。

【０００７】

【化２】

【０００８】（式中、ｘは、ポリビニルブチラール含量
が約５０モル％〜約７５モル％にあるような数であり、
ｙはポリビニルアルコール含量が約１２モル％〜約５０
モル％にあるような数であり、ｚはポリビニルアセテー
ト含量が約０〜１５モル％にあるような数を表す。）異
なるフタロシアニン顔料粒子の混合物は、約５０重量％
〜約９０重量％の光導電性顔料粒子を含み得る。

【０００９】静電画像形成部材は、この技術分野ではよ
く知られている。普通、基体として、導電性の表面を有
する基体が提供される。その後、少なくとも１つの光導
電性層が該導電面に付与される。電荷阻止層は、光導電
層を付与する前に、導電面に付与され得る。望ましく
は、接着層が、電荷阻止層と光導電層との間に用いられ
得る。多層光受容体では、電荷発生バインダ層は、通
常、該阻止層上に付与され、電荷輸送層は、電荷発生層
上に形成される。しかし、所望すれば、電荷発生層は、
電荷輸送層に付与され得る。

【００１０】基体は、不透明又は実質的に透明とし得、
要求される機械特性を有する多くの好適な物質から構成
され得る。従って、基体は、非導電性又は導電性の物質
例えば無機又は有機組成物の層から構成され得る。非導
電性物質としては、この目的のために知られている種々
の樹脂を用いてよく、これには、硬質又は可撓性例えば
薄いウェブであるポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリウレタン等が含まれる。

【００１１】基体層の厚みは多くの因子に依存し、これ
には、光線の強さ及び経済的配慮が含まれ、従って、可
撓性ベルトとしてのこの層は、かなりの厚み例えば約１
２５μｍ、又は最終静電複写装置において不利な影響が
なければ５０μｍ未満の最少の厚みとし得る。ある可撓
性ベルトの具体例では、この層の厚みは、約６５〜約１
５０μｍの範囲を採り、好ましくは、小さい径のローラ
例えば１９ｍｍ直径ローラの周りを回転する場合に最適
な可撓性及び最少の伸びのために約７５〜約１００μｍ
である。ドラム又はシリンダの形状の基体は、所望の固
さの度合いに依存して任意の好適な厚みの金属、プラス
チック又は金属及びプラスチックの組み合わせを含み得
る。

【００１２】導電層は、静電複写部材として所望の光学
的透明度及び可撓度に依存して、かなり広い範囲にわた
って厚みを変え得る。従って、可撓性光応答性画像形成
部材としては、導電層の厚みは、約２０〜約７５０オン
グストローム単位、電気導電性、可撓性及び光透過性の
最適な組み合わせのために、より好ましくは約１００〜
約２００オングストローム単位とし得る。可撓性導電層
は、例えば、任意の好適な被覆技術、例えば、真空蒸着
技術によって基体上に形成された導電金属層とし得る。
基体が金属性、例えば、金属ドラムである場合、その外
面は通常、本来的に導電性であり、別個の導電層を付与
する必要はない。

【００１３】導電面の形成後、正孔阻止層が導電面に付
与され得る。一般に、正の帯電光受容体のために電子阻
止層は、光受容体の画像形成面から正孔を導電層に向か
って移動させる。隣接する光導電層とその下に設置され
た導電層との間で正孔に対する電子障壁を形成すること
ができる任意の好適な阻止層が用いられ得る。阻止層は
よく知られている。この阻止層は、酸化表面を含み得、
それは空気に暴露された場合に殆どの金属粉砕平面の外
面上に本来形成される。阻止層は、任意の好適な慣用技
術例えば吹きつけ、ディップコーティング、引き棒コー
ティング、グラビアコーティング、シルクスクリーン、
エアナイフコーティング、リバースコーティング、真空
蒸着、化学処理等による被覆物として付与され得る。付
着被覆物の乾燥は、任意の好適な慣用技術例えばオーブ
ン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等によって実行され得
る。阻止層は、連続的にすべきであり、厚みが大きくな
ると望ましくない高い残留電位を引起すかもしれないの
で、約０．２μｍ未満の厚みを有する。

【００１４】任意的な接着層は、正孔阻止層に付与され
得る。この技術分野においてよく知られている任意の好
適な接着層が用いられ得る。満足な結果は、約０．０５
μｍ（５００Å）と約０．３μｍ（３０００Å）の間の
厚みの接着層により達成され得る。電荷阻止層に対して
接着層被覆混合物を塗布する慣用技術には、吹きつけ、
ディップコーティング、ロールコーティング、線巻ロッ
ドコーティング、グラビアコーティング、バードアプリ
ケータコーティング等が含まれる。付着被覆物の乾燥
は、全て好適な慣用技術例えばオーブン乾燥、赤外線乾
燥、空気乾燥等によってもたらされ得る。

【００１５】本発明の光発生層は、アルキルアセテート
を含む溶媒中に溶解された本発明の薄層形成ポリマーポ
リビニルブチラール共重合体の溶液中に分散され、且
つ、約０．６μｍ未満の平均粒子径を有するバナジルフ
タロシアニン光導電性顔料粒子を除く少なくとも２つの
異なるフタロシアニン顔料粒子の混合物を含む被覆物分
散物を付与することによって製造され得る。この分散物
は、接着阻止層、好適な導電層に対して又は電荷輸送層
に対して付与され得る。電荷輸送層と組み合わせて用い
られる場合、光導電層は、電荷輸送層と基体との間に存
在し得、又は電荷輸送層は光導電層と基体との間に存在
することができる。

【００１６】バナジルフタロシアニン顔料粒子以外の少
なくとも２つの異なるフタロシアニン顔料粒子の混合物
を含む任意の好適な有機光導電粒子が、本発明の方法に
用いられ得る。本発明のフタロシアニン顔料混合物中の
典型的な成分には、例えば、米国特許Ａ３，３５７，９
８９号に記載のＸ型の無金属フタロシアニンを含む無金
属フタロシアニン、金属フタロシアニン例えば銅フタロ
シアニン；１．５４Åの波長でＣｕＫαの特徴Ｘ線に
よって得られる特徴的な回折スペクトルによって同定可
能な種々の多形物を含むチタニルフタロシアニン、例え
ば、２７．３のブラッグ角（２Θ±０．２°）での強い
主要な回折ピーク及び約９．３４、９．５４、９．７
２、１１．７、１４．９９、２３．５５及び２４．１３
での他のピークを有するもの（IV型と呼ばれる）、２
６．３のブラッグ角（２Θ±０．２°）での強い主要な
回折ピーク及び約９．３、１０．６、１３．２、１５．
１、２０．８、２３．３及び２７．１での他のピークを
有するもの（Ｉ型と呼ばれる）、２８．６のブラッグ角
（２Θ±０．２°）での強い主要な回折ピーク及び約
８．６、１２．６、１５．１、１８．３、２３．５、２
４．２及び２５．３での他のピークを有するもの（II型
と呼ばれる）；塩化インジウムフタロシアニン；塩化ガ
リウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシア
ニン等が含まれる。光導電性粒子の典型的な混合物に
は、例えば、無金属フタロシアニンとチタニルフタロシ
アニン粒子；塩化インジウムフタロシアニンとチタニル
フタロシアニン粒子；ヒドロキシガリウムフタロシアニ
ンとチタニルフタロシアニン等並びにこれらの混合物が
含まれる。光導電性粒子は、電荷発生層薄層形成バイン
ダを溶解するために用いられるアルキルアセテート中に
実質的に不溶性でなければならない。好ましいフタロシ
アニンの混合物には、Ｘ型無金属フタロシアニン粒子と
チタンIV型フタロシアニン粒子の混合物；チタニルフタ
ロシアニンと塩化インジウムフタロシアニン粒子の混合
物；チタンII型フタロシアニンと塩化インジウムフタロ
シアニン粒子の混合物；チタンIV型フタロシアニンと塩
化インジウムフタロシアニン粒子の混合物；塩化ガリウ
ムフタロシアニン粒子と塩化インジウムフタロシアニン
粒子の混合物；並びに、ヒドロキシガリウムフタロシア
ニン粒子と塩化インジウムフタロシアニン粒子の混合物
が含まれる。

【００１７】乾燥した光導電性被覆物中に分散される光
導電性粒子の量は、選択される特定の光導電性顔料によ
り、ある程度変化する。例えば、フタロシアニン有機顔
料例えばチタニルフタロシアニン、無金属フタロシアニ
ンと塩化インジウムフタロシアニンが用いられる場合、
満足な結果は、乾燥光導電性被覆物が、乾燥光導電性被
覆物の総重量に基づいて約５０重量％〜約９０重量％の
全フタロシアニン顔料を含むときに達成される。感度の
効果的な制御を達成するために、乾燥光導電性被覆物
は、また、乾燥光導電性被覆物中に存在するフタロシア
ニン顔料の総重量に基づいて、少なくとも２つの異なる
フタロシアニン顔料を各々少なくとも約５重量％で含ま
なければならない。本発明の光導電性被覆組成物は、バ
ナジルフタロシアニン粒子が実質的に存在しないように
すべきであり、これはバナジルフタロシアニン粒子が、
顔料及びバインダの総重量に基づいて約４５重量％を越
える顔料濃度で不安定な分散物を形成する傾向があるた
めである。光導電性特性は、被覆される平方センチ当た
りの顔料の相対量によって影響を受けるので、乾燥光導
電性被覆層がより厚い場合に、より少ない顔料の添加量
が用いられ得る。逆に、乾燥光導電性層がより薄くされ
る場合に、より多い顔料の添加量が望ましい。

【００１８】一般に、満足な結果は、光導電性被覆物が
ディップコーティングによって付与される場合に、約
０．６μｍ未満の平均光導電性粒子寸法で達成される。
好ましくは、光導電性粒子の平均寸法は約０．４μｍ未
満である。また好ましくは、光導電性粒子寸法は、それ
が分散される乾燥された光導電性被覆物の厚み未満であ
る。

【００１９】電荷発生層及び電荷輸送層を含む多層光受
容体用には、満足な結果は、約０．１μｍと約１０μｍ
の間の乾燥光導電層の被覆厚で達成され得る。好ましく
は、光導電層厚みは、約０．２μｍと約４μｍの間であ
る。しかし、これらの厚みは顔料の添加量にも依存して
いる。従って、より高い顔料添加量は、より薄い光導電
性被覆物の使用を可能にする。これらの範囲外の厚み
は、本発明の目的が達成されるならば、選択されること
ができる。

【００２０】多重光発生層組成物は、光導電性層が光発
生層の特性を促進又は低下する場合に用いられ得る。

【００２１】本発明の光導電性被覆物中のバインダ物質
として用いられる薄層形成ポリマーは、硫酸触媒の存在
下でのポリビニルアルコールとブチルアルデヒドの反応
生成物である。ポリビニルアルコールのヒドロキシル基
は反応してランダムなブチラール構造をもたらし、これ
は、反応温度及び時間を変えることによって調節される
ことができる。酸触媒は、水酸化カリウムで中性化され
る。ポリビニルアルコールは、ポリビニルアセテートを
加水分解することによって合成される。得られる加水分
解ポリビニルアルコールは、ポリビニルアセテート部位
を幾つか含み得る。部分的に又は完全に加水分解された
ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールのヒド
ロキシル基の幾つかが反応するがポリビニルアルコール
の他のヒドロキシル基は未反応のまま残る条件下で、ブ
チルアルデヒドと反応する。本発明の光導電層中での使
用には、この反応生成物は約５０〜約７５モル重量のポ
リビニルブチラール含量、約１２〜約５０モル重量％の
ポリビニルアルコール含量、並びに、約５モル重量％ま
でのポリビニルアセテート含量を有すべきである。これ
らの薄層形成ポリマーは市販されており、これには、例
えば、約７０モル％のポリビニルブチラール含量、２８
モル％のポリビニルアルコール含量及び約２モル％未満
のポリビニルアセテート含量であって、約５００００〜
約８００００の重量平均分子量を有するＢｕｔｖａｒ
Ｂ−７９樹脂（モンサントケミカル社から市販）；約５
６モル％のポリビニルブチラール含量、４２モル％のポ
リビニルアルコール含量及び約２モル％未満のポリビニ
ルアセテート含量であって、約１７００００〜約２５０
０００の重量平均分子量を有するＢｕｔｖａｒＢ−７
２樹脂（モンサントケミカル社から市販）；並びに、約
７２モル％のポリビニルブチラール含量、５モル％のビ
ニルアセテート基含量及び１３モル％のポリビニルアル
コール含量であって、約９３０００の重量平均分子量を
有するＢＭＳ樹脂（積水化学社から市販）が含まれる。
好ましくは、本発明の方法に用いられるポリビニルブチ
ラールの重量平均分子量は約４００００〜約２５０００
０である。

【００２２】薄層形成ポリマーのための溶媒は、アルキ
ル基中に２〜５の炭素原子を有するアルキルアセテート
例えば、エチルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、
ｎ−ブチルアセテート及びアミルアセテートを含まなけ
ればならない。好ましい溶媒は、ｎ−ブチルアセテート
であり、これは、早く乾燥し、顔料結晶の形態を保護す
るためである。また、アルキルアセテート以外の溶媒が
薄層形成ポリマーを溶解するための用いられる場合、分
散物中の光導電性粒子の多形特性が、悪影響を受ける。
例えば、１．５４Åの波長でＣｕＫαの特徴Ｘ線によ
って得られた回折スペクトルにおいて２７．３のブラッ
グ角（２Θ±０．２°）での強い主要な回折ピーク及び
約９．３４、９．５４、９．７２、１１．７、１４．９
９、２３．５５及び２４．１３での他のピークを有する
チタニルフタロシアニン多形が塩化メチレン又はテトラ
ヒドロフランと接触される場合、該物質は、２６．３の
ブラッグ角（２Θ±０．２°）での強い主要な回折ピー
ク及び約９．３、１０．６、１３．２、１５．１、２
０．８、２３．３及び２７．１での他のピークを有す
る、全く別のあまり望ましくない多形に変わる。このあ
まり望ましくない多形は、Ｉ型として呼ばれ、IV型より
もかなり感度が低い。

【００２３】薄層形成ポリマー溶液中に顔料粒子を分散
するために、任意の好適な技術を用い得る。普通の分散
技術には、例えば、ボールミリング、ロールミリング、
種々の磨砕機中でのミリング、サンドミリング等が含ま
れる。ミルされる混合物の固体含量は、重要でないよう
であり、広範囲の濃度から選択されることができる。ボ
ールロールミルを用いた普通のミリング時間は、約４〜
約６日である。異なるフタロシアニン粒子は、バインダ
溶液中で分散する前に物理的に結合され、又は別個にバ
インダ溶液中に分散されることができ、得えられた分散
物は、被覆物塗布のために所望の特性で組み合わされ
る。分散物をブレンドすることは、任意の好適な技術に
よって達成され得る。また、別個のフタロシアニン光導
電性粒子の各型の濃縮された混合物が、まずミルされ
て、その後、被覆混合物を製造する目的で組み合わさ
れ、追加のバインダ溶液によって希釈される。好ましく
は、光導電性顔料とバインダ溶液との分散物は、異なる
フタロシアニン成分各々で別々にミリングによって形成
され、得られた異なるフタロシアニン成分とバインダ溶
液との分散物各々は、その後、一緒にブレンドされて、
被覆物塗布に好適な濃度で混合物がもたらされる。

【００２４】任意の好適な技術が、被覆されるべき基体
へ被覆物を付与するために用いられ得る。普通の被覆技
術には、ディップコーティング、ロールコーティング、
スプレーコーティング、回転式噴霧器等が含まれる。被
覆技術は広範囲の固体濃度を用い得る。好ましくは、固
体含量は、分散物の総重量に基づいて約２重量％と約８
重量％の間である。 "固体”とは、被覆分散物のバイン
ダ成分と顔料粒子とを意味する表現である。これらの固
体濃度は、デッィプコーティング、ロールコーティン
グ、スプレーコーティング等に有用である。一般に、よ
り密な被覆分散物がロールコーティングに好適である。

【００２５】付着された被覆物の乾燥は、任意の慣用の
技術、例えばオーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等に
よってもたらされ得る。

【００２６】活性電荷輸送層は、電気的に不活性な高分
子物質中に分散され且つこれらの物質を電気的に活性化
する添加剤として有用である活性化化合物を含み得る。
これらの化合物は、光により発生した正孔を、それを発
生した物質から放出させることを援助することができ
ず、その発生物質を通ってこれらの正孔を輸送させるこ
とができない高分子物質に添加され得る。これは、電気
的に不活性なポリマー材料を、光により発生した正孔の
発生物質からの放出の援助を可能にし、活性層の表面電
荷を放出するために活性層を通してこれらの正孔の輸送
をもたらすことを可能にする物質に変換する。本発明の
多層光導電体の２つの電気的に活性な層のうちの１つに
用いられる特別に好ましい輸送層は、少なくとも１つの
電荷輸送芳香族アミン化合物約２５〜約７５重量％と、
その芳香族アミンが可溶性である重合体薄層形成樹脂約
７５〜約２５重量％とを含む。

【００２７】電荷輸送層を形成する混合物は、好ましく
は、下記一般式を有する１以上の化合物の芳香族アミン
化合物を含む。

【００２８】

【化３】

【００２９】式中、Ｒ₁及びＲ₂は、置換又は無置換の
フェニル基、ナフチル基及びポリフェニル基から成る群
から選択される芳香族基であり、Ｒ₃は、置換又は無置
換のアリール基、１〜１８の炭素原子を有するアルキル
基及び３〜１８の炭素原子を有する脂環式化合物から成
る群から選択される。置換基は、自由電子求引基例えば
ＮＯ₂基、ＣＮ基等とすべきである。

【００３０】上記化学式によって表され、電荷発生層の
光発生正孔の注入を支持し電荷輸送層を通して正孔を輸
送することができる電荷輸送層のための電荷輸送芳香族
アミンの例には、不活性樹脂バインダ中に分散されたト
リフェニルメタン、ビス（４−ジエチルアミン−２−メ
チルフェニル）フェニルメタン；４′−４″−ビス（ジ
エチルアミノ）−２′，２″−ジメチルトリフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ′−ビス（アルキルフェニル）−〔１，
１′−ビフェニル〕−４−４′−ジアミンであって、こ
こでアルキルは例えばメチル、エチル、プロピル、ｎ−
ブチル等であるもの、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（クロロフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕
−４−４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（３″−メチルフェニル）−（１，１′−ビ
フェニル）−４，４′−ジアミン等が含まれる。

【００３１】塩化メチレン又は他の好適な溶媒中で可溶
性の全て好適な不活性樹脂バインダが、本発明の方法に
おいて用いられ得る。塩化メチレン中で可溶性の典型的
な不活性樹脂バインダには、ポリカーボネート樹脂、ポ
リビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリーレー
ト、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルフォン
等が含まれる。分子量は約２００００〜約１５００００
まで変えることができる。

【００３２】典型的な塗布技術には、吹きつけ、ディッ
プコーティング、ロールコーティング、線巻ロッドコー
ティング等が含まれる。蒸着された被覆物の乾燥は、任
意の好適な慣用技術例えば、オーブン乾燥、赤外線照射
乾燥、空気乾燥等によってもたらされ得る。

【００３３】一般に、正孔輸送層の厚みは、約１０〜約
５０μｍの範囲であるが、この範囲外の厚みも用いられ
ることができる。正孔輸送層は、正孔輸送層に配置され
る静電電荷が、その上の静電潜像の形成及び残留を妨げ
るに十分な割合で、照射がない場合に導電されない範囲
で絶縁体であるべきである。一般に、正孔輸送層体電荷
発生層の厚みの割合は、好ましくは、約２：１〜２０
０：１であり、ある場合には４００：１を越える程度に
維持される。

【００３４】好ましい電気的に不活性な樹脂材料は、ポ
リカーボネート樹脂であり、この分子量は、約２０００
０〜約１５００００、より好ましくは５００００〜約１
２００００である。電気的不活性樹脂物質として最も好
ましい物質は、レクサン１４５としてゼネラルエレクト
ック社から市販の分子量約３５０００〜約４００００の
ポリ（４，４′−ジプロピリデン−ジフェニレンカーボ
ネート）；レクサン１４１としてゼネラルエレクトック
社から市販の分子量約４００００〜約４５０００のポリ
（４，４′−イソプロピリデン−ジフェニレンカーボネ
ート）；ルピロンＺ−２００として三菱ガス化学社から
市販の分子量約１８０００〜約２２０００のポリカーボ
ネート樹脂；及び、メルロンとしてモベイケミカル社か
ら市販の分子量約２００００〜約５００００のポリカー
ボネート樹脂である。モノクロロベンゼン溶媒は、任意
の化合物の適切な溶解のために、また、その低い沸点の
ために、電荷輸送層被覆混合物の望ましい化合物であ
る。

【００３５】光受容体は、例えば、上述したように導電
面と電荷輸送層との間に挟まれた電荷発生層、又は導電
面と電荷発生層との間に挟まれた電荷輸送層から構成さ
れ得る。

【００３６】任意には、上塗り層も、摩耗に対する抵抗
の改良のために用いられ得る。幾つかの場合には、抗カ
ールのバック被覆物も、ウェブ構造の光受容体を製造す
る場合に、平坦さ及び／又は摩耗抵抗を改良するため
に、光受容体の反対面に塗布し得る。これらの上塗り及
び抗カールバック被覆物層は、当業においてよく知られ
ており、電気的に絶縁又はわずかに半導体である熱可塑
性有機重合体又は無機重合体から構成され得る。

【００３７】

【実施例】

〔実施例Ｉ〕分散物を、ｎ−ブチルアセテート溶媒中に
薄層形成バインダであるポリビニルブチラール共重合体
（Ｂ７９、モンサントから購入）を溶解し、その後、無
金属フタロシアニン顔料を添加することによって調製し
た。顔料対バインダの重量比は、６８：３２であり、
４．４％固体分であった。該分散物を、３０分間、高剪
断性混合器（シェアソン(Shearson)社から購入）により
分散させ、その後、８０００ｐｓｉで、ホモジナイザ
（マイクロフルイディクス社のＭＦ１１０）を６回通過
させた。粉砕された顔料の粒子寸法は、０．２７μｍで
あった。電荷発生層被覆混合物は、１．５μｍ厚のナイ
ロンコーティングで被覆された直径４０ｍｍ及び３１０
ｍｍの長さの円筒形のアルミニウムドラムを、電荷発生
層被覆物混合物へ、１６０ｍｍ／分の速度でドラムの軸
に対して平行な経路に沿って垂直方向に浸漬し、そして
そこから取り出すディップコーティング工程によって塗
布された。塗布された電荷発生被覆物を、オーブン中で
１０６℃で１０分間乾燥して、厚み約０．２μｍを有す
る層を形成した。該被覆電荷発生層を、その後、モノク
ロロベンゼン溶媒中に溶解された３６％Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−１，
１′−ビフェニル−４，４′−ジアミン及びポリカーボ
ネートを含む電荷輸送混合物でディップコートした。塗
布された電荷輸送被覆物を、強制空気オーブン中で１１
８℃で５５分間乾燥して厚み２０μｍの層を形成した。

【００３８】〔実施例II〕分散物を、ｎ−ブチルアセテ
ート溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチラ
ール共重合体（Ｂ７９）を溶解し、その後、チタニルフ
タロシアニン顔料を添加することによって製造した。顔
料対バインダの重量比は、６８：３２であり、４．３％
固体分であった。該分散物を、３０分間の高剪断性混合
器（シェアソン社）で分散させ、その後、８０００ｐｓ
ｉで、ホモジナイザ（ＭＦ１１０）を６回通過させた。
粉砕された顔料の粒子寸法は、０．８９μｍであった。
電荷発生物質を実施例Ｉと同様に塗布したが、ドラムに
適切に被覆されなかった。

【００３９】〔実施例III 〕実施例Ｉの分散物９０重量
％及び実施例IIの分散物１０重量％を含むブレンド物質
を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｉのナイロン
で被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例Ｉ
のように塗布した。

【００４０】〔実施例IV〕実施例Ｉ、II及びIII で記述
したように製造した電子写真画像形成部材を、電気的に
帯電し、７８０ｎｍの波長の光で放電させることによっ
て試験した。結果を下記表１に示す。

【００４１】

【表１】

【００４２】ここで、 "Ｖｏ”は、光受容体が帯電され
るための初期表面電位であり、 "％暗減衰”は、Ｖｏの
０．１６秒後及び続く０．２６秒後に相当する時点での
２つのプローブ間の電位損失であり、Ｖｏの％として表
されている。 "Ｖｅ”は、約３００ｅｒｇｓ／ｃｍ²の
広バンド無フィルタータングステン光による光受容体の
消去後の表面電位であり、 "ｄＶ／ｄＸ”は、露光によ
る電圧損失の初期の傾きであり、光受容体の感度に相当
する。

【００４３】表１の電気的試験の結果は、無金属分散物
へＴｉＯＰｃ分散物を添加することは、それ自身は他の
特性にかなりの変化を伴うことなく、無金属配合物に対
して感度の上昇をもたらすことを示した。

【００４４】〔実施例Ｖ〕分散物を、ｎ−ブチルアセテ
ート溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチラ
ール（Ｂ７９）を溶解し、その後、チタニルフタロシア
ニン顔料を、１／８インチ（０．３ｃｍ）直径のステン
レス鋼小球と共に添加することによって調製した。顔料
対バインダの重量比は、６８：３２であり、４．２％固
体分であった。該分散物を、６日間ロールミルした。こ
の分散物をろ過してステンレス鋼小球を取り除いた。ミ
ルされた顔料のチタニルフタロシアニン粒子寸法は、
０．６１μｍであった。チタニルフタロシアニン顔料
は、２７．３のブラッグ角（２Θ±０．２°）での強い
主要な回折ピーク及び約９．３４、９．５４、９．７
２、１１．７、１４．９９、２３．５５及び２４．１３
での他のピークを有していた。電荷発生物質を、引き出
し速度を２００ｍｍ／分とした以外は実施例Ｉのように
してナイロンで被覆された基体上に被覆した。電荷輸送
物質を、実施例Ｉのようにして被覆した。

【００４５】〔実施例VI〕分散物を、ｎ−ブチルアセテ
ート溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチラ
ール（Ｂ７９）を溶解し、その後、塩化インジウムフタ
ロシアニン顔料を、１／８インチ（０．３ｃｍ）直径の
ステンレス鋼小球と共に添加することによって調製し
た。顔料対バインダの重量比は、６８：３２であり、
４．２％固体分であった。該分散物を、６日間ロールミ
ルした。この分散物をろ過してステンレス鋼小球を取り
除いた。ミルされた顔料の塩化インジウムフタロシアニ
ン粒子寸法は、０．３６μｍであった。電荷発生物質
を、実施例Ｖのようにしてナイロンで被覆された基体上
に被覆した。乾燥後、実施例Ｉで記述したように電荷輸
送層を塗布して、電子写真画像形成部材を形成した。

【００４６】〔実施例VII 〕実施例Ｖの分散物７５重量
％及び実施例VIの分散物２５重量％を含むブレンド物質
を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロン
で被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例Ｖ
のように塗布した。

【００４７】〔実施例VIII〕実施例Ｖの分散物５０重量
％及び実施例VIの分散物５０重量％を含むブレンド物質
を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロン
で被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例Ｖ
のように塗布した。

【００４８】〔実施例IX〕実施例Ｖの分散物２５重量％
及び実施例VIの分散物７５重量％を含むブレンド物質を
調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロンで
被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例Ｖの
ように塗布した。

【００４９】〔実施例Ｘ〕実施例Ｖ、VI、VII 、VIII及
びIXで記述したように製造した電子写真画像形成部材
を、電気的に帯電し、７８０ｎｍの波長の光で放電させ
ることによって試験した。結果を下記表２に示す。

【００５０】

【表２】

【００５１】表２の電気試験の結果により、ブレンド率
を変化させることによって、他の特性をあまり変えず
に、光受容体デバイスの感度を、早い成分と遅い成分と
の範囲で変えることができることがわかった。

【００５２】〔実施例XI〕分散物を、ｎ−ブチルアセテ
ート溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチラ
ール（Ｂ７９）を溶解し、その後、チタニルフタロシア
ニンII型顔料を、ジルビーズ(zirbeads)と共に添加する
ことによって調製した。顔料対バインダの重量比は、６
８：３２であり、３．８％固体分であった。該分散物
を、１８時間ロールミルした。この分散物をろ過してビ
ーズを取り除いた。ミルされた顔料のチタニルフタロシ
アニン粒子寸法は、０．６４μｍであった。チタニルフ
タロシアニン顔料は、２８．６のブラッグ角（２Θ±
０．２°）での強い主要な回折ピーク及び約９．６、１
０．７、１２．６、１５．２、２２．５、２４．２及び
２５．３での他のピークを有していた。電荷発生物質
を、実施例Ｖのようにしてナイロンで被覆された基体上
に被覆した。電荷輸送物質を、実施例Ｉのようにして被
覆した。

【００５３】〔実施例XII 〕実施例XIの分散物４０重量
％及び実施例VIの分散物６０重量％を含むブレンド物質
を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロン
で被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例Ｖ
のように塗布した。

【００５４】〔実施例XIII〕実施例VI、XI及びXII で記
述したように製造した電子写真画像形成部材を、電気的
に帯電し、７８０ｎｍの波長の光で放電させることによ
って試験した。結果を下記表３に示す。

【００５５】

【表３】

【００５６】この表から、感度は、直接的に、混合物中
の応答の速い成分の量の関数になっていることがわか
る。

【００５７】〔実施例XIV 〕分散物を、ｎ−ブチルアセ
テート溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチ
ラール（Ｂ７９）を溶解し、その後、ヒドロキシガリウ
ムフタロシアニン顔料を、ジルビーズと共に添加するこ
とによって調製した。顔料対バインダの重量比は、６
８：３２であり、５％固体分であった。該分散物を、６
日間ロールミルした。この分散物をろ過してビーズを取
り除いた。ミルされた顔料のヒドロキシガリウムフタロ
シアニン粒子寸法は、０．３５μｍであった。ヒドロキ
シガリウムフタロシアニン顔料Ｖ型は、２８．３及び
７．５のブラッグ角（２Θ±０．２°）での強い主要な
回折ピーク及び約２５．２、２２．８、１７．５、１
６．３、１２．５及び１０．０での他のピークを有して
いた。電荷発生物質を、実施例Ｖのようにしてナイロン
で被覆された基体上に被覆した。電荷輸送物質を、実施
例Ｉのようにして被覆した。

【００５８】〔実施例XV〕実施例XIV の分散物２５重量
％及び実施例VIの分散物７５重量％を含むブレンド物質
を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロン
で被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例Ｖ
のように塗布した。

【００５９】〔実施例XVI 〕実施例XIV の分散物５０重
量％及び実施例VIの分散物５０重量％を含むブレンド物
質を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロ
ンで被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例
Ｖのように塗布した。

【００６０】〔実施例XVII〕実施例XIV の分散物７５重
量％及び実施例VIの分散物２５重量％を含むブレンド物
質を調製した。この電荷発生物質を、実施例Ｖのナイロ
ンで被覆された基体に塗布した。電荷輸送物質を実施例
Ｖのように塗布した。

【００６１】〔実施例XVIII 〕実施例VI、XIV 、XV、XV
I 及びXVIIで記述したように製造した電子写真画像形成
部材を、電気的に帯電し、７８０ｎｍの波長の光で放電
させることによって試験した。結果を下記表４に示す。

【００６２】

【表４】

【００６３】この表から、感度は、直接的に、混合物中
の応答の速い成分の量の関数になっていることがわか
る。

【００６４】

【発明の効果】本発明は、高品質であり、均一に連続し
た光導電被覆層を有し、最終印刷物に欠陥を生じない電
子写真画像形成部材を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者マーサジェイ．ステッグバウアーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14519 オンタリオリバティーレーン 1218 (72)発明者スティーブンジェイ．グラマティカアメリカ合衆国ニューヨーク州 14526 ペンフィールドソローブレッドトレイル９ (72)発明者ジェームズエム．マーコヴィクスアメリカ合衆国ニューヨーク州 14622 ロチェスターセネカロード 643

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子写真画像形成部材の製造方法であっ
て、被覆されるべき基体を提供すること、アルキル基中に２〜５の炭素原子を有するアルキルアセ
テートを含む溶媒と下記一般式で表される薄層形成ポリ
マーから本質的に成る薄層形成ポリマーの溶液中に分散
された平均粒子寸法が約０．６μｍ未満である光導電性
顔料粒子を含む被覆物を形成すること、該被覆物を乾燥して実質的に全ての該アルキルアセテー
ト溶媒を除去し、乾燥した電荷発生層の総重量に基づい
て約５０〜約９０重量％の顔料粒子を含む乾燥した電荷
発生層を形成すること、並びに、電荷輸送層を形成すること、を含み、該光導電性顔料粒子がバナジルフタロシアニン
顔料粒子を除く少なくとも２つの異なるフタロシアニン
顔料粒子の混合物から構成される電子写真画像形成部材
の製造方法：【化１】（式中、ｘは、ポリビニルブチラール含量が約５０モル
％〜約７５モル％にあるような数であり、ｙはポリビニルアルコール含量が約１２モル％〜約５０
モル％にあるような数であり、ｚはポリビニルアセテート含量が約０〜１５モル％にあ
るような数を表す）。
【請求項２】前記アルキルアセテートがｎ−ブチルア
セテートである請求項１記載の電子写真画像形成部材の
製造方法。
【請求項３】前記乾燥した光導電性被覆物が、前記乾
燥した光導電性被覆物中に存在するフタロシアニン顔料
の総重量に基づいて、前記異なるフタロシアニン顔料の
少なくとも２つの各々を少なくとも５重量％で含む請求
項１記載の電子写真画像形成部材の製造方法。